JP6600809B2 - 基材およびその基材を用いた機器 - Google Patents
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Description
実施の形態において使用され得る基材1は、基材1の表面に断面が台形状で四角錐体の複数の突起部3を形成することを特徴としている。
突起部3は、四角錐体である。突起部3の各突起部長さLは、0.1μm〜10μmである。突起部3間の距離dは、5nm〜10nmであることが好ましい。
実施の形態において使用され得る基底部2および親水部4を除く突起部3の表面処理は、撥水処理を行うことが好ましい。理由は、以下の<突起部3における凝縮液滴の生成過程>で説明する。
突起部3における凝縮液滴の生成過程を図2(a)〜図2(c)に示す。
(実施例)
表1に、以下の実施例および比較例で使用した基材1の構成を示す。
図1(a)、図1(b)で示した基材1を作製した。基材1としてアルミ材を使用する。基底部2表面に複数の突起部3を陽極酸化法により生成させる。陽極酸化法はアルミニウムを酸性の電解液中で電気分解して(陽極酸化)微細穴を形成することができる。また、特定条件下において自己組織化により図1に示す突起部3のように規則性構造の生成がされる。生成される突起部3の形状寸法は表1に示す。
(実施例3)
図3(a)、図3(b)に示す基材7を使用した。図3(a)、図3(b)は、図1(a)、図1(b)に相当する図である。基材7は台形柱形状である。
作製方法は実施例1と同じ工程で基材7を作製した。
基材としてABS樹脂を使用する。基底部2表面に複数の突起部3をエッチング処理により生成させる。生成される突起部3の形状寸法は表1に示す。撥水処理については、実施例と同じ処理方法で作製した撥水処理液を使用する。突起部先端はすでにエッチング処理にて親水処理されているため、先端部を親水剤が浸漬しないようにマスキングした後、
撥水処理液に基材1をディッピングさせ、撥水性を付与させる。
比較例1については、基材としてアルミ材を使用し、無処理の基材1を作製した。
比較例2については、基材1としてアルミ材を使用し、突起部3は形成するが基材1表面に撥水あるいは親水処理を行なうことなく、図1(a)、図1(b)に示すような基材1を作製した。
比較例3〜5については、基材1としてアルミ材を使用し、作製方法は実施例1と同じ工程で基材1を作製した。
次に、表1に示した構成からなる基材1、7の結露水吸着評価および着霜評価を行った。それぞれの評価方法は下記の通りである。
試験装置概略を図4に示す。図4は、ペルチェ素子10、アルミプレート11、樹脂プレート12、ヒートシンク13、ファン14、ペルチェ素子内の熱電対15、サンプル表面付属の熱電対16、基材1から構成される。
試験装置は結露水吸着評価と同様、図4に示したものを使用した。結露水吸着評価と同様、基材1の表面に着霜が目視で確認できるまでの時間を測定した。このとき、着霜抑制の合格基準は、測定時間が比較例1の場合に対し1時間以上経過した場合を○、それ以下の場合を×とした。
本願発明での結露水・着霜抑制度の合格基準として、結露水吸着評価、着霜評価のそれぞれで、両方合格は、○とした。不合格がどちらかにある場合、×とした。
表1からの結果からも明らかなように、実施例に係る基材1は、比較例に係るそれらよりも結露水・着霜の抑制度が大きく、防曇性・防霜性に優れている。
実施例1と実施例4を比較すると、実施例1ではアルミ材質、実施例4ではABS樹脂を使用している。いずれも、立体形状は四角柱を有し、突起部3の形成と撥水処理、突起部3の先端に親水処理を行うことで親水部4を形成し、結露水吸着および着霜を抑制できた。
実施例1〜4と比較例4を比較すると、比較例4では突起部間の距離は10nm、突起部長さは10μmである。そのため、凝縮液滴が突起部3間の凹部に付着し、結露水吸着と着霜いずれの抑制度は小さくなった。
実施例1と比較例3を比較すると、突起部の3長さLは同様であるが、比較例3では突起部3先端の長さL‘が突起部の3長さLに対して30%、実施例1では20%である。
そのため、比較例3では凝縮水が吸着する面積が大きくなり、結露水吸着と着霜いずれの抑制度は小さくなった。
実施例1〜4と比較例5を比較すると、比較例5では突起部3が形成される角度θが鉛直方向に対して90°を超えている。そのため、突起部3の親水部だけでなく突起部3全体に凝縮液滴が成長し、結露水吸着と着霜いずれの抑制度は小さくなった。
実施例1〜4と比較例1、2を比較すると、比較例2では突起部3の先端を除く部分および基底部2が撥水処理されていない。そのため、結露水吸着が確認できるまでの時間は比較例1に示す突起部を形成していない基材と変わらない。着霜に関しては比較例1よりも表面凹凸の量が大きいため、着霜が確認できるまでの時間は短くなった。
以上、説明したように本発明の基材1は、基材1の表面が撥水処理され、断面が台形状で四角錐体の複数の突起部を有し、突起部間の距離が5nm〜10nmであり、突起部3の先端のみ親水処理されることを特徴とする。上記構成により、優れた防曇性・防霜性を得ることができる。
本実施の形態の基材1の応用例の機器を図5(a)と図5(b)に示す。
2 基底部
3 突起部
4 親水部
5 水蒸気
6 凝縮液滴
7 基材
8 基底部
10 ペルチェ素子
11 アルミプレート
12 樹脂プレート
13 ヒートシンク
14 ファン
15 熱電対
16 熱電対
18 蒸発器
19 冷却管
20 カメラ
21 カメラ制御部
22 基材
23 基部
24 突起
25 疎水性被膜
26 カメラ本体
Claims (7)
- 基底部の少なくとも一つの面に位置する複数の四角錐状形状の突起部を有し、
前記複数の突起部の先端部分間の距離が5nm以上10nm未満である基材であり、
前記突起部の先端は、親水処理され、
前記先端は、前記突起部の上面と前記上面からの前記突起部の長さの10%以上25%以下までの領域である基材。 - 前記突起部の長さは、0.1μm以上10μm未満であり、
前記突起部の側面の角度は、鉛直方向に対して角度が90°未満で形成された請求項1記載の基材。 - 前記突起部の先端以外は、撥水処理された請求項1または2記載の基材。
- 前記撥水処理は、フッ素結合を含まないアルキルシランからなる分子膜によって構成された請求項3に記載の基材。
- 前記複数の突起部は、陽極酸化法によるアルミ微細穴加工により形成される請求項1〜4のいずれか1項に記載の基材。
- 前記複数の突起部は、エッチング処理あるいは金属ペーストのパターン印刷により形成される請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の前記基材を有する機器。
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