JP6610726B2 - 液浸部材、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液浸部材、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法の技術分野に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置として、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して投影される露光光を用いて基板を露光する液浸露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

米国特許第７，８６４，２９２号

液浸露光装置では、例えば液体が所定の空間から流出したり基板等の物体の上に残留したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明は、露光不良の発生を抑制することが可能な液浸部材、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを課題とする。

第１の態様の液浸部材は、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、且つ、前記光学部材の下方で移動可能な物体に対向する第１下面を備える第１部材と、前記光学部材の光軸に対して前記第１下面の外側に位置すると共に前記物体に対向する第２下面と、前記光軸に対して前記第２下面の内側に位置すると共に少なくとも一部が前記第１下面の少なくとも一部の上方に位置する第３下面とを備え、且つ、移動可能な第２部材とを備える。

第２の態様の液浸部材は、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に位置し、前記露光光が通過可能な第１開口を備え、且つ、移動可能な第２部材と、前記第１開口に配置されると共に、前記露光光が通過する第３部材とを備える。

第３の態様の液浸部材は、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方に位置し、且つ、移動可能な第２部材とを備え、前記光学部材から射出される前記露光光の光路上に位置する前記第２部材の少なくとも一部は、前記露光光が通過可能な第３部材である。

第１の態様の露光装置は、液浸空間を介して投影される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、上述した第１、第２又は第３の態様の液浸部材を用いて前記液浸空間を形成する。

第１の態様の露光方法は、液浸空間を介して投影される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、上述した第１、第２又は第３の態様の液浸部材を用いて前記液浸空間を形成する。

第１の態様のデバイス製造方法は、上述した第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第２の態様のデバイス製造方法は、上述した第１の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第１実施形態の露光装置の構成の一例を示す概略構成図である。 第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。 第１実施形態の液浸部材を下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図と第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）とを関連付けて示す説明図である。 第２部材の移動態様の第１の具体例を示す断面図である。 第２部材の移動態様の第２の具体例を示す断面図である。 基板ステージに保持されている基板の一例を示す平面図である。 投影領域の移動軌跡及び第２部材の移動軌跡の一具体例を示す平面図である。 図７に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の第２部材の移動態様を基板上において示す平面図である。 図７に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の第２部材の移動態様を基板上において示す平面図である。 図７に示す態様で基板及び第２部材が移動した場合の基板及び第２部材の夫々の移動速度を示すグラフである。 第１変形例の液浸部材が備える第１部材の構成を示す断面図である。 第２変形例の液浸部材が備える第１部材の構成を示す断面図である。 第３変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第４変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第５変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第６変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第７変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第８変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第９変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第１０変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第１１変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第１２変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第１３変形例の液浸部材の構成を示す断面図である。 第２実施形態の露光装置が備える液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。 基板ステージの一例を示す平面図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。
（１）第１実施形態
はじめに、図１から図２３を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１について説明する。
（１−１）第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成
まず、図１を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例について説明する。図１は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例を示す構成図である。

図１に示すように、露光装置ＥＸ１は、マスクステージ１と、照明系２と、投影光学系３と、液浸部材４Ａと、基板ステージ５と、計測ステージ６と、計測システム７と、チャンバ装置８と、制御装置９とを備えている。

マスクステージ１は、マスク１１を保持可能である。マスクステージ１は、保持したマスク１１をリリース可能である。

マスク１１は、基板ステージ５が保持する基板５１に投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスク１１は、例えば、ガラス板等の透明板と、当該透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたデバイスパターンとを含む透過型マスクであってもよい。但し、マスク１１は、いわゆる反射型マスクであってもよい。

マスクステージ１は、マスク１１を保持した状態で、照明系２から射出される露光光ＥＬが照射される領域（つまり、後述の照明領域ＩＲ）を含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。

例えば、マスクステージ１は、平面モータを含む駆動システム１２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム１２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。但し、駆動システム１２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、マスクステージ１は、駆動システム１２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「マスクステージ１の所定方向に沿った移動」は、「マスクステージ１の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿ったマスクステージ１の移動」の両方又は一方を含む。

照明系２は、露光光ＥＬを射出する。照明系２からの露光光ＥＬは照明領域ＩＲに照射される。照明系２からの露光光ＥＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスク１１の一部に照射される。

露光光ＥＬは、例えば、水銀ランプから射出される輝線（例えば、ｇ線、ｈ線若しくはｉ線等）又はＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光：Ｄｅｅｐ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬは、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）又はＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光：Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。

投影光学系３は、マスク１１からの露光光ＥＬ（つまり、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像）を、基板５１に対して投影する。具体的には、投影光学系３は、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを投影する。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、投影領域ＰＲに配置された基板５１の一部（例えば、後述するショット領域Ｓの少なくとも一部）に投影する。

第１実施形態では、投影光学系３は、縮小系である。例えば、投影光学系の投影倍率は、１／４であってもよいし、１／５であってもよいし、１／８であってもよいし、又は、その他の値であってもよい。但し、投影光学系３は、等倍系又は拡大系であってもよい。

投影光学系３は、反射光学素子を含まない屈折系であってもよい。投影光学系３は、屈折光学素子を含まない反射系であってもよい。投影光学系３は、反射光学素子及び屈折光学素子の双方を含む反射屈折系であってもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、倒立像として投影してもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、正立像として投影してもよい。

投影光学系３は、露光光ＥＬが射出される射出面３２を含む終端光学素子３１を備えている。射出面３２は、投影光学系３の像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子３１は、投影光学系３が含む複数の光学素子のうち、投影光学系３の像面に最も近い光学素子である。

終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行である。この場合、終端光学素子３１の光軸ＡＸに平行な方向に着目すると、終端影光学素子３１の入射面から射出面３２に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、射出面３２から終端光学素子３１の入射面に向かう方向が＋Ｚ軸方向である。但し、終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行でなくてもよい。

尚、投影光学系３の光軸の少なくとも一部は、終端光学素子３１の光軸ＡＸと一致しており且つＺ軸に平行であってもよい。この場合、Ｚ軸方向に着目すると、投影光学系３から当該投影光学系３の像面に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、投影光学系３から当該投影光学系３の物体面に向かう方向が、＋Ｚ軸方向である。

また、上述した投影領域ＰＲの中心は、光軸ＡＸと一致していてもよいし、一致していなくてもよい。また、投影領域ＰＲは、光軸ＡＸ上に位置していなくともよい。

射出面３２は、−Ｚ軸方向を向いている。従って、射出面３２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に向かって進行する。射出面３２は、ＸＹ平面（つまり、水平面）に平行な平面である。但し、射出面３２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。射出面３２の少なくとも一部は、曲面（例えば、凹面又は凸面）であってもよい。

終端光学素子３１は、−Ｚ軸方向を向いている射出面３２に加えて、当該射出面３２の周囲に配置されている外面３３を含んでいる。露光光ＥＬは、射出面３２から射出される一方で、外面３３からは射出されなくてもよい。外面３３は、＋Ｚ軸方向側に向かうにつれて徐々に光軸ＡＸから遠ざかる形状（つまり、光軸ＡＸに対して傾斜する形状）を有している。但し、外面３３の少なくとも一部は、その他の形状を有していてもよい。

投影光学系３は、基準フレーム３７によって支持されている。基準フレーム３７は、当該基準フレーム３７の下側（つまり、−Ｚ軸方向側）に配置されている装置フレーム３８に支持されている。基準フレーム３７と装置フレーム３８との間には、防振装置３９が配置されている。防振装置３９は、装置フレーム３８から基準フレーム３７への振動の伝達を抑制する。防振装置３９は、例えば、バネ装置を含んでいてもよい。バネ装置の一例として、金属又はゴム等の弾性部材を含むバネ、又は、空気等の気体を含むバネ（いわゆる、エアマウント）が例示される。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、例えば純水である液体ＬＱで満たされた空間（言い換えれば、部分又は領域）を意味する。尚、液浸部材４Ａの詳細な構成については、図２から図３等を参照しながら後に詳述する。

基板ステージ５は、基板５１をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面５２とを備えている。上面５２は、基板５１の上面と平行な平面である。上面５２は、基板５１の上面と同一平面内に配置されている。但し、上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでいてもよい。上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面と同一平面内に配置されていなくてもよい。尚、基板ステージ５の一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号に開示されている。

基板ステージ５は、基板５１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。基板ステージ５は、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。尚、ガイド面８１１と投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）とは、実質的に平行であってもよい。

例えば、基板ステージ５は、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム８２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。駆動システム８２が含む平面モータは、基板ステージ５に配置された可動子８２５と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、基板ステージ５は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「基板ステージ５の所定方向に沿った移動」は、「基板ステージ５の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った基板ステージ５の移動」の両方又は一方を含む。

基板５１は、デバイスを製造するための基板である。基板５１は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材（例えば、フォトレジスト）の膜である。尚、基板５１は、感光膜に加えて、他の膜（例えば、基板５１の表面での露光光ＥＬの意図せぬ反射を防止する反射防止膜及び基板５１の表面を保護する保護膜の両方又は一方等）を含んでいてもよい。

計測ステージ６は、基板５１を保持しない一方で、露光光ＥＬを計測する計測部材（言い換えれば、計測器）６１を保持可能である。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、基板ステージ５と計測ステージ６とを備える露光装置である。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，８９７，９６３号及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号に開示されている。

計測ステージ６は、計測部材６１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。

例えば、計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。駆動システム８２が含む平面モータは、計測ステージ６に配置された可動子８２６と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、計測ステージ６は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「計測ステージ６の所定方向に沿った移動」は、「計測ステージ６の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った計測ステージ６の移動」の両方又は一方を含む。

計測システム７は、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測する。基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するために、計測システム７は、干渉計システムを含んでいてもよい。干渉計システムは、基板ステージ５に配置されている計測ミラー及び計測ステージ６に配置されている計測ミラーの夫々に計測光を照射すると共に、当該計測光の反射光を検出することで基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測してもよい。但し、計測システム７は、干渉計システムに加えて又は代えて、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するエンコーダシステムを含んでいてもよい。尚、エンコーダシステムの一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されている。

チャンバ装置８は、空間ＣＳの環境（例えば、温度、湿度、圧力及びクリーン度のうちの少なくとも一つ）を調整する。空間ＣＳには、少なくとも、終端光学素子３１、液浸部材４Ａ、基板ステージ５及び計測ステージ６が配置されている。但し、マスクステージ１及び照明系２のうちの少なくとも一部が空間ＣＳに配置されていてもよい。

制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御する。制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御するコントローラー９１と、コントローラー９１に接続され且つ露光装置ＥＸ１の動作に用いられる各種情報を記憶するメモリ９２とを含んでいる。

コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、基板ステージ５の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、基板ステージ５を移動させるように、駆動システム８２を制御する。コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際に、マスクステージ１の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、マスクステージ１を移動させるように、駆動システム１２を制御する。コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が計測ステージ６を用いて露光光ＥＬを計測する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、計測ステージ６の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、計測ステージ６を移動させるように、駆動システム８２を制御する。

コントローラー９１は、後に詳述するように、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材（例えば、図２を参照しながら詳述する第２部材４２）の位置を制御する。尚、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材の移動態様については、図４及び図５を参照しながら後に詳述する。
（１−２）第１実施形態の液浸部材４Ａ
続いて、図２から図５を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａについて説明する。
（１−２−１）第１実施形態の液浸部材４Ａの構成
はじめに、図２から図３を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａの構成について説明する。図２は、第１実施形態の液浸部材４Ａの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。図３は、第１実施形態の液浸部材４Ａを下側（−Ｚ軸方向側）から観察した平面図と第１実施形態の液浸部材４Ａの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）とを関連付けて示す説明図である。

以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側（上方側）”は、＋Ｚ軸方向側を意味するものとする。“下側（下方側）”は、−Ｚ軸方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸ＡＸの放射方向における内側であって、光軸ＡＸに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸ＡＸの放射方向における外側であって、光軸ＡＸから遠ざかる側を意味するものとする。

図２に示すように、液浸部材４Ａは、射出面３２及び液浸部材４Ａの下側で移動可能な物体の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。従って、物体は、液浸空間ＬＳに面しつつ、射出面３２及び液浸部材４Ａの両方に対向可能である。

物体は、基板ステージ５であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板ステージ５の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、基板ステージ５が保持する基板５１であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板５１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、計測ステージ６又は計測ステージ６が保持する計測部材６１であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、計測ステージ６の少なくとも一部の上又は計測部材６１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。

液浸部材４Ａは、２つの異なる物体に跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、上面５２と基板５１とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、基板ステージ５と計測ステージ６とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。

尚、以下の説明では、説明の簡略化の観点から、物体が基板５１であるものとして説明を進める。

液浸部材４Ａは、露光光ＥＬの光路ＡＴが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。例えば、液浸部材４Ａは、光路ＡＴのうち射出面３２と基板５１との間の光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。液浸部材４Ａは、投影領域ＰＲを含む基板５１の上面の少なくとも一部の領域が液体ＬＱで覆われるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。射出面３２からの露光光ＥＬは、液体ＬＱを介して基板５１に投影される。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する液浸露光装置である。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの一部を、終端光学素子３１と基板５１との間の空間に形成する。液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの一部を、液浸部材４Ａと基板５１との間の空間に形成する。

このような液浸空間ＬＳを形成するために、図２及び図３に示すように、液浸部材４Ａは、第１部材４１と、第２部材４２とを備えている。以下、第１部材４１及び第２部材４２について、順に説明する。

はじめに、第１部材４１について説明する。

第１部材４１は、光路ＡＴの周囲に配置されている。第１部材４１は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有している。ここで言う「光路ＡＴ」は、上述した光路ＡＴＬ及び終端光学素子３１内の露光光ＥＬの光路ＡＴＯの両方又は一方を含んでいてもよい。図３に示す例では、第１部材４１は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の他の一例として、例えば、枠状の形状（例えば、非円形若しくは多角形又は楕円等の枠を形成する形状）が例示される。

第１部材４１は、第１部材４１と終端光学素子３１との間に間隙（具体的には、空間ＳＰ２）が形成されるように配置されている。第１部材４１は、終端光学素子３１と接触しないように配置されている。

第１部材４１は、終端光学素子３１の周囲に配置されている。第１部材４１は、終端光学素子３１を取り囲むことが可能な形状を有している。この場合、第１部材４１は、終端光学素子３１を保護する保護部材として機能してもよい。例えば、第１部材４１は、第２部材４２と終端光学素子３１との接触を防止する保護部材として機能してもよい。

第１部材４１の一部（例えば、後述する下面４１１１及び内側面４１２１の一部）は、射出面３２の下側に配置されている。但し、第１部材４１は、射出面３２の下側に配置されていなくてもよい。

第１部材４１の一部（例えば、後述する第１部分４１１の一部）は、第２部材４２の一部（例えば、後述する第２部分４２２）の下側に配置されている。従って、第１部材４１の一部（例えば、後述する下面４１１１）は、基板５１に対向する。第１部材４１の一部（例えば、後述する第３部分４１３）は、第２部材４２の一部（例えば、後述する第２部分４２２の一部）の上側に配置されている。第１部材４１の一部（例えば、後述する第１部分４１１）は、第２部材４２の一部（例えば、後述する第１部分４２１）の内側に配置されている。

第１部材４１は、実質的に移動しない。つまり、第１部材４１は、実質的に固定されている。例えば、第１部材４１は、不図示の支持部材を介して装置フレーム３８に固定されていてもよい。尚、投影光学系３及び終端光学素子３１の両方又は一方もまた、実質的に移動しない（つまり、実質的に固定されている）。

