JP6587423B2

JP6587423B2 - Transport system and exposure system

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Publication number: JP6587423B2
Application number: JP2015108272A
Authority: JP
Inventors: 祐記鳥波
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2015-05-28
Filing date: 2015-05-28
Publication date: 2019-10-09
Anticipated expiration: 2035-05-28
Also published as: JP2016224152A

Description

本発明は、搬送システム及び露光システムに関する。 The present invention relates to a transport system and an exposure system .

液晶表示デバイスなどを製造する工程に含まれるリソグラフィ工程では、原版（マスク等）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたガラスプレート等）に転写する露光装置が用いられている。このような露光装置では、当該装置内部の原版ステージと当該装置外部との間で原版を搬送する搬送システムが採用されている。特許文献１は、搬送路を共通とする複数のマスクローダと、原版を一時保管する保管室とを有し、露光装置全体の省スペース化を図りつつ搬送効率を向上させる露光装置を開示している。 In a lithography process included in a process of manufacturing a liquid crystal display device or the like, a pattern of an original (such as a mask) is transferred to a photosensitive substrate (such as a glass plate having a resist layer formed on the surface) via a projection optical system. An exposure apparatus is used. Such an exposure apparatus employs a transport system that transports the original between the original stage inside the apparatus and the outside of the apparatus. Patent Document 1 discloses an exposure apparatus that has a plurality of mask loaders having a common conveyance path and a storage room for temporarily storing an original, and improves the conveyance efficiency while saving space of the entire exposure apparatus. Yes.

特開２０１１−４７９７２号公報JP 2011-47972 A

一般的な搬送システムは、被搬送物（例えば原版）を搬送するマスクローダを、予め被搬送物の受け渡し位置であるすべてのステーションやステージに対してティーチングしてティーチングデータを取得することにより、その後の搬送が可能となる。したがって、特許文献１に開示されているように複数のマスクローダを有する搬送システムでは、それぞれのマスクローダについて個別にティーチングデータを取得することになるので、データの取得時間がより長くなる。 A general transport system teaches a mask loader that transports a transported object (for example, an original plate) to all stations and stages that are delivery positions of the transported object in advance, and then acquires teaching data. Can be transported. Therefore, in the transfer system having a plurality of mask loaders as disclosed in Patent Document 1, teaching data is individually acquired for each mask loader, so that the data acquisition time is longer.

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、例えば、複数のマスクローダを有する場合の総ティーチング時間の短縮に有利な搬送システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a transport system that is advantageous in shortening the total teaching time when a plurality of mask loaders are provided.

上記課題を解決するために、本発明の搬送システムは、搬送路に沿って移動する第１ローダ及び第２ローダを用いて、原版のパターンを基板に転写する露光装置における当該原版を搬送する搬送システムであって、前記第１ローダは、前記原版の受け渡しを行う第１基準位置に関する第１情報を取得する第１検出手段と、前記第１情報を前記第２ローダに送信可能な第１通信手段と、を有し、前記第２ローダは、前記原版の受け渡しを行う第２基準位置に関する第２情報を取得する第２検出手段と、前記第２情報を前記第１ローダに送信可能な第２通信手段と、を有し、前記第２ローダは、前記第１ローダから送信された前記第１情報に基づいて前記原版の受け渡しを行い、前記第１ローダは、前記第１基準位置を複数の受け渡し位置から選定し、前記複数の受け渡し位置は、前記原版を保持する位置を含む。 In order to solve the above problems, a transport system according to the present invention transports an original plate in an exposure apparatus that transfers the pattern of the original plate onto a substrate using a first loader and a second loader that move along the transport path. The first loader is a first detection unit that acquires first information related to a first reference position for delivering the original , and a first communication capable of transmitting the first information to the second loader. And a second detection unit that acquires second information relating to a second reference position for delivering the original , and a second loader capable of transmitting the second information to the first loader. includes a second communication unit, and the second loader, have line passing of the original based on the first information transmitted from the first loader, the first loader, the first reference position Select from multiple delivery positions And, said plurality of transfer position includes a position for holding the original.

本発明によれば、例えば、複数のマスクローダを有する場合の総ティーチング時間の短縮に有利な搬送システムを提供することができる。 According to the present invention, for example, it is possible to provide a transport system that is advantageous for shortening the total teaching time when a plurality of mask loaders are provided.

本発明の第１実施形態に係る搬送システムの全体構成を示す図である。It is a figure showing the whole conveyance system composition concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第１実施形態に係る搬送システムの要部構成を示す図である。It is a figure which shows the principal part structure of the conveyance system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 第１実施形態におけるローダ制御部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the loader control part in 1st Embodiment. 第１実施形態における教示手段の外観を示す図である。It is a figure which shows the external appearance of the teaching means in 1st Embodiment. 第１実施形態におけるデータ取得工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the data acquisition process in 1st Embodiment. 第１実施形態におけるデータ共有工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the data sharing process in 1st Embodiment. 本発明の他の実施形態に係る搬送システムの要部構成を示す図である。It is a figure which shows the principal part structure of the conveyance system which concerns on other embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

まず、本発明の一実施形態に係る搬送システムの構成について説明する。本実施形態に係る搬送システムは、リソグラフィ装置としての露光装置の内外間で原版を搬送するものであり、以下の説明では、一例として、原版が液晶表示デバイス製造用のマスクである場合を想定する。なお、以下の各図では、鉛直方向にＺ軸を取り、該Ｚ軸に垂直な平面内の一方向にＸ軸を取り、該Ｘ軸に直交する方向にＹ軸を取っている。 First, the structure of the conveyance system which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated. The transport system according to the present embodiment transports an original between the inside and outside of an exposure apparatus as a lithography apparatus. In the following description, as an example, a case where the original is a mask for manufacturing a liquid crystal display device is assumed. . In the following drawings, the Z axis is taken in the vertical direction, the X axis is taken in one direction in a plane perpendicular to the Z axis, and the Y axis is taken in the direction perpendicular to the X axis.

