JP6531500B2

JP6531500B2 - Substrate with black matrix, color filter, method of manufacturing substrate with black matrix, and method of manufacturing color filter

Info

Publication number: JP6531500B2
Application number: JP2015114930A
Authority: JP
Inventors: 陽介和田; 雅也江口; 真史榊; 田中　佳子; 佳子田中; 俵屋　誠治; 誠治俵屋; 雅生福嶋
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2015-06-05
Filing date: 2015-06-05
Publication date: 2019-06-19
Anticipated expiration: 2035-06-05
Also published as: JP2017003650A

Description

本発明は、遮光部の細線化に伴う配線への影響を低減することが可能なブラックマトリックス付基板に関する。 The present invention relates to a black matrix-attached substrate capable of reducing the influence on wiring caused by thinning of a light shielding portion.

近年、表示装置の発達に伴って、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等のフラットパネルディスプレイの需要が増加している。最近では、テレビやパーソナルコンピューターの他にも、スマートフォン、タブレット端末等の多機能端末の普及が盛んになっており、益々フラットパネルディスプレイの市場は拡大する状況にある。このような状況において、フラットディスプレイを構成するカラーフィルタに関する研究が盛んに行われている。 In recent years, with the development of display devices, the demand for flat panel displays such as liquid crystal display devices and organic EL display devices is increasing. Recently, in addition to televisions and personal computers, multi-functional terminals such as smartphones and tablet terminals have become widespread, and the market for flat panel displays is expanding. Under these circumstances, researches on color filters that constitute flat displays are actively conducted.

一般的なカラーフィルタは、通常、透明基板と、透明基板上に配置され、開口部を有する遮光部と、遮光部の開口部に配置されたパターン状の着色部とを有する。このようなカラーフィルタには、例えば、タッチパネルが一体化したカラーフィルタがあり（例えば、特許文献１〜３）、この場合、タッチパネルのセンサ用配線として用いられる配線が表示領域内に配置されることがある（以下、表示領域配線という。）。表示領域配線を配置する方法には様々あるが、例えば、カラーフィルタの遮光部上に表示領域配線を配置する方法がある。表示領域配線を遮光部上に配置すると、当該カラーフィルタを有する液晶表示装置の薄膜化を図ることができるという効果を奏する。 A general color filter usually has a transparent substrate, a light shielding portion disposed on the transparent substrate and having an opening, and a patterned colored portion arranged at the opening of the light shielding portion. As such a color filter, for example, there is a color filter integrated with a touch panel (for example, Patent Documents 1 to 3), and in this case, a wiring used as a sensor wiring of the touch panel is disposed in the display area (Hereinafter referred to as display area wiring). There are various methods for arranging the display area wiring, but there is, for example, a method for arranging the display area wiring on the light shielding portion of the color filter. When the display area wiring is disposed on the light shielding portion, an effect is achieved that the liquid crystal display device having the color filter can be thinned.

図７は、従来のカラーフィルタの表示領域の一例を示す概略斜視図である。図７に示すように、従来のカラーフィルタの表示領域Ｘ’は、透明基板１と、透明基板１上に配置され、開口部１３を有する遮光部３と、遮光部３の開口部１３に配置されたパターン状の着色部１１（ここでは、赤色着色部１１Ｒ、緑色着色部１１Ｇ、青色着色部１１Ｂ）と、遮光部上に配置された表示領域配線２とを有する。 FIG. 7 is a schematic perspective view showing an example of a display area of a conventional color filter. As shown in FIG. 7, the display region X ′ of the conventional color filter is disposed on the transparent substrate 1, the light shielding portion 3 having the opening 13 and the opening 13 of the light shielding portion 3 disposed on the transparent substrate 1. It has the patterned colored portions 11 (here, the red colored portions 11R, the green colored portions 11G, and the blue colored portions 11B), and the display area wiring 2 disposed on the light shielding portion.

次に、従来のカラーフィルタの製造方法について説明する。図８は、従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略工程図である。また、図８（ａ）〜（ｅ）は、図７のカラーフィルタをＡ−Ａ線断面から観察した場合の製造工程である。従来のカラーフィルタは、次のような方法により製造することができる。すなわち、まず、図８（ａ）に示すように、透明基板１上に開口部を有する遮光部３を形成し、次に、図８（ｂ）に示すように、透明基板１上の全面に表示領域配線を構成する表示領域配線形成用材料を用いて表示領域配線層２’を成膜する。次いで、表示領域配線層２’上にポジ型感光樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、図８（ｃ）に示すように、遮光部２上にレジスト１４を形成し、続いて、エッチング液を用いて表示領域配線層２’をエッチングして、図８（ｄ）に示すように、遮光部上に表示領域配線２を形成する。その後、図８（ｅ）に示すように、レジスト１４を除去してブラックマトリックス付基板を形成し、最後に、図示しないが、遮光部３により画定された開口部１３に、着色部を形成する。このようにして、カラーフィルタを製造することができる。 Next, a method of manufacturing a conventional color filter will be described. FIG. 8 is a schematic process drawing showing an example of a conventional method of manufacturing a color filter. 8A to 8E are manufacturing steps when the color filter of FIG. 7 is observed from the cross section along line A-A. The conventional color filter can be manufactured by the following method. That is, first, as shown in FIG. 8A, the light shielding portion 3 having an opening is formed on the transparent substrate 1, and then, on the entire surface of the transparent substrate 1 as shown in FIG. The display area wiring layer 2 'is formed using the display area wiring forming material that forms the display area wiring. Next, a positive photosensitive resin is applied on the display area wiring layer 2 ′ and patterned using photolithography to form a resist 14 on the light shielding portion 2 as shown in FIG. Subsequently, the display area wiring layer 2 ′ is etched using an etching solution to form the display area wiring 2 on the light shielding portion as shown in FIG. 8 (d). Thereafter, as shown in FIG. 8E, the resist 14 is removed to form a black matrix-coated substrate, and finally, although not shown, a colored portion is formed in the opening 13 defined by the light shielding portion 3. . In this way, color filters can be manufactured.

