JP6544930B2 - Projection control apparatus, projection control method and program - Google Patents

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Description

本発明は投影制御装置、投影制御方法及びプログラムに関する。 The present invention relates to a projection control apparatus, a projection control method, and a program.

複数のプロジェクタからの投影画像を投写面にタイリング投写するマルチプロジェクションディスプレイが知られている。このようなマルチプロジェクションディスプレイにおいては、各投影画像の投写面上での位置調整の精度が投影画像の品質に大きな影響を与える。   There is known a multi-projection display that performs tiling projection of projection images from a plurality of projectors on a projection plane. In such a multi-projection display, the accuracy of the adjustment of the position of each projection image on the projection plane greatly affects the quality of the projection image.

そこで、複数の投影装置から投射する調整用画像をカメラで撮影し、評価値を算出し、算出した評価値に基づいて投影画像の位置調整をする技術がある（特許文献１）。
また、可視および非可視画像を同時に投影し、投影システムをオフラインにすることなく複合型表示装置の自動較正のための非可視較正パターンを監視することで、連続自動調整する技術がある（特許文献２）。 Therefore, there is a technique of capturing an adjustment image projected from a plurality of projection devices with a camera, calculating an evaluation value, and adjusting the position of the projection image based on the calculated evaluation value (Patent Document 1).
In addition, there is a technique for continuously and automatically adjusting visible and non-visible images simultaneously by monitoring non-visible calibration patterns for automatic calibration of a composite display without taking the projection system offline (patent document 2).

特開２００７−０４３２７４号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-043274 特開２０１１−２１１６９３号公報JP, 2011-211693, A

特許文献１で開示された技術は、位置調整をするために各プロジェクタから投影位置を調整するためにテストパターンを投影し、前記投影画像を撮像し、位置調整をする。そのため、プロジェクタの投影位置がずれた場合、位置調整する度に一旦コンテンツ画像の投影を中断しなくてはいけないという課題がある。   In the technique disclosed in Patent Document 1, a test pattern is projected to adjust a projection position from each projector in order to perform position adjustment, and the projection image is captured and adjusted. Therefore, when the projection position of the projector is shifted, there is a problem that the projection of the content image has to be interrupted once every position adjustment.

また、特許文献２で開示された技術は、非可視(赤外線)光を用いてテストパターンを投射する。そのため、非可視光パターンを投影及び検出するための装置が必要になってしまうという課題がある。
本発明は前述の問題点に鑑み、より簡潔な構成で、コンテンツ画像の投影を中断しないで位置調整を行うことができるようにすることを特徴とする。 Further, the technology disclosed in Patent Document 2 projects a test pattern using nonvisible (infrared) light. Therefore, there is a problem that an apparatus for projecting and detecting a non-visible light pattern is required.
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, the present invention is characterized in that the position adjustment can be performed without interrupting the projection of the content image with a simpler configuration.

本発明の投影制御装置は、第１投影装置と、前記第１投影装置による投影領域と一部重複するように画像を投影する第２投影装置とを制御する投影制御装置であって、前記第１投影装置及び前記第２投影装置それぞれに投影させる画像を入力する入力手段と、前記第１投影装置及び前記第２投影装置の投影領域が重複する重複領域における基準ゲインパターンそれぞれに、前記重複領域の部分領域に所定のゲインパターンを付与する付与手段と、前記入力手段から入力された画像それぞれと、前記付与手段から得られるゲインパターンそれぞれとに基づいて、前記第１投影装置に投影させる第１画像と、前記第２投影装置に投影させる第２画像とを生成し、前記第１投影装置と前記第２投影装置それぞれに投影させる制御手段とを有し、前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において所定の位置関係となるよう投影されている場合には、前記部分領域と前記部分領域以外の領域との境界は視認できず、前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において前記所定の位置関係となるよう投影されていない場合には、少なくとも前記第１画像および前記第２画像いずれか一方における前記境界は視認できることを特徴とする。 A projection control apparatus according to the present invention is a projection control apparatus that controls a first projection apparatus and a second projection apparatus that projects an image so as to partially overlap with a projection area of the first projection apparatus, input means for inputting an image to be projected on the 1, respectively projector and the second projector each reference gain pattern in the overlap region where the projection area of the first projection device and the second projection device overlap, the overlap region A projection unit configured to project the first projection device based on an application unit that applies a predetermined gain pattern to the partial region of each of the first image, the image input from the input unit, and the gain pattern obtained from the application unit; A control unit configured to generate an image and a second image to be projected by the second projection device, and to cause the first projection device and the second projection device to project the image; When one image and the second image are projected to have a predetermined positional relationship in the overlapping region, the boundary between the partial region and the region other than the partial region can not be visually recognized, and the first image and the first image When the second image is not projected so as to have the predetermined positional relationship in the overlapping area, at least the boundary in any one of the first image and the second image can be visually recognized.