図１は、本実施形態に係る搬送システム１００の全体構成を示す概略図である。このうち、図１（ａ）は、Ｚ軸方向プラス側（鉛直方向上方）から見た平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に対する側面図である。搬送システム１００は、まず、複数の露光装置ＥＸに対して連設された１つの搬送路Ｒと、搬送路Ｒに沿って走行可能に設置された複数のマスクローダＭＬとを有する。以下、本実施形態では、露光装置ＥＸが２つ（第１露光装置ＥＸ１および第２露光装置ＥＸ２）あり、マスクローダＭＬが２つ（第１ローダＭＬ１および第２ローダＭＬ２）ある場合を例示する。なお、本発明は、これらに限らず、マスクローダＭＬが１つの搬送路Ｒに対して３つ以上設置されるものとしてもよいし、露光装置ＥＸについては、複数に限らず１つでもよい。 FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an overall configuration of a transport system 100 according to the present embodiment. Among these, Fig.1 (a) is a top view seen from the Z-axis direction plus side (vertical direction upper direction), and FIG.1 (b) is a side view with respect to Fig.1 (a). The transport system 100 first has one transport path R connected to the plurality of exposure apparatuses EX, and a plurality of mask loaders ML installed so as to be able to travel along the transport path R. Hereinafter, the present embodiment exemplifies a case where there are two exposure apparatuses EX (first exposure apparatus EX1 and second exposure apparatus EX2) and two mask loaders ML (first loader ML1 and second loader ML2). . The present invention is not limited to these, and three or more mask loaders ML may be provided for one transport path R, and the number of exposure apparatuses EX is not limited to a plurality, and may be one.

露光装置ＥＸは、マスクＭに形成されているパターンを、被処理基板であるガラスプレートＰ上（基板上）に投影露光する。露光装置ＥＸは、不図示であるが光源を含む照明光学系と、マスクステージＭＳと、投影光学系ＰＯと、プレートステージＰＳとを備える。光源は、露光光となる光線を射出するものであり、超高圧水銀ランプ等で構成される。照明光学系は、光源から入射された光線をマスクＭ上に集光する。マスクステージ（保持部）ＭＳは、マスクＭを吸着保持するための吸着部を有し、マスクＭを保持し移動可能である。投影光学系ＰＯは、マスクＭを透過して入射した露光光を、内部に設置された反射鏡で偏光特性を変化させつつ、マスクＭのパターンの像をプレートＰ上に結像させる。ここで、投影光学系ＰＯは、例えば、台形ミラー、凸面鏡および凹面鏡等を介してマスクＭのパターンの像をプレートＰ上に形成し、基板Ｐ上での投影領域は、所定形状（例えば円弧形状）に設定される。プレートステージＰＳは、プレートＰを保持し移動可能である。プレートステージＰＳに保持されているプレートＰと、マスクステージＭＳに保持されているマスクＭとは、投影光学系ＰＯを介して共役な位置関係に配置されている。 The exposure apparatus EX projects and exposes the pattern formed on the mask M onto a glass plate P (substrate) that is a substrate to be processed. Although not shown, the exposure apparatus EX includes an illumination optical system including a light source, a mask stage MS, a projection optical system PO, and a plate stage PS. The light source emits a light beam as exposure light, and is composed of an ultra-high pressure mercury lamp or the like. The illumination optical system condenses the light incident from the light source on the mask M. The mask stage (holding part) MS has a suction part for sucking and holding the mask M, and can hold and move the mask M. The projection optical system PO forms an image of the pattern of the mask M on the plate P while changing the polarization characteristics of the exposure light that has passed through the mask M and entered by a reflecting mirror installed inside. Here, the projection optical system PO forms an image of the pattern of the mask M on the plate P via, for example, a trapezoidal mirror, a convex mirror, a concave mirror, and the like, and the projection area on the substrate P has a predetermined shape (for example, an arc shape) ). The plate stage PS can hold and move the plate P. The plate P held on the plate stage PS and the mask M held on the mask stage MS are arranged in a conjugate positional relationship via the projection optical system PO.

また、搬送システム１００は、２つのマスクローダＭＬを、マスクＭを受け渡すべき複数の目標位置（以下、「受け渡し位置」という。）に対して走行可能とする。まず、搬送システム１００は、１つの露光装置ＥＸにつき、１つのマスクステージＭＳと、４つのステーションＳＴとを受け渡し位置とする。例えば、第１露光装置ＥＸ１には、第１ステーションＳＴ_１１から第４ステーションＳＴ_１４までの４つのステーションが存在する。ここで、マスクＭは、プレートＰの大きさに合わせた大型の平板であるので、そのままでは自重の影響により撓みが生じる可能性がある。そこで、このような撓みを抑止するために、一般にマスクＭは、その表面に対向して透過性のマスクベント（補正部材）を取り付け、不図示の真空排気手段によりマスクベントとマスクＭとの間を真空排気することで、マスク形状を補正する。このようなことから、例えば、第１ステーションＳＴ_１１および第４ステーションＳＴ_１４を、マスクベントを一旦保持（保管）するマスクベント保持部とし得る。また、第２ステーションＳＴ_１２を、マスクＭにマスクベントを取り付けるマスクベント取り付け部とし得る。そして、第３ステーションＳＴ_１３を、マスクＭからマスクベントを取り外すマスクベント取り外し部とし得る。なお、第２露光装置ＥＸ２においても同様の搬送位置が存在するものとする。また、これらのステーションＳＴ構成は、一例であり、用途に応じて適宜変更可能である。 Further, the transport system 100 enables the two mask loaders ML to travel to a plurality of target positions (hereinafter referred to as “delivery positions”) to which the mask M is to be delivered. First, the transfer system 100 sets one mask stage MS and four stations ST as delivery positions for one exposure apparatus EX. For example, the first exposure apparatus EX1, 4 single station from the first station _{ST 11} to the fourth station _{ST 14} is present. Here, since the mask M is a large flat plate that matches the size of the plate P, the mask M may be bent due to the influence of its own weight. Therefore, in order to suppress such bending, generally, the mask M is attached with a permeable mask vent (correction member) facing the surface thereof, and the mask vent and the mask M are not connected by a vacuum exhaust means (not shown). Is evacuated to correct the mask shape. For this reason, for example, the first station ST ₁₁ and the fourth station ST ₁₄ can be used as a mask vent holding unit that temporarily holds (stores) the mask vent. Further, the second station ST _12, may be a mask vent attachment portion for attaching the mask vent on the mask M. Then, the third station ST _13, may be a mask vent removal unit removing the mask vent from the mask M. It is assumed that a similar transport position exists in the second exposure apparatus EX2. Further, these station ST configurations are examples, and can be appropriately changed according to the application.