特開２０１１−１３８１５４号公報JP, 2011-138154, A 特開２０１２−４３２１９号公報JP 2012-43219 A 国際公開第２０１２−７３７９２号International Publication No. 2012-73792

ところで、近年、カラーフィルタの使用範囲は急速に広がっており、これに伴い高精細なカラーフィルタの開発が求められている。高精細なカラーフィルタを得る方法としては、例えば、開口部を画定する遮光部を細線化する方法が挙げられる。しかしながら、遮光部の線幅を細線化する場合には、遮光部上のみに表示領域配線を配置することが困難になる。すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせが困難になるという問題がある。具体的には、遮光部が細線化されると、図８（ｃ）に示すように、遮光部３上に精度良くレジスト１４を形成することが困難となる。レジストが遮光部上からずれてしまうと、例えば、図９に示すように、遮光部３と表示領域配線２との位置がずれてしまうという問題がある。 By the way, in recent years, the use range of the color filter has been rapidly expanded, and along with this, development of a high definition color filter is required. As a method of obtaining a high-definition color filter, for example, a method of thinning a light shielding portion which defines an opening may be mentioned. However, when thinning the line width of the light shielding portion, it becomes difficult to arrange the display area wiring only on the light shielding portion. That is, there is a problem that the alignment between the light shielding portion and the display area wiring becomes difficult. Specifically, when the light shielding portion is thinned, as shown in FIG. 8C, it is difficult to form the resist 14 on the light shielding portion 3 with high accuracy. If the resist deviates from above the light shielding portion, for example, as shown in FIG. 9, there is a problem that the positions of the light shielding portion 3 and the display area wiring 2 are deviated.

上述のような問題は、カラーフィルタだけではなく、遮光部上に表示領域配線を配置する構成を有するモノクロ液晶表示装置や電子ペーパー等に用いられるブラックマトリックス付基板においても共通して生じ得る問題である。 The problems as described above can be commonly encountered not only in color filters but also in substrates with black matrix used in monochrome liquid crystal display devices and electronic paper having a configuration in which display area wiring is arranged on light shielding portions. is there.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響を低減することが可能なブラックマトリックス付基板およびカラーフィルタを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and it is a main object of the present invention to provide a substrate with a black matrix and a color filter capable of reducing the influence on display area wiring caused by thinning of a light shielding portion. Do.

本発明の発明者等は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、表示領域配線自体を遮光部として用いることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決できることを見出した。本発明は、このような知見に基づいて完成されたものである。 The inventors of the present invention conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems. As a result, by using the display area wiring itself as the light shielding section, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding section. The inventors have found that it is possible to solve the influence of the thinning on the display area wiring, that is, the problem of the alignment between the light shielding portion and the display area wiring. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明は、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に配置されたブラックマトリックスと、を有するブラックマトリックス付基板であって、上記ブラックマトリックス付基板は、表示領域と、上記表示領域の外側に位置する非表示領域とを有し、上記表示領域における上記ブラックマトリックスは、第１の方向に並列に配置された第１遮光部と、上記第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置された第２遮光部とを有し、上記第１遮光部は、少なくとも上記透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線であり、上記透明基板の前記非表示領域であり、かつ上記表示領域配線が配置された表面と同一の表面には、上記表示領域配線と接続された非表示領域配線が配置されており、上記非表示領域配線は外部と接続するための端子部と接続されていることを特徴とするブラックマトリックス付基板を提供する。 That is, the present invention is a black matrix attached substrate having a transparent substrate and a black matrix disposed on one surface of the transparent substrate, wherein the black matrix attached substrate includes a display area and the display area. And a black matrix in the display area is a direction intersecting the first direction with a first light shielding portion arranged in parallel in the first direction. And a second light shielding portion arranged in parallel in the second direction, wherein the first light shielding portion is a display area wiring formed of a metal having a low light reflection property at least on the transparent substrate side and having a light shielding property. The non-display area wiring connected to the display area wiring is disposed on the same surface as the non-display area of the transparent substrate and the surface on which the display area wiring is disposed. Serial non-display area wiring provides a black matrix substrate with, characterized in that it is connected to the terminal portion for connection with the outside.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板とすることができる。 According to the present invention, since the first light shielding portion is the display region wiring, it is not necessary to provide the display region wiring on the light shielding portion, and the influence on the display region wiring due to thinning of the light shielding portion, ie, the light shielding portion The substrate with black matrix can solve the problem of alignment between the pixel and the display area wiring.

本発明においては、上記非表示領域には、樹脂製の遮光部で形成された額縁遮光部が配置され、前記非表示領域配線は、前記額縁遮光部上に配置されていることが好ましい。非表示領域配線が額縁遮光部上に配置されることにより、非表示領域配線が視認されることを防止することができるからである。 In the present invention, it is preferable that a frame light shielding portion formed of a resin light shielding portion is disposed in the non-display area, and the non-display area wiring is disposed on the frame light shielding portion. By arranging the non-display area wiring on the frame light shielding portion, it is possible to prevent the non-display area wiring from being visually recognized.

本発明においては、上記第２遮光部は、上記額縁遮光部と同一の材料で形成されており、上記第１遮光部と上記第２遮光部との交差部においては、上記第２遮光部の上記透明基板とは反対側の表面上で上記第１遮光部が交差するように配置されていることが好ましい。第２遮光部および額縁遮光部が同一の材料で形成されていることにより、第２遮光部および額縁遮光部を同時に形成することができるからである。 In the present invention, the second light shielding portion is formed of the same material as the frame light shielding portion, and at the intersection of the first light shielding portion and the second light shielding portion, the second light shielding portion is It is preferable that the first light shields be arranged to intersect on the surface opposite to the transparent substrate. By forming the second light shielding portion and the frame light shielding portion using the same material, it is possible to simultaneously form the second light shielding portion and the frame light shielding portion.

本発明においては、上記第２遮光部は、上記第１遮光部と同一の材料で形成され、上記第２遮光部と上記第１遮光部とが交差する交差部間の上記第２遮光部には、電気的に絶縁される切断部が形成されていることが好ましい。第１遮光部および第２遮光部が同一の材料で形成されていることにより、第１遮光部および第２遮光部を同時に形成することができるからである。 In the present invention, the second light shielding portion is formed of the same material as the first light shielding portion, and the second light shielding portion is formed between crossing portions where the second light shielding portion and the first light shielding portion intersect. Preferably, the electrically insulated cut portion is formed. By forming the first light shielding portion and the second light shielding portion with the same material, it is possible to simultaneously form the first light shielding portion and the second light shielding portion.

また、本発明は、上述したブラックマトリックス付基板と、上記ブラックマトリックス付基板の上記第１遮光部および上記第２遮光部により画定される開口部に配置された着色部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 Further, the present invention is characterized by having the above-described black matrix attached substrate and a colored part disposed in an opening defined by the first light shielding part and the second light shielding part of the black matrix attached substrate. Provide a color filter.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を有することにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なカラーフィルタとすることができる。 According to the present invention, since the first light shielding portion has the substrate with the black matrix which is the display region wiring, it is not necessary to provide the display region wiring on the light shielding portion, and the display region wiring is accompanied by the thinning of the light shielding portion. It is possible to provide a color filter that can solve the influence, that is, the problem of alignment between the light shielding portion and the display area wiring.