このような第１部材４１は、第１部分４１１と、第２部分４１２と、第３部分４１３とを備えている。

第１部分４１１は、液浸空間ＬＳの一部となり得る空間ＳＰ１を介して基板５１の一部に対向する。第１部分４１１は、ＸＹ平面（或いは、基板５１の表面に平行な平面）に沿って広がる板状の（言い換えれば、プレート状の）形状を有している。

第１部分４１１は、下面４１１１と、上面４１１２と、外側面４１１３とを備える。

下面４１１１は、下側を向いている平面である。下面４１１１は、空間ＳＰ１を介して基板５１の一部に対向する。下面４１１１は、上面４１１２及び外側面４１１３の両方又は一方よりも下側に配置されている。下面４１１１は、ＸＹ平面に平行（つまり、光軸ＡＸに垂直）である。下面４１１１は、射出面３２よりも下側に配置されている。

上面４１１２は、上側を向いている平面である。上面４１１２は、外側面４１１３よりも上側に配置されている。上面４１１２は、ＸＹ平面に平行である。従って、上面４１１２と下面４１１１とにより、第１部分４１１の板状の形状を有する部分が形成される。

上面４１１２の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。例えば、液浸空間ＬＳに面する可能性がある上面４１１２の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。上面４１１２が撥液性を有するために、例えば、上面４１１２の少なくとも一部は、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含んでいてもよい。このような樹脂の一例として、例えば、ＰＦＡ（ｔｅｔｒａ ｆｌｕｏｒｏ ｅｔｈｙｌｅｎ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ ａｌｋｙｌｖｉｎｙｌ ｅｔｈｅｒ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、又は、ＰＴＦＥ（Ｐｏｌｙ Ｔｅｔｒａ Ｆｌｕｏｒｏ Ｅｔｈｙｌｅｎｅ）が例示される。

外側面４１１３は、外側を向いている平面である。外側面４１１３は、光軸ＡＸに平行である。外側面４１１３は、下面４１１１の外側端部と上面４１１２の外側端部とを繋ぐ（言い換えれば、連結する又は結ぶ）。従って、外側面４１１３の下側端部は、下面４１１１の外側端部と一致している。外側面４１１３の上側端部は、上面４１１２の外側端部と一致している。

第２部分４１２の一部は、液浸空間ＬＳの一部となり得る空間ＳＰ２を介して外面３３に対向する。

第２部分４１２は、内側面４１２１と、外側面４１２２とを備える。

内側面４１２１は、内側を向いている平面である。内側面４１２１は、下面４１１１の内側端部から上側に向かって延びる。従って、内側面４１２１の下側端部は、下面４１１１の内側端部と一致している。

内側面４１２１の一部は、空間ＳＰ２を介して外面３３に対向する。内側面４１２１は、外面３３に平行である。内側面４１２１は、ＸＹ平面に対して傾斜している。内側面４１２１は、外面３３と同様に、下側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる。

外側面４１２２は、外側を向いている平面である。外側面４１２２は、上面４１１２の内側端部から上側に向かって延びる。従って、外側面４１２２の下側端部は、上面４１１２の内側端部と一致している。

外側面４１２２は、外面３３に対向していない。外側面４１２２は、内側面４１２１に平行である。外側面４１２２は、ＸＹ平面に対して傾斜している。外側面４１２２は、内側面４１２１と同様に、下側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる。

第３部分４１３は、基板５１に対向していない。第３部分４１３は、ＸＹ平面（或いは、基板５１の表面に平行な平面）に沿って広がる板状の（言い換えれば、プレート状の）形状を有していてもよい。

第３部分４１３は、上面４１３１と、下面４１３２とを備える。

上面４１３１は、上側を向いている平面である。上面４１３１は、ＸＹ平面に平行である。上面４１３１は、内側面４１２１の上側端部から外側に向かって延びる。従って、上面４１３１の内側端部は、内側面４１２１の上側端部と一致している。

上面４１３１の少なくとも一部は、上面４１１２と同様に、液体ＬＱに対して撥液性を有している。その結果、空間ＳＰ２から上面４１３１への液体ＬＱの流出が抑制される。

下面４１３２は、下側を向いている平面である。下面４１３２は、外側面４１２２の上側端部から外側に向かって延びる。従って、下面４１３２の内側端部は、外側面４１２２の上側端部と一致している。下面４１３２は、上面４１３１よりも下側に配置されている。下面４１３２は、ＸＹ平面に平行である。上面４１３１と下面４１３２とにより、第３部分４１３の板状部分が形成される。

第１部材４１は、更に、射出面３２からの露光光ＥＬが通過可能な開口４１５を備えている。開口４１５は、内側面４１２１の下側端部で規定される。開口４１５の周囲には、下面４１１１が配置されている。開口４１５の中心は、光軸ＡＸに一致している。開口４１５の中心は、射出面３２の中心と一致している。ＸＹ平面に沿った開口４１５の径及び面積は、射出面３２の径及び面積よりも小さい。ＸＹ平面上における開口４１５の形状は、例えば円形の形状であってもよい（図３参照）。

尚、説明の便宜上、上述した説明では、第１部材４１が、第１部分４１１、第２部分４１２及び第３部分４１３を備えている。しかしながら、第１部材４１は、第１部分４１１、第２部分４１２及び第３部分４１３のうちの少なくとも一つを規定していなくてもよい。

続いて、第２部材４２について説明する。

第２部材４２は、光路ＡＴの周囲に配置されている。このため、第２部材４２は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有している。図３に示す例では、第２部材４２は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。

第２部材４２は、第２部材４２と終端光学素子３１との間に第１部材４１の一部が配置されるように配置されている。第２部材４２は、終端光学素子３１と接触しないように配置されている。

第２部材４２は、第２部材４２の一部（例えば、後述する下面４２１１及び下面４２２１の両方又は一方の少なくとも一部）が基板５１に対向するように配置されている。第２部材４２は、第１部材４１と接触しないように配置されている。第２部材４２は、第２部材４２と第１部材４１との間に間隙が形成されるように配置されている。第２部材４２の一部（例えば、後述する第２部分４２２の一部）は、第１部材４１の一部（例えば、第１部分４１１の一部）の上側に配置されている。第２部材４２の一部（例えば、後述する第１部分４２１）は、第１部材４１の一部（例えば、第１部分４１１）の外側に配置されている。

第２部材４２は、可動部材である。例えば、第２部材４２は、コントローラー９１によって制御される駆動装置４５１の動作によって移動可能であってもよい。駆動装置４５１は、支持部材４５３を介して装置フレーム３８に固定されていてもよい。但し、支持部材４５３が設けられていなくてもよい。駆動装置４５１は、例えばモータ等を含んでいてもよい。例えば、駆動装置４５１の可動子（不図示）を支持部材４５２に接続し、固定子を装置フレーム３８に接続してもよい。駆動装置４５１による第２部材４２の移動に伴って発生する反力の少なくとも一部は、装置フレーム３８に伝達させてもよい。第２部材４２の移動に伴う反力により装置フレーム３８が振動しても、防振装置３９により、投影光学系３は、その影響を実質的に受けない。尚、駆動装置４５１が、第２部材４２の移動に伴う反力の少なくとも一部をキャンセルする機構を有していてもよい。例えば、基板ステージ５の駆動システム８２などに搭載されているカウンターマス方式の反力キャンセル機構と同様の機構を駆動装置４５１に適用することができる。

駆動装置４５１は、一端が第２部材４２に連結され且つ他端が駆動装置４５１に連結されている支持部材４５２を移動させてもよい。支持部材４５２の移動に伴って、支持部材４５２に連結されている第２部材４２が移動してもよい。

第２部材４２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動する。つまり、第２部材４２は、光軸ＡＸに垂直な方向（つまり、ＸＹ平面内の任意の方向）に沿って移動する。尚、「第２部材４２の所定方向に沿った移動」は、「第２部材４２の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った第２部材４２の移動」の両方又は一方を含む。

第２部材４２は、実質的に固定されている終端光学素子３１に対して移動可能であってもよい。第２部材４２の移動に伴い、終端光学素子３１と第２部材４２との間の相対位置が変化する。

第２部材４２は、光路ＡＴの外側で移動可能である。

第２部材４２は、第１部材４１に対して、相対的に移動する。第２部材４２の移動に伴い、第１部材４１と第２部材４２との間の相対位置が変化する。

第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１の上側において移動可能である。第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１の外側において移動可能である。第２部材４２の少なくとも一部は、基板５１の上側において移動可能である。

第２部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動してもよい。例えば、第２部材４２は、射出面３２と基板５１との間が液体ＬＱで満たされている状態で移動してもよい。但し、第２部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されていない状態で移動してもよい。

第２部材４２は、第１部分４２１と、第２部分４２２とを備えている。

第１部分４２１の一部は、液浸空間ＬＳの一部となり得る空間ＳＰ１を介して基板５１の一部に対向する。第１部分４２１は、第１部材４１の一部（例えば、第１部分４１１）よりも外側に配置されている。第１部分４２１は、第２部分４２２よりも外側に配置されている。

第１部分４２１の厚さ（例えば、Ｚ軸方向のサイズ）は、第１部分４１１の厚さよりも厚い。第１部分４２１は、第２部材４２が移動する際に剛体として振る舞うことが可能な形状を有している。例えば、第１部分４２１は、第２部材４２が移動する際に剛体として振る舞うことが可能となる程度のサイズ（例えば、長さ及び厚さの両方又は一方）を有している。

第１部分４２１は、下面４２１１と、内側面４２１２とを備えている。

下面４２１１は、下側を向いている平面である。下面４２１１は、空間ＳＰ１を介して基板５１の一部に対向する。下面４２１１は、内側面４２１２よりも下側且つ外側に配置されている。下面４２１１は、第１部材４１の一部（例えば、下面４１１１を含む第１部分４１１）よりも外側に配置されている面である。下面４２１１は、ＸＹ平面に平行である。下面４２１１は、射出面３２よりも下側に配置されている。下面４２１１は、液体ＬＱに対して親液性を有している。

Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における下面４１１１と基板５１との間の距離と同一である。Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における上面４１１２と基板５１との間の距離よりも小さい。つまり、下面４２１１は、上面４１１２よりも下側に配置されている。

内側面４２１２は、内側を向いている平面である。内側面４２１２は、光軸ＡＸに平行である。内側面４２１２は、外側面４１１３に平行である。内側面４２１２は、下面４２１１の内側端部と後述する下面４２２１の外側端部とを繋ぐ。従って、内側面４２１２の下側端部は、下面４２１１の内側端部と一致している。内側面４２１２の上側端部は、下面４２２１の外側端部と一致している。

内側面４２１２の一部は、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、外側面４１１３に対向する。内側面４２１２の一部は、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、上面４１１２と下面４２２１との間の間隙（具体的には、空間ＳＰ３）に対向する。

第２部材４２は、内側面４２１２が外側面４１１３と接触しないように移動する。つまり、第２部材４２は、内側面４２１２と外側面４１１３との間に間隙が確保され続けるように移動する。

第２部分４２２は、第１部分４２１よりも内側に配置されている。

第２部分４２２の一部は、第１部分４１１と第２部分４１２と第３部分４１３とによって囲まれた空隙に配置されている。その結果、第２部材４２２の移動に伴う第２部材４２の終端光学素子３１への意図しない接触が好適に防止される。

第２部分４２２の一部（例えば、後述する下面４２２１の一部）は、第１部材４１の一部（例えば、上面４１１２の一部）の上側に配置されている。第２部分４２２の一部は、空間ＳＰ３を介して、第１部材４１の一部に対向する。尚、第２部分４２２は、第２部材４２の移動に伴って第１部材４１の上側に配置されたり配置されなかったりする部分を有していてもよい。

第２部分４２２は、下面４２２１と、内側面４２２２とを備えている。

下面４２２１は、下側を向いている平面である。下面４２２１は、内側面４２２２よりも下側に配置されている。下面４２２１は、上面４１１２に平行である。下面４２２１は、ＸＹ平面に平行である。

下面４２２１の一部は、空間ＳＰ３を介して上面４１１２の一部に対向する。第２部材４２は、下面４２２１の一部が、上面４１１２の上側に配置され続けるように移動する。第２部材４２は、下面４２２１の一部と上面４１１２の一部との間の空間ＳＰ３が確保され続けるように移動する。尚、下面４２２１は、第２部材４２の移動に伴って上面４１１２の一部に対向したり、対向しなかったりする部分を含んでもよい。

Ｚ軸方向における下面４２２１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離よりも大きい。つまり、下面４２２１は、下面４２１１よりも上側に配置されている。

Ｚ軸方向における下面４２２１と上面４１１２との間の空間ＳＰ３のサイズは、毛細管現象に起因して空間ＳＰ１から空間ＳＰ３に液体ＬＱが浸透してくることが可能となる程度のサイズである。例えば、Ｚ軸方向における空間ＳＰ３のサイズは、０．２ｍｍから１．０ｍｍの範囲内の任意のサイズであってもよい。

下面４２２１は、液体ＬＱに対して親液性を有している。但し、下面４２２１は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。

内側面４２２２は、内側を向いている面である。内側面４２２２は、外側面４１２２の一部に対向する。内側面４２２２は、外側面４１２２に平行である。内側面４２２２は、下側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる。内側面４２２２の下側端部は、下面４２２１の内側端部と一致している。内側面４２２２は、下面４２２１の内側端部から上側に向かって延びる。

第２部材４２は、内側面４２２２が外側面４１２２に接触しないように移動する。第２部材４２は、内側面４２２２と外側面４１２２との間に間隙が確保され続けるように移動する。

第２部材４２は、更に、射出面３２からの露光光ＥＬが通過可能な円形の開口４２５を備えている。開口４２５は、内側面４２２２の下側端部で規定される。開口４２５の周囲には、下面４２２１が配置されている。開口４２５の内側には、第１部材４１の一部が配置されている。開口４２５の中心が光軸ＡＸに一致するように第２部材４２が位置している場合、図２に示すように、下面４２２１の内縁部と上面４１１２の外縁部が対向し、環状（ループ状）空間ＳＰ３が形成される。

ＸＹ平面における開口４２５の径及び面積は、ＸＹ平面における開口４１５の径及び面積よりも大きい。

尚、説明の便宜上、上述の説明では、第２部材４２は、第１部分４２１及び第２部分４２２を備えている。しかしながら、第２部材４２は、第１部分４２１及び第２部分４２２の少なくとも一部を規定していなくてもよい。

液浸部材４Ａは、更に、液体供給口４３１と、液体供給口４３２と、流体回収口４４１と、流体回収口４４２とを備えている。以下、液体供給口４３１と、液体供給口４３２と、流体回収口４４１と、流体回収口４４２とについて、順に説明する。

まず、液体供給口４３１について説明する。

液体供給口４３１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する。液体供給口４３１は、内側面４１２１に形成されている。液体供給口４３１は、空間ＳＰ２に面するように形成されている。液体供給口４３１は、光路空間ＳＰＫに面するように形成され、外面３３と対向していなくてもよい。

液体供給口４３１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に断続的に分布するように形成されている。例えば、液体供給口４３１は、内側面４１２１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４１５の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。

液体供給口４３１には、コントローラー９１の制御の下で、液体供給路を介して、クリーンで温度調整された液体ＬＱが供給される。液体供給口４３１から、空間ＳＰ２に対して、液体ＬＱが供給される。液体供給口４３１から空間ＳＰ２に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに供給され、光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされる。