本発明によれば、逆位相パターンを重畳領域に投影することでコンテンツ画像を投影中でもずれ検出が容易となる。そのため、コンテンツ画像の投影を中断することなくマルチプロジェクションシステムの自動位置調整を行うことが可能となる。   According to the present invention, by projecting the antiphase pattern on the overlapping area, the shift detection becomes easy even during projection of the content image. Therefore, it is possible to perform automatic positioning of the multi-projection system without interrupting the projection of the content image.

第１の実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing a schematic structure of a multi projection display in a 1st embodiment. 第１の実施形態における逆位相パターン付与前後の階調値特性を説明する図である。It is a figure explaining the gradation value characteristic before and behind reverse phase pattern grant in a 1st embodiment. 第１の実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの位置ずれ検出及び調整手順を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining position shift detection and adjustment procedure of a multi projection display in a 1st embodiment. 投影位置ずれ発生時の階調値特性を説明する図である。It is a figure explaining the gradation value characteristic at the time of projection position gap generating. 第２の実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the multi projection display in 2nd Embodiment. 第３の実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the multi projection display in 3rd Embodiment. 第３の実施形態における投影位置ずれ検出/調整処理実施組合せ順序を説明する図である。It is a figure explaining the projection position shift detection / adjustment process implementation combination order in 3rd Embodiment. 第３の実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの位置ずれ検出及び調整手順を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining position shift detection and adjustment procedure of a multi projection display in a 3rd embodiment.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
［第１の実施形態］
図１は、本発明の実施形態に関わる２つの投影装置でのマルチプロジェクションディスプレイの概略構成の一例を示す図である。本構成図において、１０は情報処理装置、２０Ａ及び２０Ｂは投影装置である。また、３０は撮像装置、４０はマルチ投影画像、５０はテストパターン付与領域である。投影装置２０Ａ、２０Ｂは、所定の重畳領域を持って投射する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.
First Embodiment
FIG. 1 is a view showing an example of a schematic configuration of a multi-projection display in two projectors according to an embodiment of the present invention. In the configuration diagram, 10 is an information processing apparatus, and 20A and 20B are projection apparatuses. Reference numeral 30 denotes an imaging device, 40 denotes a multi-projection image, and 50 denotes a test pattern application area. The projection devices 20A and 20B project with a predetermined overlapping area.

重畳領域は、所謂エッジブレンド技術で輝度が均一になるようにブレンドする。これにより、複数の投影装置で１枚のシームレスな画像となるように投射可能とする。
また、情報処理装置１０は入力部１００、補正部２００、付与部３００、および算出部４００で構成される。 The overlapping regions are blended so that the brightness is uniform by so-called edge blending technology. By this, it is possible to project so as to be one seamless image with a plurality of projectors.
Further, the information processing apparatus 10 includes an input unit 100, a correction unit 200, an application unit 300, and a calculation unit 400.

入力部１００は、各投影装置２０Ａ、２０Ｂが投射する画像を送出するものである。送出される画像は、マルチスクリーン画面における所定の重複領域を考慮して予め投射用に分割されている。あるいは、調整状況に応じて重複領域を考慮して分割した画像を送出可能なものでもよい。   The input unit 100 transmits an image projected by each of the projection devices 20A and 20B. The image to be transmitted is divided in advance for projection in consideration of a predetermined overlapping area on the multiscreen screen. Alternatively, it may be possible to send out an image divided in consideration of the overlapping area according to the adjustment situation.

付与部３００は、各投影装置への投影画像における重畳領域の任意の箇所に、少なくとも１つ以上の逆位相パターンを付与する。例えば、図２（Ａ）に全白画像を投射した場合の投影装置２０Ａの階調特性を２１Ａ、投影装置２０Ｂの階調特性を２１Ｂ、マルチ投影画像としての階調特性を２１Ｃに示す。   The application unit 300 applies at least one or more anti-phase patterns to any part of the overlapping area in the projection image on each projector. For example, FIG. 2A shows the gradation characteristics 21A of the projection apparatus 20A, the gradation characteristics 21B of the projection apparatus 20B, and 21C the gradation characteristics as a multi-projection image when the all white image is projected.

