JP6613593B2 - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 - Google Patents
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Description
図1は、本発明を適用した電子機器としての投射型表示装置の光学系を示す模式図である。図1に示す投射型表示装置1000は、光源部1002と、光源部1002から出射された光を画像情報に応じて変調する電気光学装置100と、電気光学装置100で変調された光を投射画像としてスクリーン等の被投射物1100に投射する投射光学系1004と有している。光源部1002は、光源1020と、カラーフィルタ1030とを備えている。光源1020は白色光を出射し、カラーフィルタ1030は、回転に伴って各色の光を出射し、電気光学装置100は、カラーフィルタ1030の回転に同期したタイミングで、入射した光を変調する。なお、カラーフィルタ1030に代えて、光源1020から出射された光を各色の光に変換する蛍光体基板を用いてもよい。また、各色の光毎に光源部1002および電気光学装置100を設けてもよい。
図2は、本発明を適用した電気光学装置100の基本構成を模式的に示す説明図であり、図2(a)、(b)は各々、電気光学装置100の要部を示す説明図、および電気光学装置100の要部の分解斜視図である。図3は、本発明を適用した電気光学装置100の要部におけるA−A′断面を模式的に示す説明図であり、図3(a)、(b)は各々、ミラーが一方側に傾いた状態を模式的に示す説明図、およびミラーが他方側に傾いた状態を模式的に示す説明図である。
図4は、本発明を適用した電気光学装置100の詳細構成を示す断面図である。なお、図4には、電気光学装置100の2階部分100bおよび3階部分100cのみを示し、基板側バイアス電極11および基板側アドレス電極12、13等を含む1階部分100aの図示を省略してある。また、図4では、電気光学装置100に形成される複数のミラー51のうち、1つのミラー51に対するミラー支持部(第2支持部)52およびトーションヒンジ(ねじれヒンジ)35等を示してある。
図2(b)および図5〜図9を参照して、本発明を適用した電気光学装置100の製造工程のうち、トーションヒンジ(ねじれヒンジ)、ミラー支持部(第2支持部)およびミラーを形成する工程を中心に説明する。図5、図6および図7は、本発明を適用した電気光学装置100の製造方法を示す工程断面図である。図8および図9は、本発明を適用した電気光学装置100の製造工程で形成された層の平面図である。なお、図5〜図9では、電気光学装置100に形成される複数のミラー51のうち、1つのミラー51に対するミラー支持部52およびトーションヒンジ35のみを示してある。また、以下の説明では、適宜、図2(b)を参照して説明した各部位との関係も説明する。
以上説明したように、本形態では、ミラー支持部(第2支持部)52が基板1とは反対側に凹部520を向けているが、凹部520は樹脂で埋められているため、ミラー51の表面に大きな窪みが発生しにくい。また、本形態では、平坦化処理によって、連続した平坦面となった面に反射性金属膜570を形成したため、ミラー51の表面に窪みが発生しにくい。従って、光の利用効率を向上することができるとともに、ミラー51での散乱に起因するコントラストの低下を抑制することができる。
上記実施の形態において、樹脂41としては、感光性ポリイミド等の感光性樹脂を用いることが好ましく、この場合、露光パターンによって、凹部520にのみ樹脂41を残すことができる。従って、樹脂41の基板1とは反対側の面と、ミラー用導電膜56の平板部53の基板1とは反対側の面とのトーションヒンジ35から高さの差が0.2μm以下である場合、光の利用効率の低下や、ミラーでの散乱に起因するコントラストの低下が目立たない。従って、平坦化処理を省略することができる。
Claims (9)
- 基板と、
前記基板の一方面側で前記基板に向けて突出すると共に前記基板に支持された第1の支持部、およびねじれヒンジを含む金属層と、
前記基板とは反対側に凹部を向けて前記ねじれヒンジから前記基板とは反対側に突出した第2支持部、および前記第2支持部の前記基板とは反対側に位置する端部から延在して前記基板と対向する平板部を備えたミラー用導電層と、
前記凹部の内側に充填された導電性の樹脂と、
前記樹脂の前記基板とは反対側の面、および前記平板部の前記基板とは反対側の面に積層され、前記ミラー用導電層とともにミラーを構成するミラー用反射層と、
を有することを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置において、
前記樹脂の前記基板とは反対側の面と、前記平板部の前記基板とは反対側の面との前記ねじれヒンジからの高さの差が0.2μm以下であることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記樹脂の前記基板とは反対側の面は、前記平板部の前記基板とは反対側の面と連続した平面を構成していることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至3に記載の電気光学装置において、
前記ミラー用導電層と前記ミラー用反射層との厚さの和は、0.2μmから0.5μmであることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載の電気光学装置において、
前記樹脂は、感光性樹脂からなることを特徴とする電気光学装置。 - 基板の一方面側に第1開口部が設けられた第1犠牲層を形成する第1犠牲層形成工程と、
前記第1犠牲層の前記基板とは反対側および前記第1開口部の内側に第1導電膜を形成する第1導電膜形成工程と、
前記第1導電膜をパターニングして、前記第1開口部の内側に形成された前記第1導電膜よりなる第1支持部を備えたねじれヒンジを形成する第1パターニング工程と、
前記ねじれヒンジの前記基板とは反対側に、第2開口部が設けられた第2犠牲層を形成する第2犠牲層形成工程と、
前記第2犠牲層の前記基板とは反対側および前記第2開口部の内側に第2導電膜を形成する第2導電膜形成工程と、
前記第2開口部によって前記第2導電膜に形成された凹部に導電性の樹脂を充填する充填工程と、
前記第2導電膜および前記樹脂の前記基板とは反対側の面に反射性金属膜を形成する反射性金属膜形成工程と、
前記第2導電膜および前記反射性金属膜をパターニングしてミラーを形成する第2パターニング工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項6に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記充填工程の後、前記反射性金属膜形成工程との間に、前記第2導電膜および前記樹脂の前記基板とは反対側の面を平坦化する平坦化工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項6または7に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記充填工程では、前記凹部に液状の樹脂材料を塗布した後、固化させたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載の電気光学装置を備えた電子機器であって、
前記ミラーに光源光を照射する光源部を有することを特徴とする電子機器。
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