液体供給口４３１から空間ＳＰ２に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１５を介して、空間ＳＰ１に供給されてもよい。液体供給口４３１から空間ＳＰ２に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１５を介して、空間ＳＰ３に供給されてもよい。

続いて、液体供給口４３２について説明する。

液体供給口４３２は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する。液体供給口４３２は、下面４２１１に形成されている。液体供給口４３２は、空間ＳＰ１に面するように形成されている。液体供給口４３２は、基板５１に面するように形成されている。

液体供給口４３２は、終端光学素子３１の周囲（露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲）に断続的に分布するように形成されている。例えば、液体供給口４３２は、図３に示すように、下面４２１１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２５の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。

液体供給口４３２には、コントローラー９１の制御の下で、液体供給口４３１に液体ＬＱを供給する流体供給路と同一の又は異なる液体供給路を介して、クリーンで温度調整された液体ＬＱが供給される。液体供給口４３２から、空間ＳＰ１に対して液体ＬＱが供給される。液体供給口４３２から空間ＳＰ１に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、空間ＳＰ３に供給されてもよい。

続いて、流体回収口４４１について説明する。

流体回収口４４１は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。流体回収口４４１は、下面４２１１の外側に形成されている。流体回収口４４１は、下面４２１１の周囲に形成されている。流体回収口４４１は、空間ＳＰ１に面するように形成されている。流体回収口４４１は、空間ＳＰ１を介して基板５１に対向するように形成されている。尚、第１部分４２１の流体回収口４４１の外側の下面（流体回収口４４１の周囲の下面）は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。

流体回収口４４１は、液体供給口４３２よりも外側に形成されている。

流体回収口４４１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口４４１は、下面４２１１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２５の中心周りの仮想的な円）に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。

流体回収口４４１には、メッシュプレート等の多孔部材４４１１が配置されている。多孔部材４４１１は、基板５１の上面に対向する下面と、流体回収路に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。流体回収口４４１は、多孔部材４４１１を介して、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。但し、流体回収口４４１には、多孔部材４４１１が配置されていなくてもよい。尚、多孔部材４４１１の複数の孔の一つを流体回収口４４１と称してもよい。

流体回収口４４１からは、コントローラー９１の制御の下で、流体回収口４４１に配置された多孔部材４４１１を介して液体ＬＱが回収される。例えば、コントローラー９１の制御の下で、多孔部材４４１１の上面側の圧力と多孔部材４４１１の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されてもよい。

続いて、流体回収口４４２について説明する。

流体回収口４４２は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ３）から液体ＬＱを回収する。流体回収口４４２は、下面４２２１に形成されている。流体回収口４４２は、空間ＳＰ３に面するように形成されている。流体回収口４４２は、空間ＳＰ３を介して上面４１１２に対向するように形成されている。

第２部材４２は、空間ＳＰ３に流体回収口４４２が面し続けるように移動する。第２部材４２は、上面４１１２に流体回収口４４２が対向し続けるように移動する。

流体回収口４４２は、第２部材４２に形成されている液体供給口４３２よりも内側に形成されている。流体回収口４４２は、下面４２２１のうち相対的に内側の箇所に形成されている。

流体回収口４４２は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲）に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口４４２は、下面４２２１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２５の中心周りの仮想的な円）に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。流体回収口４４２は、開口４２５に沿って下面４２２１に形成されていてもよい。

流体回収口４４２からは、コントローラー９１の制御の下で、液体ＬＱが回収される。

以上説明した第１実施形態の液浸部材４Ａでは、第２部材４２の少なくとも一部が液浸空間ＬＳに面しているため、第２部材４２の移動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を引き起こし得る。しかしながら、第１実施形態では、第２部材４２が第１部材４１よりも外側で移動するため、第２部材４２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１に伝達されにくくなる。

第１実施形態の液浸部材４Ａでは、内側面４２１２が内側に向いているため、内側面４２１２のうち光路ＡＴに近づくように移動する部分は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱを押し分けるように移動する。しかしながら、第１実施形態の液浸部材４Ａでは、内側面４２１２が第１部分４１１よりも外側に配置されているため、内側面４２１２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１に伝達されにくくなる。

また、光軸ＡＸに沿った内側面４２１２の大きさは例えば数ｍｍであり、内側面４２１２の面積は比較的小さいため、内側面４２１２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が起こりにくい。

また、第１部材４１（例えば、外側面４１１３）と第２部材４２（例えば、内側面４２１２）との間の液体ＬＱの少なくとも一部が空間ＳＰ３に進入し得る。このため、内側面４２１２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が空間ＳＰ３への液体ＬＱの流入によって打ち消されやすくなる。従って、第２部材４２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１により一層伝達されにくくなる。

このように、第１実施形態の液浸部材４Ａでは、第２部材４２の移動に起因した液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１に伝達されにくくなる。従って、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから受ける圧力の変動が好適に抑制される。その結果、終端光学素子３１の変動が好適に抑制される。

第１実施形態の液浸部材４Ａでは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材４２と基板５１との間に形成される。以下、第２部材４２と基板５１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ１と称する”。第１実施形態の液浸部材４Ａでは、例えば、液体供給口４３２からの液体ＬＱの供給と並行して、流体回収口４４１から液体ＬＱを回収しており、界面ＬＧ１は、下面４２１１と多孔部材４４１１の下面の少なくとも一方と基板５１の上面との間に形成される。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子３１と第１部材４１との間に形成される。以下、終端光学素子３１と第１部材４１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ２と称する”。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材４１と第２部材４２との間に形成される。以下、第１部材４１と第２部材４２との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ３と称する”。例えば、界面ＬＧ３は、下面４２２１と上面４１１２との間に形成される。第１実施形態の液浸部材４Ａでは、流体回収口４４２を介して空間ＳＰ３から液体ＬＱが回収（除去）されるため、外側面４１２２と内側面４２２２との間の空間には、液体ＬＱが殆ど又は全く存在しない。その結果、外側面４１２２と内側面４２２２との間の空間は、気体空間となる。このため、第２部材４２は、相対的に円滑に移動することができる。また、下面４２２１と上面４１１２との間の空間ＳＰ３内の液体ＬＱをスクイズフィルムダンパ軸受として機能させてもよい。この場合、第２部材４２をより円滑に安定的に動かすことができる。

尚、図２及び図３を用いて説明した液浸部材４Ａは一例である。従って、液浸部材４Ａの一部の構成が適宜改変されてもよい。以下、液浸部材４Ａの一部の構成の改変の例について説明する。

第１部材４１は、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方を取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第１部材４１は、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方の周囲の一部に配置されている一方で、光路ＡＴ及び終端光学素子３１の両方又は一方の周囲の他の一部に配置されていない形状（例えば、一部が開放された開ループ状の形状）を有していてもよい。

第１部材４１は、上述した支持部材に加えて、当該支持部材と装置フレーム３８との間に配置される防振装置を介して、装置フレーム３８に支持されていてもよい。この場合、防振装置は、上述した防振装置３９と同様に、バネ装置を含んでいてもよい。

第１部材４１の少なくとも一部は、コントローラー９１によって制御される駆動装置（例えば、アクチュエータ）の動作によって移動可能な可動部材であってもよい。駆動装置は、第１部材４１を支持する支持部材を移動させることで、第１部材４１の少なくとも一部を移動させてもよい。駆動装置は、第１部材４１を支持する支持部材と装置フレーム３８との間に配置されていてもよい。また、第１部材４１を支持する支持部材と装置フレーム３８との間に防振装置が配置されると共に、当該防振装置に駆動機構が搭載されてもよい。

第１部分４１１は、板状の（言い換えれば、プレート状の）形状とは異なる任意の形状を有していてもよい。

下面４１１１の一部は、上面４１１２及び外側面４１１３の両方又は一方よりも下側に配置されていなくてもよい。例えば、下面４１１１の一部は、上面４１１２及び外側面４１１３の両方又は一方よりも上側に配置されていてもよい。下面４１１１の少なくとも一部は、射出面３２よりも下側に配置されていなくてもよい。例えば、下面４１１１の少なくとも一部は、射出面３２よりも上側に配置されていてもよい。下面４１１１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。下面４１１１の少なくとも一部は曲面であってもよい。

上面４１１２の一部は、外側面４１１３よりも上側に配置されていなくてもよい。例えば、上面４１１２の一部は、外側面４１１３よりも下側に配置されていてもよい。上面４１１２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４１１２の少なくとも一部は曲面であってもよい。上面４１１２の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

外側面４１１３の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。外側面４１１３の少なくとも一部は曲面であってもよい。尚、外側面４１１３の形状の他の例（つまり、図２及び図３に示す形状とは異なる形状の例）については、後に詳述する（図１９等参照）。

内側面４１２１の少なくとも一部は、外面３３に対して傾斜していてもよい。内側面４１２１は、光軸ＡＸに対して第１の角度で傾斜する面と、光軸ＡＸに対して第２の角度で傾斜する面とを含んでいてもよい。内側面４１２１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に平行であってもよい。内側面４１２１の少なくとも一部は、光軸ＡＸに平行であってもよい。内側面４１２１の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

外側面４１２２の少なくとも一部は、内側面４１２１に対して傾斜していてもよい。外側面４１２２は、光軸ＡＸに対して第１の角度で傾斜する面と、光軸ＡＸに対して第２の角度で傾斜する面とを含んでいてもよい。外側面４１２２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に平行であってもよい。外側面４１２２の少なくとも一部は、光軸ＡＸに平行であってもよい。外側面４１２２の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

第３部分４１３は、板状の（言い換えれば、プレート状の）形状とは異なる任意の形状を有していてもよい。第３部分４１３は、液浸空間ＬＳの形成に寄与しなくてもよい。

上面４１３１及び下面４１３２の両方又は一方の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４１３１及び下面４１３２の両方又は一方の少なくとも一部は曲面であってもよい。上面４１３１の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

第１部材４１は、第３部分４１３（上面４１３１及び下面４１３２）を備えていなくてもよい。

開口４１５の中心は、光軸ＡＸに一致していなくてもよい。開口４１５の中心は、射出面３２の中心に一致していなくてもよい。ＸＹ平面に沿った開口４１５の径及び面積は、射出面３２の径及び面積よりも大きくてもよいし同一であってもよい。

ＸＹ平面上における開口４１５の形状は、円形の形状とは異なる任意の形状（例えば、多角形、楕円形、又は、露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。ＸＹ平面上における第１部材４１の各面（例えば、下面４１１１、上面４１１２及び内側面４１１３、内側面４１２１及び外側面４１２２、並びに、上面４１３１及び下面４１３２）又は各端部（例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部）の形状もまた、円形の形状又は円形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。

第２部材４２は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第２部材４２は、光路ＡＴの周囲の一部に配置されている一方で、光路ＡＴの周囲の他の一部に配置されていない形状（例えば、一部が開放された開ループ状の形状）を有していてもよい。

第２部材４２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に沿って移動することに加えて又は代えて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。

下面４２１１の一部は、内側面４２１２よりも外側又は下側に配置されていなくてもよい。例えば、下面４２１１の一部は、内側面４２１２の一部よりも内側に配置されていてもよい。下面４２１１の一部は、内側面４２１２の一部よりも上側に配置されていてもよい。下面４２１１の少なくとも一部は、射出面３２よりも下側に配置されていなくてもよい。例えば、下面４２１１の少なくとも一部は、射出面３２よりも上側に配置されていてもよい。下面４２１１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。例えば、下面４２１１は、その内側端部から上方に向かって、且つ外側に向かって延びるように傾斜していてもよい。また、下面４２１１（例えば、流体回収口４４１）のＺ軸方向の位置が、開口４２５の周囲において同じでなくてもよい。例えば、開口４２５のＹ軸方向側の下面４２２１（流体回収口４４１）の一部分が、開口４２５のＸ軸方向側に位置する下面４２２１（流体回収口４４１）の他部分よりも低い位置に配置されてもよい。また、下面４２１１の少なくとも一部は曲面であってもよい。下面４２１１の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。

Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における下面４１１１と基板５１との間の距離と同一でなくてもよい。尚、Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離とＺ軸方向における下面４１１１と基板５１との間の距離との関係の他の例（つまり、図２に示す関係とは異なる関係の例）については、後に詳述する（図２２等参照）。

Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における上面４１１２と基板５１との間の距離よりも小さくなくてもよい。言い換えれば、下面４２１１は、上面４１１２よりも下側に配置されていなくてもよい。尚、Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離とＺ軸方向における上面４１１２と基板５１との間の距離との関係の他の例（つまり、図２に示す関係とは異なる関係の例）については、後に詳述する（図２３等参照）。

内側面４２１２は、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、外側面４１１３に対向していなくてもよい。内側面４２１２は、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、空間ＳＰ３に対向していなくてもよい。内側面４２１２の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。内側面４２１２の少なくとも一部は曲面であってもよい。内側面４２１２の少なくとも一部は、外側面４１１３の少なくとも一部に対して傾斜していてもよい。尚、内側面４２１２の形状の他の例（つまり、図２及び図３に示す形状とは異なる形状の例）については、後に詳述する（図１６から図１８等参照）。

下面４２２１の一部は、内側面４２２２よりも下側に配置されていなくてもよい。例えば、下面４２２１の一部は、内側面４２２２の一部よりも上側に配置されていてもよい。下面４２２１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。下面４２２１の少なくとも一部は、上面４１１２に対して傾斜していてもよい（つまり、平行でなくてもよい）。下面４２２１の少なくとも一部は曲面であってもよい。

Ｚ軸方向における下面４２２１と基板５１との間の距離は、Ｚ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離よりも大きくなくてもよい。つまり、下面４２２１は、下面４２１１よりも上側に配置されていなくてもよい。Ｚ軸方向における空間ＳＰ３のサイズは、毛細管現象に起因して空間ＳＰ１から空間ＳＰ３に液体ＬＱが浸透してくることが可能となる程度のサイズよりも小さくてもよいし、大きくてもよい。尚、Ｚ軸方向における下面４２２１と基板５１との間の距離とＺ軸方向における下面４２１１と基板５１との間の距離との関係の他の例（つまり、図２に示す関係とは異なる関係の例）については、後に詳述する（図２０から図２１等参照）。

内側面４２２２の少なくとも一部は、外側面４１２２に対して傾斜していてもよい。内側面４２２２は、Ｚ軸に対して第１の角度で傾斜する面と、第２の角度で傾斜する面を含んでもよい。内側面４２２２の少なくとも一部は曲面であってもよい。

ＸＹ平面上における開口４２５の形状は、円形の形状とは異なる任意の形状（例えば、多角形、楕円形、又は、露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。ＸＹ平面上における第２部材４２の各面（例えば、下面４２１１及び内側面４２１２、並びに、下面４２２１及び内側面４２２２又は各端部（例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部）の形状もまた、円形の形状又は円形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。

液体供給口４３１は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように形成されていてもよい。複数の液体供給口４３１に代えて、単一の液体供給口４３１が形成されていてもよい。液体供給口４３１は、内側面４１２１に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する可能性がある第１部材４１の任意の面に形成されていてもよい。尚、液体供給口４３１の形成位置の他の例（つまり、図２に示す形成とは異なる形成位置の例）については、後に詳述する（図１２等参照）。

液体供給口４３２は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように形成されていてもよい。複数の液体供給口４３２に代えて、単一の液体供給口４３２が形成されていてもよい。液体供給口４３２は、下面４２１１に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する第２部材４２の任意の面に形成されていてもよい。尚、液体供給口４３２の形成位置の他の例（つまり、図２に示す形成とは異なる形成位置の例）について、後に詳述する（図１３から図１４等参照）。