この階調特性に対し、重畳領域に本発明の逆位相パターンを付加した階調特性を図２（Ｂ）に示す。
図２（Ｂ）において、投影装置２０Ａの重畳領域において任意のテストパターン付与領域５０に有意な階調パターンを加算した階調特性を２１Ｄに示す。
もう一方の投影装置２０Ｂの重畳領域において階調特性２１Ｂの任意のテストパターン付与領域５０に有意な階調パターンを減算した階調特性を２１Ｅに示す。ここで、投影装置２０Ａおよび投影装置２０Ｂに付与する階調パターンは同一である。 A gradation characteristic obtained by adding the antiphase pattern of the present invention to the superposition region is shown in FIG.
In FIG. 2B, a gradation characteristic 21D is obtained by adding a significant gradation pattern to an arbitrary test pattern providing area 50 in the overlapping area of the projection device 20A.
A gradation characteristic obtained by subtracting a significant gradation pattern from an arbitrary test pattern providing area 50 of the gradation characteristic 21B in the overlapping area of the other projection device 20B is shown by 21E. Here, the gradation patterns applied to the projection device 20A and the projection device 20B are the same.

このように、投影装置２０Ａの重畳領域では階調パターンを加算し、投影装置２０Ｂの重畳領域では階調パターンを減算することで、マルチ投影画像４０では付与した階調パターンが相殺される。そのため、２つの投影画像の位置が所定の関係となるように調整が正しくされた状態では階調パターンは非可視となる。なお、本実施形態では階調パターンを加算／減算するとしたが、これに限らずパターン付与領域の階調値をマルチ投影時に投影画像が同じになるように階調にゲインを掛けるようにしてもよい。   As described above, the gradation pattern is added in the overlapping area of the projection device 20A, and the gradation pattern is subtracted in the overlapping area of the projection device 20B, whereby the applied gradation pattern is canceled in the multi-projection image 40. Therefore, the gradation pattern becomes invisible in a state in which the positions of the two projected images are correctly adjusted so as to have a predetermined relationship. In the present embodiment, the gradation pattern is added / subtracted. However, the present invention is not limited to this, even if gain is applied to the gradation so that the projected image becomes the same at the time of multi projection. Good.

撮像装置３０は、投影装置２０Ａ及び２０Ｂが投射したマルチ投影画像４０を撮像する。撮像された撮像画像を算出部４００に取り込む。ここで、撮像装置３０はマルチ投影画像全体を撮像可能な一台で構成するように記載しているが、これに限るものではない。例えば、投影装置２０Ａ及び２０Ｂそれぞれの投影画像とその周辺を撮像可能な複数の撮像装置とすることも可能である。この場合、それぞれの撮像装置で撮影された撮像画像を算出部４００に取り込む。   The imaging device 30 captures the multi-projection image 40 projected by the projection devices 20A and 20B. The captured image captured is taken into the calculation unit 400. Here, although the imaging device 30 is described as being configured as one unit capable of imaging the entire multi-projection image, the present invention is not limited to this. For example, it is also possible to use a plurality of imaging devices capable of imaging the projected images of the projection devices 20A and 20B and the periphery thereof. In this case, captured images captured by the respective imaging devices are taken into calculation unit 400.

算出部４００は、入力部１００から取得した入力画像を期待値として、撮像装置３０で取得された逆位相パターンを付与された投影画像と対応する画素の階調を比較し、比較した結果に基づいて投射位置のずれ検出とずれ量を算出する機能を有している。
補正部２００は、算出部４００で算出された評価値に基づいて、各投影装置２０Ａ、２０Ｂの投射位置を調整する機能を有している。 The calculation unit 400 compares the gradations of corresponding pixels with the projection image provided with the antiphase pattern acquired by the imaging device 30 using the input image acquired from the input unit 100 as an expected value, and based on the comparison result It has a function of detecting the deviation of the projection position and calculating the deviation amount.
The correction unit 200 has a function of adjusting the projection position of each of the projection devices 20A and 20B based on the evaluation value calculated by the calculation unit 400.

本構成におけるマルチプロジェクションディスプレイの位置ずれ検出及び調整フローを図３のフローチャートに示す。このフローチャートの処理は、不揮発性メモリ（不図示）に記録されたプログラムをワークメモリ（不図示）に展開してＣＰＵ（不図示）が実行することで実現する。
まず、Ｓ３００において、ＣＰＵはマルチ投影画像の重畳領域内の任意の領域に逆位相パターンを付与し、各投影装置２０Ａ、２０Ｂに投影させる。
Ｓ３０１では、この逆位相パターンが付与されたマルチ投影画像の撮像データを撮像装置３０より取得する。 The flow of misregistration detection and adjustment of the multi-projection display in this configuration is shown in the flowchart of FIG. The processing of this flowchart is realized by expanding a program stored in a non-volatile memory (not shown) into a work memory (not shown) and executing it by a CPU (not shown).
First, in S300, the CPU applies an antiphase pattern to an arbitrary area in the overlapping area of the multi-projection image, and causes the projection apparatuses 20A and 20B to project.
In S301, the imaging data of the multi-projection image to which this antiphase pattern is given is acquired from the imaging device 30.