また、搬送システム１００は、さらに第１露光装置ＥＸ１と第２露光装置ＥＸ２との間に設置されているマスクステーションＳＴ_０を受け渡し位置とする。マスクステーションＳＴ_０の下部には、一度に複数のマスクＭを保持（保管）することができるマスクストッカ（保管部）ＳＫが設置されている。そして、マスクステーションＳＴ_０において、不図示の搬送ロボットがマスクストッカＳＫとマスクローダＭＬとの間で適宜マスクＭの受け渡しを行い得る。特に、マスクステーションＳＴ_０は、本実施形態のように第１露光装置ＥＸ１と第２露光装置ＥＸ２とのそれぞれに隣設する形で設置されることで、各露光装置ＥＸで共通化される。したがって、１つの露光装置に対して１つのマスクストッカを設置していた従来に比べて、露光装置が特に複数台存在する場合には、省スペース化が実現されるという利点がある。 The transport system 100 further a first exposure apparatus EX1 mask station ST ₀ which is installed between the second exposure apparatus EX2 and the delivery position. At the bottom of the mask station ST _0, mask stocker (storage unit) for a plurality of masks M can be held (stored) SK is installed at a time. Then, the mask station ST _0, the transfer robot (not shown) can then passes appropriate mask M between the mask stocker SK and the mask loader ML. In particular, the mask station ST _0, by being placed in a manner that provided adjacent to each of the first exposure apparatus EX1 and the second exposure apparatus EX2 as in this embodiment, is shared by each of the exposure apparatus EX. Therefore, compared with the conventional case where one mask stocker is installed for one exposure apparatus, there is an advantage that space saving is realized particularly when there are a plurality of exposure apparatuses.

図２は、搬送システム１００とマスクローダＭＬとの要部構成を示す概略図である。このうち、図２（ａ）は、搬送方向（Ｘ軸方向）に沿った側面図であり、図２（ｂ）は、搬送方向側から見た断面図である。マスクローダＭＬは、駆動部（駆動手段）８と、マスクＭを把持するマスクハンドＭＨと、位置センサ（検出手段）６と、通信部３と、ローダ制御部１とを有する。駆動部８は、マスクローダＭＬをＸ、Ｙ、Ｚ、θの各軸方向に移動可能である。マスクハンドＭＨは、開閉動作により、各受け渡し位置でのマスクＭの受け渡しが可能である。位置センサ６は、各受け渡し位置にそれぞれ設置されているターゲット７の位置を検出対象とし、マスクローダＭＬと各搬送位置との間のＸ、Ｙ、Ｚの各軸方向の距離を計測可能である。例えば、位置センサ６は、Ｘ軸用センサ６Ｘと、２つのＹ軸用センサ６Ｙ_１、６Ｙ_２と、Ｚ軸用のセンサ６Ｚとを含み、個々にＸ軸用ターゲット７Ｘと、２つのＹ軸用ターゲット７Ｙ_１、７Ｙ_２と、Ｚ軸用のターゲット７Ｚとに対応する。通信部３（通信手段）は、図２（ａ）に示すように、各マスクローダＭＬ間で、後述するティーチングデータの送受信が可能である。 FIG. 2 is a schematic diagram showing the main configuration of the transport system 100 and the mask loader ML. 2A is a side view along the transport direction (X-axis direction), and FIG. 2B is a cross-sectional view viewed from the transport direction side. The mask loader ML includes a drive unit (drive unit) 8, a mask hand MH that holds the mask M, a position sensor (detection unit) 6, a communication unit 3, and a loader control unit 1. The drive unit 8 can move the mask loader ML in the X, Y, Z, and θ axial directions. The mask hand MH can deliver the mask M at each delivery position by opening and closing operations. The position sensor 6 can measure the distances in the X, Y, and Z axial directions between the mask loader ML and each transport position, with the position of the target 7 installed at each delivery position as a detection target. . For example, the position sensor 6 includes an X-axis sensor 6X, two Y-axis sensors 6Y ₁ and 6Y _2, and a Z-axis sensor 6Z, and individually an X-axis target 7X and two Y-axis This corresponds to the targets 7Y ₁ and 7Y ₂ for Z and the target 7Z for the Z axis. As shown in FIG. 2A, the communication unit 3 (communication means) can transmit and receive teaching data described later between the mask loaders ML.