液体供給口４３２が供給する液体ＬＱの特性（例えば、温度及び種類の両方又は一方）は、液体供給口４３１が供給する液体ＬＱの特性と同一であってもよい。液体供給口４３２が供給する液体ＬＱの特性は、液体供給口４３１が供給する液体ＬＱの特性と異なっていてもよい。

液浸部材４Ａは、第２部材４２に形成される液体供給口４３２を備えていなくてもよい。つまり、第２部材４２には、液体供給口４３２が形成されていなくてもよい。

多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２１１よりも上側に配置されていてもよい。多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２１１よりも下側に配置されていてもよい。多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２１１と同じ高さに配置されていてもよい。

多孔部材４４１１の下面は、下面４２１１に平行であってもよい。但し、多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、下面４２１１に対して傾斜していてもよい。多孔部材４４１１の下面は、平面であってもよい。多孔部材４４１１の下面の少なくとも一部は、曲面であってもよい。

流体回収口４４２は、第２部材４２の下面４２２１のうち任意の箇所に形成されていてもよい。尚、流体回収口４４２に加えて又は代えて、空間ＳＰ３から液体ＬＱを回収する流体回収口が、第１部材４１の上面４１１２に形成されてもよい。

流体回収口４４２には、流体回収口４４１と同様に、メッシュプレート等の多孔部材４４２１が配置されていてもよい。

第２部材４２は、空間ＳＰ３に流体回収口４４２の一部が面しない期間が発生するように移動してもよい。第２部材４２は、上面４１１２に流体回収口４４２の一部が対向しない期間が発生するように移動してもよい。

流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方は、終端光学素子３１の周囲に断続的に分布するように形成されていてもよい。例えば、流体回収口４４１は、下面４２１１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２５の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。例えば、流体回収口４４２は、下面４２２１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４２５の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。複数の流体回収口４４１に代えて、単一の流体回収口４４１が形成されていてもよい。複数の流体回収口４４２に代えて、単一の流体回収口４４２が形成されていてもよい。

流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方からは、液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。多孔部材が配置された流体回収口を介して液体を回収する一方で気体を回収しない技術の一例は、例えば、米国特許第７，２９２，３１３号に開示されている。但し、流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方からは、液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。

液体供給口４３１及び液体供給口４３２の両方若しくは一方からの液体ＬＱの供給と流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方若しくは一方からの液体ＬＱの回収とが並行して行われてもよい。但し、液体供給口４３１からの液体ＬＱの供給と液体供給口４３２からの液体ＬＱの供給と流体回収口４４１からの液体ＬＱの回収と流体回収口４４２からの液体ＬＱの回収との全てが並行して行われなくてもよい。

第２部材４２は、液体供給口４３１から液体ＬＱが供給されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、液体供給口４３１から液体ＬＱが供給されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、液体供給口４３２から液体ＬＱが供給されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、液体供給口４３２から液体ＬＱが供給されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２は、流体回収口４４１から液体ＬＱが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、流体回収口４４２から液体ＬＱが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２は、流体回収口４４２から液体ＬＱが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。

第１部材４１の下面４１１１は、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４１１１は、基板５１との間に液体ＬＱを保持する。第１部材４１の内側面４１２１、上面４１１２及び外側面４１１３もまた、液体ＬＱを回収しない。

第２部材４２の下面４２１１は、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４２１１は、基板５１との間で液体ＬＱを保持する。第２部材４２の下面４２２１もまた、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４２２１は、基板５１及び上面４１１２の両方又は一方との間で液体ＬＱを保持する。第２部材４２の内側面４２１２もまた、液体ＬＱを回収しない。
（１−２−２）液浸部材が備える第２部材の移動態様の具体例
続いて、図４及び図５を参照して、第２部材４２の移動態様の具体例について説明する。図４は、第２部材４２の移動態様の第１の具体例を示す断面図である。図５は、第２部材４２の移動態様の第２の具体例を示す断面図である。尚、図４及び図５では、図面の簡略化のために、図２に示した液浸部材４Ａの構成要件のうちの一部が省略されている。

第１実施形態では、第２部材４２は、基板５１の移動態様に基づいて移動する。言い換えれば、第２部材４２は、基板５１の移動態様（例えば、移動方向、移動速度、加速度及び移動距離のうちの少なくとも一つ）に基づいて定まる移動態様で移動する。但し、第２部材４２は、基板５１の移動と独立して移動してもよい。

例えば、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

例えば、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２は、コントローラー９１によって制御される駆動装置４５１の動作によって移動することは上述したとおりである。従って、以下に説明する第２部材４２の移動は、コントローラー９１の制御によって実現される。

第２部材４２が移動しない場合における第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、実質的には、第１部材４１に対する基板５１の相対速度と一致する。従って、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値が、第１部材４１に対する基板５１の相対速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。相対加速度についても同様に、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度の絶対値が、第１部材４１に対する基板５１の相対加速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするために、第２部材４２は、基板５１が移動する方向と同一の方向に向かって移動してもよい。

例えば、図４に示すように、基板５１が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ５１であり、第２部材４２のＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ４２であるとする。第２部材４２が移動しない場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２が移動する場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、｜Ｖ５１−Ｖ４２｜（＜｜Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２が移動する場合には、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２に対する基板５１の相対速度と同様である。

例えば、図５に示すように、基板５１が−Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ５１であり、第２部材４２のＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ４２であるとする。第２部材４２が移動しない場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜−Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２が移動する場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、｜−Ｖ５１＋Ｖ４２｜（＜｜−Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２が移動する場合には、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２に対する基板５１の相対速度と同様である。

基板５１が＋Ｙ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、＋Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。基板５１が−Ｙ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、−Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。基板５１がＸＹ平面内の所定方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、当該所定方向に向かって移動してもよい。

第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度のうち基板５１の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度のうち基板５１の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度のうち基板５１の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度のうち基板５１の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２は、基板５１が移動する方向と同一の方向に向かって移動しつつも、基板５１が移動する方向と交差する又は直交する方向に向かって更に移動してもよい。つまり、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくする際には、基板５１が移動する方向の成分を含むＸＹ平面内の任意の方向へ移動してもよい。例えば、基板５１が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向に向かって移動しつつ、＋Ｙ軸方向又は−Ｙ軸方向に向かって移動してもよい。

以上説明したように、第１実施形態では、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするように移動可能である。従って、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液浸空間ＬＳを形成する液体ＬＱの一部が基板５１上で分離すると共に、当該分離した液体ＬＱが残水として基板５１上に残留してしまうことが抑制される。また、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液浸空間ＬＳに気泡が発生することが抑制される。従って、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
（１−３）露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法
続いて、図６から図１０を参照して、露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法について説明する。

露光装置ＥＸ１が基板５１を露光する露光処理に先立って、まずは、コントローラー９１は、液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５が移動するように、駆動システム８２を制御する。その後、コントローラー９１は、基板交換位置に位置している基板ステージ５に、露光前の基板５１を搬入する（つまり、搬入するように、不図示の基板搬入装置を制御する）。

液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５が位置している間に、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が配置されるように、駆動システム８２を制御する。尚、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が配置されている期間において、計測ステージ６が保持する計測部材６１によって、液体ＬＱを介して露光光ＥＬを受光する計測が行われてもよい。

露光前の基板５１を基板ステージ５が保持した後、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に、露光前の基板５１が搬入された基板ステージ５を移動させる。

尚、上述の動作が行われている間も、基板ステージ５又は計測ステージ６と終端光学素子３１との間に液浸空間ＬＳが形成され続ける。

次に、コントローラー９１は、基板５１に対する露光処理を開始する。具体的には、コントローラー９１の制御の下で、照明系２がマスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。マスク１１からの露光光ＥＬは、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して、基板５１に投影される。その結果、基板５１には、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像が投影され、基板５１が露光される。

第１実施形態では、露光装置ＥＸ１は、露光時にマスク１１及び基板５１の両方を所定の走査方向（スキャン方向）に沿って移動させる走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である。第１実施形態では、マスク１１の走査方向及び基板５１の走査方向が、共にＹ軸方向であるものとする。従って、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。コントローラー９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。

ここで、図６を参照しながら、基板５１の移動の態様について説明する。図６は、基板ステージ５に保持されている基板５１の一例を示す平面図である。

図６に示すように、基板５１の上面には、複数のショット領域Ｓがマトリクス状に分布している。ショット領域Ｓは、露光光ＥＬによる１回の露光処理で露光される領域である。

例えば、ある一つのショット領域Ｓ１に対する露光処理を行う際には、当該ショット領域Ｓ１の上側に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。更に、コントローラー９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。基板５１及びマスク１１の移動と並行して、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。その結果、ショット領域Ｓ１は、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して投影される露光光ＥＬによって露光される。

ショット領域Ｓ１が露光終了位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了する。ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了した後には、次のショット領域Ｓ２（例えば、＋Ｘ軸方向側においてショット領域Ｓ１と隣接するショット領域Ｓ２）に対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われる。具体的には、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、Ｙ軸方向に交わる方向（例えば、Ｘ軸方向、又は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に対して傾斜する方向）に沿って基板５１を移動する。次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。次のショット領域Ｓ２が露光開始位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光光ＥＬの露光処理と同様の態様で、ショット領域Ｓ２に対する露光光ＥＬの露光処理が開始する。以降、同様の動作が、基板５１上の複数のショット領域を対象として行われる。

以下の説明では、ショット領域Ｓに対する露光処理を行うために、投影領域ＰＲに対してショット領域ＳがＹ軸方向に沿って移動するように基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を、適宜“スキャン移動動作”と称する。スキャン移動動作は、ショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態からショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。スキャン移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に沿って等速移動させる動作を含んでいる。但し、スキャン移動動作は、基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、スキャン移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。スキャン移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了した後に次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓが露光開始位置に移動するように基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を、適宜“ステップ移動動作”と称する。ステップ移動動作は、ショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。ステップ移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいる。例えば、ステップ移動動作は、基板５１をＸ軸方向に沿って加減速移動させる動作及び基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作の両方又は一方を含んでいてもよい。但し、ステップ移動動作は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って等速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、ステップ移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。ステップ移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

尚、露光開始位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った一方の端部（例えば、投影領域ＰＲの進行方向に対して後方側の端部）を投影領域ＲＰの前側端部が通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。露光終了位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った他方の端部（例えば、投影領域ＰＲの進行方向に対して前方側の端部）を投影領域ＲＰの後側端部が通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。

また、以下の説明では、あるショット領域Ｓに対する露光処理を行うためにスキャン移動動作が行われる期間を、適宜“スキャン移動期間”と称する。一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了してから次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するためにステップ移動動作が行われる期間を、適宜“ステップ移動期間”と称する。

コントローラー９１は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを交互に繰り返し行う。その結果、基板５１上の複数のショット領域Ｓに対する露光処理が順次行われる。

複数のショット領域Ｓに対する露光処理を行う際に、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１を移動させてもよい。例えば、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１の移動条件（例えば、移動速度、加速度、移動距離、移動方向及びＸＹ平面内での移動軌跡のうちの少なくとも一つ）を調整してもよい。例えば、図６に示すように、コントローラー９１は、露光条件に基づいて、投影領域ＰＲが基板５１に対して移動軌跡Ｓｒに沿って相対的に移動するように、基板５１を移動させてもよい。

複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば、露光レシピと称される露光制御情報に規定されている。露光制御情報は、例えばメモリ９２に記憶されている。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓの配列情報（例えば、複数のショット領域Ｓの夫々の位置）を含んでいてもよい。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓのサイズ（例えば、複数のショット領域ＳのＹ軸方向の長さ）を含んでいてもよい。

図６に示すように、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が上面５２上に形成されてもよい。スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板５１と上面５２とに跨るように形成されてもよい。計測ステージ６が基板ステージ５に隣接又は接触した状態で基板５１に対する露光処理が行われる場合には、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板ステージ５と計測ステージ６とに跨るように形成されてもよい。

第２部材４２は、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、照明系２が露光光ＥＬを照射していない（つまり、終端光学素子３１から露光光ＥＬが射出されていない）期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、基板５１がＸ軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２は、ステップ移動期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２は、照明系２が露光光ＥＬを照射していない期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２は、基板５１がＸ軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。

第２部材４２は、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、照明系２が露光光ＥＬを照射している（つまり、終端光学素子３１から露光光ＥＬが射出されている）期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第２部材４２は、基板５１がＹ軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第２部材４２は、スキャン移動期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２は、照明系２が露光光ＥＬを照射している期間中に移動しなくてもよい。第２部材４２は、基板５１がＹ軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。

このような第２部材４２の移動態様を踏まえた上で、図７から図１０を参照して、基板５１の具体的な移動態様と第２部材４２の具体的な移動態様との関係の一例について説明する。図７は、投影領域ＰＲの移動軌跡Ｓｒ及び第２部材４２の移動軌跡Ｓｒ’の一具体例を示す平面図である。図８及び図９は、夫々、図７に示す態様で基板５１及び第２部材４２が移動した場合の第２部材４２の移動態様を示す断面図である。図１０は、図７に示す態様で基板５１及び第２部材４２が移動した場合の基板５１及び第２部材４２の夫々の移動速度を示すグラフである。

図７（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に沿って隣接する２つのショット領域Ｓ（つまり、ショット領域Ｓａ及びショット領域Ｓｂ）に対する露光処理を行う場合を例にあげる。この場合、コントローラー９１は、実線で示す移動軌跡Ｓｒに沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。

具体的には、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の−Ｙ軸方向側の端部位置ｄ１からショット領域Ｓａ上の＋Ｙ軸方向側の端部位置ｄ２に至る経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、−Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓａが露光される。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の端部位置ｄ２からショット領域Ｓｂ上の＋Ｙ軸方向側の端部位置ｄ３に至る経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。例えば、図７（ａ）中の端部位置ｄ２から中間位置ｄ２．５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させるとともに、−Ｙ軸方向に向かって移動させる。また、図７（ａ）中の中間位置ｄ２．５から端部位置ｄ３に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させるとともに、＋Ｙ軸方向に向かって移動させる。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の端部位置ｄ３からショット領域Ｓｂ上の−Ｙ軸方向側の端部位置ｄ４に至る経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、＋Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓｂが露光される。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の端部位置ｄ４からショット領域Ｓｃ上の−Ｙ軸方向側の端部位置ｄ５に至る経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。例えば、図７（ａ）中の端部位置ｄ４から中間位置ｄ４．５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させるとともに、＋Ｙ軸方向に向かって移動させる。また、図７（ａ）中の中間位置ｄ４．５から端部位置ｄ５に投影領域ＰＲが移動する期間は、コントローラー９１は、基板５１を、−Ｘ軸方向に向かって移動させるとともに、−Ｙ軸方向に向かって移動させる。

投影領域ＰＲがショット領域Ｓｃ上の端部位置ｄ５に位置した後には、投影領域ＰＲが端部位置ｄ１から端部位置ｄ５に到達するまでに行われる動作と同様の動作が繰り返される。

図７（ａ）に示す態様で基板５１が移動する場合において、第２部材４２は、基板５１が移動する方向と同一の方向の成分を含む移動を行うものとする。例えば、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ１、経路Ｔｐ２、経路Ｔｐ３及び経路Ｔｐ４を順次移動するように基板５１が移動する場合には、第２部材４２は、図７（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ１’、経路Ｔｐ２’、経路Ｔｐ３’及び経路Ｔｐ４’を順次移動する。

具体的には、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ１に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第２部材４２は、位置ｄ１’から位置ｄ２’に向かう経路Ｔｐ１’に沿って移動する。

位置ｄ１’は、端部位置ｄ１に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２の中心（例えば、開口４２５の中心）の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ１’は、図８（ａ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ２’は、端部位置ｄ２に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２の中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ２’は、図８（ｂ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

