JP6581861B2 - Manufacturing method of electronic component mounting board - Google Patents

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Description

本発明は、表面に取り付けられた電子部品から発生する熱を放熱するための放熱部材を取り付けた電子部品搭載用基板製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing an electronic component mounting board on which a heat radiating member for radiating heat generated from an electronic component attached to a surface is attached.

半導体素子やコンデンサなどの電子部品や発光ダイオード(LED)等の発光素子は、携帯電話や液晶テレビのバックライトに用いられており、電子部品搭載用基板に搭載されて使用されることが多い。   BACKGROUND Electronic components such as semiconductor elements and capacitors and light emitting elements such as light emitting diodes (LEDs) are used in backlights for mobile phones and liquid crystal televisions, and are often used by being mounted on electronic component mounting substrates.

このような電子部品搭載用基板としては種々の形態のものがあり、例えば端子部材を樹脂モールド成形によって一体化して構成する、リードフレームを屈曲形成することによって構成する、更にはプリント配線基板をベースとする等がある。この中で、放熱性、小型化、コスト等を総合的に考えると、プリント配線基板をベースとした電子部品搭載用基板が望まれる。   There are various types of electronic component mounting boards, for example, terminal members are integrated by resin molding, formed by bending lead frames, and printed circuit boards are used as a base. And so on. Of these, considering heat dissipation, miniaturization, cost, etc., an electronic component mounting board based on a printed wiring board is desired.

そして、近年では電子機器はより小型化、複雑化が進んでおり、このような電子機器に対応するため、プリント配線基板等の基板は、折曲して使用できるフレキシブル基板であることが求められる場合がある。   In recent years, electronic devices have become smaller and more complicated, and in order to cope with such electronic devices, substrates such as printed wiring boards are required to be flexible substrates that can be bent. There is a case.

特許文献1には、発光素子等の電子部品を搭載する発光素子搭載用基板が開示されており、この基板は、絶縁樹脂から成る基材と、この基材の素子搭載面側に形成された第一導体層と、基材の背面側に形成された第二導体層と、伝熱性、放熱性に優れた銅等から成り基材に挿嵌した金属ブロックとを有している。   Patent Document 1 discloses a light emitting element mounting substrate on which an electronic component such as a light emitting element is mounted. The substrate is formed on a base material made of an insulating resin and on the element mounting surface side of the base material. It has a first conductor layer, a second conductor layer formed on the back side of the substrate, and a metal block made of copper or the like excellent in heat transfer and heat dissipation and inserted into the substrate.

特許文献1においては、金属ブロックを基板に挿嵌するために、打ち抜き金型等を用いて、基板の頂面から底面に貫通する貫通孔を形成し、この貫通孔に金属ブロックを挿嵌する。このように、伝熱性、放熱性に優れた金属ブロックを基板に挿嵌させることにより、基板表面に実装した発光素子等の電子部品から発生する熱を、金属ブロックを通じて基板の裏面側に放熱することができ、放熱性を確保することが可能となる。   In Patent Document 1, in order to insert a metal block into a substrate, a through hole penetrating from the top surface to the bottom surface of the substrate is formed using a punching die or the like, and the metal block is inserted into the through hole. . In this way, heat generated from electronic components such as light-emitting elements mounted on the substrate surface is dissipated to the back side of the substrate through the metal block by inserting a metal block having excellent heat conductivity and heat dissipation into the substrate. It is possible to ensure heat dissipation.

特開2014−135306号公報JP 2014-135306 A

しかし、引用文献1の打ち抜き金型等により電子部品搭載用基板に設けた貫通孔では、表面の孔面積と背面の孔面積とが略一致する平行柱状の筒状孔であり、この貫通孔に挿嵌する金属ブロックも貫通孔と同様の平行柱状体としている。   However, the through-hole provided in the electronic component mounting board by the punching die or the like of the cited document 1 is a parallel columnar cylindrical hole in which the hole area on the front surface and the hole area on the back surface substantially coincide with each other. The metal block to be inserted is also a parallel columnar body similar to the through hole.

特許文献1の発光素子搭載用基板のように金属ブロックを貫通孔に挿嵌させて取り付けた場合において、経年使用等により金属ブロックは貫通孔内でがたつきが生ずることがある。また、振動を受ける個所で長期間継続して使用すると金属ブロックが貫通孔内からずれ落ちた状態になり、金属ブロックと基板表面に実装した電子部品とが離間してしまうという問題がある。   When the metal block is inserted and attached to the through hole as in the light emitting element mounting substrate of Patent Document 1, the metal block may be rattled in the through hole due to use over time. In addition, when used continuously for a long time at a place receiving vibration, there is a problem that the metal block is displaced from the inside of the through hole, and the metal block and the electronic component mounted on the substrate surface are separated.

更には、金属ブロックが貫通孔から脱落することもあり、電子部品から金属ブロックが離間すると電子部品の放熱性が弱まり、電子部品の高温による破損、発光素子搭載用基板の導通不良等の故障の原因となる。   In addition, the metal block may fall out of the through-hole, and if the metal block is separated from the electronic component, the heat dissipation of the electronic component will be weakened, the electronic component will be damaged due to high temperature, and the continuity of the light emitting element mounting substrate will be faulty. Cause.

本発明の目的は、上述の課題を解決し、長年使用した場合であっても、金属ブロックが貫通孔内から裏面方向にずれたり、脱落することのない電子部品搭載用基板製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a method for manufacturing a substrate for mounting an electronic component in which the metal block does not shift or fall off from the inside of the through hole even when used for many years. There is to do.

本発明に係る電子部品搭載用基板の製造方法は、金属板に金属ブロックを分離するためのV溝を形成する金属ブロック加工工程と、樹脂板から成る絶縁層の少なくとも表面側に導電層を有する基材部に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記金属板のV溝の開口側から前記基材部の表面側の前記貫通孔に対して前記金属ブロックを分離し、前記貫通孔内に挿嵌する金属ブロック挿嵌工程と、から成り、前記V溝は、断続的に照射するレーザー加工法で形成し、前記金属ブロックの側面に上下方向に沿って溝部を形成することを特徴とする。 The method for manufacturing an electronic component mounting board according to the present invention includes a metal block processing step for forming a V groove for separating a metal block on a metal plate, and a conductive layer on at least the surface side of an insulating layer made of a resin plate. A through-hole forming step of forming a through-hole in the base material portion, and separating the metal block from the opening side of the V-groove of the metal plate with respect to the through-hole on the surface side of the base material portion; made, the metal block inserting step of inserting into the V-groove is formed by laser processing intermittently irradiated, characterized that you form a groove along the vertical direction on the side surface of the metal block And

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記金属ブロック挿嵌工程は、前記貫通孔と前記金属ブロックとが重なるように前記基材部と前記金属板とを重ね合わせ、前記金属ブロックの位置に対応した押込治具を用いて、前記基材部に重ね合わせた金属板を打ち抜くことで前記金属ブロックを分離し、前記貫通孔内に前記金属ブロックを挿嵌している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting substrate of the present invention, for example, in the metal block insertion step, the base material portion and the metal plate are overlapped so that the through hole and the metal block overlap, Using a pressing jig corresponding to the position of the metal block, the metal block is separated by punching out a metal plate superimposed on the base material portion, and the metal block is inserted into the through hole. .