Ｓ３０２において、ＣＰＵは撮像データと入力部１００から取得した入力画像データを期待値とし、各対応する階調データを比較する。
Ｓ３０３において、ＣＰＵは階調データの一致確認を行い、不一致であった場合Ｓ３０４へ進む。ここで、不一致であった場合、逆位相のテストパターン付与領域５０において、ずれた分だけ階調値が期待値より低下もしくは上昇した画素が生じる。 In step S302, the CPU takes the imaging data and the input image data acquired from the input unit 100 as expected values, and compares the corresponding gradation data.
In S303, the CPU confirms whether the gradation data match, and if it does not match, the CPU proceeds to S304. Here, in the case of non-coincidence, in the test pattern application region 50 of the opposite phase, there occurs pixels in which the gradation value is lower or higher than the expected value by the amount of deviation.

この様子を図４に示す。
図４において、４０Ａ、４０Ｂは投影装置２０Ａ、２０Ｂの投影画像、５０Ａ、５０Ｂは２つの投影装置のそれぞれのテストパターン付与領域を示す。また、２１Ｅは投影位置のずれた投影画像４０Ｂの階調特性、２１Ｆはマルチ投影の階調特性である。
Ｓ３０４において、ＣＰＵは階調値が変化した画素を検出する。 This situation is shown in FIG.
In FIG. 4, reference numerals 40A and 40B denote projected images of the projectors 20A and 20B, and reference numerals 50A and 50B denote test pattern application areas of the two projectors. Further, 21E is the gradation characteristic of the projection image 40B shifted in the projection position, and 21F is the gradation characteristic of multi-projection.
In S304, the CPU detects a pixel whose tone value has changed.

次に、Ｓ３０５において、ＣＰＵはずれが生じた画素から、x方向、ｙ方向それぞれのずれ量を算出する。
Ｓ３０６において、ＣＰＵはＳ３０５で算出したずれ量から投影装置の投影位置を適宜調整する。 Next, in S305, the CPU calculates the amount of deviation in each of the x direction and the y direction from the pixel in which the deviation has occurred.
In S306, the CPU appropriately adjusts the projection position of the projection apparatus from the shift amount calculated in S305.

Ｓ３０３で一致であった場合、ＣＰＵはＳ３０４〜Ｓ３０６の処理を行わないで、そのままの投影状態を維持する。
ここまで説明したＳ３０１からＳ３０６を任意の時間間隔で繰り返す。これにより、シームレスな投影状態を維持する。 If they match in S303, the CPU does not perform the processing in S304 to S306, and maintains the projection state as it is.
S301 to S306 described so far are repeated at arbitrary time intervals. This maintains a seamless projection.

以上説明したように、本実施形態ではマルチ投影の重畳領域に逆位相パターンを付与する。これにより、コンテンツ画像を投影中でもずれ検出が容易となる。そのため、コンテンツ画像の投影を中断することなくマルチプロジェクションシステムの自動位置調整が実現可能となる。   As described above, in the present embodiment, the antiphase pattern is applied to the overlapping region of multi-projection. Thereby, the shift detection becomes easy even while projecting the content image. Therefore, automatic position adjustment of the multi-projection system can be realized without interrupting the projection of the content image.

［第２の実施形態］
図５は、本発明の第２の実施形態に関わる２つの投影装置でのマルチプロジェクションディスプレイの概略構成の一例を示すブロック図である。
図５において、１１は情報処理装置、２１０Ａ及び２１０Ｂは投影装置、３０は撮像装置である。また、４０はマルチ投影画像、５０はテストパターン付与領域である。投影装置２１０Ａ、２１０Ｂは、所定の重畳領域を持って投射する。重畳領域は、所謂エッジブレンド技術で輝度が均一になるようにブレンドする。これにより、複数の投影装置で１枚のシームレスな画像となるように投射可能とする。以下、第１の実施形態で説明した構成要素と同様な構成要素については説明を省略する。 Second Embodiment
FIG. 5 is a block diagram showing an example of a schematic configuration of a multi-projection display in two projectors according to a second embodiment of the present invention.
In FIG. 5, 11 is an information processing apparatus, 210A and 210B are projection apparatuses, and 30 is an imaging apparatus. Also, 40 is a multi-projection image, and 50 is a test pattern application area. The projection devices 210A and 210B project with a predetermined overlapping area. The overlapping regions are blended so that the brightness is uniform by so-called edge blending technology. By this, it is possible to project so as to be one seamless image with a plurality of projectors. Hereinafter, the description of the same components as the components described in the first embodiment will be omitted.