図７（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ１’は、−Ｙ軸方向に向かう成分及び＋Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Ｔｐ１’は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動しつつ、−Ｙ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ１’は、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ２に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第２部材４２は、位置ｄ２’から位置ｄ２．５’を介して位置ｄ３’に向かう経路Ｔｐ２’に沿って移動する。

位置ｄ２．５’は、中間位置ｄ２．５に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２の中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ２．５’は、図８（ｃ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ３’は、端部位置ｄ３に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２の中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ３’は、図８（ｄ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び−Ｙ軸方向にシフトした位置である。

図７（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ２’は、−Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路、並びに、＋Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路の双方を含む経路である。経路Ｔｐ２’は、第２部材４２が、−Ｙ軸方向に向かって移動しつつ−Ｘ軸方向に向かって移動した後に、＋Ｙ軸方向に向かって移動しつつ−Ｘ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ２’は、第２部材４２が、Ｙ軸方向に沿った移動の向きを反転させつつ、−Ｘ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ２’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿った成分を含む経路である。

但し、経路Ｔｐ２’は、Ｙ軸方向に沿った成分（つまり、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿った成分）を含まない経路であってもよい。つまり、経路Ｔｐ２’は、第２部材４２が−Ｘ軸方向のみに向かって移動する経路であってもよい。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ３に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第２部材４２は、位置ｄ３’から位置ｄ４’に向かう経路Ｔｐ３’に沿って移動する。

位置ｄ４’は、端部位置ｄ４に投影領域ＰＲが位置している時点での、投影領域ＰＲに対する第２部材４２の中心の相対的な位置を示す。例えば、位置ｄ４’は、図９（ａ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

図７（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ３’は、＋Ｙ軸方向に向かう成分及び＋Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Ｔｐ３’は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動しつつ、＋Ｙ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ３’は、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。

その後、投影領域ＰＲが経路Ｔｐ４に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第２部材４２は、位置ｄ４’から位置ｄ４．５’を介して位置ｄ５’に向かう経路Ｔｐ４’に沿って移動する。

位置ｄ４．５’は、端部位置ｄ４．５に投影領域ＰＲが位置している時点での、第２部材４２の中心の位置を示す。例えば、位置ｄ４・５’は、図９（ｂ）に示すように、投影領域ＰＲから＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。

位置ｄ５’は、端部位置ｄ５に投影領域ＰＲが位置している時点での第２部材４２の中心の位置を示す。例えば、位置ｄ５’は、図９（ｃ）に示すように、投影領域ＰＲから−Ｘ軸方向及び＋Ｙ軸方向にシフトした位置である。尚、投影領域ＰＲと位置ｄ５’との間の位置関係は、実質的には、投影領域ＰＲと位置ｄ１’との間の位置関係と同一であってもよい。

図７（ｂ）に示すように、経路Ｔｐ４’は、＋Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路、並びに、−Ｙ軸方向に向かう成分及び−Ｘ軸方向に向かう成分を含む経路の双方を含む経路である。経路Ｔｐ４’は、第２部材４２が、＋Ｙ軸方向に向かって移動しつつ−Ｘ軸方向に向かって移動した後に、−Ｙ軸方向に向かって移動しつつ−Ｘ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ４’は、第２部材４２が、Ｙ軸方向に沿った移動の向きを反転させつつ−Ｘ軸方向に向かって移動する経路である。経路Ｔｐ４’は、ステップ移動動作中における基板５１の移動方向に向かう成分、及び、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿った成分を含む経路である。

但し、経路Ｔｐ４’は、Ｙ軸方向に沿った成分（つまり、スキャン移動動作中における基板５１の移動方向に沿った成分）を含まない経路であってもよい。つまり、経路Ｔｐ４’は、第２部材４２が−Ｘ軸方向のみに向かって移動する経路であってもよい。

上述した経路Ｔｐ１’、経路Ｔｐ２’、経路Ｔｐ３’及び経路Ｔｐ４’を移動する第２部材４２は、図７（ｂ）に示すように、実質的には、アラビア数字の「８」の字を描くように移動する。

図７（ａ）に示す移動軌跡Ｓｒに沿って投影領域ＰＲが移動するように基板５１が移動し且つ図７（ｂ）に示す移動軌跡Ｓｒ’に沿って第２部材４２が移動する場合には、基板５１及び第２部材４２の移動速度は、図１０に示す態様で変化する。尚、図１０の１段目のグラフが、Ｘ軸方向に沿った基板５１の移動速度を示している。図１０の２段目のグラフが、Ｙ軸方向に沿った基板５１の移動速度を示している。図１０の３段目のグラフが、Ｘ軸方向に沿った第２部材４２の移動速度を示している。図１０の４段目のグラフが、Ｙ軸方向に沿った第２部材４２の移動速度を示している。

なお、図１０のグラフは一例であって、図１０の１段目及び２段目のグラフに示す基板５１の移動態様は、適宜変更可能である。図１０の３段目及び４段目のグラフに示す第２部材４２の移動態様もまた適宜変更可能である。従って、第２部材４２は、図７（ｂ）に示す経路とは異なる経路で移動してもよい。

例えば、図１０の３段目のグラフにおいては、スキャン移動期間における移動速度の絶対値の変化とステップ移動期間における移動速度の絶対値の変化とが同じであるが、異ならせてもよい。例えば、スキャン移動期間（例えば、端部位置ｄ１’から端部位置ｄ２’への移動期間）における移動速度の絶対値の最大値が、ステップ移動期間（例えば、端部位置ｄ２’から端部位置ｄ３’への移動期間）における移動速度の絶対値の最大値より小さくなるように、第２部材４２のＸ軸方向への移動が制御されてもよい。または、スキャン移動期間（例えば、端部位置ｄ１’から端部位置ｄ２’への移動期間）の少なくとも一部で、第２部材４２がＸ軸方向に等速で移動するように、第２部材４２のＸ軸方向への移動が制御されてもよい。

また、図１０の４段目のグラフにおいては、スキャン移動期間においては、第２部材４２はＹ軸方向に等速で移動しているが、スキャン移動期間（例えば、端部位置ｄ１’から端部位置ｄ２’への移動期間）の少なくとも一部で移動速度が変化するように、第２部材４２のＹ軸方向への移動が制御されてもよい。例えば、スキャン移動期間（例えば、端部位置ｄ１’から端部位置ｄ２’への移動期間）においては、スキャン移動動作を開始した後に第２部材４２の移動が開始されるように、第２部材４２のＹ軸方向への移動が制御されてもよい。例えば、投影領域ＰＲがショット領域Ｓの中間位置（例えば、端部位置ｄ１と端部位置ｄ２との中間位置）を通過した時点で、第２部材４２のＹ軸方向への移動が開始されてもよい。

（１−４）液浸部材４Ａの変形例
続いて、図１１から図２３を参照しながら、液浸部材４Ａの各種変形例について説明する。尚、液浸部材４Ａの構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。

（１−４−１）第１変形例
図１１を参照しながら、第１変形例の液浸部材４Ａａについて説明する。図１１は、第１変形例の液浸部材４Ａａが備える第１部材４１ａの構成を示す断面図である。

図１１に示すように、第１変形例では、第１部材４１ａは、液体供給口４３１ａと流体回収口４４３ａとを備えている。

液体供給口４３１ａは、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ２）に液体ＬＱを供給する。流体回収口４４３ａは、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ２）から液体ＬＱを回収する。液体供給口４３１ａ及び流体回収口４４３ａは、内側面４１２１に形成されている。液体供給口４３１ａ及び流体回収口４４２は、空間ＳＰ２に面するように形成されている。尚、液体供給口４３１ａ及び流体回収口４４３ａの一方又は両方が、光路空間ＳＰＫに面するように形成されてもよい。液体供給口４３１ａは光軸ＡＸの一方側に配置され、流体回収口４４３ａは、光軸ＡＸの他方側に形成されている。図１１においては、光軸ＡＸに対して、−Ｘ軸方向側に液体供給口４３１ａが形成され、＋Ｘ軸方向側に流体回収口４４３ａが形成されている。流体回収口４４３ａの基板５１からの高さは、液体供給口４３１ａの基板５１からの高さと同じである。

尚、光軸ＡＸに対して−Ｙ軸方向側に液体供給口４３１が形成され、＋Ｙ軸方向側に流体回収口４４３ａが形成されてもよい。また、液体供給口４３１の基板５１からの高さと、流体回収口４４３ａの基板５１からの高さとが異なっていてもよい。

液体供給口４３１ａは、内側面４１２１に複数形成されていてもよい。例えば、ＸＹ平面に沿って、等間隔で、あるいはランダムに複数の液体供給口４３１ａが形成されてもよい。流体回収口４４３ａは、内面４１２１に複数形成されていてもよい。例えば、ＸＹ平面に沿って、等間隔で又はランダムに複数の流体回収口４４３ａが形成されていてもよい。

液体供給口４３１ａからの液体供給及び流体回収口４４３ａからの液体回収は、コントローラー９１の制御の下で行われる。流体回収口４４３ａからは、液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。但し、流体回収口４４３ａからは、液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。

第１変形例の液浸部材４Ａａを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

尚、流体回収口４４３ａの基板５１からの高さは、液体供給口４３１ａの基板５１からの高さよりも大きくてもよいし、小さくてもよい。流体回収口４４３ａには、多孔部材が配置されていてもよい。尚、流体回収口４４３ａに配置される多孔部材は、流体回収口４４１に配置される多孔部材４４１１と同様であってもよい。

液浸部材４Ａもまた、第１部材４１の下面４１１１に流体回収口を備えていてもよい。または、液浸部材４Ａａもまた、第１部材４１ａの下面４１１１に流体回収口を備えていてもよい。

（１−４−２）第２変形例
図１２を参照しながら、第２変形例の液浸部材４Ａｂについて説明する。図１２は、第２変形例の液浸部材４Ａｂが備える第１部材４１ｂの構成を示す断面図である。

図１２に示すように、第２変形例では、第１部材４１ｂは、下面４１１１に液体供給口４３１ｂを備えている。

第２変形例の液浸部材４Ａｂを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

尚、第１変形例と同様に、液浸部材４Ａもまた、第１部材４１の下面４１１１に流体回収口を備えていてもよい。または、液浸部材４Ａａもまた、第１部材４１ａの下面４１１１に流体回収口を備えていてもよい。

（１−４−３）第３変形例
図１３を参照しながら、第３変形例の液浸部材４Ａｃについて説明する。図１３は、第３変形例の液浸部材４Ａｃの構成を示す断面図である。

図１３に示すように、第３変形例では、液体供給口４３２ｃが下面４２２１に形成されている。液体供給口４３２ｃは、空間ＳＰ３（上面４１１２）に対向しないように形成されているが、空間ＳＰ３に面するように形成されていてもよい。

第３変形例の液浸部材４Ａｃを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

尚、液浸部材４Ａｃにおいて、下面４２１１に、液体供給口４３２が設けられていてよい。

（１−４−４）第４変形例
図１４を参照しながら、第４変形例の液浸部材４Ａｄについて説明する。図１４は、第４変形例の液浸部材４Ａｄの構成を示す断面図である。

図１４に示すように、第４変形例では、液体供給口４３２ｄが内側面４２１２に形成されている。

第４変形例の液浸部材４Ａｄを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

尚、液体供給口４３２ｄは、上面４１１２及び下面４１１１の両方又は一方よりも上側に形成されていてもよいし、下側に形成されていてもよい。液体供給口４３２ｄは、上面４１１２又は下面４１１１と同じ高さに形成されていてもよい。

液体供給口４３２ｄは、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、外側面４１１３に対向していてもよいし、対向していなくてもよい。液体供給口４３２ｄは、ＸＹ平面に平行な方向に沿って、空間ＳＰ３に対向していてもよいし、対向していなくてもよい。

また、液浸部材４Ａｄにおいて、液体供給口４３２ｄに加えて、下面４２１１に設けられる液体供給口４３２と、下面４２２１に設けられる液体供給口４３２ｃの一方、または両方が設けられていてよい。

（１−４−５）第５変形例
図１５を参照しながら、第５変形例の液浸部材４Ａｅについて説明する。図１５は、第５変形例の液浸部材４Ａｅの構成を示す断面図である。

図１５に示すように、第５変形例では、第２部材４２ｅが、流体回収口４４２に加えて流体回収口４４４ｅを備えている。

流体回収口４４４ｅは、内側面４２２２と外側面４１２２と上面４１１２との間の空間から、液体ＬＱ及び気体の一方又は両方を回収する。流体回収口４４４ｅは、第２部材４２ｅの内側面４２２２に形成されている。流体回収口４４４ｅからの液体ＬＱの回収は、コントローラー９１の制御の下で行われる。

流体回収口４４４ｅは、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲）に断続的に又は連続的に形成されている。例えば、複数の流体回収口４４４ｅが、等間隔で又はランダムに形成されていてもよい。

第５変形例の液浸部材４Ａｅを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第５変形例では、空間ＳＰ３よりも内側の空間に液体ＬＱが流出してしまった場合であっても、当該液体ＬＱを回収することができる。

尚、流体回収口４４４ｅは、内側面４２２２と外側面４１２２との間の空間に面する任意の面に形成されてもよい。例えば、流体回収口４４４ｅは、上面４１１２に形成されてもよい。例えば、流体回収口４４４ｅは、外側面４１２２に形成されてもよい。例えば、流体回収口４４４ｅは、下面４２２１のうち流体回収口４４２よりも内側の部分に形成されてもよい。例えば、流体回収口４４４ｅは、下面４１３２に形成されてもよい。

流体回収口４４４ｅには、多孔部材が配置されていてもよい。尚、流体回収口４４４ｅに配置される多孔部材は、流体回収口４４１に配置される多孔部材４４１１と同様であってもよい。

上述した各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｄ）が流体回収口４４４ｅを備えていてもよい。上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）は、流体回収口４４４ｅを備えている場合は、流体回収口４４２を備えていなくてもよい。

上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）は、第２部材４２と基板５１（又は、物体）との間の空間ＳＰ１の外側の空間（例えば、流体回収口４４１よりも外側の空間）から、液体ＬＱ及び気体の一方又は両方を回収する流体回収口を備えていてもよい。このような流体回収口は、第２部材４２に形成されていてもよいし、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる部材に設けてもよい。

上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）は、空間ＳＰ２から外側の空間（例えば、内側面４１２１よりも外側の又は上面４１３１よりも上側の空間）から、液体ＬＱ及び気体の一方又は両方を回収する流体回収口を備えていてもよい。このような流体回収口は、第１部材（例えば、上面４１３１）に形成されていてもよいし、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる部材に設けてもよい。

（１−４−６）第６変形例
図１６を参照しながら、第６変形例の液浸部材４Ａｆについて説明する。図１６は、第６変形例の液浸部材４Ａｆの構成を示す断面図である。

図１６に示すように、第６変形例では、第２部材４２ｆの内側面４２１２ｆが光軸ＡＸに対して傾斜している。内側面４２１２ｆは、下面４２１１の内側端部から上側に向かって且つ内側に向かって延びている。内側面４２１２ｆは、下面４２２１の外側端部から下側に向かって且つ外側に向かって延びている。

第６変形例の液浸部材４Ａｆを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第６変形例では、内側面４２１２ｆが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、内側面４２１２ｆの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が相対的に小さくなる。従って、例えば、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから受ける圧力の変動が好適に抑制される。その結果、終端光学素子３１の変動が好適に抑制される。

