JP6548374B2 - 低真空用荷電粒子線装置 - Google Patents
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・アパチャー上:0.25mmΦ
・アパチャー下:0.5mmΦ
・チャンバー :95Pa
・MCP室 :1.3×10-3
が実験で得られた。即ち、図1、図2の差動排気アパチャー11の上の穴が0.25mmΦ、下の穴が0.5mmΦの場合に、真空チャンバー9(低真空側)の真空度が95Pa(約100Pa)であり、MCP室(高真空側)の真空度が1.3×10-3(約1mPa)が得られたこととなる。尚、下の穴と上の穴との間隔は数mmである。
このようにすることで、放電を避けてリターディング法を実行することが出来る。
2:1次電子
3:コンデンサレンズ
4:ブランキング電極
5:ブランキングアパチャー
6:電子検出器
7:偏向器
8:対物レンズ
81:ポールピース
9:真空チャンバー
10:圧力センサ
11:差動排気アパチャー
12:サンプル
13:XYステージ
14;TMP
15:マスフロー
16:GAS
17:ブースタ電極
18:絶縁体
21:アノード電圧
22:ブースタ電圧
23:ブランキング電圧
24:サンプル電圧
31:下部電極
32、36:減速電極
33、34:絶縁体
Claims (7)
- サンプルに照射する荷電粒子をリターディング電圧により減速して当該サンプルに照射しつつ走査してそのときに放出された2次荷電粒子あるいは反射荷電粒子を検出するリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置において、
荷電粒子を発生させる荷電粒子線源と、
前記荷電粒子線源で発生された荷電粒子を、加速する加速電圧と、
前記加速電圧で加速された荷電粒子を、細く絞って前記サンプル面に照射する対物レンズと、
前記対物レンズで前記サンプル面に細く絞って照射される荷電粒子を、当該サンプル面上で平面走査させる偏向走査系と、
前記細く絞った荷電粒子を前記サンプルに照射しつつ平面走査したときに放出された2次荷電粒子あるいは反射荷電粒子を検出する検出器とを高真空側に設け、
前記サンプルを収納して所定低真空に保持し、チャージを中和するための真空チャンバーを低真空側に設け、
前記低真空側と前記高真空側との間に、中心に穴を配置した、該低真空側に面して第1のアパチャーおよび該高真空側に面して第2のアパチャーを隣接して設け、
前記第1のアパチャーに、前記加速電圧で加速されて細く絞られた荷電粒子を減速する前記サンプルに対して負のリターディング電圧を印加して荷電粒子線を減速して前記サンプルに照射すると共に、前記細く絞った荷電粒子を前記サンプルに照射しつつ平面走査したときに放出された2次荷電粒子あるいは反射荷電粒子を、前記検出器で検出することを特徴とするリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。 - 前記第1のアパチャーと前記第2のアパチャーとの間の空間を差動排気することを特徴とする請求項1に記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
- 前記第1のアパチャーを前記対物レンズの下極、および前記第2のアパチャーを前記対物レンズの上極に連結し、当該第1のアパチャーと第2のアパチャーとの間の空間を差動排気することを特徴とする請求項1から請求項2のいずれかに記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
- 前記第1のアパチャーと前記第2のアパチャーとの間を高抵抗材料で連結し、汚染などしたことによる放電の影響を軽減したことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
- 前記第2のアパチャーの荷電粒子線源側に円筒状の電極を設け、前記加速電圧で加速された荷電粒子線を更に加速する正のブースタ電圧を印加したことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
- 前記第1のアパチャーに前記負のリターディング電圧を印加する代わりに、前記第2のアパチャーに前記負のリターディング電圧を印加、あるいは前記第1アパチャーと前記第2のアパチャーの両者に前記負のリターディング電圧を印加したことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
- 前記検出器に2次荷電粒子あるいは反射荷電粒子を吸引する電圧を印加したことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載のリターディング電圧を用いた荷電粒子線装置。
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