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記金属ブロック挿嵌工程は、前記V溝を形成した金属板から前記金属ブロックを分離した後に、取付治具により前記金属ブロックを前記基材部の貫通孔内に押し込むことにより、前記金属ブロックを挿嵌している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting board of the present invention, for example, in the metal block insertion step, the metal block is separated by a mounting jig after separating the metal block from the metal plate on which the V-groove is formed. The metal block is inserted by being pushed into the through hole of the base material portion.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記取付治具は、前記金属ブロックを保持するキャビティを有している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting board of the present invention, for example, the mounting jig has a cavity for holding the metal block.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記取付治具は、前記金属ブロックを粘着性部材により保持している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting board of the present invention, for example, the mounting jig holds the metal block by an adhesive member.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記金属ブロック挿嵌工程の後に、前記金属ブロックと前記導電層とを金属めっきにより電気的に接続する金属めっき工程を有している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting substrate of the present invention, for example, after the metal block insertion step, a metal plating step of electrically connecting the metal block and the conductive layer by metal plating is provided. Yes.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記金属ブロック加工工程は、一方の面の径が前記貫通孔の表面側の径よりも小さく、他方の面の径が前記貫通孔の裏面側の径よりも大きい金属ブロックを分離するためのV溝を形成している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting substrate of the present invention, for example, in the metal block processing step, the diameter of one surface is smaller than the diameter on the surface side of the through hole, and the diameter of the other surface is the through hole. V-grooves for separating metal blocks larger than the diameter on the back side of the holes are formed.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記貫通孔形成工程は、前記基材部の表面側から裏面側に向けて水平断面積が小さくなるテーパ形状の貫通孔を形成している。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting substrate of the present invention, for example, the through hole forming step forms a tapered through hole in which a horizontal cross-sectional area decreases from the front surface side to the back surface side of the base material portion. is doing.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記金属ブロックは、四角錘台状としている。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting board of the present invention, for example, the metal block has a square frustum shape.

本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一態様として、例えば前記貫通孔は、開口縁部が四角形状としている。   As one aspect of the method for manufacturing an electronic component mounting board of the present invention, for example, the through hole has a square opening edge.

本発明に係る電子部品搭載用基板の製造方法において、金属ブロック加工工程により、金属ブロックは金属板にV溝を形成することでテーパ形状となる。金属板のV溝の開口側から基材部の表面側の貫通孔に対して金属ブロックを分離し、貫通孔内に金属ブロックを挿嵌することで、金属ブロックが貫通孔内に引っ掛かり、基材部から金属ブロックずれ落ちることがなく、電子部品からの発熱を金属ブロックを介して放熱すると同時に、金属ブロックと基板表面に実装した電子部品とが離間することを防止することができる。   In the method for manufacturing an electronic component mounting board according to the present invention, the metal block is tapered by forming a V-groove in the metal plate by the metal block processing step. The metal block is separated from the opening side of the V groove of the metal plate with respect to the through hole on the surface side of the base material part, and the metal block is caught in the through hole by inserting the metal block into the through hole. The metal block is not displaced from the material part, and heat generated from the electronic component is radiated through the metal block, and at the same time, the metal block and the electronic component mounted on the substrate surface can be prevented from being separated.

また、金属板のV溝を断続的に照射するレーザー加工法で形成し、金属ブロックの側面に上下方向に沿って連続した凹凸の溝部を形成することで、金属ブロックの側方向の表面積が多くなるので、金属めっきが貫通孔に金属めっきを充填することで保持力が増加し、金属ブロックがより強固に貫通孔内に固定されることになる。更には、金属ブロックと貫通孔との隙間を埋めるので、放熱性が向上する。   In addition, the surface area in the lateral direction of the metal block is increased by forming the V-groove of the metal plate by a laser processing method that intermittently irradiates, and forming the concave and convex groove portions along the vertical direction on the side surface of the metal block. As a result, the metal plating fills the through hole with the metal plating, whereby the holding force is increased, and the metal block is more firmly fixed in the through hole. Furthermore, since the gap between the metal block and the through hole is filled, heat dissipation is improved.

金属ブロック貫通工程後の金属めっき工程により、金属ブロックと前記導電層とを金属めっきにより電気的に接続することで、導電性、熱伝導性が高まると共に貫通孔内で金属ブロックが強固に固定される。   By electrically connecting the metal block and the conductive layer by metal plating in the metal plating step after the metal block penetrating step, conductivity and thermal conductivity are increased and the metal block is firmly fixed in the through hole. The

金属ブロック挿嵌工程において、貫通孔と金属ブロックとが重なるように基材部と金属板とを重ね合わせ、金属ブロックの位置に対応した押込治具を有する金型を用いて、重ね合わせた基材部及び金属板を打ち抜くことで、簡便にV溝を有する金属板から金属ブロックを分離することができる。また、分離すると同時に、貫通孔内に金属ブロックを挿嵌することが可能であり、金属ブロックの分離、挿嵌作業を連続して一度に行うことが可能である。   In the metal block insertion process, the base and the metal plate are overlapped so that the through hole and the metal block overlap, and the overlapped base is used using a mold having a pressing jig corresponding to the position of the metal block. By punching out the material part and the metal plate, the metal block can be easily separated from the metal plate having the V-groove. At the same time as the separation, the metal block can be inserted into the through hole, and the metal block can be separated and inserted continuously at a time.

また、金属ブロック挿嵌工程において、取付治具を用いることで、金属ブロックを確実に短時間で、貫通孔内に金属ブロックを挿嵌することができる。また、取付治具は金属ブロックの位置に対応するキャビティを有しているので、金属ブロックを配置するのが簡便となる。更には、取付治具の表面に粘着材を設ければ、取付治具にセットされた金属ブロックが粘着剤により保持され、組込み中に衝撃等を受けても金属ブロックが取付治具から脱落することがない。   Moreover, in a metal block insertion process, a metal block can be reliably inserted in a through-hole in a short time reliably by using an attachment jig. Moreover, since the attachment jig has a cavity corresponding to the position of the metal block, it is easy to arrange the metal block. Furthermore, if an adhesive is provided on the surface of the mounting jig, the metal block set on the mounting jig is held by the adhesive, and the metal block will fall off the mounting jig even if it receives an impact during assembly. There is nothing.

実施例1の電子部品搭載用基板の模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of an electronic component mounting board in Example 1. FIG. 基材部の模式的断面図及び模式的斜視断面図である。It is a typical sectional view and a typical perspective sectional view of a substrate part. 金属ブロックの模式的断面図及び斜視図である。It is typical sectional drawing and a perspective view of a metal block. 押込治具により金属ブロックを基材部に嵌挿する説明図である。It is explanatory drawing which inserts and inserts a metal block in a base material part with a pushing jig | tool. 取付治具により金属ブロックを基材部に取り付ける説明図である。It is explanatory drawing which attaches a metal block to a base-material part with an attachment jig. エッジング部を生成する場合の説明図である。It is explanatory drawing in the case of producing | generating an edging part. 電子部品搭載用基板上に光反射層、カバーを設けた模式的断面図である。It is typical sectional drawing which provided the light reflection layer and the cover on the board | substrate for electronic component mounting. 実施例2の電子部品搭載用基板の模式的断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of an electronic component mounting board of Example 2. FIG.

本発明を図示の実施例により詳細に説明する。   The present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.

図1は面実装型の電子部品が搭載された実施例1の電子部品搭載用基板の模式的断面図である。電子部品搭載用基板1は面実装型の例えば発光素子Pを搭載するための折曲可能な基板である。電子部品搭載用基板1に搭載された発光素子Pは、面実装型であれば特に限定されず、例えば発光ダイオード(LED)やレーザーダイオード(LD)等の発光素子、その他にも面実装型のトランジスタ、コンデンサ、ICチップ等の電子部品が適用可能である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electronic component mounting substrate of Example 1 on which surface-mount type electronic components are mounted. The electronic component mounting substrate 1 is a surface-mountable, for example, bendable substrate for mounting a light emitting element P. The light-emitting element P mounted on the electronic component mounting substrate 1 is not particularly limited as long as it is a surface-mount type. For example, a light-emitting element such as a light-emitting diode (LED) or a laser diode (LD), or other surface-mount type. Electronic components such as transistors, capacitors, and IC chips are applicable.