さらに、本発明は、上述したブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、上記透明基板上に、上記額縁遮光部と上記第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程と、上記額縁遮光部および上記第２遮光部が配置された上記透明基板上に、上記表示領域配線と上記非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程とを有することを特徴とするブラックマトリックス付基板の製造方法を提供する。 Further, according to the present invention, there is provided a method of manufacturing a black matrix-provided substrate for manufacturing the above-described black matrix-provided substrate, wherein the resin light shield is provided with the frame light shielding portion and the second light shielding portion simultaneously on the transparent substrate. Characterized in that it has a part arranging step, and a wiring arranging step of simultaneously arranging the display area wiring and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding part and the second light shielding part are arranged. The present invention provides a method of manufacturing a black matrix-attached substrate.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板を得ることができる。また、額縁遮光部と第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程、および表示領域配線と非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程を有することにより、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。 According to the present invention, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding section by the method for manufacturing the black matrix mounted substrate in which the first light shielding section is the display area wiring. Thus, it is possible to obtain a black matrix provided substrate capable of solving the influence on the display area wiring due to the thinning of the display area, that is, the problem of the alignment between the light shielding portion and the display area wiring. In addition, the manufacturing process can be simplified by including a resin light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion and the second light shielding portion simultaneously and a wiring arranging step of arranging the display area wiring and the non-display area wiring simultaneously. It is possible to

さらにまた、本発明は、上述したブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、上記透明基板上に、上記額縁遮光部を配置する額縁遮光部配置工程と、上記額縁遮光部が配置された上記透明基板上に、上記第２遮光部、上記表示領域配線、および上記非表示領域配線を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程とを有することを特徴とするブラックマトリックス付基板の製造方法を提供する。 Furthermore, the present invention is a method of manufacturing a black matrix-provided substrate for manufacturing the above-mentioned black matrix-provided substrate, comprising: a frame light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion on the transparent substrate; A black matrix characterized in that the second light-shielding portion and the wiring arrangement step of simultaneously arranging the second light-shielding portion, the display area wiring, and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the second portion is arranged Provided is a method of manufacturing an attached substrate.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板を得ることができる。また、第２遮光部、表示領域配線および非表示領域配線を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程を有することにより、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。 According to the present invention, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding section by the method for manufacturing the black matrix mounted substrate in which the first light shielding section is the display area wiring. Thus, it is possible to obtain a black matrix provided substrate capable of solving the influence on the display area wiring due to the thinning of the display area, that is, the problem of the alignment between the light shielding portion and the display area wiring. Further, the manufacturing process can be simplified by including the second light shielding portion, the second light shielding portion and the wiring arranging step in which the display area wiring and the non-display area wiring are simultaneously arranged.

また、本発明は、上述したブラックマトリックス付基板の製造方法によりブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板製造工程と、上記ブラックマトリックス付基板製造工程により得られた上記ブラックマトリックス付基板の上記第１遮光部および上記第２遮光部により画定される開口部に、着色部を配置する着色部配置工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 Further, according to the present invention, there is provided a black matrix attached substrate producing step of producing a black matrix attached substrate by the above-described method of producing a black matrix attached substrate, and the black matrix attached substrate obtained by the black matrix attached substrate producing step. A method of manufacturing a color filter, comprising: a colored portion disposing step of disposing a colored portion in an opening portion defined by the first light blocking portion and the second light blocking portion.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板製造工程を有することにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板を得ることができる。また、上述したブラックマトリックス付基板製造工程を有することにより、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。 According to the present invention, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding section by having the black matrix mounted substrate manufacturing process for manufacturing the black matrix mounted substrate in which the first light shielding section is the display area wiring. It is possible to obtain a black matrix provided substrate capable of solving the influence on the display area wiring due to thinning, that is, the problem of alignment between the light shielding portion and the display area wiring. In addition, by including the above-described black matrix-equipped substrate manufacturing process, the manufacturing process can be simplified.

本発明は、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響を低減することが可能なブラックマトリックス付基板およびカラーフィルタとすることができるという効果を奏する。 The present invention has the effect of being able to provide a black matrix provided substrate and a color filter capable of reducing the influence on the display area wiring due to the thinning of the light shielding portion.

本発明のブラックマトリックス付基板の一例を示す概略平面図および概略断面図である。FIG. 1 is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view showing an example of a black matrix provided substrate of the present invention. 本発明のブラックマトリックス付基板における表示領域の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of the display area in the board | substrate with a black matrix of this invention. 本発明のカラーフィルタの一例を示す概略平面図および概略断面図である。FIG. 1 is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view showing an example of a color filter of the present invention. 本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の第１実施態様の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of 1st embodiment of the manufacturing method of the board | substrate with a black matrix of this invention. 本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の第２実施態様の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of 2nd embodiment of the manufacturing method of the board | substrate with a black matrix of this invention. 本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of the color filter of this invention. 従来のカラーフィルタにおける表示領域の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of the display area in the conventional color filter. 従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of the conventional color filter. 従来のカラーフィルタにおける表示領域配線を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the display area wiring in the conventional color filter. 従来のカラーフィルタにおける開口部を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the opening part in the conventional color filter.

以下、本発明のブラックマトリックス付基板、カラーフィルタ、ブラックマトリックス付基板の製造方法、およびカラーフィルタの製造方法について説明する。 Hereinafter, a black matrix provided substrate, a color filter, a method of manufacturing a black matrix provided substrate, and a method of manufacturing a color filter according to the present invention will be described.

Ａ．ブラックマトリックス付基板
本発明のブラックマトリックス付基板は、透明基板と、上記透明基板の一方の表面上に配置されたブラックマトリックスと、を有するブラックマトリックス付基板であって、上記ブラックマトリックス付基板は、表示領域と、上記表示領域の外側に位置する非表示領域とを有し、上記表示領域における上記ブラックマトリックスは、第１の方向に並列に配置された第１遮光部と、上記第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置された第２遮光部とを有し、上記第１遮光部は、少なくとも上記透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線であり、上記透明基板の上記非表示領域であり、かつ上記表示領域配線が配置された表面と同一の表面には、上記表示領域配線と接続された非表示領域配線が配置されており、上記非表示領域配線は外部と接続するための端子部と接続されていることを特徴とするものである。 A. Black Matrix Attached Substrate The black matrix attached substrate of the present invention is a black matrix attached substrate comprising a transparent substrate and a black matrix disposed on one surface of the transparent substrate, wherein the black matrix attached substrate is A display area and a non-display area located outside the display area, and the black matrix in the display area includes a first light shielding portion arranged in parallel in a first direction, and the first direction And a second light shielding portion arranged in parallel in a second direction which is a direction intersecting with the first light shielding portion, and the first light shielding portion is formed of a metal which has low light reflection at least on the transparent substrate side and has a light shielding property. And the display area wiring on the same surface as the non-display area of the transparent substrate and the surface on which the display area wiring is disposed. And a non-display area wiring connected to the external circuit, and the non-display area wiring is connected to a terminal portion for connection to the outside.