情報処理装置１１は入力部１０１、補正部２０１と算出部４０１で構成される。入力部１０１と算出部４０１は、第１の実施形態で説明した入力部１００と算出部４００と同様なので説明を省略する。   The information processing apparatus 11 includes an input unit 101, a correction unit 201, and a calculation unit 401. The input unit 101 and the calculation unit 401 are similar to the input unit 100 and the calculation unit 400 described in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

補正部２０１は、算出部４０１で取得された評価値に基づいて、各投影装置２１０Ａ、２１０Ｂの投射位置を調整する機能とテストパターン付与領域５０へ逆位相パターンを付与するための制御パラメータ送出する機能を有している。投影装置２１０Ａ及び２１０Ｂは付与部３０１と投影部２１０で構成されている。   The correction unit 201 transmits the function of adjusting the projection position of each of the projection apparatuses 210A and 210B based on the evaluation value acquired by the calculation unit 401 and the control parameter for applying the antiphase pattern to the test pattern application region 50. It has a function. The projection devices 210 </ b> A and 210 </ b> B are configured by an application unit 301 and a projection unit 210.

付与部３０１は、情報処理装置１１から送出された制御パラメータを基に逆位相パターンを付与する機能を有している。制御パラメータはテストパターン付与領域５０の数および位置座標と付与するパターン情報を有している。
投影部２１０は、第１の実施形態で説明した投影装置２０Ａ及び２０Ｂと同等の機能を有している。
本実施形態におけるマルチプロジェクションディスプレイの位置ずれ検出及び調整フローは第１の実施形態と同様であるので、説明を省略する。 The assignment unit 301 has a function of assigning an antiphase pattern based on the control parameter sent from the information processing apparatus 11. The control parameters include the number of test pattern application areas 50 and position coordinates and pattern information to be applied.
The projection unit 210 has the same function as the projection devices 20A and 20B described in the first embodiment.
The positional deviation detection and adjustment flow of the multi-projection display in the present embodiment are the same as in the first embodiment, and thus the description will be omitted.

以上説明したように、本実施形態ではマルチ投影の重畳領域に逆位相パターンを付与する。これにより、コンテンツ画像を投影中でもずれ検出が容易となる。そのため、コンテンツ画像の投影を中断することなくマルチプロジェクションシステムの自動位置調整が実現可能となる。   As described above, in the present embodiment, the antiphase pattern is applied to the overlapping region of multi-projection. Thereby, the shift detection becomes easy even while projecting the content image. Therefore, automatic position adjustment of the multi-projection system can be realized without interrupting the projection of the content image.

［第３の実施形態］
図６は、本発明の第３の実施形態に関わる４つの投影装置で構成したマルチプロジェクションディスプレイの概略構成の一例を示すブロック図である。
図６において、１０は情報処理装置、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ及び２０Ｄは投影装置、３０は撮像装置である。また、４０はマルチ投影画像であり、４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ及び４０Ｄは４つの投影装置の各投影画像であり、５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃ、５０Ｄ及び５０Ｅはテストパターン付与領域である。４つの投影装置２０Ａ〜２０Ｄは、所定の重畳領域を持って投射する。 Third Embodiment
FIG. 6 is a block diagram showing an example of a schematic configuration of a multi-projection display configured by four projectors according to the third embodiment of the present invention.
In FIG. 6, 10 is an information processing apparatus, 20A, 20B, 20C and 20D are projection apparatuses, and 30 is an imaging apparatus. Also, 40 is a multi-projection image, 40A, 40B, 40C and 40D are respective projection images of four projectors, and 50A, 50B, 50C, 50D and 50E are test pattern application areas. The four projection devices 20A to 20D project with a predetermined overlapping area.

重畳領域は、所謂エッジブレンド技術で輝度が均一になるようにブレンドする。これにより、複数の投影装置で１枚のシームレスな画像となるように投射可能とする。なお、本実施形態のマルチプロジェクションディスプレイの構成要素は、投影装置の台数が増えたことを除き第１の実施形態と同じであるため説明を省略する。   The overlapping regions are blended so that the brightness is uniform by so-called edge blending technology. By this, it is possible to project so as to be one seamless image with a plurality of projectors. The components of the multi-projection display of the present embodiment are the same as those of the first embodiment except that the number of projection apparatuses is increased, and therefore the description thereof is omitted.