電子部品搭載用基板1は、後述する複数の貫通孔を有する基材部2と、この貫通孔内に挿嵌する金属ブロック3とを備えている。基材部2は絶縁樹脂材等から成る樹脂板である絶縁層2aの表裏両面に、表面導電層2bと裏面導電層2cとがそれぞれ積層されている。なお、基材部2には少なくとも表面導電層2bを設ければよく、裏面導電層2cは必ずしも必要としない。   The electronic component mounting board 1 includes a base material portion 2 having a plurality of through holes, which will be described later, and a metal block 3 that is inserted into the through holes. In the base material part 2, a front surface conductive layer 2b and a back surface conductive layer 2c are respectively laminated on both front and back surfaces of an insulating layer 2a which is a resin plate made of an insulating resin material or the like. In addition, what is necessary is just to provide the surface conductive layer 2b at least in the base material part 2, and the back surface conductive layer 2c is not necessarily required.

貫通孔2dに金属ブロック3が嵌挿された基材部2に対し、表面導電層2b、裏面導電層2cにエッジング処理がなされ、表面導電層2b、裏面導電層2cの不要部分は、エッジング部2eとして除去されている。また、貫通孔2dに嵌入された金属ブロック3の表面とその周囲の表面導電層2bに対して金属めっき層4が施され、金属ブロック3の上方の金属めっき層4上には更に金(Au)めっき層5が施され、金めっき層5上に2つの金属ブロック3を跨設するように発光素子Pが配置され、発光素子Pは金めっき層5に対し半田等により電気的に接続されている。   An edging process is performed on the front surface conductive layer 2b and the back surface conductive layer 2c with respect to the base material portion 2 in which the metal block 3 is inserted in the through hole 2d, and unnecessary portions of the front surface conductive layer 2b and the back surface conductive layer 2c are edging portions. 2e has been removed. In addition, a metal plating layer 4 is applied to the surface of the metal block 3 inserted into the through hole 2d and the surface conductive layer 2b around the metal block 3, and gold (Au) is further formed on the metal plating layer 4 above the metal block 3. ) The plating layer 5 is applied, and the light emitting element P is disposed so as to straddle the two metal blocks 3 on the gold plating layer 5. The light emitting element P is electrically connected to the gold plating layer 5 by soldering or the like. ing.

基材部2の絶縁層2aを構成する絶縁樹脂材としては、特に限定されないが、柔軟性を備える絶縁樹脂材であることが好ましく、例えばポリイミド、ガラスエポキシ等が挙げられ、これらの中ではポリイミドが好適である。絶縁層2aにポリイミドを使用すると、柔軟性と絶縁性との双方を兼ね備えることになり、充分な絶縁性を確保しながら、用途に応じて形状を変形させることが可能となる。   Although it does not specifically limit as an insulating resin material which comprises the insulating layer 2a of the base material part 2, It is preferable that it is an insulating resin material provided with a softness | flexibility, for example, a polyimide, glass epoxy, etc. are mentioned, Among these, it is a polyimide. Is preferred. When polyimide is used for the insulating layer 2a, both flexibility and insulating properties are provided, and the shape can be changed according to the application while ensuring sufficient insulating properties.

絶縁層2aの厚さは特に限定されないが、30〜70μmであることが望ましい。厚さが30μmよりも小さいと曲がり易くなり、屈曲により配線や電子部品との接合が破壊される虞れがある。また、厚さが70μmよりも大きいと、パンチングによって貫通孔2dを形成する際に、貫通孔2dの周辺にクラックが生じ易くなり信頼性が低下する。   The thickness of the insulating layer 2a is not particularly limited, but is desirably 30 to 70 μm. If the thickness is less than 30 μm, it is easy to bend, and there is a possibility that the connection with the wiring or the electronic component is broken by bending. On the other hand, when the thickness is larger than 70 μm, when the through hole 2d is formed by punching, cracks are likely to be generated around the through hole 2d and reliability is lowered.

表面導電層2b及び裏面導電層2cの構成材料は、特に限定されないが、電気伝導率が良好である銅、ニッケル等であることが望ましい。これらの導電層2b、2cの厚さも特に限定されないが、絶縁層2aよりも厚いことが望ましく、10〜300μmであることが好適である。なお、必ずしも表面導電層2bと裏面導電層2cとを同じ厚みにする必要はない。導電層2b、2cの厚みが10μmよりも小さいと、ハンドリングの際に導電層2b、2cが破壊され易くなり、不良率が増加する。また、300μmよりも大きいと、電子部品搭載用基板1を曲げて使用する際に、折曲することで絶縁層2aに導電層2b、2cから圧縮応力が大きく掛かるため、絶縁層2aが破壊され易くなる。   The constituent materials of the front surface conductive layer 2b and the back surface conductive layer 2c are not particularly limited, but are desirably copper, nickel, or the like having good electrical conductivity. The thicknesses of these conductive layers 2b and 2c are not particularly limited, but are desirably thicker than the insulating layer 2a, and preferably 10 to 300 μm. The front conductive layer 2b and the back conductive layer 2c do not necessarily have the same thickness. When the thickness of the conductive layers 2b and 2c is smaller than 10 μm, the conductive layers 2b and 2c are easily broken during handling, and the defect rate increases. On the other hand, when the thickness is larger than 300 μm, when the electronic component mounting substrate 1 is bent and used, the insulating layer 2a is broken by applying a large compressive stress to the insulating layer 2a from the conductive layers 2b and 2c. It becomes easy.

図2(a)は基材部2の断面図、(b)は貫通孔2dを設けた基材部2の断面図、(c)は斜視断面図である。基材部2には表面導電層2b、絶縁層2a及び裏面導電層2cを貫通する例えば一対の貫通孔2dが穿孔されている。   2A is a cross-sectional view of the base material portion 2, FIG. 2B is a cross-sectional view of the base material portion 2 provided with a through hole 2d, and FIG. 2C is a perspective cross-sectional view. For example, a pair of through holes 2d penetrating the front surface conductive layer 2b, the insulating layer 2a, and the back surface conductive layer 2c are formed in the base material portion 2.

表面導電層2bの表面の貫通孔2dの外形は四角形状をしており、大きさは例えば2mm×3mm程度である。貫通孔2dは、基材部2の表面側から裏面側に向けて水平断面積が小さくなるテーパ状とされ、テーパの角度は例えば50〜85度とされ、好ましくは55〜80度、更に好ましくは60〜75度とされている。なお、このテーパは断面が直方形状である貫通孔2dの各側面の4辺に設けることが好適であるが、対向する2辺のみに設けてもよいし、直方形状の貫通孔2dに代えて、正方形状の貫通孔2dにしてもよい。   The outer shape of the through-hole 2d on the surface of the surface conductive layer 2b is a square shape, and the size is about 2 mm × 3 mm, for example. The through hole 2d has a tapered shape in which the horizontal cross-sectional area decreases from the front surface side to the back surface side of the base material portion 2, and the taper angle is, for example, 50 to 85 degrees, preferably 55 to 80 degrees, and more preferably. Is set to 60 to 75 degrees. The taper is preferably provided on four sides of each side surface of the through-hole 2d having a rectangular cross section, but may be provided only on two opposing sides or instead of the rectangular through-hole 2d. Alternatively, the square through hole 2d may be used.