図３は、ローダ制御部１の概略構成を示すブロック図である。ローダ制御部１は、データ取得部（取得手段）２と、記憶部４と、データ生成部５と、駆動制御部９とを含む。データ取得部２は、当該マスクローダＭＬとは異なる特定のマスクローダＭＬからティーチングデータを取得するかを判断し、取得する場合には、通信部３に他の特定のマスクローダＭＬの通信部３からティーチングデータを取得させる。ここで、ティーチングとは、マスクローダＭＬと各受け渡し位置との間で精度良くマスクＭの受け渡しを可能とするために、理想的なマスクＭの受け渡し位置を座標として記憶する作業をいう。また、この理想的な受け渡し位置となるマスクローダＭＬの座標に関するデータをティーチングデータという。記憶部４は、各位置センサ６から出力された計測値と、ティーチングデータおよびオフセット量とを保存（記憶）する。なお、記憶部４に保存されるティーチングデータには、位置センサ６の検出により取得されたデータと、データ取得部２が通信部３を介して他のマスクローダＭＬから取得したデータとの双方を含む。データ生成部（補正手段）５は、記憶部４に保存されている各位置センサ６の計測値をティーチングデータに変換したり、オフセット量を算出したり、このオフセット量に基づいてティーチングデータを補正したりする。なお、θ軸についてのティーチングデータは、Ｙ軸用センサ６Ｙ_１、６Ｙ_２の計測値とＹ軸用センサ間の距離Ｙの値とを用いて演算することで得られる。駆動制御部９は、データ生成部５で最終的に決定されたティーチングデータに従って、駆動部８の動作を制御する。また、リモコン受信部１１は、後述する教示手段１０からの指示信号を受信し、ローダ制御部１に入力する。 FIG. 3 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the loader control unit 1. The loader control unit 1 includes a data acquisition unit (acquisition means) 2, a storage unit 4, a data generation unit 5, and a drive control unit 9. The data acquisition unit 2 determines whether to acquire teaching data from a specific mask loader ML that is different from the mask loader ML. When the teaching data is acquired, the communication unit 3 communicates with the communication unit 3 of another specific mask loader ML. Teaching data is acquired from. Here, teaching refers to an operation of storing an ideal transfer position of the mask M as coordinates in order to enable accurate transfer of the mask M between the mask loader ML and each transfer position. Further, data relating to the coordinates of the mask loader ML serving as an ideal delivery position is referred to as teaching data. The storage unit 4 stores (stores) the measurement values, teaching data, and offset amounts output from each position sensor 6. The teaching data stored in the storage unit 4 includes both the data acquired by the detection of the position sensor 6 and the data acquired by the data acquisition unit 2 from the other mask loader ML via the communication unit 3. Including. The data generation unit (correction unit) 5 converts the measurement value of each position sensor 6 stored in the storage unit 4 into teaching data, calculates an offset amount, and corrects teaching data based on the offset amount. To do. The teaching data for the θ axis is obtained by calculating using the measured values of the Y axis sensors 6Y ₁ and 6Y _{2 and} the value of the distance Y between the Y axis sensors. The drive control unit 9 controls the operation of the drive unit 8 in accordance with the teaching data finally determined by the data generation unit 5. In addition, the remote control receiving unit 11 receives an instruction signal from a teaching unit 10 to be described later and inputs it to the loader control unit 1.

図４は、ユーザがマスクローダＭＬに対してティーチング動作を指示可能とする教示手段１０の外観を示す概略図である。教示手段１０は、いわゆるリモコンであり、例えば、ユーザがそれぞれ操作可能とする、マニュアル操作ボタン１０Ｍ、「ＴＥＡＣＨ」ボタン１０Ｔおよび「ＳＥＮＤ」ボタン１０Ｓを有する。マニュアル操作ボタン１０Ｍは、マスクローダＭＬの各軸の位置をマニュアル操作で調整するためのボタンである。「ＴＥＡＣＨ」ボタン１０Ｔは、理想の受け渡し位置でのティーチングデータを登録するためのボタンである。「ＳＥＮＤ」ボタン１０Ｓは、１つのマスクローダＭＬ（例えば第１ローダＭＬ１）のティーチングデータを、他のマスクローダＭＬ（例えば第２ローダＭＬ２）に送信するためのボタンである。なお、教示手段１０は、１つのマスクローダＭＬに対して１つずつ存在する。 FIG. 4 is a schematic diagram showing the appearance of the teaching means 10 that allows the user to instruct the teaching operation to the mask loader ML. The teaching means 10 is a so-called remote controller, and has, for example, a manual operation button 10M, a “TEACH” button 10T, and a “SEND” button 10S that can be operated by the user. The manual operation button 10M is a button for adjusting the position of each axis of the mask loader ML by manual operation. The “TEACH” button 10T is a button for registering teaching data at an ideal delivery position. The “SEND” button 10S is a button for transmitting teaching data of one mask loader ML (for example, the first loader ML1) to another mask loader ML (for example, the second loader ML2). One teaching means 10 exists for each mask loader ML.

