JP6539986B2 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
前記載置部に載置される被処理基板の被処理面に対向するように配置された渦巻きコイルからなり、周波数可変電源からなる高周波電源に接続された高周波アンテナと、
前記高周波電源から高周波アンテナ側を見たときの回路の共振周波数を調整するための可変容量コンデンサを含むインピーダンス調整部と、
前記処理容器内の真空雰囲気と前記高周波アンテナが配置される空間とを気密に仕切る誘電体と、
前記高周波アンテナが配置される空間を囲むシールド部材と、を備え、
前記高周波アンテナは、一端部が接地されると共に他端部が高周波電源に接続された第1のアンテナ素子と、一端部に開放端を有すると共に他端部が前記第1のアンテナ素子に接続され、線路長が[{λ(λは真空中の高周波の波長)/4}+n(nは自然数)λ/2]に短縮率を乗じた長さ寸法であって、使用する電源周波数で共振するように設定された第2のアンテナ素子と、を備えることを特徴とする。
プラズマ処理を行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
処理容器10内には、第1の高周波アンテナ素子51である誘導コイルに基づいて形成された磁場と第2の高周波アンテナ素子51の定在波に基づいて形成された磁場とにより処理ガスが励起されてプラズマが発生し、ウエハWの処理が行われる。
内端部6に高周波電源50を接続し、外側端部である中間部位8を接地した第1の高周波アンテナ素子51と、外端部7が開放端であり、線路長がλ/4である第2の高周波アンテナ素子52とを組み合わせて構成した渦巻き状の高周波アンテナ5を用いている。そして第1から第3の可変容量コンデンサ55〜57を調整することにより、第1の高周波アンテナ素子51及び第2の高周波アンテナ素子52のいずれかに対応する第1及び第2の共振周波数が調整される。このため第1の高周波アンテナ素子51と第2の高周波アンテナ素子52とに分配される高周波エネルギーの割合が調整できるのでウエハWの面内におけるプラズマ密度分布を調整することができる。
また高周波アンテナ5である渦巻きコイルは、面状であることに限られるものではなく、中央部と周縁部との高さ位置が異なり、上から見ると渦巻きをなしている渦巻きコイルであってもよい。
さらに高周波アンテナ5の巻方向は、高周波アンテナ5を上から見て内端部6から外端部7に向かって、時計まわりに巻かれていてもよく、反時計回りにまかれていてもよい。
本発明の実施の形態の効果を確認するために以下の試験を行った。本発明の実施の形態である図1に示したプラズマ処理装置を用い、高周波電源50から供給される高周波の周波数を10〜60MHzの範囲で変化させ、高周波電源50側から反射率を観測した。
図9はこの結果を示し、高周波電源50の周波数と反射率とを示す特性図である。この結果によれば、高周波電源50の周波数可変領域において、22MHzと25MHzとの2つの周波数において、反射率が低下していることがわかる。従って本発明のプラズマ処理装置に用いられる高周波アンテナ5を用いた回路は2つの共振周波数が存在することがわかる。
また本発明の実施の形態として図1に示したプラズマ処理装置を用い、可変容量コンデンサ55、56、57の容量を変化させたときの処理容器10内におけるプラズマの電子密度について調べた。可変容量コンデンサ55、56、57の容量を調整した例を夫々、実施例2−1〜2−4とした。
この結果によれば、可変容量コンデンサ55、56、57の容量を変化させることにより、処理容器10内に形成されるプラズマ密度の面内分布を変えることができることがわかる。
9 シールドボックス
10 処理容器
12 サセプタ
17 真空排気部
21 処理ガス供給機構
22 誘電体窓
50 高周波電源
51 第1の高周波アンテナ素子
52 第2の高周波アンテナ素子
55〜57 第1〜第3の可変容量コンデンサ
W ウエハ
Claims (5)
- 真空雰囲気である処理容器内に供給された処理ガスを励起してプラズマを発生させ、処理容器内の載置部に載置された被処理基板に対して処理を行うプラズマ処理装置において、
前記載置部に載置される被処理基板の被処理面に対向するように配置された渦巻きコイルからなり、周波数可変電源からなる高周波電源に接続された高周波アンテナと、
前記高周波電源から高周波アンテナ側を見たときの回路の共振周波数を調整するための可変容量コンデンサを含むインピーダンス調整部と、
前記処理容器内の真空雰囲気と前記高周波アンテナが配置される空間とを気密に仕切る誘電体と、
前記高周波アンテナが配置される空間を囲むシールド部材と、を備え、
前記高周波アンテナは、一端部が接地されると共に他端部が高周波電源に接続された第1のアンテナ素子と、一端部に開放端を有すると共に他端部が前記第1のアンテナ素子に接続され、線路長が[{λ(λは真空中の高周波の波長)/4}+n(nは自然数)λ/2]に短縮率を乗じた長さ寸法であって、使用する電源周波数で共振するように設定された第2のアンテナ素子と、を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記高周波電源から高周波アンテナ側を見たときの回路は、高周波の周波数を変えていったときに、前記インピーダンス調整部の調整に応じた第1の共振周波数及び第2の共振周波数が現れるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記インピーダンス調整部は、前記高周波電源と高周波アンテナとの間において当該高周波電源に対して直列に接続された可変容量コンデンサと、前記第2のアンテナ素子の他端部と接地部位との間に設けられた可変容量コンデンサと、を含むことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。
- 高周波の反射率を調整するための可変容量コンデンサが前記高周波電源に対して並列に接続されていることを特徴とする請求項1ないし3に記載のプラズマ処理装置。
- 請求項1ないし4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置を用い、第1の共振周波数と第2の共振周波数との間の周波数の高周波を前記高周波電源から高周波アンテナに供給して、被処理基板に対してプラズマ処理を行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
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