本構成におけるマルチプロジェクションディスプレイの位置ずれ検出及び調整フローを図８のフローチャートに示す。このフローチャートの処理は、不揮発性メモリ（不図示）に記録されたプログラムをワークメモリ（不図示）に展開してＣＰＵ（不図示）が実行することで実現する。
まず、Ｓ８０１において、ＣＰＵは調整対象となる隣接する２つの投影装置を決定する。本実施形態では、図７（１）から（４）に示す順番とする。例えば、図７（１）では、対象投影装置は２０Ａ及び２０Ｂの投影画像４０Ａ及び４０Ｂである。なお、順番の決め方はこれに限るものではない。 The flow of misregistration detection and adjustment of the multi-projection display in this configuration is shown in the flowchart of FIG. The processing of this flowchart is realized by expanding a program stored in a non-volatile memory (not shown) into a work memory (not shown) and executing it by a CPU (not shown).
First, in S801, the CPU determines two adjacent projection devices to be adjusted. In this embodiment, the order is as shown in FIG. 7 (1) to (4). For example, in FIG. 7 (1), the target projector is the projected images 40A and 40B of 20A and 20B. Note that how to determine the order is not limited to this.

Ｓ８０２において、ＣＰＵはテストパターン付与領域５０Ａ、５０Ｂに逆位相パターン付与する。
Ｓ８０３において、ＣＰＵは逆位相パターンが付与されたマルチ投影画像の撮像データを撮像装置３０より取得する。このとき、対象外の投影装置は割り当てられた投影画像の投影を継続する。
Ｓ３０２〜Ｓ３０６で行われる処理は、前述した第１の実施形態と同様である。 In S802, the CPU applies an antiphase pattern to the test pattern application areas 50A and 50B.
In S <b> 803, the CPU acquires imaging data of the multi-projection image to which the antiphase pattern is given from the imaging device 30. At this time, the non-targeted projector continues the projection of the assigned projection image.
The processes performed in S302 to S306 are the same as those in the first embodiment described above.

Ｓ８０４において、ＣＰＵは各投影装置の投影位置の確認及び調整が終了したか否かを確認する。
終了していなければ、ステップＳ８０１へ戻る。終了していれば、逆位相パターンを付与しないで、そのままの投影状態を維持する。
ここまで説明したステップＳ８０１からＳ８０４の処理を任意の時間間隔で繰り返す。これにより、シームレスな投影状態を維持する。 In step S804, the CPU confirms whether the confirmation and adjustment of the projection position of each projector have been completed.
If it has not ended, it returns to step S801. If it has ended, the projection state as it is is maintained without applying the antiphase pattern.
The processes in steps S801 to S804 described above are repeated at an arbitrary time interval. This maintains a seamless projection.

本実施形態では４台の投影装置で構成した場合で説明したが、３台以上で構成する場合に適用可能である。
以上説明したように、本実施形態ではマルチ投影の全ての重畳領域に逆位相パターンを付与する。これにより、コンテンツ画像を投影中でもずれ検出が容易となる。そのため、コンテンツ画像の投影を中断することなくマルチプロジェクションシステムの自動位置調整が実現可能となる。 In the present embodiment, the case has been described in which four projectors are provided, but the present invention can be applied to the case where three or more projectors are provided.
As described above, in the present embodiment, antiphase patterns are applied to all overlapping regions of multi-projection. Thereby, the shift detection becomes easy even while projecting the content image. Therefore, automatic position adjustment of the multi-projection system can be realized without interrupting the projection of the content image.

（その他の実施例）
本発明は、上述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。 (Other embodiments)
The present invention supplies a program that implements one or more functions of the above-described embodiments to a system or apparatus via a network or storage medium, and one or more processors in a computer of the system or apparatus read and execute the program. Can also be realized. It can also be implemented by a circuit (eg, an ASIC) that implements one or more functions.

１０ 情報処理装置
２０Ａ 投影装置
２０Ｂ 投影装置
３０ 撮像装置
４０ マルチ投影画像
５０ テストパターン付与領域
１００ 入力部
２００ 補正部
３００ 付与部
４００ 算出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Information processing apparatus 20A Projection apparatus 20B Projection apparatus 30 Imaging apparatus 40 Multi-projection image 50 Test pattern provision area 100 Input part 200 Correction part 300 Addition part 400 Calculation part

Claims (12)