次に、本実施形態におけるマスクローダＭＬのティーチング方法について説明する。図５は、本実施形態におけるティーチングデータ取得工程の流れを示すフローチャートである。以下、一例として、第１ローダＭＬ１に第１ステーションＳ_１１の位置をティーチングする（ティーチングデータを取得する）方法について説明する。まず、ユーザは、第１ローダＭＬ１用の教示手段１０のマニュアル操作ボタン１０Ｍを操作し、第１ローダＭＬ１を第１ステーションＳＴ_１１上に移動させる（ステップＳ１０１）。次に、ユーザは、さらに教示手段１０を操作し、第１ローダＭＬ１を第１ステーションＳＴ_１１での理想の受け渡し位置まで移動させる（ステップＳ１０２）。次に、ユーザは、教示手段１０の「ＴＥＡＣＨ」ボタン１０Ｔを押下することで、第１ローダＭＬ１のデータ取得部２は、この受け渡し位置を各位置センサ６に検出させ、得られたＸ、Ｙ、Ｚの各軸方向の計測値を記憶部４に保存する（ステップＳ１０３）。次に、データ生成部５は、各位置センサ６で得られた計測値をそれぞれティーチングデータＭＬ１（ＸＳ_１１、ＹＳ_１１、θＳ_１１、ＺＳ_１１）に変換し（ステップＳ１０４）、得られたティーチングデータを記憶部４に保存する。これにより、第１ローダＭＬ１と第１ステーションＳＴ_１１との間でのマスクＭの受け渡し準備が完了し、駆動制御部９は、得られたティーチングデータに基づいて、以後受け渡し動作が可能となる。 Next, a teaching method for the mask loader ML in the present embodiment will be described. FIG. 5 is a flowchart showing the flow of the teaching data acquisition process in the present embodiment. As an example, the first loader ML1 to teaching the position of the first station S ₁₁ (acquiring the teaching data) methods will be described. First, the user, the manual operation button 10M teachings means 10 for the first loader ML1 operated to move the first loader ML1 on the first station _{ST 11} (step S101). Next, the user further operates the teaching unit 10, moves the first loader ML1 to ideal transfer position at the first station _{ST 11} (step S102). Next, when the user presses the “TEACH” button 10T of the teaching means 10, the data acquisition unit 2 of the first loader ML1 causes each position sensor 6 to detect this delivery position, and the obtained X, Y , Z in each axis direction is stored in the storage unit 4 (step S103). Next, the data generation unit 5 converts the measurement values obtained by the position sensors 6 into teaching data ML1 (XS ₁₁ , YS ₁₁ , θS ₁₁ , ZS ₁₁ ) (step S104), and the obtained teaching data. Is stored in the storage unit 4. Consequently, the first loader ML1 to transfer preparation of the mask M is completed between the first station ST _11, the drive controller 9 based on the obtained teaching data, it is possible to transfer operation thereafter.

さらに、ユーザは、第１ローダＭＬ１のローダ制御部１にティーチング処理を実行させる作業を、マスクステーションＳＴ_０、第２ステーションＳＴ_１２〜第４ステーションＳＴ_１４、マスクステージＭＳ１の他の受け渡し位置についても実施する。これにより、第１ローダＭＬ１とこれらの受け渡し位置との間のマスクＭの受け渡しが可能となる。また、上記の第１ローダＭＬ１に対するティーチングと同様に、ユーザは、第２ローダＭＬ２に対するティーチングを実施する。これにより、第２ローダＭＬ２と、マスクステーションＳＴ_０、第１ステーションＳＴ_２１〜第４ステーションＳＴ_２４、マスクステージＭＳ２の各受け渡し位置との間のマスクＭの受け渡しが可能となる。 Further, the user performs the work of causing the loader control unit 1 of the first loader ML1 to execute the teaching process on the other delivery positions of the mask station ST ₀ , the second station ST ₁₂ to the fourth station ST ₁₄ , and the mask stage MS 1. carry out. As a result, the mask M can be transferred between the first loader ML1 and these transfer positions. Further, similarly to the teaching for the first loader ML1, the user performs teaching for the second loader ML2. Thereby, the delivery of the mask M between the second loader ML2 and each delivery position of the mask station ST ₀ , the first station ST ₂₁ to the fourth station ST ₂₄ , and the mask stage MS 2 becomes possible.

ここで、この時点では、第１ローダＭＬ１から、第２露光装置ＥＸ２内の第１ステーションＳＴ_２１〜第４ステーションＳＴ_２４およびマスクステージＭＳ２の各受け渡し位置へマスクＭを受け渡すためのティーチングデータが存在しない。同様に、第２ローダＭＬ２から、第１露光装置ＥＸ１内の第１ステーションＳＴ_１１〜第４ステーションＳＴ_１４およびマスクステージＭＳ１の各受け渡し位置へマスクＭを受け渡すためのティーチングデータも存在しない。そのため、第１ローダＭＬ１と第２露光装置ＥＸ２内の各受け渡し位置との間、および、第２ローダＭＬ２と第１露光装置ＥＸ１内の各受け渡し位置との間では、マスクＭの受け渡しはできない。そこで、本実施形態では、これらの間でもマスクＭの受け渡しを可能とするための処理として、第１ローダＭＬ１と第２ローダＭＬ２との間で、それぞれが有するティーチングデータを送受信し合うことで、ティーチングデータを共有させる。 Here, at this time, the first loader ML1, teaching data for passing the mask M to each transfer position of the first station _{ST 21} ~ fourth station _{ST 24} and the mask stage MS2 in the second exposure apparatus EX2 is not exist. Similarly, the second loader ML2, no teaching data for passing the mask M to each transfer position of the first station _{ST 11} ~ fourth station _{ST 14} and mask stage MS1 of the first exposure apparatus EX1 also present. Therefore, the mask M cannot be transferred between the first loader ML1 and each transfer position in the second exposure apparatus EX2 and between the second loader ML2 and each transfer position in the first exposure apparatus EX1. Therefore, in the present embodiment, as processing for enabling the transfer of the mask M between these, the teaching data that each has is transmitted and received between the first loader ML1 and the second loader ML2, Share teaching data.