実際の電子部品搭載用基板1には、更に多数の貫通孔2dを設ける場合があるが、説明の都合上、一対の貫通孔2dを設けた場合を図示している。テーパを有する貫通孔2dは、例えばレーザー光を基材部2に断続的に照射して形成することが可能である。この場合は、貫通孔2dの周辺の縁部にはレーザー光の照射痕による凹凸条部2fが形成される。   Although the actual electronic component mounting substrate 1 may be provided with a larger number of through holes 2d, the case where a pair of through holes 2d are provided is shown for convenience of explanation. The through hole 2d having a taper can be formed by, for example, intermittently irradiating the base member 2 with laser light. In this case, an uneven strip portion 2f is formed on the peripheral edge portion of the through hole 2d by a laser beam irradiation trace.

なお本実施例では、内面がテーパ状の貫通孔2dについて説明しているが、貫通孔2dの形状は、テーパを有する金属ブロック3が引っ掛かる形状であれば、内面は適宜の形状を採用してもよい。   In this embodiment, the through hole 2d having a tapered inner surface is described. However, if the shape of the through hole 2d is such that the metal block 3 having a taper is caught, an appropriate shape is adopted for the inner surface. Also good.

金属ブロック3の構成材料は特に限定されないが、伝熱効率が大きく、放熱性を確保できる材料が好ましく、電気伝導率及び熱伝導率に優れている銅材を用いることが好適である。   The constituent material of the metal block 3 is not particularly limited, but a material that has high heat transfer efficiency and can ensure heat dissipation is preferable, and a copper material that is excellent in electrical conductivity and thermal conductivity is preferably used.

図3(a)は金属板から金属ブロック3を形成する場合の模式的断面図、(b)は金属ブロック3の斜視図を示しており、(b)においては金属ブロック3以外の周囲の残余の金属板の図示は省略している。銅板から成る金属板3aに、レーザー光を断続的に照射するレーザー加工法によって、V溝3bを縦横に形成する。そして、V溝3b間の金属板3aを切離することで、四角錘台状の金属ブロック3を製造することができる。なお、金属板3aの厚みは基材部2の厚みよりも稍々大きいことが好ましく、表面導電層2bと裏面導電層2cとの電気的導通を確実にすることができる。   3A is a schematic cross-sectional view when the metal block 3 is formed from a metal plate, FIG. 3B is a perspective view of the metal block 3, and FIG. The illustration of the metal plate is omitted. V-grooves 3b are formed vertically and horizontally by a laser processing method in which laser light is intermittently applied to a metal plate 3a made of a copper plate. Then, by separating the metal plate 3a between the V-grooves 3b, the square frustum-shaped metal block 3 can be manufactured. In addition, it is preferable that the thickness of the metal plate 3a is often larger than the thickness of the base material part 2, and electrical conduction between the front surface conductive layer 2b and the back surface conductive layer 2c can be ensured.

金属ブロック3は貫通孔2d内に挿嵌した際に、貫通孔2dから反対側に抜け出ないために、金属ブロック3の底面つまり小径部面3cの径が貫通孔2dの表面側の径よりも小さく、金属ブロック3の表面つまり大径部面3dの径は貫通孔の裏面側の径よりも大きくしてある。つまり、四角錐状の金属ブロック3の大径部面3dの大きさを、少なくとも貫通孔2dの底部よりも大きくすることで、金属ブロック3が基材部2から抜け落ちることはない。   When the metal block 3 is inserted into the through-hole 2d, the metal block 3 does not come out of the through-hole 2d to the opposite side. Therefore, the diameter of the bottom surface of the metal block 3, that is, the small-diameter portion surface 3c is larger than the diameter of the surface side of the through-hole 2d. The surface of the metal block 3, that is, the diameter of the large-diameter portion surface 3d is larger than the diameter on the back surface side of the through hole. That is, the size of the large-diameter portion surface 3d of the quadrangular pyramid-shaped metal block 3 is set larger than at least the bottom portion of the through hole 2d, so that the metal block 3 does not fall out of the base material portion 2.

また、上述のように貫通孔2dの表面側の外形を四角形状とする、又は金属ブロック3を四角錘台状とすることで、円錐形の金属ブロック3及び貫通孔に比べて、機材部2との接触面積が増して、熱伝導性が高まる。更に、貫通孔2d内での金属ブロック3は挿嵌した方向に対して回転し難くなるので、貫通孔2d内で金属ブロック3の位置ずれが生じ難くなる。   In addition, as described above, the outer shape of the surface of the through hole 2d is a square shape, or the metal block 3 is a square frustum shape, so that the equipment part 2 is compared with the conical metal block 3 and the through hole. The contact area increases with increasing thermal conductivity. Furthermore, since the metal block 3 in the through hole 2d is difficult to rotate with respect to the insertion direction, the metal block 3 is hardly displaced in the through hole 2d.

更に、機材部2に多くの貫通孔2dを隙間なく形成する場合に、外形が円形状と比較して、貫通孔2dの占める割合が高くなり、放熱性を高めることができる。そして、金属板3に形成する金属ブロック3の外形を四角形状とすることで、外形が円状と比較して、金属板3から無駄なく金属ブロック3を形成することができる。   Furthermore, when many through-holes 2d are formed in the equipment part 2 without a gap, the proportion of the through-holes 2d is higher than that of a circular shape, and heat dissipation can be improved. And by making the external shape of the metal block 3 formed in the metal plate 3 into a square shape, compared with a circular shape, the metal block 3 can be formed from the metal plate 3 without waste.

金属ブロック3は断続的に照射されるレーザー光によって金属板3aから切削され、テーパ面である側面に線条の照射痕から成る溝部3eが上下方向に沿って多数、形成されている。これらの照射痕から成る溝部3eは、バリ溝の角部が鋭利であるため、貫通孔2d内で貫通孔2d側面に噛み付き、金属ブロック3が貫通孔2d内から更に抜け落ち難くなる。   The metal block 3 is cut from the metal plate 3a by laser light that is intermittently irradiated, and a large number of grooves 3e made of linear stripes are formed on the side surface, which is a tapered surface, along the vertical direction. Since the groove 3e formed of these irradiation marks has sharp corners of the burr groove, the groove 3e is engaged with the side surface of the through hole 2d in the through hole 2d, and the metal block 3 is more difficult to fall out of the through hole 2d.

金属ブロック3の四辺はレーザー光により上面を開口したV溝3bが切削されてテーパ形状とされ、この切削部の底部つまり金属ブロック3の大径部面3dはこの段階では切離されることなく、一部又は全部を金属板3aに連結したままとされている。ここで、レーザー光の金属板3や基材部2に対する照射角度は、テーパ状に形成できればよく、金属板3や基材部2に対して垂直でもよく、角度を有していてもよい。   The four sides of the metal block 3 are cut into a tapered shape by cutting the V-groove 3b whose upper surface is opened by laser light, and the bottom of this cutting part, that is, the large-diameter surface 3d of the metal block 3 is not separated at this stage. A part or the whole is left connected to the metal plate 3a. Here, the irradiation angle of the laser beam with respect to the metal plate 3 and the base material portion 2 is only required to be formed in a tapered shape, and may be perpendicular to the metal plate 3 and the base material portion 2 or may have an angle.

金属ブロック3を電子部品搭載用基板1に挿嵌するには、図4(a)に示すように、連続する金属板3aのV溝3bの開口側を下面として、つまり金属ブロック3の小径部面3cを下側に向けて、金属板3aを貫通孔2dを有する基材部2上に重ね合わせる。   In order to insert the metal block 3 into the electronic component mounting substrate 1, as shown in FIG. 4A, the opening side of the V groove 3b of the continuous metal plate 3a is used as the lower surface, that is, the small diameter portion of the metal block 3 The metal plate 3a is overlaid on the base member 2 having the through hole 2d with the surface 3c facing downward.