本発明における「表示領域」とは、例えば、ブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際の表示領域に相当する。また、本発明における「非表示領域」とは、例えば、ブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際の非表示領域に相当する。したがって、「表示領域」とは、本発明のブラックマトリックス付基板を液晶表示装置等に用いた場合には、画像表示に用いられる領域、すなわちアクティブエリアとなる。また、「非表示領域」とは、本発明のブラックマトリックス付基板を液晶表示装置等に用いた場合には、非アクティブエリアとなる。 The “display area” in the present invention corresponds to, for example, a display area when the black matrix-attached substrate is used for a color filter. Further, the “non-display area” in the present invention corresponds to, for example, a non-display area when the black matrix-attached substrate is used for a color filter. Therefore, the "display area" is an area used for image display, that is, an active area when the black matrix-provided substrate of the present invention is used for a liquid crystal display device or the like. The "non-display area" is a non-active area when the black matrix-attached substrate of the present invention is used for a liquid crystal display device or the like.

本発明のブラックマトリックス付基板について図を用いて説明する。図１（ａ）は、本発明のブラックマトリックス付基板の一例を示す概略平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）の領域Ｘ１および領域Ｙ１を示す概略斜視図である。図１（ａ）に示すように、本発明のブラックマトリックス付基板１００は、中心に位置する表示領域Ｘと、表示領域の外側に位置する非表示領域Ｙとを有する。また、本発明のブラックマトリックス付基板１００は、透明基板と１と、透明基板１の一方の表面上に配置されたブラックマトリックス１０とを有する。表示領域Ｘ（Ｘ１）におけるブラックマトリックス１０は、方向αで示される第１の方向に並列に配置された第１遮光部２と、第１の方向に交差する方向βで示される第２の方向に並列に配置された第２遮光部３とを有し、第１遮光部２は、少なくとも透明基板１側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線である。また、非表示領域Ｙ（Ｙ１）において、第１遮光部２および第２遮光部３が配置された表面と同一の表面には、樹脂製の遮光部で形成された額縁遮光部４が配置され、図示はしないが、非表示領域配線は、額縁遮光部４上に配置されており、非表示領域配線は外部と接続するための端子部と接続されている。 The substrate with a black matrix of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 (a) is a schematic plan view showing an example of the black matrix-attached substrate of the present invention, and FIG. 1 (b) is a schematic perspective view showing a region X1 and a region Y1 of FIG. 1 (a). As shown in FIG. 1A, the black matrix attached substrate 100 of the present invention has a display area X located at the center and a non-display area Y located outside the display area. In addition, the black matrix provided substrate 100 of the present invention includes the transparent substrate 1 and the black matrix 10 disposed on one surface of the transparent substrate 1. The black matrix 10 in the display area X (X1) has a first light shielding portion 2 disposed in parallel in a first direction indicated by the direction α, and a second direction indicated by a direction β intersecting the first direction. The first light-shielding portion 2 is a display area wiring formed of a metal that has low light reflection at least on the side of the transparent substrate 1 and has a light-shielding property. Further, in the non-display area Y (Y1), on the same surface as the surface on which the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3 are arranged, the frame light shielding portion 4 formed of a resin light shielding portion is arranged. Although not shown, the non-display area wiring is disposed on the frame light shielding portion 4, and the non-display area wiring is connected to a terminal for connecting to the outside.

また、図２（ａ）〜（ｃ）は、本発明における表示領域の他の例を示す概略斜視図である。図２（ａ）に示すように、第１遮光部２と第２遮光部３との交差部においては、第２遮光部３上で第１遮光部２が交差するように配置されていても良い。また、図２（ｂ）に示すように、第１遮光部２と第２遮光部３との交差部においては、第１遮光部２上で第２遮光部３が交差するように配置されていても良い。さらに、図２（ｃ）に示すように、第１遮光部２および第２遮光部３が同一の材料で形成され、第２遮光部３と第１遮光部２とが交差する交差部間の第２遮光部３には、電気的に絶縁される切断部が形成されていても良い。なお、ここでの「交差部」とは、第１遮光部および第２遮光部が交差する領域を指し、例えば、図１（ｂ）の領域Ｐを指す。さらに、「切断部」とは、隣接する交差部の間において、第２遮光部が電気的に絶縁される領域を指し、例えば、図２（ｃ）における領域Ｈを指す。 Moreover, FIG. 2 (a)-(c) is a schematic perspective view which shows the other example of the display area in this invention. As shown in FIG. 2A, even at the intersection of the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3, even if the first light shielding portion 2 is arranged to cross on the second light shielding portion 3 good. Further, as shown in FIG. 2 (b), at the intersection of the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3, the second light shielding portion 3 is disposed so as to intersect on the first light shielding portion 2. It is good. Furthermore, as shown in FIG. 2C, the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3 are formed of the same material, and between the crossing portions where the second light shielding portion 3 and the first light shielding portion 2 intersect. The second light shielding portion 3 may be provided with a cutting portion electrically insulated. Here, the “crossing portion” refers to a region where the first light shielding portion and the second light shielding portion intersect, and for example, the region P in FIG. Furthermore, "a cutting part" refers to the area | region where a 2nd light-shielding part is electrically insulated between the adjacent crossing parts, for example, refers to the area | region H in FIG.2 (c).

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板とすることができる。具体的には、従来のブラックマトリックス付基板においては、遮光部の線幅を細線化した場合、遮光部上に表示領域配線を配置することが困難になる。すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせが困難になるという問題がある。具体的には、遮光部が細線化されると、図８（ｃ）に示すように、遮光部３上に精度良くレジスト１４を形成することが困難となる。レジストが遮光部上からずれてしまうと、例えば、図９に示すように、遮光部３と表示領域配線２との位置がずれてしまうという問題がある。
一方、本発明においては、第１遮光部が表示領域配線であることにより、表示領域配線を遮光部上ではなく、透明基板上に配置することが可能となる。そのため、上述したような遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解消することが可能となると考えられる。 According to the present invention, since the first light shielding portion is the display area wiring, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding portion, and the influence on the wiring accompanying thinning of the light shielding portion, that is, the light shielding portion and display It is possible to provide a black matrix-attached substrate capable of solving the problem of alignment with the area wiring. Specifically, in the conventional black matrix-provided substrate, when the line width of the light shielding portion is thinned, it becomes difficult to arrange the display area wiring on the light shielding portion. That is, there is a problem that the alignment between the light shielding portion and the display area wiring becomes difficult. Specifically, when the light shielding portion is thinned, as shown in FIG. 8C, it is difficult to form the resist 14 on the light shielding portion 3 with high accuracy. If the resist deviates from above the light shielding portion, for example, as shown in FIG. 9, there is a problem that the positions of the light shielding portion 3 and the display area wiring 2 are deviated.
On the other hand, in the present invention, since the first light shielding portion is the display area wiring, the display area wiring can be disposed not on the light shielding portion but on the transparent substrate. Therefore, it is considered possible to solve the problem of alignment between the light shielding portion and the display area wiring as described above.