尚、内側面４２１２ｆの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、内側面４２１２ｆの投影面積（具体的には、第２部材４２ｆの移動の方向に直交する面に対する投影面積）が小さくなるほど小さくなる。従って、内側面４２１２ｆは、内側面４２１２ｆの投影面積が極力小さくなるような形状を有していてもよい。

第６変形例では、内側面４２１２ｆが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、第２部材４２の下側において界面ＬＧ１が円滑に移動することができる。例えば、図１６において、界面ＬＧ１が内側面４２１２ｆと基板５１との間に形成されている状態で、例えば、基板５１と第２部材４２との相対的な移動により、界面ＬＧ１が−Ｘ軸方向に移動する場合にも、界面ＬＧ１が、下面４２１１の内側端部で動きを抑えられることなく、内側面４１２１ｆから下面４２１１へ円滑に移動することができる。界面ＬＧ１が下面４２１１から内側面４１２１ｆへ移動する場合も同様である。従って、空間ＳＰ１の液体ＬＱの一部が分離し、空間ＳＰ１の外側の空間に移動する又は残留することが抑制される。

内側面４２１２ｆの全体が光軸ＡＸに対して傾斜していなくてもよい。例えば、内側面４２１２ｆの一部が光軸ＡＸに平行であってもよい。

内側面４２１２ｆは、夫々が異なる傾斜角度（例えば、ＸＹ平面に対する傾斜角度又は光軸ＡＸに対する傾斜角度）で傾斜する複数の傾斜面を含んでいてもよい。例えば、内側面４２１２ｆは、第１の傾斜角度で傾斜する第１の傾斜面と、第１の傾斜角度とは異なる第２の傾斜角度で傾斜する第２の傾斜面とを含んでいてもよい。

尚、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）においても、傾斜した内側面４２１２ｆが採用されてもよい。

（１−４−７）第７変形例
図１７を参照しながら、第７変形例の液浸部材４Ａｇについて説明する。図１７は、第７変形例の液浸部材４Ａｇの構成を示す断面図である。

図１７に示すように、第７変形例では、第２部材４２ｇの内側面４２１２ｇが、第６変形例の内側面４２１２ｆと同様に、光軸ＡＸに対して傾斜している。第７変形例では更に、内側面４２１２ｇと下面４２１１とが接続する部分及び内側面４２１２ｇと下面４２２１とが接続する部分の両方又は一方が曲面である。

第７変形例の液浸部材４Ａｇを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第７変形例においても、内側面４２１２ｇが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、内側面４２１２ｇの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が相対的に小さくなる。

また、第７変形例においては、第２部材４２ｇの下側において界面ＬＧ１がより円滑に移動することができる。即ち、界面ＬＧ１が下面４２１１と基板５１との間に形成されている状態及び界面ＬＧが内側面４１２１ｇと基板５１との間に形成されている状態のうちの一方の状態から他方の状態へ遷移する場合にも、界面ＬＧ１が円滑に移動することができる。従って、空間ＳＰ１の液体ＬＱの一部が分離し、空間ＳＰ１の外側の空間に移動する又は残留することが抑制される。

尚、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）においても、傾斜した内側面４２１２ｇが採用されると共に、内側面４２１２ｇと下面４２１１及び下面４２２１とが接続する部分の両方又は一方が曲面であってもよい。

尚、内側面４２１２ｇに限らず、上述した各面の端部又は上述した各面が互いに接続する部分が曲面であってもよい。

（１−４−８）第８変形例
図１８を参照しながら、第８変形例の液浸部材４Ａｈについて説明する。図１８は、第８変形例の液浸部材４Ａｈの構成を示す断面図である。

図１８に示すように、第８変形例では、第２部材４２ｈの内側面４２１２ｈが光軸ＡＸに対して傾斜している。さらに第８変形例では、内側面４２１２ｈは、下面４２１１の内側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びている。内側面４２１２ｈは、下面４２２１の外側端部から下側に向かって且つ内側に向かって延びている。

第８変形例の液浸部材４Ａｈを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第８変形例では、内側面４２１２ｈが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、内側面４２１２ｈの移動によって押し出される液体ＬＱが基板５１に向かいにくくなる。従って、内側面４２１２ｈの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動に起因する、基板５１の変動が抑制される。また、内側面４２１２ｈの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が、終端光学素子３１により一層伝達されにくくなる。

尚、内側面４２１２ｈの全体が光軸ＡＸに対して傾斜していなくてもよい。例えば、内側面４２１２ｈの一部が光軸ＡＸに平行であってもよい。

内側面４２１２ｈは、夫々が異なる傾斜角度で傾斜する複数の傾斜面を含んでいてもよい。例えば、内側面４２１２ｈは、第１の傾斜角度で傾斜する第１の傾斜面と、第１の傾斜角度とは異なる第２の傾斜角度で傾斜する第２の傾斜面とを含んでいてもよい。

尚、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｅ）においても、傾斜した内側面４２１２ｈが採用されてもよい。

（１−４−９）第９変形例
図１９を参照しながら、第９変形例の液浸部材４Ａｉについて説明する。図１９は、第９変形例の液浸部材４Ａｉの構成を示す断面図である。

図１９に示すように、第９変形例では、第１部材４１ｉの外側面４１１３ｉが光軸ＡＸに対して傾斜している。第９変形例では、外側面４１１３ｉは、下面４１１１の外側端部から上側に向かって且つ内側に向かって延びている。外側面４１１３ｉは、上面４１１２の外側端部から下側に向かって且つ外側に向かって延びている。

第９変形例の液浸部材４Ａｉを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第９変形例では、外側面４１１３ｉが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、液体ＬＱが空間ＳＰ３に向かいやすくなる。また、外側面４１１３ｉが光軸ＡＸに平行である場合と比較して、内側面４２１２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力が変動しにくい。従って、液体ＬＱの圧力変動に起因する影響（終端光学素子３１の変動、基板５１の変動等）を抑制できる。

尚、外側面４１１３ｉは、下面４１１１の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びていてもよい。即ち、外側面４１１３ｉは、上面４１１２の外側端部から下側に向かって且つ内側に向かって延びていてもよい。

また、外側面４１１３ｉの全体が光軸ＡＸに対して傾斜していなくてもよい。外側面４１１３ｉの一部が光軸ＡＸに平行であってもよい。

また、外側面４１１３ｉは、夫々が異なる傾斜角度で傾斜する複数の傾斜面を含んでいてもよい。例えば、外側面４１１３ｉは、第１の傾斜角度で傾斜する第１の傾斜面と、第１の傾斜角度とは異なる第２の傾斜角度で外側に向かって下方に傾斜する第２の傾斜面とを含んでいてもよい。例えば、第１の傾斜面が、下面４１１１の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延び、第２の傾斜面が上面４１１２の外側端部から下側に向かって且つ外側に向かって延びるように傾斜していてもよい。この場合、第１の傾斜面の外側端部と第２の傾斜面の外側端部とが一致していてもよい。

また、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｉ）は、外側面を備えていなくともよい。例えば、下面４１１１の外側端部から外側面４１２２の下側端部に向かって延びる面が、上面４１１２と定義されてもよい。

（１−４−１０）第１０変形例
図２０を参照しながら、第１０変形例の液浸部材４Ａｊについて説明する。図２０は、第１０変形例の液浸部材４Ａｊの構成を示す断面図である。

図２０に示すように、第１０変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが下面４２２１の基板５１からの高さと同一である。第１０変形例では、第２部材４２ｊは、内側面４２１２を備えていない。

第１０変形例の液浸部材４Ａｊを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第１０変形例では、第２部材４２ｊが内側面４２１２を備えている場合と比較して、第２部材４２ｊの移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が相対的に小さくなる。従って、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから受ける圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液体ＬＱの圧力変動に起因する影響（終端光学素子３１の変動、基板５１の変動等）が好適に抑制される。

（１−４−１１）第１１変形例
図２１を参照しながら、第１１変形例の液浸部材４Ａｋについて説明する。図２１は、第１１変形例の液浸部材４Ａｋの構成を示す断面図である。

図２１に示すように、第１１変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが下面４２２１の基板５１からの高さより大きい。

第１１変形例の液浸部材４Ａｋを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

（１−４−１２）第１２変形例
図２２を参照しながら、第１２変形例の液浸部材４Ａｌについて説明する。図２２は、第１２変形例の液浸部材４Ａｌの構成を示す断面図である。

図２２に示すように、第１２変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが下面４１１１の基板５１からの高さより大きい。

第１２変形例の液浸部材４Ａｌを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第１２変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが下面４１１１の基板５１からの高さより大きくない場合と比較して、第２部材４２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。従って、液体ＬＱの圧力の変動に起因する影響（終端光学素子３１の変動、基板５１の変動等）が抑制できる。

（１−４−１３）第１３変形例
図２３を参照しながら、第１３変形例の液浸部材４Ａｍについて説明する。図２３は、第１３変形例の液浸部材４Ａｍの構成を示す断面図である。

図２３に示すように、第１３変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが上面４１１２の基板５１からの高さより大きい。

第１３変形例の液浸部材４Ａｍを備える露光装置ＥＸ１においても、上述した液浸部材４Ａを備える露光装置ＥＸ１が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、露光不良の発生が抑制される。

第１３変形例では、下面４２１１の基板５１からの高さが上面４１１２の基板５１からの高さより大きくない場合と比較して、第２部材４２の移動による液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制される。従って、液体ＬＱの圧力の変動に起因する影響（終端光学素子３１の変動、基板５１の変動等）が抑制できる。

尚、第１０変形例の液浸部材４Ａｊから１３変形例の液浸部材４Ａｍとは異なり、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｉ）では、下面４２１１の基板５１からの高さが下面４２２１の基板５１からの高さよりも小さい。その結果、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｉ）では、安定的な界面ＬＧ１が形成されやすく、空間ＳＰ１からの液体ＬＱの流出が抑制できる。従って、第１実施形態では、安定的な界面ＬＧ１の形成という効果と液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動の抑制という効果との双方を考慮した上で、下面４２１１の基板５１からの高さが適切な高さに設定されてもよい。

また、上述の各種液浸部材（４Ａ及び４Ａａから４Ａｍ）において、流体回収口４４１の外側に気体を供給する気体供給口を設けてもよい。そのような気体供給口は、例えば第２部材４２等に設けてもよいし、第１部材４１等及び第２部材４２等と異なる部材に設けてもよい。また、供給される気体は、液浸空間ＬＳの周囲の空間の気体と実質的に同じであってもよいし、同じでなくてもよい。例えば、供給される気体は、空気、窒素ガス又は炭酸ガスであってもよい。気体供給口からの気体の供給は、空間ＳＰ１からの液体ＬＱの流出抑制（界面ＬＧ１の維持）を目的として行われてもよいし、他の目的のために行われてもよいし、流出抑制という目的と他の目的の両方のために行われてもよい。例えば、流体回収口４４１の外側で炭酸ガスを供給することによって、液体ＬＱの流出が抑制されるとともに、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中でのバブルの発生が抑制されてもよい。

（２）第２実施形態
続いて、第２実施形態の露光装置ＥＸ２について説明する。尚、第２実施形態の露光装置ＥＸ２は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液浸部材４Ｂが備える構成要素の一部が第１実施形態の液浸部材４Ａが備える構成要素の一部と異なるという点で異なる。第２実施形態の露光装置ＥＸ２が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、図２４を参照しながら、第２実施形態の液浸部材４Ｂのうち第１実施形態の液浸部材４Ａとは異なる構成要素に着目して説明を進める。図２４は、第２実施形態の露光装置ＥＸ２が備える液浸部材４Ｂの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。尚、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。

図２４に示すように、液浸部材４Ｂは、液浸部材４Ａと同様に、終端光学素子３１の下側で移動可能な物体上に液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材４Ｂは、第１部材４１Ｂと、第２部材４２Ｂとを備えている。以下、第１部材４１Ｂ及び第２部材４２Ｂについて、順に説明する。

はじめに、第１部材４１Ｂについて説明する。尚、以下では、第２実施形態の第１部材４１Ｂの構成要素のうち第１実施形態の第１部材４１の構成要素とは異なる部分に着目して説明を進める。従って、第２実施形態の第１部材４１Ｂの構成要素のうち以下で特段の説明を付さない構成要素については、第１実施形態の第１部材４１の構成要素と同様であってもよい。

第２実施形態では、第１部材４１Ｂは、第２部材４２Ｂの一部の下側に配置されていなくてもよい。つまり、第１部材４１Ｂは、第２部材４２Ｂの上側に配置されている。従って、第１部材４１Ｂと基板５１との間には、第２部材４２Ｂの一部が配置されている。

第１部材４１Ｂは、内側面４１２１Ｂと、外側面４１２２Ｂと、下面４１１１Ｂとを備えている。

内側面４１２１Ｂは、上述した内側面４１２１と同様に、内側を向いている面であって且つ空間ＳＰ２を介して外面３３の一部に対向する。

外側面４１２２Ｂは、上述した外側面４１２２と同様に、外側を向いている面であって且つ外面３３に対向していない。外側面４１２２Ｂは、下面４１１１Ｂの外側端部から上側に向かって延びる面であるという点で、外側面４１２２と異なっている。尚、外側面４１２２Ｂのその他の特徴は、上述した外側面４１２２の特徴と同一であってもよい。

下面４１１１Ｂは、上述した下面４１１１と同様に、下側を向いている面である。下面４１１１Ｂは、空間ＳＰ１を介して基板５１に対向していなくてもよいという点で、下面４１１１と異なっている。下面４１１１Ｂは、空間ＳＰ３を介して第２部材４２Ｂの一部（例えば、後述する上面４２３１Ｂの一部）に対向するという点で、下面４１１１と異なっている。尚、下面４１１１Ｂのその他の特徴は、上述した下面４１１１の特徴と同一であってもよい。

続いて、第２部材４２Ｂについて説明する。尚、以下では、第２実施形態の第２部材４２Ｂの構成要素のうち第１実施形態の第２部材４２の構成要素とは異なる部分に着目して説明を進める。従って、第２実施形態の第２部材４２Ｂの構成要素のうち以下で特段の説明を付さない構成要素については、第１実施形態の第１部材４１の構成要素と同様であってもよい。

第２実施形態では、第２部材４２Ｂは、第１部材４１Ｂの一部の上側に配置されていなくてもよい。つまり、第２部材４２Ｂは、第１部材４１Ｂの下側に配置されている。

第２部材４２Ｂは、上面４２３１Ｂと、下面４２１１Ｂと、内側面４２２２Ｂと、内側面４２３２Ｂとを備えている。

上面４２３１Ｂは、上側を向いている平面である。上面４２３１Ｂは、下面４２１１Ｂよりも上側に配置されている。上面４２３１Ｂは、内側面４２２２Ｂよりも内側に配置されている。上面４２３１Ｂは、内側面４２３２Ｂよりも外側に配置されている。上面４２３１Ｂは、射出面３２よりも下側に配置されている。上面４２３１は、ＸＹ平面に平行な平面である。上面４２３１Ｂは、液体ＬＱに対して撥液性を有している。

上面４２３１Ｂは、第１部材４１Ｂよりも下側に配置されている。上面４２３１Ｂの一部は、空間ＳＰ３を介して下面４１１１Ｂの一部に対向する。上面４２３１Ｂと下面４１１１Ｂとの間の空間ＳＰ３の高さは、光路空間ＳＰＫの高さよりも小さい。