この際に、基材部2及び金属板3aを正確に位置合わせするために、基材部2の表面側の一部に位置合わせ用の凸部を設け、更に金属板3aの一部に凸部に嵌合する凹部を設けるようにしてもよい。そして、これらの凸部及び凹部を嵌合することで、金属板3aの金属ブロック3の直下に基材部2の貫通孔2dを正確に位置付けて配置することができる。   At this time, in order to accurately align the base material part 2 and the metal plate 3a, a convex part for alignment is provided on a part of the surface side of the base material part 2, and further, a convex part of the metal plate 3a is provided. You may make it provide the recessed part fitted to a part. And by fitting these convex parts and concave parts, the through-hole 2d of the base material part 2 can be accurately positioned and arranged immediately below the metal block 3 of the metal plate 3a.

金属ブロック3の位置に対応した押込治具Tを用いて、上方からプレス機等の機械的な押込手段により強制的に押込治具Tを押し込むことで、基材部2上に重ね合わせた金属板3aから金属ブロック3が切離され、貫通孔2d内に挿嵌される。なお、金属ブロック3の貫通孔2dに対する挿入位置が多少ずれていたとしても、金属ブロック3はテーパ形状であるため、押し込みに伴って挿入位置が修正され、貫通孔2d内に的確に挿嵌されることになる。   The metal piled up on the base material part 2 by forcibly pushing the pushing jig T from above with mechanical pushing means such as a press using the pushing jig T corresponding to the position of the metal block 3 The metal block 3 is separated from the plate 3a and inserted into the through hole 2d. Even if the insertion position of the metal block 3 with respect to the through hole 2d is slightly shifted, the metal block 3 has a taper shape, so that the insertion position is corrected as the metal block 3 is pushed in, and the metal block 3 is accurately inserted into the through hole 2d. Will be.

このとき、図4(b)に示すように、表面導電層2bの表面から金属ブロック3の大径部面3dが突出し、また、裏面導電層2cの表面から金属ブロック3の小径部面3cが突出するように挿嵌する。このように押込治具Tを上方から押し込むことで、金属ブロック3を金属板3aから切離すると同時に、貫通孔2d内に金属ブロック3を挿嵌することが可能であり、金属ブロック3の切離、挿嵌作業を連続して一挙に行うことが可能である。   At this time, as shown in FIG. 4B, the large-diameter portion surface 3d of the metal block 3 protrudes from the surface of the surface conductive layer 2b, and the small-diameter portion surface 3c of the metal block 3 protrudes from the surface of the back surface conductive layer 2c. Insert so that it protrudes. By pushing the pushing jig T from above, the metal block 3 can be separated from the metal plate 3a, and at the same time, the metal block 3 can be inserted into the through hole 2d. Separation and insertion work can be performed continuously at once.

図4(b)に示す貫通孔2d内に挿嵌した金属ブロック3は、或る程度の可塑性を有し、また貫通孔2d内にはレーザー光の照射痕があるので、挿嵌後に図4(c)に示すように、導電層2b、2c側の上下の突出部を挟み込んで、部分的に荷重を加えるコイニング処理を行う。このコイニング処理により、金属ブロック3を貫通孔2dの空隙内に押し潰し、金属ブロック3の厚みを基材部2と同等となるように平面化することができる。   The metal block 3 inserted into the through hole 2d shown in FIG. 4B has a certain degree of plasticity, and there is an irradiation mark of laser light in the through hole 2d. As shown in (c), a coining process is performed in which a load is partially applied by sandwiching the upper and lower protrusions on the conductive layers 2b and 2c side. By this coining treatment, the metal block 3 can be crushed into the gap of the through hole 2d, and the thickness of the metal block 3 can be planarized so as to be equal to that of the base material portion 2.

このように、金属ブロック3を基材部2と同等の厚みに押し潰すと、金属ブロック3と表面導電層2b及び裏面導電層2cとの密着性が向上し導電性も良好となる。更には、金属ブロック3の形状がテーパ形状であることも加わって、金属ブロック3が貫通孔2dに引っ掛かる状態となり、貫通孔2dから下方にずれ落ちることはない。   Thus, when the metal block 3 is crushed to a thickness equivalent to that of the base member 2, the adhesion between the metal block 3, the front surface conductive layer 2b, and the back surface conductive layer 2c is improved, and the conductivity is also improved. Furthermore, since the shape of the metal block 3 is a taper shape, the metal block 3 is caught in the through hole 2d and does not fall downward from the through hole 2d.

また、金属ブロック3を基材部2の貫通孔2dに挿嵌する方法として、図5に示す取付治具Gを用いる方法を採用することができる。この取付治具Gは、本体部G1と、この本体部G1の中央の摺動孔G2を貫通し、上下に摺動可能な柱状の押出部G3とから構成され、本体部G1の表面には金属ブロック3の大径部面3dよりも稍々大きな形状のキャビティG4が設けられている。キャビティG4の底面の押出部G3の周囲には、テープ材等から成り、繰り返して使用可能な平面状の粘着性部材G5が配置されている。   Moreover, as a method of inserting the metal block 3 into the through hole 2d of the base member 2, a method using the mounting jig G shown in FIG. The mounting jig G is composed of a main body G1 and a columnar push-out part G3 that passes through a central sliding hole G2 of the main body G1 and is slidable up and down. A cavity G4 having a shape that is often larger than the large-diameter surface 3d of the metal block 3 is provided. A flat adhesive member G5 made of a tape material or the like that can be used repeatedly is disposed around the extruded portion G3 on the bottom surface of the cavity G4.

取付治具Gを用いて金属ブロック3を基材部2の貫通孔2dに挿嵌するには、先ず図5(a)に示すように、V溝3bを設けた状態の連続する金属板3aのV溝3bの開口側を上面として、取付治具GのキャビティG4上に金属ブロック3の大径部面3dが位置するように重ね合わせる。   In order to insert the metal block 3 into the through hole 2d of the base member 2 using the mounting jig G, first, as shown in FIG. 5 (a), a continuous metal plate 3a with a V-groove 3b is provided. With the opening side of the V-groove 3b as the upper surface, the large-diameter portion surface 3d of the metal block 3 is overlaid on the cavity G4 of the mounting jig G.

次に、押込治具Tを有する押込手段により金属ブロック3の小径部面3cを上方から押圧することで、金属ブロック3が金属板3aから切離され、図5(b)に示すように取付治具GのキャビティG4内に挿入される。このとき、金属ブロック3の大径部面3dは粘着性部材G5に当接し、粘着性部材G5により取付治具Gは金属ブロック3を一時的に保持される。   Next, the metal block 3 is separated from the metal plate 3a by pressing the small-diameter surface 3c of the metal block 3 from above by the pushing means having the pushing jig T, and is attached as shown in FIG. 5 (b). It is inserted into the cavity G4 of the jig G. At this time, the large-diameter portion surface 3d of the metal block 3 contacts the adhesive member G5, and the mounting jig G temporarily holds the metal block 3 by the adhesive member G5.

なお、実施例では図5(a)、(b)に示すように、金属板3aから金属ブロック3を切離すると同時に、金属ブロック3をキャビティG4内に挿入しているが、ロボット等のハンドリングにより金属板3aから分離された金属ブロック3を個々に把持して、取付治具GのキャビティG4内に収納することも考えられる。   In the embodiment, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the metal block 3 is separated from the metal plate 3a and at the same time the metal block 3 is inserted into the cavity G4. It is also conceivable that the metal blocks 3 separated from the metal plate 3a are individually held and stored in the cavity G4 of the mounting jig G.