図６は、本実施形態におけるティーチングデータ共有工程の流れを示すフローチャートである。以下、一例として、第１ローダＭＬ１の記憶部４に保存されているティーチングデータを第２ローダＭＬ２の記憶部４へ送信する（ティーチングデータを共有させる）方法について説明する。まず、ユーザは、第１ローダＭＬ１用の教示手段１０の「ＳＥＮＤ」ボタン１０Ｓを押下する。これを受けて、第１ローダＭＬ１のデータ取得部２は、記憶部４に保持しているティーチングデータを、第１ローダＭＬ１の通信部３から直接的に第２ローダＭＬ２の通信部３に送信する（ステップＳ２０１）。 FIG. 6 is a flowchart showing the flow of the teaching data sharing process in the present embodiment. Hereinafter, as an example, a method of transmitting the teaching data stored in the storage unit 4 of the first loader ML1 to the storage unit 4 of the second loader ML2 (sharing the teaching data) will be described. First, the user presses the “SEND” button 10S of the teaching means 10 for the first loader ML1. In response to this, the data acquisition unit 2 of the first loader ML1 transmits the teaching data held in the storage unit 4 directly from the communication unit 3 of the first loader ML1 to the communication unit 3 of the second loader ML2. (Step S201).

次に、第２ローダＭＬ２のデータ取得部２は、第１ローダＭＬ１のティーチングデータが適切に受信され、第２ローダＭＬ２の記憶部４に保存されたかどうかを判断する（ステップＳ２０２）。ここで、データ取得部２は、ティーチングデータが適切に保存されていないと判断した場合（Ｎｏ）、ステップＳ２０２を繰り返す。 Next, the data acquisition unit 2 of the second loader ML2 determines whether the teaching data of the first loader ML1 has been properly received and stored in the storage unit 4 of the second loader ML2 (step S202). Here, the data acquisition part 2 repeats step S202, when it is judged that teaching data is not preserve | saved appropriately (No).

一方、データ取得部２は、ステップＳ２０２にて適切に保存されたと判断した場合（Ｙｅｓ）、次に、データ生成部５は、第２ローダＭＬ２が採用するに適したティーチングデータに補正するためのオフセット量を算出する（ステップＳ２０３）。ここで、第２ローダＭＬ２の記憶部４には、同一の受け渡し位置であるマスクステーションＳＴ_０に関する、第１ローダＭＬ１で取得されたティーチングデータと、第２ローダＭＬ２で取得されたティーチングデータとが保存されている。そこで、第２ローダＭＬ２のデータ生成部５は、マスクステーションＳＴ_０を基準としての受け渡し位置に選定し、この同一の受け渡し位置についてのこれらのティーチングデータの差分を取ることで、所望のオフセット量とすることができる。具体的には、データ生成部５は、第２ローダＭＬ２で取得されたティーチングデータＭＬ２（ＸＳ０、ＹＳ０、θＳ０、ＺＳ０）と、第１ローダＭＬ１で取得されたティーチングデータＭＬ１（ＸＳ０、ＹＳ０、θＳ０、ＺＳ０）との差分を算出する。そして、データ生成部５は、その算出結果をオフセット量とし、記憶部４に保存する。 On the other hand, if the data acquisition unit 2 determines that the data has been properly stored in step S202 (Yes), the data generation unit 5 then corrects the teaching data to be suitable for use by the second loader ML2. An offset amount is calculated (step S203). Here, the storage unit 4 of the second loader ML2, relates mask station ST ₀ the same transfer position, the teaching data obtained by the first loader ML1, and the teaching data obtained in the second loader ML2 Saved. Therefore, the data generation unit 5 of the second loader ML2, selects a mask station ST ₀ the transfer position as a reference, by taking the difference of these teaching data for the same delivery position, the desired offset amount can do. Specifically, the data generation unit 5 includes the teaching data ML2 (XS0, YS0, θS0, ZS0) acquired by the second loader ML2, and the teaching data ML1 (XS0, YS0, θS0) acquired by the first loader ML1. , ZS0) is calculated. Then, the data generation unit 5 saves the calculation result as an offset amount in the storage unit 4.

そして、第２ローダＭＬ２のデータ生成部５は、ステップＳ２０３にて算出されたオフセット量に基づいて、第１ローダＭＬ１から取得したティーチングデータを、第２ローダＭＬ２が採用するに適したティーチングデータに補正する（ステップＳ２０４）。具体的には、データ生成部５は、ステップＳ２０３にて算出されたオフセット量を、記憶部４に保存されている各受け渡し位置についての各ティーチングデータに加算させることで、当該補正されたティーチングデータを求め、記憶部４に保存する。これにより、第２ローダＭＬ２は、これらのティーチングデータを用いることで、第１ステーションＳＴ_１１〜第４ステーションＳＴ_１４およびマスクステージＭＳ１とのそれぞれの間でマスクＭの受け渡しを行うことが可能となる。 Then, the data generation unit 5 of the second loader ML2 converts the teaching data acquired from the first loader ML1 into teaching data suitable for the second loader ML2 to adopt based on the offset amount calculated in step S203. Correction is performed (step S204). Specifically, the data generation unit 5 adds the offset amount calculated in step S203 to each teaching data for each delivery position stored in the storage unit 4, thereby correcting the corrected teaching data. Is stored in the storage unit 4. Thus, the second loader ML2, by using these teaching data, it is possible to perform transfer of the mask M between each of the first station ST 11 _~ fourth station ST ₁₄ and mask stage MS1 .

また、上記の第２ローダＭＬ２における、第１ローダＭＬ１から取得したティーチングデータの共有工程と同様に、ユーザは、第１ローダＭＬ１に対しても、第２ローダＭＬ２から取得したティーチングデータの共有工程を実行させる。これにより、第１ローダＭＬ１は、これらのティーチングデータを用いることにより、第１ステーションＳＴ_２１〜第４ステーションＳＴ_２４およびマスクステージＭＳ２とのそれぞれの間でマスクＭの受け渡しを行うことが可能となる。 Similarly to the teaching data sharing process acquired from the first loader ML1 in the second loader ML2, the user also shares the teaching data acquired from the second loader ML2 to the first loader ML1. Is executed. Thus, the first loader ML1, by using these teaching data, it is possible to perform transfer of the mask M between each of the first station ST 21 _~ fourth station ST ₂₄ and the mask stage MS2 .