下面４２１１Ｂは、上述した下面４２１１と同様に、下側を向いている平面である。下面４２１１Ｂは、その一部が下面４１１１Ｂの下側に配置されているという点で、下面４２１１と異なっている。下面４２１１Ｂは、その少なくとも一部が第１部材４１Ｂの少なくとも一部（例えば、下面４１１１Ｂ）よりも外側に配置されていなくてもよいという点で、下面４２１１と異なっている。尚、下面４２１１Ｂのその他の特徴は、上述した下面４２１１の特徴と同一であってもよい。

内側面４２２２Ｂは、内側面４２２２と同様に、内側を向いている平面であって且つ外側面４１２２Ｂの一部に対向する。内側面４２２２Ｂは、上面４２３１Ｂの外側端部から上側に延びるという点で、内側面４２２２と異なっている。尚、内側面４２２２Ｂのその他の特徴は、上述した内側面４２２２の特徴と同一であってもよい。

内側面４２３２Ｂは、内側を向いている平面である。内側面４２３２Ｂは、上面４２３１Ｂの内側端部と下面４２１１Ｂの内側端部とを繋ぐ。従って、内側面４２３２Ｂの上側端部は、上面４２３１Ｂの内側端部と一致している。内側面４２３２Ｂの下側端部は、下面４２１１Ｂの内側端部と一致している。内側面４２３２Ｂは、光軸ＡＸに平行である。

第２部材４２Ｂは、射出面３２からの露光光ＥＬが通過可能な円形の開口４２５Ｂを備えている。開口４２５Ｂは、開口４２５Ｂの内側に第１部材４１Ｂが配置されていないという点で、上述した開口４２５と異なっている。尚、開口４２５Ｂのその他の特徴は、上述した開口４２５の特徴と同一であってもよい。

液浸部材４Ｂは、更に、液浸部材４Ａと同様に、液体供給口４３１と流体回収口４４１と流体回収口４４２とを備える。尚、第２実施形態では、流体回収口４４２は、第２部材４２Ｂではなく第１部材４１Ｂに形成されている。

第２実施形態の液浸部材４Ｂは更に、第２部材４２Ｂの開口４２５Ｂに配置される第３部材４９Ｂを備えている。

第３部材４９Ｂは、開口４２５Ｂの内部に配置されている。この場合、第３部材４９Ｂは、第２部材４２Ｂと一体化されるように、開口４２５Ｂに配置されていてもよい。例えば、第３部材４９Ｂは、開口４２５Ｂに埋め込まれる又は嵌め込まれることで第２部材４２Ｂと一体化されるように、開口４２５Ｂに配置されていてもよい。尚、ここで言う「第２部材４２Ｂと第３部材４９Ｂとが一体化される」状態は、第２部材４２Ｂの移動に伴って第３部材４９Ｂもまた第２部材４２Ｂと同様に移動する状態を意味していてもよい。

第３部材４９Ｂは、露光光ＥＬが通過可能な部材である。第３部材４９Ｂは、基板５１を露光することができる程度の量の露光光ＥＬを通過させることが可能な部材である。例えば、第３部材４９Ｂは、露光光ＥＬの透過率が所定値（例えば、８０％、９０％若しくは１００％又はその他の任意の値）となる部材であってもよい。

第３部材４９Ｂは、投影光学系３の少なくとも一部を構成する光学素子である。例えば、第３部材４９Ｂは、終端光学素子３１と共に投影光学系３を構成する光学素子であってもよい。例えば、第３部材４９Ｂは、終端光学素子３１の少なくとも一部を構成する光学素子であってもよい。但し、第３部材４９Ｂは、投影光学系３の少なくとも一部を構成する光学素子でなくてもよい。

第３部材４９Ｂが投影光学系３の少なくとも一部を構成する光学素子である場合には、第３部材４９Ｂの傾き（つまり、チルト方向の傾きであって、例えば、θＸ方向及びθＹ方向の両方又は一方に沿った傾き）は、基板５１に投影されるデバイスパターンの像の像シフトを引き起こしかねない。従って、第２実施形態では、第３部材４９Ｂは、チルト方向の傾きを調整するように移動してもよい。第３部材４９Ｂは、例えば、θＸ方向及びθＹ方向の両方又は一方に沿って移動してもよい。

第３部材４９Ｂが第２部材４２Ｂと一体化されている場合には、第２部材４２Ｂが移動することで、第３部材４９Ｂもまた移動する。従って、第３部材４９Ｂのチルト方向の傾きを調整するように、第２部材４２Ｂが移動してもよい。例えば、第３部材４９Ｂのチルト方向の傾きを調整するように、第２部材４２ＢがθＸ方向及びθＹ方向の両方又は一方に沿って移動してもよい。

第３部材４９Ｂの形状は、平板状の又はプレート状の形状である。ＸＹ平面上における第３部材４９Ｂの形状は、ＸＹ平面上における開口４２５Ｂの形状と同一である。ＸＹ平面上における第３部材４９Ｂの外縁は、ＸＹ平面上における開口４２５Ｂの外縁と一致する。第３部材４９Ｂの厚さは、第２部材４２Ｂの厚さと同一である。例えば、第３部材４９Ｂの厚さは、上面４２３１Ｂと下面４２１１Ｂとの間のＺ方向の長さと同一である。

第３部材４９Ｂは、上面４９１Ｂと、下面４９２Ｂと、外側面４９３Ｂとを備えている。

上面４９１Ｂは、上側を向いている平面である。上面４９１Ｂは、ＸＹ平面に平行な平面である。上面４９１Ｂは、下面４９２Ｂ及び外側面４９３Ｂの両方又は一方よりも上側に配置されている。上面４９１Ｂの基板５１からの高さは、上面４２３１Ｂの基板５１からの高さと同一である。つまり、上面４９１Ｂと上面４２３１Ｂとは同一平面上に配置されている。この場合、上面４９１Ｂの外側端部は、上面４２３１Ｂの内側端部及び内側面４２３２Ｂの上側端部の両方又は一方と一致している。

下面４９２Ｂは、下側を向いている平面である。下面４９２Ｂは、ＸＹ平面に平行な平面である。下面４９２の基板５１からの高さは、下面４２１１Ｂの基板５１からの高さと同一である。つまり、下面４９２Ｂと下面４２１１Ｂとは同一平面上に配置されている。この場合、下面４９２Ｂの外側端部は、下面４２１１Ｂの内側端部及び内側面４２３２Ｂの下側端部の両方又は一方と一致していてもよい。

外側面４９３Ｂは、外側を向いている平面である。外側面４９３Ｂは、光軸ＡＸに平行な平面である。外側面４９３は、上面４９１Ｂの外側端部と下面４９２Ｂの外側端部とを繋ぐ面である。従って、外側面４９３Ｂの上側端部は、上面４９１Ｂの外側端部と一致している。例えば、外側面４９３Ｂの下側端部は、下面４９２Ｂの外側端部と一致している。外側面４９３ＢのＺ方向の長さは、第２部材４２Ｂの内側面４２３２ＢのＺ方向の長さと同一である。外側面４９３Ｂは、内側面４２３２Ｂと接触又は密着していてもよい。

第２部材４２Ｂは更に、空間ＳＰ２及び空間ＳＰ３の両方又は一方と空間ＳＰ１とを連結するための一又は複数の連結孔４７６Ｂを備えている。一又は複数の連結孔４７６Ｂの夫々は、上面４２３１Ｂから下面４２１１Ｂに向かって又は下面４２１１Ｂから上面４２３１Ｂに向かって第２部材４２Ｂを貫通する孔である。一又は複数の連結孔４７６Ｂの夫々は、流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方よりも内側に配置されている。

空間ＳＰ２及び空間ＳＰ３の両方又は一方内の液体ＬＱは、少なくとも一つの連結孔４７６Ｂを介して、空間ＳＰ１に流入してもよい。空間ＳＰ１内の液体ＬＱは、少なくとも一つの連結孔４７６Ｂを介して、空間ＳＰ２及び空間ＳＰ３の両方又は一方に流入してもよい。従って、一又は複数の連結孔４７６Ｂの夫々の内部は、液浸空間ＬＳの少なくとも一部を構成してもよい。

以上説明した第２実施形態の液浸部材４Ｂによれば、開口４２５Ｂに第３部材４９Ｂが配置されているがゆえに、第２部材４２Ｂの移動に伴って内側面４２３２Ｂが液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱを押し出すように移動することは殆ど又は全くない。このため、第２実施形態では、開口４２５Ｂに第３部材４９Ｂが配置されていない場合と比較して、第２部材４２Ｂの移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が生じにくくなる。従って、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから受ける圧力の変動が好適に抑制される。その結果、終端光学素子３１の変動が好適に抑制される。

尚、図２４に示す液浸部材４Ｂの構成は、あくまで一例である。例えば、液浸部材は、少なくとも、固定された第１部材と、開口を有し且つ移動可能な第２部材とを備えていればよい。このような液浸部材において、開口に第３部材が配置されていれば、上述した各種効果が相応に享受される。

第２部材４２Ｂは、開口４２５Ｂを備えていなくてもよい。この場合、第２部材４２Ｂの一部が、露光光ＥＬが通過可能な部材（つまり、上述した第３部材４９Ｂの如き部材）であってもよい。例えば、第２部材４２Ｂのうちの開口４２５Ｂに相当する部分（つまり、露光光ＥＬを通過させるべき部分）が、露光光ＥＬが通過可能な部材であってもよい。第２部材４２Ｂの全体が、露光光ＥＬが通過可能な部材であってもよい。露光光ＥＬが通過可能な部材は、上述した第３部材４９Ｂと同様の特徴を有していてもよい。この場合であっても、第３部材４９Ｂが配置されていない開口４２５Ｂを第２部材４２Ｂが備える場合と比較して、終端光学素子３１の変動が好適に抑制される。

第２部材４２Ｂを移動させるための構成要素（例えば、駆動装置４５１、支持部材４５２及び支持部材４５３）の少なくとも一部は、Ｚ方向に沿って第１部材４１Ｂを貫通する貫通孔を介して第２部材４２Ｂに連結されていてもよい。例えば、一端が第２部材４２Ｂに連結される支持部材４５２の少なくとも一部は、Ｚ方向に沿って第１部材４１Ｂを貫通する貫通孔を介して第２部材４２Ｂに連結されていてもよい。

第２部材４２Ｂは、流体回収口４４１を備えていなくてもよい。この場合、第１部材４１Ｂに形成される流体回収口４４２は、第２部材４２Ｂの外側端部よりも外側に配置されると共に、空間ＳＰ１及び空間ＰＳ３の両方から液体ＬＱを回収してもよい。

第１部材４１Ｂは、流体回収口４４２に加えて又は代えて、空間ＳＰ３に気体を供給する給気口を備えていてもよい。給気口は、当該給気口よりも外側へ液体ＬＱが飛び出すことを防ぐエアカーテンを形成するための気体を供給してもよい。第１部材４１Ｂに代えて、第２部材４２Ｂがこのような給気口を備えていてもよい。

第２部材４２Ｂは、流体回収口４４１に加えて又は代えて、空間ＳＰ１に気体を供給する給気口を備えていてもよい。給気口は、当該給気口よりも外側へ液体ＬＱが飛び出すことを防ぐエアカーテンを形成するための気体を供給してもよい。

上面４２３１Ｂの少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４２３１Ｂの少なくとも一部は曲面であってもよい。上面４２３１Ｂの少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

内側面４２３２Ｂの少なくとも一部は、光軸ＡＸに対して傾斜していてもよい。内側面４２３２Ｂの少なくとも一部は曲面であってもよい。上面４２３１Ｂの少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

開口４２５Ｂの径は、開口４１５の径よりも大きくてもよい。この場合、内側面４２３２Ｂの上側端部及び下側端部の両方又は一方は、内側面４１２１Ｂの下側端部よりも外側に配置される。開口４２５Ｂの径は、開口４１５の径よりも小さくてもよい。この場合、内側面４２３２Ｂの上側端部及び下側端部の両方又は一方は、内側面４１２１Ｂの下側端部よりも内側に配置される。開口４２５Ｂの径は、開口４１５の径と同一であってもよい。この場合、内側面４２３２Ｂの上側端部及び下側端部の両方又は一方は、光軸ＡＸに平行な方向に沿って、内側面４１２１Ｂの下側端部と同じ位置に配置される。

第３部材４９Ｂの少なくとも一部は、開口４２５Ｂの外部に配置されていてもよい。第３部材４９Ｂは、第２部材４２Ｂと一体化されていなくてもよい。

第３部材４９Ｂの形状は、平板状の又はプレート状の形状とは異なる形状であってもよい。ＸＹ平面上における第３部材４９Ｂの形状は、ＸＹ平面上における開口４２５Ｂの形状と同一でなくてもよい。ＸＹ平面上における第３部材４９Ｂの外縁の少なくとも一部は、ＸＹ平面上における開口４２５Ｂの外縁の少なくとも一部と一致していなくてもよい。第３部材４９Ｂの少なくとも一部の厚さは、第２部材４２Ｂの厚さよりも小さくてもよい。第３部材４９Ｂの少なくとも一部の厚さは、第２部材４２Ｂの厚さよりも大きくてもよい。

上面４９１Ｂの少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。上面４９１Ｂの少なくとも一部は曲面であってもよい。上面４９１Ｂの基板５１からの高さは、上面４２３１Ｂの基板５１からの高さよりも大きくてもよい。上面４９１Ｂの基板５１からの高さは、上面４２３１Ｂの基板５１からの高さよりも小さくてもよい。

下面４９２Ｂの少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。下面４９２Ｂの少なくとも一部は曲面であってもよい。下面４９２Ｂの基板５１からの高さは、下面４２１１Ｂの基板５１からの高さよりも大きくてもよい。下面４９２Ｂの基板５１からの高さは、下面４２１１Ｂの基板５１からの高さよりも小さくてもよい。

外側面４９３ＢのＺ方向の長さは、内側面４２３２ＢのＺ方向の長さよりも小さくてもよい。外側面４９３ＢのＺ方向の長さは、内側面４２３２ＢのＺ方向の長さよりも大きくてもよい。外側面４９３Ｂの少なくとも一部は、内側面４２３２Ｂと接触又は密着してなくてもよい。

一又は複数の連結孔４７６Ｂのうちの少なくとも一部は、流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方よりも外側に配置されていてもよい。一又は複数の連結孔４７６Ｂのうちの少なくとも一部は、光軸ＡＸに平行な方向に沿って、流体回収口４４１及び流体回収口４４２の両方又は一方と同一位置に配置されていてもよい。

尚、上述した第１実施形態から第２実施形態において、コントローラー９１は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含んでいてもよい。コントローラー９１は、コンピュータシステムと外部装置との間の通信させるためのインタフェースを含んでいてもよい。コントローラー９１には、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、例えば、キーボード、マウス及びタッチパネル等のうちの少なくとも一つを含む入力機器等を含んでいてもよい。入力装置は、例えば、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含んでいてもよい。コントローラー９１には、液晶ディスプレイ等の表示装置が接続されていてもよい。

メモリ９２は、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ハードディスク及びＣＤ−ＲＯＭ等のうちの少なくとも一つを含む記憶媒体を含んでいてもよい。メモリ９２には、コンピュータシステムを制御するためのＯＳ（オペレーティングシステム）がインストールされていてもよい。メモリ９２には、露光装置ＥＸ１（ＥＸ２、以下同じ）を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。メモリ９２には、光路ＡＴに満たされた液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光するように露光装置ＥＸ１を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。

メモリ９２に記憶されているプログラムは、コントローラー９１によって読み込まれ且つ実行されてもよい。その結果、液浸部材４Ａ（４Ｂ）、基板ステージ５及び計測ステージ６等の露光装置ＥＸ１が備える各種構成要素が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で基板５１を露光する露光処理等の各種処理が行われる。