また、従来のブラックマトリックス付基板においては、遮光部の細線化に伴い、遮光部上に表示領域配線を配置することが困難になるということから、遮光部上に配置する表示領域配線の線幅を、遮光部の線幅よりもより小さく設計することが殆どである。しかしながら、表示領域配線の線幅が細くなると、それに伴い表示領域配線の抵抗値が大きくなってしまうという問題があり、仮に、表示領域配線の抵抗値が大きくなってしまうと、当該表示領域配線をタッチパネル用のセンサ配線として用いた場合に、センサ処理速度が低下するという問題が生じる。なお、表示領域配線の抵抗値を低減させる方法として、表示領域配線の厚みを厚くする方法があるが、表示領域配線の厚みを厚くするのには、製造上限界がある。すなわち、通常の表示領域配線は、スパッタリング法を用いて、透明基板上の全面に表示領域配線形成用材料を用いて表示領域配線層を成膜し、その後、パターニングすることにより形成される。そのため、表示領域配線の厚みを厚くするためには、スパッタリング法を用いて成膜される表示領域配線層の厚みを厚くする必要があるが、スパッタリング法において用いられるスパッタ装置には、成膜できる厚みに制限がある。したがって、通常の表示領域配線の製造方法では、表示領域配線の厚みを厚くするのには限界がある。
一方、本発明においては、表示領域配線を遮光部上に配置せず、透明基板上に配置することが可能となるため、遮光部の細線化に伴い、表示領域配線の線幅を必要以上に小さく設計する必要がない。したがって、表示領域配線を遮光部上に配置する従来のブラックマトリックス付基板に比べて、表示領域配線の線幅を大きくすることができ、表示領域配線の抵抗値の増加を抑制することが可能となると考えられる。 Further, in the conventional black matrix-equipped substrate, the line width of the display area wiring arranged on the light shielding section becomes difficult because it becomes difficult to arrange the display area wiring on the light shielding section along with the thinning of the light shielding section. Is designed to be smaller than the line width of the light shielding portion. However, there is a problem that when the line width of the display area wiring becomes thin, the resistance value of the display area wiring increases accordingly, and if the resistance value of the display area wiring becomes large, the display area wiring is When used as sensor wiring for a touch panel, there arises a problem that the sensor processing speed is reduced. Although there is a method of increasing the thickness of the display area wiring as a method of reducing the resistance value of the display area wiring, there is a manufacturing limit to increasing the thickness of the display area wiring. That is, a normal display area wiring is formed by depositing a display area wiring layer using a material for forming a display area wiring on the entire surface of the transparent substrate using a sputtering method and then patterning it. Therefore, in order to increase the thickness of the display area wiring, it is necessary to increase the thickness of the display area wiring layer formed using the sputtering method. However, the sputtering apparatus used in the sputtering method can form a film. There is a limit to the thickness. Therefore, there is a limit in increasing the thickness of the display area wiring in the normal display area wiring manufacturing method.
On the other hand, in the present invention, since the display area wiring can be arranged on the transparent substrate without being arranged on the light shielding portion, the line width of the display area wiring is unnecessarily increased with thinning of the light shielding portion. There is no need to design smaller. Therefore, the line width of the display area wiring can be increased as compared with the conventional black matrix-equipped substrate in which the display area wiring is disposed on the light shielding portion, and the increase in the resistance value of the display area wiring can be suppressed. It is considered to be.

さらに、従来のブラックマトリックス付基板の製造方法においては、例えば、図８（ａ）〜（ｅ）で説明したような方法を用いて遮光部３上に表示領域配線２を形成する場合には、表示領域配線形成用材料２’をエッチングする際に、エッチング液がレジスト１４の両端から侵入してしまい、所望とする表示領域配線２の線幅Ｗ１、すなわちレジスト１４の線幅よりも、実際に得られる表示領域配線２の線幅Ｗ２が細くなる傾向にある。したがって、上述のような方法を用いて表示領域配線を形成する場合には、所望とする表示領域配線の線幅よりも、大きめの線幅を有するレジストを用いることが好ましいが、表示領域配線を遮光部上に形成する場合には、レジストの線幅にも限界がある。
一方、本発明においては、表示領域配線を遮光部上に配置せず、透明基板上に配置することが可能となるため、レジストの線幅よりも、実際に得られる表示領域配線が細くなるという問題に対して、レジストの線幅を大きくして対処することが可能となる。したがって、本発明においては、表示領域配線を遮光部上に形成しないことにより、所望の線幅を有する表示領域配線を得ることが可能となると考えられる。 Furthermore, in the conventional method of manufacturing a black matrix-provided substrate, for example, in the case of forming the display area wiring 2 on the light shielding portion 3 using the method described in FIGS. 8 (a) to 8 (e), When etching the display area wiring forming material 2 ′, the etching solution penetrates from both ends of the resist 14, and the line width W1 of the display area wiring 2 desired, that is, the line width of the resist 14 is actually more The line width W2 of the obtained display area wiring 2 tends to be thin. Therefore, in the case of forming the display area wiring using the method as described above, it is preferable to use a resist having a line width larger than the desired line width of the display area wiring. In the case of forming on the light shielding portion, the line width of the resist has a limit.
On the other hand, in the present invention, since the display area wiring can be arranged on the transparent substrate without being arranged on the light shielding portion, the actually obtained display area wiring becomes thinner than the line width of the resist. It becomes possible to cope with the problem by increasing the resist line width. Therefore, in the present invention, it is considered possible to obtain a display area wiring having a desired line width by not forming the display area wiring on the light shielding portion.