第１投影装置と、前記第１投影装置による投影領域と一部重複するように画像を投影する第２投影装置とを制御する投影制御装置であって、
前記第１投影装置及び前記第２投影装置それぞれに投影させる画像を入力する入力手段と、
前記第１投影装置及び前記第２投影装置の投影領域が重複する重複領域における基準ゲインパターンそれぞれに、前記重複領域の部分領域に所定のゲインパターンを付与する付与手段と、
前記入力手段から入力された画像それぞれと、前記付与手段から得られるゲインパターンそれぞれとに基づいて、前記第１投影装置に投影させる第１画像と、前記第２投影装置に投影させる第２画像とを生成し、前記第１投影装置と前記第２投影装置それぞれに投影させる制御手段と
を有し、
前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において所定の位置関係となるよう投影されている場合には、前記部分領域と前記部分領域以外の領域との境界は視認できず、前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において前記所定の位置関係となるよう投影されていない場合には、少なくとも前記第１画像および前記第２画像いずれか一方における前記境界は視認できることを特徴とする投影制御装置。 A projection control device that controls a first projection device and a second projection device that projects an image so as to partially overlap with a projection region of the first projection device,
Input means for inputting an image to be projected on each of the first projection device and the second projection device;
Each reference gain pattern in the overlap region where the projection area of the first projection device and the second projection device overlap, and applying means for applying a predetermined gain pattern in a partial region of the overlap region,
A first image to be projected by the first projection device and a second image to be projected by the second projection device based on each of the images input from the input unit and each of the gain patterns obtained from the application unit; Control means for generating each of the first projection device and the second projection device to generate
Have
When the first image and the second image are projected so as to have a predetermined positional relationship in the overlapping area, the boundary between the partial area and the area other than the partial area can not be visually recognized, and the first image is not visible. When the image and the second image are not projected to have the predetermined positional relationship in the overlapping area, at least the boundary in any one of the first image and the second image can be visually recognized. Projection control device. 前記入力手段から入力された画像それぞれは輝度が均一な画像であり、Each of the images input from the input means is an image with uniform brightness,
前記第１画像は、前記重複領域において、前記部分領域以外の領域では、前記第１画像の端部に近づくほど輝度が下がり、前記部分領域においては一定の輝度を有し、The first image has a lower luminance as it approaches the end of the first image in an area other than the partial area in the overlapping area, and has a constant luminance in the partial area,
前記第２画像は、前記重複領域において、前記部分領域以外の領域では、前記第２画像の端部に近づくほど輝度が下がり、前記部分領域においては一定の輝度を有することを特徴とする請求項１に記載の投影制御装置。The second image is characterized in that, in the overlapping region, in the regions other than the partial region, the luminance decreases toward the end of the second image, and the partial region has a constant luminance. The projection control device according to 1. 前記第１投影装置により前記第１画像を投影された投影領域と前記第２投影装置による前記第２画像を投影された投影領域との撮影画像を用いて、前記第１投影装置と前記第２投影装置の少なくとも何れかの投影位置を調整する調整手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の投影制御装置。The first projection device and the second projection device are obtained by using a photographed image of a projection region onto which the first image is projected by the first projection device and a projection region onto which the second image is projected by the second projection device. The projection control apparatus according to claim 1, further comprising an adjustment unit configured to adjust a projection position of at least one of the projection apparatuses. 前記付与手段は、前記第１投影装置のための基準ゲインパターンのうち、前記部分領域には、所定のゲインが加算され、且つ、前記第２投影装置のための基準ゲインパターンのうち、前記部分領域には、前記所定のゲインが減算されるよう、前記所定のゲインパターンを付与することを特徴とする請求項１乃至３のうち、何れか１項に記載の投影制御装置。 Said applying means, among the reference gain pattern for the first projection device, the partial area is a predetermined gain is added, and, among the reference gain pattern for the second projection device, said portion The projection control apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the predetermined gain pattern is given to a region so that the predetermined gain is subtracted. 前記第１投影装置のための基準ゲインパターンは、前記第１投影装置の投影領域のうち、前記重複領域内のゲインが前記第２投影装置の投影領域に近づくほど下がるゲインパターンであり、
前記第２投影装置のための基準ゲインパターンは、前記第２投影装置の投影領域のうち、前記重複領域内のゲインが前記第１投影装置の投影領域に近づくほど下がるゲインパターンであることを特徴とする請求項４に記載の投影制御装置。 The reference gain pattern for the first projection device is a gain pattern that decreases as the gain in the overlapping region of the projection regions of the first projection device approaches the projection region of the second projection device,