続いて、図5(c)に示すように、金属ブロック3を保持した取付治具Gの上下を反転して、小径部面3cを下方に向けた金属ブロック3の直下に、貫通孔2dが至るように配置した後に、押出部G3を下方に押し出すことで金属ブロック3は貫通孔2d内に挿嵌され、前述の図4(b)に示す状態となる。以後の工程は、図4(c)の工程と同様である。   Subsequently, as shown in FIG. 5C, the mounting jig G holding the metal block 3 is turned upside down, and the through hole 2d is formed directly below the metal block 3 with the small diameter portion surface 3c facing downward. After the arrangement, the metal block 3 is inserted into the through-hole 2d by pushing the pushing portion G3 downward, and the state shown in FIG. 4B is obtained. The subsequent steps are the same as the step of FIG.

この挿嵌工程において金属ブロック3の直下に貫通孔2dが至るように配置させる際に、カメラ等を用いて正確な位置決めすることも可能であるし、前述の位置決め用の凹凸部を利用してもよい。   In the insertion process, when the through hole 2d is arranged so as to reach directly under the metal block 3, it is possible to perform accurate positioning using a camera or the like, and the above-described positioning uneven portion is used. Also good.

本実施例では、1つのキャビティG4を設けた取付治具Gを用いて説明したが、平板状の本体部G1に複数のキャビティG4を縦横に貫通孔2dの位置に従って配置した取付治具Gを用いて、基材部2の貫通孔2dに複数個の金属ブロック3を、対応する複数個の貫通孔2dに同時に挿嵌するようにしてもよい。   In the present embodiment, the mounting jig G provided with one cavity G4 has been described. However, the mounting jig G in which a plurality of cavities G4 are arranged vertically and horizontally in accordance with the position of the through hole 2d is provided on the flat body portion G1. By using, a plurality of metal blocks 3 may be simultaneously inserted into the corresponding plurality of through holes 2d in the through holes 2d of the base member 2.

更には、図5(b)の取付治具GのキャビティG4内に金属ブロック3を挿入後に、この金属ブロック3の直上に裏返した基材部2を配置し、押出部G3を上方に押出すようにして貫通孔2d内に挿嵌してもよい。このようにした場合には、取付治具Gの上下の逆転は必要ないので粘着性部材G5は不要となる。   Further, after the metal block 3 is inserted into the cavity G4 of the mounting jig G in FIG. 5B, the inverted base portion 2 is disposed immediately above the metal block 3, and the pushing portion G3 is pushed upward. Thus, it may be inserted into the through hole 2d. In such a case, the adhesive member G5 is unnecessary because the mounting jig G does not need to be turned upside down.

次に、図6(a)に示すように、金属ブロック3を嵌挿した基材部2の上下両面の表面導電層2b及び裏面導電層2c上に対して、電気回路パターンに応じてエッチングレジスト2iを塗布する。   Next, as shown in FIG. 6A, an etching resist is formed on the upper and lower surface conductive layers 2b and the back conductive layer 2c of the base material portion 2 in which the metal block 3 is inserted according to the electric circuit pattern. 2i is applied.

続いて、図6(b)に示すように、エッチングレジスト2iが塗布されていない部分の表面導電層2b、裏面導電層2cをエッチング液により除去して、エッジング部2eを形成する。エッチング液としては、例えば硫酸−過酸化水素水溶液、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩水溶液、塩化第二鉄、塩化第二銅、塩酸等が使用できる。また、エッチング液として第二銅錯体と有機酸とを含む混合溶液を用いてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 6B, the portion of the surface conductive layer 2b and the back surface conductive layer 2c where the etching resist 2i is not applied is removed with an etching solution to form an edging portion 2e. As the etchant, for example, sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous solution, persulfate aqueous solution such as ammonium persulfate, ferric chloride, cupric chloride, hydrochloric acid, etc. can be used. Moreover, you may use the mixed solution containing a cupric complex and an organic acid as etching liquid.

更に、図6(c)に示すように、エッチングレジスト2i自体を除去することにより、2つの金属ブロック3同士はエッジング部2eにより電気的に絶縁され、絶縁層2aの両面の表面導電層2b、裏面導電層2cに、それぞれ同一又は別個に任意の電気回路パターンが形成される。また、回路パターンの形成は、金属ブロック3が貫通孔2dに挿入される前に行ってもよい。   Further, as shown in FIG. 6C, by removing the etching resist 2i itself, the two metal blocks 3 are electrically insulated from each other by the edging portion 2e, and the surface conductive layers 2b on both sides of the insulating layer 2a are provided. Arbitrary electric circuit patterns are formed on the back surface conductive layer 2c in the same or different manner. The circuit pattern may be formed before the metal block 3 is inserted into the through hole 2d.

図1に示すように、電子部品搭載用基板1の表面導電層2bの表面には、金属めっき層4を形成することが好ましい。この金属めっき層4の形成により、表面導電層2bの表面が金属めっき層4により保護されることになり、表面導電層2bの腐食が防止される。   As shown in FIG. 1, it is preferable to form a metal plating layer 4 on the surface of the surface conductive layer 2 b of the electronic component mounting substrate 1. By forming the metal plating layer 4, the surface of the surface conductive layer 2b is protected by the metal plating layer 4, and corrosion of the surface conductive layer 2b is prevented.

また、金属めっき層4は金属ブロック3の表面の一部又は全部を覆うように形成することが望ましい。このように、金属めっき層4が金属ブロック3を覆うように形成されていると、金属ブロック3と表面導電層2bとが金属めっき層4により電気的に良好な接続が助長される。   The metal plating layer 4 is desirably formed so as to cover a part or all of the surface of the metal block 3. As described above, when the metal plating layer 4 is formed so as to cover the metal block 3, the metal plating layer 4 facilitates an electrical good connection between the metal block 3 and the surface conductive layer 2 b.

更に、金属ブロック3の溝部3eと貫通孔2dの内壁との間に金属めっき液が浸透して金属めっきが充填されることにより、導電性、熱伝導性が高まると共に貫通孔2d内での金属ブロック3の固定が強固となる。特に、貫通孔2dの凹凸条部2f又は金属ブロック3のテーパ面の溝部3eは、側方向の表面積が多くなるので、金属めっきが貫通孔2d内に金属めっきを充填することで保持力が増加し、金属ブロック3がより強固に貫通孔2d内に固定されることになる。   Further, the metal plating solution penetrates between the groove portion 3e of the metal block 3 and the inner wall of the through hole 2d to fill the metal plating, so that the conductivity and thermal conductivity are increased and the metal in the through hole 2d is increased. The block 3 is firmly fixed. In particular, since the uneven surface portion 2f of the through hole 2d or the groove portion 3e of the tapered surface of the metal block 3 has a larger surface area in the lateral direction, the metal plating fills the through hole 2d with the metal plating to increase the holding force. As a result, the metal block 3 is more firmly fixed in the through hole 2d.