さらにまた、従来のブラックマトリックス付基板においては、遮光部により開口部が画定される。具体的には、透明基板上に配置された遮光部に、フォトリソグラフィ法等を用いて所定の開口部を形成している。そのため、例えば図１０に示すように、開口部のコーナーが丸みを帯びてしまう場合があり、開口部が狭まってしまうという問題がある。
一方、本発明においては、例えば、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、第１の方向に並列に配置された第１遮光部（表示領域配線）２、および第１の方向に交差する第２の方向に並列に配置された第２遮光部３を別の工程により形成することができるため、フォトリソグラフィ法等を用いて一度の工程で開口部を形成した場合のように、開口部のコーナーが丸みを帯びてしまうといった問題を回避することができる。すなわち、本発明においては、開口部を囲う各辺をそれぞれ別体の部材により構成することができるため、従来に比べてより広い開口部を確保することが可能となると考えられる。 Furthermore, in the conventional black matrix-provided substrate, the light shielding portion defines an opening. Specifically, in the light shielding portion disposed on the transparent substrate, a predetermined opening is formed using a photolithography method or the like. Therefore, for example, as shown in FIG. 10, the corners of the opening may be rounded, and the opening may be narrowed.
On the other hand, in the present invention, for example, as shown in FIGS. 2A and 2B, the first light shielding portion (display area wiring) 2 disposed in parallel in the first direction, and the first direction. Since the second light shielding portions 3 arranged in parallel in the intersecting second direction can be formed in another step, as in the case where the opening is formed in one step using a photolithography method or the like, It is possible to avoid the problem that the corners of the opening are rounded. That is, in the present invention, since the sides surrounding the opening can be respectively formed of separate members, it is considered that a wider opening can be secured as compared with the conventional case.

以下、本発明のブラックマトリックス付基板の各構成について説明する。 Hereinafter, each structure of the board | substrate with a black matrix of this invention is demonstrated.

１．表示領域
本発明における表示領域は、ブラックマトリックス付基板の中心に位置する。また、表示領域におけるブラックマトリックスは、第１の方向に並列に配置された第１遮光部と、第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置された第２遮光部とを有し、第１遮光部は、少なくとも透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線である。
以下、表示領域を構成する第１遮光部および第２遮光部について説明する。 1. Display Area The display area in the present invention is located at the center of the black matrix-attached substrate. Further, the black matrix in the display area includes a first light shielding portion arranged in parallel in the first direction and a second light shielding portion arranged in parallel in the second direction which is a direction intersecting the first direction. The first light shielding portion is a display area wiring formed of a metal that has low light reflection at least on the side of the transparent substrate and has a light shielding property.
Hereinafter, the first light shielding portion and the second light shielding portion constituting the display area will be described.

（１）第１遮光部
本発明における第１遮光部は、第１の方向に並列に配置される部材であり、少なくとも透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線である。また、本発明における第１遮光部は、例えば、本発明のブラックマトリックス付基板を、タッチパネルが一体化したカラーフィルタに用いた際に、センサ用配線として用いられる部材である。 (1) First Light-Shielding Portion The first light-shielding portion in the present invention is a member disposed in parallel in the first direction, and at least a transparent substrate side is a low-reflection metal display It is area wiring. The first light-shielding portion in the present invention is a member used as a sensor wiring, for example, when the black matrix-provided substrate of the present invention is used for a color filter in which a touch panel is integrated.

本発明における第１遮光部は、透明基板側が低反射である金属で形成される。ここで、低反射とは、例えば、本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタ等に用いた際に、第１遮光部の透明基板側となる下面に外光が反射して観察者の視認性を妨げない程度の低反射性を有することを指す。具体的な反射率については、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整されるため特に限定されないが、例えば、７０％以下であることが好ましく、中でも６５％以下であることが好ましく、特に６０％以下であることが好ましい。なお、第１遮光部の反射率は、透明基板側から第１遮光部に照射した光の輝度に対する、第１遮光部から透明基板側に戻ってきた光の輝度の比率から算出した。 The first light-shielding portion in the present invention is formed of a metal whose reflection on the transparent substrate side is low. Here, low reflection means that, for example, when the black matrix-provided substrate of the present invention is used for a color filter or the like, external light is reflected to the lower surface of the first light shielding portion which is the transparent substrate side It has low reflectivity to such an extent that it does not prevent. The specific reflectance is not particularly limited because it is appropriately adjusted according to the application of the black matrix-attached substrate and the like, but is preferably 70% or less, and more preferably 65% or less, in particular It is preferable that it is 60% or less. The reflectance of the first light shielding portion was calculated from the ratio of the luminance of light returned from the first light shielding portion to the transparent substrate with respect to the luminance of light irradiated from the transparent substrate side to the first light shielding portion.

また、本発明における第１遮光部は、遮光性を有する金属で形成される。ここで、遮光性とは、例えば、本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタ等に用いた際に、表示領域におけるブラックマトリックスとしての機能を発揮する程度の遮光性を有することを指す。具体的な遮光性については、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整されるため特に限定されないが、例えば、遮光率（ＯＤ値）が、２．５以上であることが好ましく、中でも２．８以上であることが好ましく、特に３．０以上であることが好ましい。なお、第１遮光部の遮光性は、ＯＳＰ−ＳＰ２００（オリンパス社製）を用いて測定することができる。 Further, the first light shielding portion in the present invention is formed of a metal having a light shielding property. Here, the light shielding property means that, for example, when the substrate with a black matrix of the present invention is used for a color filter or the like, the light shielding property is such that the function as a black matrix in the display region is exhibited. The specific light shielding property is not particularly limited because it is appropriately adjusted according to the application of the substrate with a black matrix, and for example, the light shielding ratio (OD value) is preferably 2.5 or more, and in particular, 2 It is preferably at least 8 and particularly preferably at least 3.0. The light shielding property of the first light shielding portion can be measured using OSP-SP200 (manufactured by Olympus Corporation).

このような第１遮光部は、１層で構成されていても良く、２層で構成されていても良い。 Such a first light shielding portion may be formed of one layer, or may be formed of two layers.

まず、第１遮光部が１層で構成されている場合、第１遮光部の材料には、低反射であり、かつ遮光性を有する金属が用いられる。このような材料としては、上述のように低反射であり、遮光性を有する金属であれば特に限定されないが、中でも導電性の高い材料を用いることが好ましい。また、ブラックマトリックス付基板の耐久性の観点から、酸化および硫化しにくい材料を用いることが好ましい。このような第１遮光部の具体的な材料には、例えば、窒化銅（ＣｕＮ_３）のような低反射性および導電性を有する金属材料を用いることができる。第１遮光部が１層から構成される場合に低反射の材料を用いることにより、例えば、ブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際に、視認側となる第１遮光部の下面に外光が反射することによる視認性の低下を抑制することができる。また、第１遮光部が１層から構成される場合に導電性の高い材料を用いる場合には、例えば、ブラックマトリックス付基板をタッチパネルが一体化したカラーフィルタに用いた際に、第１遮光部をセンサ用配線として有効に用いることができる。さらに、第１遮光部が１層から構成される場合に酸化および硫化しにくい材料を用いる場合には、ブラックマトリックス付基板を耐久性の高いものとすることが可能となる。 First, when the first light shielding portion is formed of a single layer, a metal that is low in reflection and has a light shielding property is used as the material of the first light shielding portion. Such a material is not particularly limited as long as it is a metal that is low in reflection and has a light shielding property as described above, but it is preferable to use a material having high conductivity. Further, from the viewpoint of the durability of the black matrix-attached substrate, it is preferable to use a material that is resistant to oxidation and sulfurization. As a specific material of such a first light shielding portion, for example, a metal material having low reflectivity and conductivity such as copper nitride (CuN ₃ ) can be used. When the first light shielding portion is formed of a single layer, for example, when a substrate with a black matrix is used for a color filter, external light is provided on the lower surface of the first light shielding portion on the visible side. It is possible to suppress a decrease in visibility due to reflection of light. When the first light shielding portion is formed of one layer, the first light shielding portion is used, for example, when a substrate with a black matrix is used as a color filter integrated with a touch panel when using a material having high conductivity. Can be effectively used as sensor wiring. Furthermore, in the case where a material that is resistant to oxidation and sulfurization is used when the first light shielding portion is formed of a single layer, it is possible to make the substrate with a black matrix highly durable.