このように、搬送システム１００では、例えば、第１ローダＭＬ１が位置検出によりティーチングデータを取得した各受け渡し位置のうちの一部の受け渡し位置では、第２ローダＭＬ２は、ティーチングデータを取得するための位置検出を行わない。そして、第２ローダＭＬ２が位置検出を行わなかった受け渡し位置についてのティーチングデータは、その受け渡し位置で位置検出によりティーチングデータを取得した第１ローダＭＬ１から通信部３を介して取得する。これは、その他のマスクローダＭＬについても同様である。すなわち、各マスクローダＭＬは、それぞれのすべての受け渡し位置についてのティーチングデータを取得するための位置検出を行う必要がない。したがって、搬送システム１００は、各マスクローダＭＬ間でティーチングデータの送受信を行わない（送受信を行う通信部を有さない）従来の搬送システムに比べて、総ティーチング時間を短縮させることができる。 As described above, in the transport system 100, for example, the second loader ML2 obtains teaching data at some delivery positions among the delivery positions from which the first loader ML1 obtains teaching data by position detection. Does not detect the position. And the teaching data about the delivery position which the 2nd loader ML2 did not detect a position is acquired via the communication part 3 from the 1st loader ML1 which acquired the teaching data by the position detection at the delivery position. The same applies to the other mask loaders ML. That is, each mask loader ML does not need to perform position detection for acquiring teaching data for all the delivery positions. Therefore, the transport system 100 can shorten the total teaching time compared to a conventional transport system that does not transmit / receive teaching data between the mask loaders ML (no communication unit that performs transmission / reception).

以上のように、本実施形態によれば、複数のマスクローダを有する場合の総ティーチング時間の短縮に有利な搬送システムを提供することができる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a transport system that is advantageous for shortening the total teaching time when a plurality of mask loaders are provided.

なお、上記説明では、各マスクローダＭＬに備えられているそれぞれの通信部３が直接的にティーチングデータを送受信するものとしている。ただし、本発明は、このような構成に限定されるものではない。例えば、搬送システム１００の動作を統括的に制御する統括制御部などが存在する場合には、統括制御部も通信部を有するものとした上で、中継手段としての統括制御部を介して間接的に各マスクローダＭＬ間のティーチングデータの送受信を行うものとしてもよい。図７は、この場合の実施形態に係る搬送システム１００の要部構成を示す概略図である。例えば、第１ローダＭＬ１が第２ローダＭＬ２へティーチングデータを送信する場合には、第１ローダＭＬ１の通信部３は、一旦、統括制御部１０１の通信部１０２にティーチングデータを送信する。その後、統括制御部１０１の通信部１０２は、第２ローダＭＬ２の通信部３に向けてそのティーチングデータを送信する。ここで、各マスクローダＭＬ間のティーチングデータの送受信の中継をする中継手段は、単に通信の中継のみ行うものでもよいし、特に統括制御部である場合などには、ティーチングデータを一旦保持し、そのデータを処理する工程を含むものであってもよい。 In the above description, each communication unit 3 provided in each mask loader ML directly transmits and receives teaching data. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, when there is an overall control unit that controls the operation of the transport system 100 in an integrated manner, the overall control unit also includes a communication unit, and indirectly through the overall control unit as a relay unit. The teaching data may be transmitted and received between the mask loaders ML. FIG. 7 is a schematic diagram showing a main configuration of the transport system 100 according to the embodiment in this case. For example, when the first loader ML1 transmits teaching data to the second loader ML2, the communication unit 3 of the first loader ML1 once transmits teaching data to the communication unit 102 of the overall control unit 101. Thereafter, the communication unit 102 of the overall control unit 101 transmits the teaching data to the communication unit 3 of the second loader ML2. Here, the relay means for relaying the transmission / reception of teaching data between the mask loaders ML may be merely a relay for communication, and particularly in the case of a general control unit, the teaching data is temporarily held, The process of processing the data may be included.

また、上記説明では、露光装置ＥＸが２つあり、マスクローダＭＬも２つあることを想定したが、本発明は、これらに限らない。例えば、マスクローダＭＬが１つの搬送路Ｒに対して３つ以上設けられるものとしてもよい。この場合にも、３つ以上の複数のマスクローダＭＬで互いにティーチングデータの送受信が行われることになる。また、露光装置ＥＸについては、複数に限らず１つでもよい。露光装置ＥＸが１つの場合でも、特にオフセット量を算出するための基準となる受け渡し位置を少なくとも１つ選定して通信部３により取得したティーチングデータを補正する点は上記と同様である。そして、そのときの基準となる受け渡し位置は、露光装置ＥＸに隣設するマスクステーションＳＴ０でも、露光装置ＥＸ内部の他のステーションＳＴでも構わない。 In the above description, it is assumed that there are two exposure apparatuses EX and two mask loaders ML, but the present invention is not limited to these. For example, three or more mask loaders ML may be provided for one transport path R. Also in this case, teaching data is transmitted and received with each other by three or more mask loaders ML. Further, the exposure apparatus EX is not limited to a plurality and may be one. Even when there is only one exposure apparatus EX, the point that at least one delivery position serving as a reference for calculating the offset amount is selected and the teaching data acquired by the communication unit 3 is corrected is the same as described above. The delivery position serving as a reference at that time may be a mask station ST0 adjacent to the exposure apparatus EX or another station ST inside the exposure apparatus EX.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。 As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary.