上述の説明では、終端光学素子３１の射出面３２側（つまり、像面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系３が例示されている。しかしながら、終端光学素子３１の入射側（つまり、物体面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系が用いられてもよい。終端光学素子３１の入射側の光路が液体ＬＱで満たされている投影光学系の一例は、例えば、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されている。

上述の説明では、液体ＬＱが水（例えば、純水）である例が例示されている。しかしながら、液体ＬＱは、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性を有していてもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有していてもよい。液体ＬＱは、投影光学系３又は基板５１の表面を形成する感光材（つまり、フォトレジスト）等に対して安定しているという特性を有してもよい。このような液体ＬＱの一例として、例えば、フッ素系液体（例えば、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）又はフォンブリンオイル等）があげられる。液体ＬＱは、様々な流体（例えば、超臨界流体）であってもよい。

上述の説明では、基板５１が半導体デバイス製造用の半導体ウェハを含む例が例示されている。しかしながら、基板５１は、ディスプレイデバイス用のガラス基板を含んでいてもよい。基板５１は、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハを含んでいてもよい。基板５１は、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（例えば、合成石英又はシリコンウェハ）を含んでいてもよい。

上述の説明では、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを移動させることでマスク１１に形成されたデバイスパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である例が例示されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを静止させた状態でマスク１１に形成されたデバイスパターンを一括露光すると共に、当該一括露光が終了する毎に基板５１をステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆる、ステッパ）であってもよい。ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、第１マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第１マスク１１に形成された第１デバイスパターンの縮小像を基板５１に露光した後に、第２マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第２マスク１１に形成された第２デバイスパターンの縮小像を、第１デバイスパターンの縮小像に重ねて基板５１に露光する露光装置（いわゆる、スティッチ方式の露光装置）であってもよい。スティッチ方式の露光装置は、基板５１上で２つ以上のデバイスパターンを部分的に重ねて露光すると共に、基板５１を順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、投影光学系３を介して２つのマスク１１のデバイスパターンを基板５１上で合成すると共に、１回の走査露光によって基板５１上のショット領域Ｓをほぼ同時に二重露光する露光装置であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，６１１，３１６号に開示されている。露光装置ＥＸ１は、プロキシミティ方式の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、ミラープロジェクションアライナー等であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５を備えるツインステージ型又はマルチステージの露光装置であってもよい。ツインステージ型の露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，３４１，００７号、米国特許第６，２０８，４０７号及び米国特許第６，２６２，７９６号に開示されている。例えば、図２５に示すように、露光装置ＥＸ１が２つの基板ステージ５Ａ及び５Ｂを備えている場合には、終端光学素子３１の射出面３２に対向するように配置される物体は、一方の基板ステージ５Ａ、当該一方の基板ステージ５Ａに保持された基板５１Ａ、他方の基板ステージ５Ｂ及び当該他方の基板ステージ５Ｂに保持された基板５１Ｂのうちの少なくとも一つであってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５及び計測ステージ６を備えるツインステージ型又はマルチステージ型の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、基板５１に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、液晶表示素子製造用の又はディスプレイ製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（例えば、ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ及びマスク１１（或いは、レチクル）のうちの少なくとも一つを製造するための露光装置であってもよい。

上述の説明では、マスク１１が、光透過性の透明板の上に所定の遮光パターン（或いは、位相パターン又は減光パターン）を形成した透過型マスクである例が例示されている。しかしながら、マスク１１は、露光すべきデバイスパターンの電子データに基づいて透過パターン、反射パターン又は発光パターンを形成する可変成形マスク（いわゆる、電子マスク、アクティブマスク又はイメージジェネレータ）であってもよい。可変成形マスクの一例は、米国特許第６，７７８，２５７号に開示されている。マスク１１は、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を備えるパターン形成装置であってもよい。

上述の説明では、投影光学系３を備える露光装置ＥＸ１が例示されている。しかしながら、投影光学系３を備えていない露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成すると共に光学部材を介して投影される露光光で基板を露光する露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。

露光装置ＥＸ１は、干渉縞を基板５１に形成することで基板５１にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（いわゆる、リソグラフィシステム）であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されている。

上述の露光装置ＥＸ１は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで露光装置ＥＸ１の全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置ＥＸ１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２６に示す各ステップを経て製造されてもよい。マイクロデバイスを製造するためのステップは、マイクロデバイスの機能及び性能設計を行うステップＳ２０１、機能及び性能設計に基づいたマスク（レチクル）１１を製造するステップＳ２０２、デバイスの基材である基板５１を製造するステップＳ２０３、上述の実施形態に従って、マスク１１のデバイスパターンからの露光光ＥＬで基板５１を露光し且つ露光された基板５１を現像するステップＳ２０４、デバイス組み立て処理（ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理）を含むステップＳ２０５及び検査ステップＳ２０６を含んでいてもよい。

上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
以上、本明細書で説明した実施形態について、以下の付記を更に記載する。
［付記１］
光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、且つ、前記光学部材の下方で移動可能な物体に対向する第１下面を備える第１部材と、
前記光学部材の光軸に対して前記第１下面の外側に位置すると共に前記物体に対向する第２下面と、前記光軸に対して前記第２下面の内側に位置すると共に少なくとも一部が前記第１下面の少なくとも一部の上方に位置する第３下面とを備え、且つ、移動可能な第２部材と
を備える液浸部材。
［付記２］
前記第２下面の少なくとも一部に形成された第１液体供給口を備える付記１に記載の液浸部材。
［付記３］
前記第２下面の少なくとも一部に形成された第１液体回収口を備える付記１又は２に記載の液浸部材。
［付記４］
前記第２下面の少なくとも一部に形成された第１液体供給口と、
前記第２下面の少なくとも一部に形成され且つ前記光軸に対して前記第１液体供給口よりも外側に形成された第１液体回収口と、
を備える付記１に記載の液浸部材。
［付記５］
前記第３下面の少なくとも一部に形成された第２液体供給口を備える付記１から４のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記６］
前記第３下面の少なくとも一部に形成された第２液体回収口を備える付記１から５のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記７］
前記第３下面の少なくとも一部に形成された第２液体供給口と、
前記第３下面の少なくとも一部に形成され且つ前記光軸に対して前記第２液体供給口よりも内側に形成された第２液体回収口と、
を備える付記１から４のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記８］
前記第１部材の少なくとも一部は、前記第３下面の少なくとも一部と間隙を介して対向し、
前記第２液体回収口は、前記第１部材の少なくとも一部と前記第３下面との間の間隙の少なくとも一部に面する付記６又は７に記載の液浸部材。
［付記９］
前記第２部材は、前記第２液体回収口が前記第１部材の少なくとも一部と前記第３下面との間の間隙の少なくとも一部に面し続けるように移動する付記８に記載の液浸部材。
［付記１０］
前記第２部材は、前記第２下面の内側端部の少なくとも一部と前記第３下面の外側端部の少なくとも一部とを繋ぐ第１内側面を備える付記１から９のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記１１］
前記第１内側面は、前記光軸に対して外側に向かって上方に傾斜する面を含む付記１０に記載の液浸部材。
［付記１２］
前記第１内側面は、前記光軸に対して外側に向かって下方に傾斜する面を含む付記１０に記載の液浸部材。
［付記１３］
前記第１部材の少なくとも一部は、前記第３下面の少なくとも一部と間隙を介して対向し、
前記第１内側面の少なくとも一部は、前記第２部材の移動の方向に沿って、前記第１部材の少なくとも一部と前記第３下面との間の間隙の少なくとも一部に対向する付記１０から１２のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記１４］
前記第１部材の少なくとも一部と前記第３下面との間の間隙の前記光軸に平行な方向の長さは、前記第１内側面の前記光軸に平行な方向の長さよりも長い又は同一である付記１３に記載の液浸部材。
［付記１５］
前記第１内側面の少なくとも一部に形成された第３液体供給口を備える付記１０から１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記１６］
前記第１部材は、前記第１下面の外側端部の少なくとも一部に繋がる第１外側面を備える付記１から１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記１７］
前記第１外側面は、前記光軸に対して外側に向かって下方に傾斜する面を含む付記１６に記載の液浸部材。
［付記１８］
前記第２下面は、前記第３下面と同じ高さに配置される付記１から１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記１９］
前記第２下面は、前記第３下面よりも下方に配置される付記１から１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記２０］
前記第２下面は、前記第３下面よりも上方に配置される付記１から１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記２１］
前記第２下面は、前記第１下面と同じ高さ又は前記第１下面よりも上方に配置される付記１から２０のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記２２］
前記第１部材は、少なくとも一部が前記第３下面の少なくとも一部と間隙を介して対向する第１上面を備える付記１から２１のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記２３］
前記第２下面は、前記第１上面と同じ高さ又は前記第１上面よりも上方に配置される付記２２に記載の液浸部材。
［付記２４］
前記第１部材は、前記第１上面の内側端部の少なくとも一部に繋がる第２外側面を備える付記２２又は２３に記載の液浸部材。
［付記２５］
前記第２部材の少なくとも一部は、前記第２外側面及び前記第１上面によって囲まれた空間に位置する付記２４に記載の液浸部材。
［付記２６］
前記第１部材は、少なくとも一部が前記光学部材の少なくとも一部に対向する第２内側面を備える付記１から２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記２７］
前記第２内側面の少なくとも一部に形成された第４液体供給口を備える付記２６に記載の液浸部材。
［付記２８］
前記第２内側面の少なくとも一部に形成された第３液体回収口を備える付記２６又は２７に記載の液浸部材。
［付記２９］
前記第２部材は、前記第３下面の内側端部の少なくとも一部に繋がる第３内側面を備える付記１から２８のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記３０］
前記第１部材は、露光光が通過する第１開口を有する付記１から２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記３１］
前記第１下面は、前記物体の上面が対向する前記光学部材の端面よりも下方に位置する付記１から３０のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記３２］
光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
少なくとも一部が前記第１部材の下方に位置し、前記露光光が通過可能な第１開口を備え、且つ、移動可能な第２部材と、
前記第１開口に配置されると共に、前記露光光が通過する第３部材と
を備える液浸部材。
［付記３３］
光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を露光装置内に形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
少なくとも一部が前記第１部材の下方に位置し、且つ、移動可能な第２部材と
を備え、
前記光学部材から射出される前記露光光の光路上に位置する前記第２部材の少なくとも一部は、前記露光光が通過可能な第３部材である液浸部材。
［付記３４］
前記第２部材は、前記第２部材と前記第１部材との間の空間と、前記第２部材と前記第２部材の下方で移動可能な物体との間の空間とを連結する連結孔を備え、
前記第２部材と前記第１部材との間の空間から、前記第２部材と前記第２部材の下方で移動可能な物体との間の空間へ液体が流入可能である付記３２又は３３に記載の液浸部材。
［付記３５］
前記第１部材の少なくとも一部に形成された第１液体回収口を備え、
前記連結孔は、前記光学部材の光軸に対して前記第１液体回収口より内側に位置する付記３２から３４のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記３６］
前記第２部材の少なくとも一部に形成された第２液体回収口を備え、
前記連結孔は、前記光学部材の光軸に対して前記第２液体回収口より内側に位置する付記３２から３５のいずれか一項に記載の液浸部材。
［付記３７］
液浸空間を介して投影される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
付記１から３６のいずれか一項に記載の液浸部材を用いて前記液浸空間を形成する露光装置。
［付記３８］
前記物体との相対速度及び相対加速度の両方又は一方が小さくなるように前記第２部材を移動させる付記３７に記載の露光装置。
［付記３９］
前記第２部材と前記物体との相対速度が、前記第１部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように前記第２部材を移動させる付記３７又は３８に記載の露光装置。
［付記４０］
前記第２部材と前記物体との相対加速度が、前記第１部材と前記物体との相対加速度よりも小さくなるように前記第２部材を移動させる付記３７から３９のいずれか一項に記載の露光装置。
［付記４１］
前記第２部材を、前記光学部材の光軸に垂直な面内における第１軸に平行な第１方向及び前記光学部材の光軸に垂直な面内における第２軸であって且つ前記第１軸に交わる第２軸に平行な第２方向の夫々に沿って移動させる付記３７から４０のいずれか一項に記載の露光装置。
［付記４２］
前記物体は、前記基板を含んでおり、
前記基板は、第１経路を移動した後に、第２経路を移動し、
前記第１経路における前記基板の移動は、前記第１方向に沿った移動を含み、
前記第２経路における前記基板の移動は、前記第２方向に沿った移動を含み、
前記第２部材は、前記基板が前記第１経路を移動している期間の少なくとも一部において、少なくとも前記第１方向に沿って移動し、
前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動している期間の少なくとも一部において、少なくとも前記第２方向に沿って移動する付記４１に記載の露光装置。
［付記４３］
前記物体は、前記基板を含んでおり、
前記基板は、スキャン方向に沿って移動した後に、ステップ方向に沿って移動し、
前記第２部材は、前記基板が前記スキャン方向に沿って移動している期間の少なくとも一部において、少なくとも前記スキャン方向に沿って移動し、
前記第２部材は、前記基板が前記ステップ方向に沿って移動している期間の少なくとも一部において、少なくとも前記ステップ方向に沿って移動する付記３７から４２のいずれか一項に記載の露光装置。
［付記４４］
液浸空間の液体を介して投影される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
付記１から３６のいずれか一項に記載の液浸部材を用いて前記液浸空間を形成する露光方法。
［付記４５］
付記３７から４３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。
［付記４６］
付記４４に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。

また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う液浸部材、露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法もまた本発明の技術思想に含まれる。

１ マスクステージ
２ 照明系
３ 投影光学系
３１ 終端光学素子
３２ 射出面
３３ 外面
４Ａ、４Ｂ 液浸部材
４１、４１Ｂ 第１部材
４２、４２Ｂ 第２部材
４９Ｂ 第３部材
４３１、４３２ 液体供給口
４４１、４４２ 流体回収口
５ 基板ステージ
５１ 基板
６ 計測ステージ
７ 計測システム
８ チャンバ装置
９ 制御装置
９１ コントローラー
ＡＴ、ＡＴＯ、ＡＴＬ 光路
ＡＸ 光軸
ＥＬ 露光光
ＥＸ１ 露光装置
ＬＱ 液体
ＬＳ 液浸空間

Claims (6)

1. 光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成し、前記液浸空間を介して投影される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
   前記光学部材と、
   前記液浸空間を形成する液浸部材と
   を備え、
   前記液浸部材は、
   前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、且つ、前記光学部材の下方で移動可能な物体に対向する第１下面を備える第１部材と、
   前記光学部材の光軸に対して前記第１下面の外側に位置すると共に前記物体に対向する第２下面と、前記光軸に対して前記第２下面の内側に位置すると共に少なくとも一部が前記第１下面の少なくとも一部の上方に位置する第３下面とを備え、且つ、移動可能な第２部材と
   を有し、
   前記第２部材と前記物体との相対速度が、前記第１部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように前記第２部材を移動させる露光装置。
2. 前記第２部材と前記物体との相対加速度が、前記第１部材と前記物体との相対加速度よりも小さくなるように前記第２部材を移動させる請求項１に記載の露光装置。
3. 前記第２下面の少なくとも一部に形成された第１液体供給口を備える請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記第３下面の少なくとも一部に形成された第２液体供給口を備える請求項１から３のいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記第３下面の少なくとも一部に形成された液体回収口を備える請求項１から４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光膜を含む基板を露光することと、
   露光された前記基板を現像することと
   を備えるデバイス製造方法。

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