次に、第１遮光部が２層で構成されている場合、第１遮光部の透明基板側の下層およびその上に形成される上層に用いられる材料としては、両層を合わせることにより、低反射であり、かつ遮光性を有する材料が用いられる。このような上層および下層に用いられる材料としては、上層の材料に導電性の高い材料が用いられ、第１遮光部の下層の材料に、低反射である材料が用いられることが好ましい。 Next, in the case where the first light shielding portion is composed of two layers, the lower layer of the first light shielding portion on the transparent substrate side and the upper layer formed thereon are made by combining the two layers. A material that is reflective and has a light shielding property is used. As materials used for such upper and lower layers, materials having high conductivity are preferably used as the material of the upper layer, and materials having low reflection are preferably used as the material of the lower layer of the first light shielding portion.

第１遮光部が２層で構成されている場合、第１遮光部の上層の具体的な材料には、導電性の高い材料を用いることが好ましい。このような第１遮光部の上層の材料としては、例えば、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、ＡＰＣと称される銀、パラジウム、銅の合金が汎用される。また、金属の複合体としては、ＭＡＭと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの３層構造体等も適用可能である。さらに、例えばＰＥＤＯＴ等の樹脂材料に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。
また第１遮光部の上層の具体的な材料には、酸化および硫化しにくい材料を用いることが好ましい。このような第１遮光部の上層の材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、銅、ニッケル、マンガンおよび亜鉛を含む合金、ＣｕＮ等が挙げられる。第１遮光部が２層から構成される場合には、上層の材料に高い導電性を有する材料を用いることにより、例えば、ブラックマトリックス付基板をタッチパネルが一体化したカラーフィルタに用いた際に、第１遮光部をセンサ用配線として有効に用いることができる。また、第１遮光部の上層の材料に酸化および硫化しにくい材料を用いることにより、ブラックマトリックス付基板を耐久性の高いものとすることが可能となる。 When the first light-shielding portion is formed of two layers, it is preferable to use a material having high conductivity as a specific material of the upper layer of the first light-shielding portion. As a material of the upper layer of such a 1st light-shielding part, the single-piece | unit of silver, gold | metal | money, chromium, platinum, aluminum, or the alloy which makes one of these as a main, etc. are mentioned, for example. As a metal alloy, an alloy of silver, palladium and copper called APC is generally used. In addition, as a composite of metals, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum, which is referred to as MAM, can be applied. Furthermore, for example, a conductive polymer obtained by adding the above metal to a resin material such as PEDOT can also be used.
Further, it is preferable to use a material that is resistant to oxidation and sulfurization as a specific material of the upper layer of the first light shielding portion. As a material of the upper layer of such a 1st light-shielding part, the alloy containing indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), copper, nickel, manganese, and zinc, CuN etc. are mentioned, for example. In the case where the first light shielding portion is composed of two layers, for example, when a substrate with a black matrix is used for a color filter integrated with a touch panel, by using a material having high conductivity as the material of the upper layer, The first light shielding portion can be effectively used as a sensor wiring. In addition, by using a material that is resistant to oxidation and sulfurization as the material of the upper layer of the first light shielding portion, it is possible to make the black matrix-provided substrate highly durable.

また、第１遮光部が２層で構成されている場合、第１遮光部の下層の具体的な材料には、低反射である材料を用いることが好ましい。このような第１遮光部の下層の材料としては、例えば、クロム、窒化銅（ＣｕＮ_３）等が挙げられる。第１遮光部が２層から構成される場合には、下層の材料に低反射である材料を用いることにより、例えば、ブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際に、視認側となる第１遮光部の下面に外光が反射することによる視認性の低下を抑制することができる。 When the first light shielding portion is formed of two layers, it is preferable to use a low-reflection material as a specific material of the lower layer of the first light shielding portion. The underlying material of the first light shielding portion, for example, chromium, and the like of copper nitride (CuN _3). In the case where the first light shielding portion is composed of two layers, by using a material with low reflection as the material of the lower layer, for example, when using a substrate with a black matrix as a color filter, It is possible to suppress a decrease in visibility due to the reflection of external light on the lower surface of the light shielding portion.

このような第１遮光部の上層および下層の具体的な組み合わせとしては、例えば、第１遮光部を形成する形成工程において、同一のレジストを用いて上層および下層をエッチングにより形成できる材料であることが好ましく、中でも、同一のエッチング液を用いてエッチングすることができる材料であることが好ましい。このような第１遮光部の上層および下層の組み合わせ（上層／下層）としては、例えば、銅／窒化銅（ＣｕＮ_３）のように、上層および下層に同種の金属を用いることが好ましい。 As a specific combination of the upper layer and the lower layer of such a first light shielding portion, for example, in the forming step of forming the first light shielding portion, it is a material which can be formed by etching the upper layer and the lower layer using the same resist. Among them, a material that can be etched using the same etching solution is preferable. As a combination (upper layer / lower layer) of the upper layer and the lower layer of such a first light shielding portion, it is preferable to use the same kind of metal in the upper layer and the lower layer, for example, copper / copper nitride (CuN ₃ ).

本発明における第１遮光部の線幅としては、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整されるものであり、特に限定されない。例えば、第１遮光部の線幅が、１．０μｍ〜２８μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１．５μｍ〜２３μｍの範囲内であることが好ましく、特に２．０μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。第１遮光部の線幅が上記範囲内であることにより、第１遮光部および後述する第２遮光部により画定される開口部を十分に確保することができ、例えば、本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際に、視認性への影響を抑えることができる。また、第１遮光部の抵抗値の増加を抑制することができ、さらには第１遮光部の剥離や割れを抑制することができる。ここで、第１遮光部の線幅とは、例えば、図１（ｂ）においてＷ１で示す距離をいう。 The line width of the first light-shielding portion in the present invention is appropriately adjusted according to the application of the black matrix-equipped substrate, and is not particularly limited. For example, the line width of the first light shielding portion is preferably in the range of 1.0 μm to 28 μm, more preferably in the range of 1.5 μm to 23 μm, and particularly in the range of 2.0 μm to 20 μm Is preferred. When the line width of the first light shielding portion is within the above range, an opening defined by the first light shielding portion and a second light shielding portion described later can be sufficiently secured. For example, with the black matrix of the present invention When the substrate is used for a color filter, the influence on the visibility can be suppressed. Further, an increase in the resistance value of the first light shielding portion can be suppressed, and further, peeling and cracking of the first light shielding portion can be suppressed. Here, the line width of the first light shielding portion refers to, for example, a distance indicated by W1 in FIG.