金属めっき層4には、ニッケル及び銀から成る群から選択される少なくとも一種の金属から成ることが望ましく、金属めっき層4をこれらの金属とすると、腐蝕に対する保護効果が有効に発揮される。また、金属めっき層4の厚さは特に限定されないが、1.0〜10μmであることが望ましい。1.0μmよりも小さいと、ハンドリングの際に表面導電層2bが破壊され易くなり、不良率が増加する。また、10μmよりも大きいと、電子部品搭載用基板1を曲げて使用する際に、金属めっき層4や表面導電層2bから圧縮応力が大きく掛かるため、絶縁層2aが破壊され易くなる。   The metal plating layer 4 is preferably made of at least one metal selected from the group consisting of nickel and silver. When the metal plating layer 4 is made of these metals, a protective effect against corrosion is effectively exhibited. Moreover, although the thickness of the metal plating layer 4 is not specifically limited, It is desirable that it is 1.0-10 micrometers. When it is smaller than 1.0 μm, the surface conductive layer 2b is easily broken during handling, and the defect rate increases. On the other hand, when the thickness is larger than 10 μm, when the electronic component mounting board 1 is bent and used, a compressive stress is applied from the metal plating layer 4 and the surface conductive layer 2b, so that the insulating layer 2a is easily broken.

また、発光素子Pは金属ブロック3上の金属めっき層4の上に実装されているので、金属ブロック3は発光素子Pからの発熱を電子部品搭載用基板1の裏面導電層2cに伝熱するための経路としての役割を果たす。従って、発光素子Pからの発熱は金属ブロック3を介して電子部品搭載用基板1の裏面で放熱され易くなる。   Further, since the light emitting element P is mounted on the metal plating layer 4 on the metal block 3, the metal block 3 transfers heat generated from the light emitting element P to the back surface conductive layer 2c of the electronic component mounting substrate 1. To serve as a route for Therefore, heat generated from the light emitting element P is easily radiated on the back surface of the electronic component mounting substrate 1 through the metal block 3.

しかし、金属めっき層4を形成するだけでは、金属めっき層4の表面に酸化皮膜が生じ、電子部品搭載用基板1に発光素子Pを搭載する際に、金属ブロック3と発光素子Pとの間の電気的接続が劣化し易くなる。そこで、金属めっき層4の酸化皮膜を除去し、金属めっき層4上に金(Au)めっき層5を積層すると、金(Au)が例えばニッケルから成る金属めっき層4の酸化を防止するので、金属ブロック3と発光素子Pとの間の電気的接続の劣化が防止される。   However, when only the metal plating layer 4 is formed, an oxide film is formed on the surface of the metal plating layer 4, and when the light emitting element P is mounted on the electronic component mounting substrate 1, the metal block 3 and the light emitting element P are interposed. The electrical connection is likely to deteriorate. Therefore, when the oxide film of the metal plating layer 4 is removed and the gold (Au) plating layer 5 is laminated on the metal plating layer 4, the gold (Au) prevents oxidation of the metal plating layer 4 made of nickel, for example. The deterioration of the electrical connection between the metal block 3 and the light emitting element P is prevented.

ニッケルから成る金属めっき層4の酸化皮膜の除去は、通常用いられるニッケル酸化皮膜除去剤を用いて行うことができ、ニッケル酸化皮膜除去剤としては従来公知の薬剤を用いることができる。また、金めっき層5は無電解金めっき液を用いて形成することが望ましい。   The removal of the oxide film of the metal plating layer 4 made of nickel can be performed using a commonly used nickel oxide film remover, and a conventionally known agent can be used as the nickel oxide film remover. The gold plating layer 5 is preferably formed using an electroless gold plating solution.

この金めっき層5の厚さは特に限定されないが、0.5〜3.0μmであることが望ましい。0.5μmよりも小さいと、厚さが小さ過ぎるため金属めっき層4の酸化を防止することができない。また、金は柔らかい金属なので変形し易く、3.0μmよりも大きいと、変形した際に周囲に広がって圧縮応力を発生させるため、剥離などの原因となる虞れがある。   The thickness of the gold plating layer 5 is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 3.0 μm. If the thickness is smaller than 0.5 μm, the metal plating layer 4 cannot be prevented from being oxidized because the thickness is too small. Further, since gold is a soft metal, it is easily deformed. If it is larger than 3.0 μm, it spreads to the surroundings when it is deformed and generates compressive stress, which may cause peeling.

このように、金属ブロック3の表面には金属めっき層4を形成し、更に金属めっき層4の上層に金めっき層5を形成することが望ましい。   Thus, it is desirable to form the metal plating layer 4 on the surface of the metal block 3 and further form the gold plating layer 5 on the metal plating layer 4.

発光素子Pは発熱量が多く、熱劣化し易い電子部品であるが、本実施例の電子部品搭載用基板1は放熱性に優れている。従って、この基板1を面実装型の電子部品である発光素子P等を搭載するために用いると、発光素子P等からの発熱を良好に放熱することができ、更には発光素子Pの熱劣化を防止することができる。   The light-emitting element P is an electronic component that generates a large amount of heat and is easily deteriorated by heat. However, the electronic component mounting substrate 1 of this embodiment is excellent in heat dissipation. Therefore, when this substrate 1 is used for mounting the light emitting element P or the like which is a surface mount type electronic component, the heat generated from the light emitting element P or the like can be radiated well, and further, the thermal degradation of the light emitting element P is achieved. Can be prevented.

電子部品搭載用基板1を発光素子Pを搭載するために用いる場合には、金めっき層5の形成後に、図7に示すように表面導電層2b側の金めっき層5を除く最表面に、光反射層6を形成することが望ましい。また、発光素子Pを保護する目的で、電子部品搭載用基板1及び発光素子Pを透明な例えばアクリル樹脂(PMMA)、ポリカーボネイト(PC)、ガラス等から成る透明カバー7により覆うことが有効である。   When the electronic component mounting substrate 1 is used for mounting the light emitting element P, after the gold plating layer 5 is formed, the outermost surface excluding the gold plating layer 5 on the surface conductive layer 2b side as shown in FIG. It is desirable to form the light reflecting layer 6. For the purpose of protecting the light emitting element P, it is effective to cover the electronic component mounting substrate 1 and the light emitting element P with a transparent cover 7 made of a transparent material such as acrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), or glass. .

光反射層6の構成材料は特に限定されないが、酸化チタンを顔料として含む電気絶縁層であることが望ましく、酸化チタンを顔料に含むソルダーレジスト層であることがより好適である。酸化チタンは白色顔料であり、酸化チタンを含む光反射層6は光を良好に反射する。また、光反射層6が酸化チタンを顔料に含むソルダーレジスト層であると、同時にソルダーレジストとしても機能する。   The constituent material of the light reflecting layer 6 is not particularly limited, but is preferably an electrical insulating layer containing titanium oxide as a pigment, and more preferably a solder resist layer containing titanium oxide in the pigment. Titanium oxide is a white pigment, and the light reflecting layer 6 containing titanium oxide reflects light well. Moreover, when the light reflection layer 6 is a solder resist layer containing titanium oxide in a pigment, it also functions as a solder resist.

光反射層6の厚さは50〜300μmであることが好ましい。50μmよりも小さいと、発光素子Pの発熱の放散が十分でなく、熱劣化が進行してクラックや欠損が生じ易い。また、300μmよりも大きいと、基板を屈曲などして利用する際に、光反射層6が曲げによる変形に追従できなくなり、クラックが生ずる可能性がある。   The thickness of the light reflecting layer 6 is preferably 50 to 300 μm. When the thickness is less than 50 μm, the heat dissipation of the light emitting element P is not sufficient, and the thermal deterioration proceeds and cracks and defects are likely to occur. On the other hand, if it is larger than 300 μm, when the substrate is bent and used, the light reflecting layer 6 cannot follow the deformation caused by the bending, which may cause a crack.