The reference gain pattern for the second projection device is a gain pattern that decreases as the gain in the overlapping region of the projection regions of the second projection device approaches the projection region of the first projection device. The projection control device according to claim 4 . 前記加算されるゲインの値と前記減算されるゲインの値は一致することを特徴とする請求項４又は５に記載の投影制御装置。 The projection control apparatus according to claim 4 or 5 , wherein the value of the gain to be added and the value of the gain to be subtracted coincide with each other. 前記調整手段は、前記所定のゲインが加算された位置と、前記所定のゲインが減算された位置との差異を、前記撮影画像を用いることによって特定し、当該差異が小さくなるように、前記第１投影装置と前記第２投影装置の少なくとも何れかの投影位置を調整することを特徴とする請求項３に記載の投影制御装置。 The adjustment means specifies a difference between a position to which the predetermined gain is added and a position to which the predetermined gain is subtracted by using the photographed image, and the difference is reduced so as to reduce the difference. 4. The projection control apparatus according to claim 3 , wherein a projection position of at least one of the first projection apparatus and the second projection apparatus is adjusted. 前記部分領域は、所定の形状を有する図形の位置に対応することを特徴とする請求項３又は７に記載の投影制御装置。 The projection control apparatus according to claim 3 , wherein the partial region corresponds to a position of a graphic having a predetermined shape. 前記入力手段から入力された画像それぞれは輝度が均一な画像であり、Each of the images input from the input means is an image with uniform brightness,
前記第１画像は、前記重複領域において、前記部分領域以外の領域では、前記第１画像の端部に近づくほど輝度が下がり、前記部分領域においては一定の輝度を有し、The first image has a lower luminance as it approaches the end of the first image in an area other than the partial area in the overlapping area, and has a constant luminance in the partial area,
前記第２画像は、前記重複領域において、前記部分領域以外の領域では、前記第２画像の端部に近づくほど輝度が下がり、前記部分領域においては一定の輝度を有するものであって、The second image has a lower luminance as it approaches the end of the second image in an area other than the partial area in the overlapping area, and has a constant luminance in the partial area,
さらに、前記第１投影装置により前記第１画像を投影された投影領域と前記第２投影装置による前記第２画像を投影された投影領域との撮影画像を用いて、前記撮影画像における投影領域のうち、輝度が均一ではない画素を検出することにより、前記第１投影装置と前記第２投影装置の少なくとも何れかの投影位置のずれを検出する検出手段を有することを特徴とする請求項１に記載の投影制御装置。Furthermore, using the photographed image of the projection area on which the first image is projected by the first projection device and the projection area on which the second image is projected by the second projection device, the projection area of the photographed image Among them, detection means is provided for detecting a shift in projection position of at least one of the first projection device and the second projection device by detecting pixels whose brightness is not uniform. Projection control device as described. 前記検出手段は、検出した輝度が均一ではない画素に基づいて、ずれ量を算出することを特徴とする請求項９に記載の投影制御装置。10. The projection control apparatus according to claim 9, wherein the detection means calculates the amount of deviation based on pixels whose detected luminance is not uniform. 第１投影装置と、前記第１投影装置による投影領域と一部重複するように画像を投影する第２投影装置とを制御する投影制御装置が実行する投影制御方法であって、
前記第１投影装置及び前記第２投影装置それぞれに投影させる画像を入力する入力ステップと、
前記第１投影装置及び前記第２投影装置の投影領域が重複する重複領域における基準ゲインパターンそれぞれに、前記重複領域の部分領域に所定のゲインパターンを付与する付与ステップと、
前記入力ステップにおいて入力された画像それぞれと、前記付与ステップにおいて付与されたゲインパターンそれぞれとに基づいて、前記第１投影装置に投影させる第１画像と、前記第２投影装置に投影させる第２画像とを生成し、前記第１投影装置と前記第２投影装置それぞれに投影させる制御ステップと
を含み、
前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において所定の位置関係となるよう投影されている場合には、前記部分領域と前記部分領域以外の領域との境界は視認できず、前記第１画像および前記第２画像が前記重複領域において前記所定の位置関係となるよう投影されていない場合には、少なくとも前記第１画像および前記第２画像いずれか一方における前記境界は視認できることを特徴とする投影制御方法。 A projection control method is performed by a projection control device that controls a first projection device and a second projection device that projects an image so as to partially overlap with a projection region of the first projection device,
An input step of inputting an image to be projected on each of the first projection device and the second projection device;
Each reference gain pattern in the overlap region where the projection area of the first projection device and the second projection device overlap, the imparting step of imparting a predetermined gain pattern in a partial region of the overlap region,
A first image to be projected by the first projection device and a second image to be projected by the second projection device based on each of the images input in the input step and each of the gain patterns applied in the application step Control step of generating the first projection device and the second projection device to generate
Including
When the first image and the second image are projected so as to have a predetermined positional relationship in the overlapping area, the boundary between the partial area and the area other than the partial area can not be visually recognized, and the first image is not visible. When the image and the second image are not projected to have the predetermined positional relationship in the overlapping area, at least the boundary in any one of the first image and the second image can be visually recognized. Projection control method. コンピュータを、請求項１乃至１０のうち、何れか１項に記載の投影制御装置として動作させるためのプログラム。 A program for operating a computer as the projection control device according to any one of claims 1 to 10 .
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