１ローダ制御部
３通信部
６位置センサ
８駆動部
ＥＸ露光装置
ＭＬマスクローダ
Ｒ搬送路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Loader control part 3 Communication part 6 Position sensor 8 Drive part EX Exposure apparatus ML Mask loader R Conveyance path

Claims

搬送路に沿って移動する第１ローダ及び第２ローダを用いて、原版のパターンを基板に転写する露光装置における当該原版を搬送する搬送システムであって、
前記第１ローダは、前記原版の受け渡しを行う第１基準位置に関する第１情報を取得する第１検出手段と、前記第１情報を前記第２ローダに送信可能な第１通信手段と、を有し、
前記第２ローダは、前記原版の受け渡しを行う第２基準位置に関する第２情報を取得する第２検出手段と、前記第２情報を前記第１ローダに送信可能な第２通信手段と、を有し、
前記第２ローダは、前記第１ローダから送信された前記第１情報に基づいて前記原版の受け渡しを行い、
前記第１ローダは、前記第１基準位置を複数の受け渡し位置から選定し、
前記複数の受け渡し位置は、前記原版を保持する位置を含む、
ことを特徴とする搬送システム。 A transport system that transports the original plate in an exposure apparatus that transfers the pattern of the original plate to the substrate using the first loader and the second loader that move along the transport path,
The first loader has first detection means for acquiring first information related to a first reference position for delivering the original , and first communication means capable of transmitting the first information to the second loader. And
The second loader has second detection means for acquiring second information relating to a second reference position for delivering the original , and second communication means capable of transmitting the second information to the first loader. And
The second loader have line passing of the original based on the first information transmitted from the first loader,
The first loader selects the first reference position from a plurality of delivery positions,
The plurality of delivery positions include a position for holding the original plate,
A conveyance system characterized by that.

前記第１ローダは、前記第２ローダから送信された前記第２情報に基づいて前記原版の受け渡しを行う、
ことを特徴とする請求項１に記載の搬送システム。 The first loader delivers the original based on the second information transmitted from the second loader;
The transport system according to claim 1.

前記第１基準位置と前記第２基準位置とは、互いに異なる、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送システム。 The first reference position and the second reference position are different from each other.
The conveyance system according to claim 1 or 2, characterized by things.

前記第１及び第２通信手段は、前記第１及び第２情報に関して直接的に通信を行う、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の搬送システム。 The first and second communication means communicate directly with respect to the first and second information.
The conveyance system according to any one of claims 1 to 3.

前記第１及び第２通信手段は、前記第１及び第２情報に関して中継手段を介して通信を行う、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の搬送システム。 The first and second communication means communicate with each other with respect to the first and second information via a relay means.
The conveyance system according to any one of claims 1 to 3.

前記第２ローダは、前記第１基準位置と前記第２基準位置の差分であるオフセット量を算出し、前記オフセット量に基づいて前記第２基準位置を前記第１基準位置に補正することで、前記第１基準位置において前記原版の受け渡しを行う、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の搬送システム。 The second loader calculates an offset amount that is a difference between the first reference position and the second reference position, and corrects the second reference position to the first reference position based on the offset amount. Delivering the original at the first reference position;
The conveyance system according to any one of claims 1 to 5, wherein

前記搬送路は、第１処理を行う第１装置及び第２処理を行う第２装置に連設され、
前記第１基準位置は、前記第１装置内の位置、又は前記第１及び第２装置間の位置であり、
前記第２基準位置は、前記第２装置内の位置、又は前記第１及び第２装置間の位置である、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の搬送システム。 The conveying path is continuously provided a first process to a second apparatus for performing the first unit and second processing intends row,
The first reference position is a position within the first device or a position between the first and second devices;
The second reference position is a position in the second device or a position between the first and second devices.
The conveyance system according to any one of claims 1 to 6, wherein

前記複数の受け渡し位置は、前記原版に一時的に付加される補正部材を保管し、取り付け、又は取り外す位置を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の搬送システム。 The plurality of delivery positions include a position for storing, attaching, or removing a correction member temporarily added to the original plate,
The conveyance system according to any one of claims 1 to 7, wherein

前記複数の受け渡し位置は、前記露光装置に隣設し、前記原版を保管する位置を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の搬送システム。 The plurality of delivery positions include a position that is adjacent to the exposure apparatus and stores the original plate.
The conveyance system according to any one of claims 1 to 8, wherein

請求項１乃至９のいずれか１項に記載の搬送システムを含む露光システムであって、
原版のパターンを基板に転写する露光装置を複数含む、
ことを特徴とする露光システム。 An exposure system including the transport system according to any one of claims 1 to 9 ,
Including multiple exposure devices that transfer the pattern of the original to the substrate,
An exposure system characterized by that.

原版のパターンを基板に転写する露光装置に用いられ、搬送路に沿って移動する第１ローダ及び第２ローダを備え、前記第１ローダ及び前記第２ローダを用いて前記原版を搬送する搬送システムであって、A transport system that is used in an exposure apparatus that transfers an original pattern onto a substrate, includes a first loader and a second loader that move along a transport path, and transports the original using the first loader and the second loader. Because
前記第１ローダは、前記原版の受け渡しを行う基準位置に関する情報を取得する検出手段と、前記情報を前記第２ローダに送信可能な通信手段と、を有し、The first loader has detection means for acquiring information related to a reference position for delivering the original, and communication means capable of transmitting the information to the second loader.
前記第２ローダは、前記検出手段により取得され前記通信手段により送信された前記情報に基づいて前記原版の受け渡しを行い、The second loader delivers the original based on the information acquired by the detection means and transmitted by the communication means,
前記第１ローダは、前記基準位置を複数の受け渡し位置から選定し、The first loader selects the reference position from a plurality of delivery positions,
前記複数の受け渡し位置は、前記原版を保持する位置を含む、The plurality of delivery positions include a position for holding the original plate,
ことを特徴とする搬送システム。A conveyance system characterized by that.