光反射層6を備える電子部品搭載用基板1では、発光素子Pが発光すると、大部分の光は透明カバー7を透過することになるが、一部の光は透明カバー7により内反射され、発光素子P側に戻り熱がこもり易くなる。表面導電層2b側の最表面に光反射層6が形成されていると、透明カバー7で反射された光を再度、透明カバー7側に反射し、輝度を高めると共に熱放散を助長する。   In the electronic component mounting substrate 1 including the light reflecting layer 6, when the light emitting element P emits light, most of the light is transmitted through the transparent cover 7, but a part of the light is internally reflected by the transparent cover 7, Returning to the light emitting element P side makes it easy for the heat to accumulate. When the light reflecting layer 6 is formed on the outermost surface on the surface conductive layer 2b side, the light reflected by the transparent cover 7 is reflected again to the transparent cover 7 side, thereby increasing the luminance and promoting heat dissipation.

図8は実施例2の電子部品搭載用基板の模式的断面図であり、絶縁層2aには表面導電層2bのみを設け、裏面導電層2cは設けていない。また、金属ブロック3も基材部2’の厚みに対応したものを用いている。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the electronic component mounting substrate of Example 2. Only the front surface conductive layer 2b is provided on the insulating layer 2a, and the back surface conductive layer 2c is not provided. The metal block 3 also corresponds to the thickness of the base material portion 2 '.

この基材部2’を用いて製造した電子部品搭載用基板1は、裏面導電層2cが存在しないために、製造工程が簡略化されるが、裏面導電層2cによる電気回路パターンが形成されないのでその汎用性は低下する。また、発光素子Pからの発熱を金属ブロック3’を経由して、電子部品搭載用基板1の裏面への伝熱がさほど有効ではないという不利があるが、このことが問題とならない使用状態であれば、さほどの支障はない。   Since the back surface conductive layer 2c does not exist in the electronic component mounting board 1 manufactured using the base material portion 2 ', the manufacturing process is simplified, but an electric circuit pattern is not formed by the back surface conductive layer 2c. Its versatility is reduced. Further, there is a disadvantage that heat transfer from the light emitting element P to the back surface of the electronic component mounting substrate 1 via the metal block 3 ′ is not so effective. If there is, there is not much trouble.

1 電子部品搭載用基板
2、2’ 基材部
2a 絶縁層
2b 表面導電層
2c 裏面導電層
2d 貫通孔
2f 凹凸条部
3、3’ 金属ブロック
3a 金属板
3b V溝
3c 小径部面
3d 大径部面
3e 溝部
4 金属めっき層
5 金めっき層
6 光反射層
7 透明カバー
G 取付治具
G4 キャビティ
G5 粘着性部材
P 発光素子
T 押込治具
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electronic component mounting board 2, 2 'Base material part 2a Insulating layer 2b Surface conductive layer 2c Back surface conductive layer 2d Through-hole 2f Concavity and convexity part 3, 3' Metal block 3a Metal plate 3b V groove 3c Small diameter part surface 3d Large diameter Part surface 3e Groove part 4 Metal plating layer 5 Gold plating layer 6 Light reflection layer 7 Transparent cover G Mounting jig G4 Cavity G5 Adhesive member P Light emitting element T Pushing jig

Claims (10)

金属板に金属ブロックを分離するためのV溝を形成する金属ブロック加工工程と、
樹脂板から成る絶縁層の少なくとも表面側に導電層を有する基材部に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記金属板のV溝の開口側から前記基材部の表面側の前記貫通孔に対して前記金属ブロックを分離し、前記貫通孔内に挿嵌する金属ブロック挿嵌工程と、から成り、
前記V溝は、断続的に照射するレーザー加工法で形成し、前記金属ブロックの側面に上下方向に沿って溝部を形成することを特徴とする電子部品搭載用基板の製造方法。
A metal block processing step for forming a V-groove for separating the metal block in the metal plate;
A through-hole forming step of forming a through-hole in a base material having a conductive layer on at least the surface side of an insulating layer made of a resin plate;
The metal plate separating the metal block from the opening side of the V groove to the through-hole on the surface side of the base portion of the metal block inserted step is inserted in the through-hole, Ri consists,
The V-groove is formed by laser processing intermittently irradiated, a method of manufacturing an electronic component mounting board, characterized that you form a groove along the vertical direction on the side surface of the metal block.
前記金属ブロック挿嵌工程は、前記貫通孔と前記金属ブロックとが重なるように前記基材部と前記金属板とを重ね合わせ、前記金属ブロックの位置に対応した押込治具を用いて、前記基材部に重ね合わせた金属板を打ち抜くことで前記金属ブロックを前記金属板から分離し、前記貫通孔内に前記金属ブロックを挿嵌することを特徴とする請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 In the metal block insertion step, the base portion and the metal plate are overlapped so that the through hole and the metal block overlap with each other, and a pressing jig corresponding to the position of the metal block is used. separating the metal block from the metal plate by punching a metal plate superposed on wood part, electronic component mounting according to claim 1, characterized by inserting the metal block into the through hole A method for manufacturing a substrate. 前記金属ブロック挿嵌工程は、前記V溝を形成した前記金属板から前記金属ブロックを分離した後に、取付治具により前記金属ブロックを前記基材部の貫通孔内に押し込むことにより、前記金属ブロックを前記貫通孔内に挿嵌することを特徴とする請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 In the metal block insertion step, the metal block is separated from the metal plate in which the V-groove is formed, and then the metal block is pushed into a through hole of the base material portion by an attachment jig, thereby The method for manufacturing an electronic component mounting board according to claim 1 , wherein the electronic component mounting board is inserted into the through hole. 前記取付治具は、前記金属ブロックを保持するキャビティを有することを特徴とする請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The said mounting jig has a cavity holding the said metal block, The manufacturing method of the electronic component mounting board | substrate of Claim 3 characterized by the above-mentioned. 前記取付治具は、前記金属ブロックを粘着性部材により保持することを特徴とする請求項3又は4に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component mounting board according to claim 3 or 4 , wherein the mounting jig holds the metal block by an adhesive member. 前記金属ブロック挿嵌工程の後に、前記金属ブロックと前記導電層とを金属めっきにより電気的に接続する金属めっき工程を有することを特徴とする請求項1〜5の何れか1つの請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 After the metal block inserting step, wherein the said conductive layer and the metal block in any one of claims 1-5, characterized in that it comprises a metal plating step of electrically connecting the metal plating Manufacturing method for electronic component mounting board. 前記金属ブロック加工工程は、一方の面の径が前記貫通孔の表面側の径よりも小さく、他方の面の径が前記貫通孔の裏面側の径よりも大きいテーパ状の金属ブロックを分離するためのV溝を形成することを特徴とする請求項1〜6の何れか1つの請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The metal block processing step separates a tapered metal block having a diameter on one side smaller than a diameter on the front side of the through hole and a diameter on the other side larger than a diameter on the back side of the through hole. A V-groove for forming the electronic component mounting substrate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the V-groove is formed. 前記貫通孔形成工程は、前記基材部の表面側から裏面側に向けて水平断面積が小さくなるテーパ形状の貫通孔を形成することを特徴とする請求項1〜7の何れか1つの請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The through hole forming step, any one of claims claims 1 to 7, characterized by forming a through hole of a tapered shape in which the horizontal cross sectional area becomes smaller toward the rear side from the front surface side of the base portion The manufacturing method of the electronic component mounting board | substrate as described in a term. 前記金属ブロックは、四角錘台状としたことを特徴とする請求項1〜8の何れか1つの請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The metal blocks, method for manufacturing the electronic component carrier according to any one of claims 1 to 8, characterized in that a truncated quadrangular pyramid shape. 前記貫通孔は、開口縁部が四角形状としたことを特徴とする請求項1〜9の何れか1つの請求項に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。 The method for manufacturing a substrate for mounting electronic parts according to any one of claims 1 to 9 , wherein the through hole has a rectangular opening edge.
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