本発明における第１遮光部の厚みとしては、所望の導電性および遮光性を有する程度の厚みであれば特に限定されるものではない。例えば１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。第１遮光部の厚みが上記範囲内よりも薄い場合には、第１遮光部の抵抗が大きくなり、表示領域配線として十分に機能しないおそれがある。また、第１遮光部の厚みが上記範囲内よりも厚い場合には、第１遮光部を蒸着等により形成する際の時間やコストが増大するおそれがある。 The thickness of the first light-shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as it has a desired conductivity and light-shielding property. For example, the thickness is preferably in the range of 10 nm to 1000 nm, more preferably in the range of 50 nm to 800 nm, and particularly preferably in the range of 100 nm to 200 nm. If the thickness of the first light shielding portion is thinner than the above range, the resistance of the first light shielding portion is increased, and there is a possibility that the first light shielding portion does not function sufficiently as the display area wiring. In addition, when the thickness of the first light shielding portion is thicker than the above range, time and cost may be increased when forming the first light shielding portion by deposition or the like.

（２）第２遮光部
本発明における第２遮光部は、表示領域において、第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置される部材である。 (2) Second Light Shielding Section The second light shielding section in the present invention is a member arranged in parallel in a second direction which is a direction intersecting the first direction in the display area.

本発明における第２遮光部は、第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置される部材であり、上述した第１遮光部とともに開口部を画定することができるものであれば特に限定されない。 The second light shielding portion in the present invention is a member arranged in parallel in a second direction which is a direction intersecting the first direction, and can define an opening together with the above-described first light shielding portion. There is no particular limitation as long as it is.

本発明における第２遮光部の材料は、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜選択されるものであり特に限定されないが、例えば、後述する額縁遮光部と同一の材料で形成することができる。この場合、図２（ａ）に示すように、第１遮光部２と第２の遮光部３との交差部においては、第２遮光部３上で第１遮光部２が交差するように配置されることが好ましい。第２遮光部および額縁遮光部を同時に形成し、その後、第１遮光部を形成することができるため、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。 The material of the second light-shielding portion in the present invention is appropriately selected depending on the application of the black matrix-equipped substrate and the like, and is not particularly limited. For example, it can be formed of the same material as the frame light-shielding portion described later . In this case, as shown in FIG. 2A, at the intersection of the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3, the first light shielding portion 2 is disposed so as to intersect on the second light shielding portion 3. Preferably. Since the second light shielding portion and the frame light shielding portion can be simultaneously formed and then the first light shielding portion can be formed, the manufacturing process can be simplified.

また、本発明における第２遮光部は、上述した第１遮光部と同一の材料で形成することができる。この場合、第２遮光部と第１遮光部とが交差する交差部間の第２遮光部には、電気的に絶縁される切断部が形成されていることが好ましい。隣接する交差部の間において、第２遮光部が電気的に絶縁される切断部を有することにより、第２遮光部によって、第１の方向に並列に配置された各第１遮光部が導通することを防ぐことができる。そのため、例えばブラックマトリックス付基板を、タッチパネルが一体化したカラーフィルタに用いた際に、第１遮光部をタッチパネルの位置情報を検知するセンサ用配線として好適になる。また、第１遮光部および第２遮光部が同一の材料で形成されている場合には、第１遮光部および第２遮光部を同時に形成することができるため、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。 Further, the second light shielding portion in the present invention can be formed of the same material as the above-described first light shielding portion. In this case, it is preferable that an electrically insulated cutting portion be formed in the second light shielding portion between the intersections where the second light shielding portion and the first light shielding portion intersect. The second light shielding portion electrically connects the first light shielding portions arranged in parallel in the first direction by the second light shielding portion by providing the cutting portion in which the second light shielding portion is electrically insulated between the adjacent crossing portions. You can prevent that. Therefore, for example, when the substrate with a black matrix is used for a color filter in which a touch panel is integrated, the first light shielding portion is suitable as a sensor wiring that detects positional information of the touch panel. In addition, when the first light shielding portion and the second light shielding portion are formed of the same material, the first light shielding portion and the second light shielding portion can be formed at the same time, thus simplifying the manufacturing process. Is possible.

以下、本発明における第２遮光部が額縁遮光部と同一の材料で形成される場合と、第２遮光部が第１遮光部と同一の材料で形成される場合とに分けて説明する。 Hereinafter, the case where the second light shielding portion in the present invention is formed of the same material as the frame light shielding portion and the case where the second light shielding portion is formed of the same material as the first light shielding portion will be described.

（ａ）第２遮光部が額縁遮光部と同一材料である場合
本発明における第２遮光部が、後述する額縁遮光部と同一の材料である場合、第２遮光部の材料には、例えば、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部の材料と同様のものを用いることができる。例えば、黒色色材をバインダ樹脂に分散または溶解させたものを用いることができる。なお、遮光部の具体的な材料については、例えば、特開２００８−９０１９１号公報に記載された遮光部の材料と同様とすることができるためここでの説明は省略する。 (A) In the case where the second light shielding portion is the same material as the frame light shielding portion When the second light shielding portion in the present invention is the same material as the frame light shielding portion described later, the material of the second light shielding portion may be, for example The same material as the light shielding portion used in a general color filter can be used. For example, one in which a black colorant is dispersed or dissolved in a binder resin can be used. In addition, about the specific material of a light-shielding part, since it can be made to be the same as that of the material of the light-shielding part described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-90191, description here is abbreviate | omitted.

本発明における第２遮光部の線幅としては、本発明のブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、１μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１．５μｍ〜２８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２μｍ〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。第２遮光部の線幅が上記範囲よりも小さい場合には、第１遮光部とともに十分に開口部を画定することができないおそれがある。また、第２遮光部の線幅が上記範囲よりも大きい場合には、本発明のブラックマトリックス付基板を用いて、例えば、高精細なカラーフィルタを得ることができないおそれがある。ここで、第２遮光部の線幅とは、例えば、図１（ｂ）においてＷ２で示す距離をいう。 The line width of the second light-shielding portion in the present invention can be appropriately selected according to the application etc. of the black matrix-attached substrate of the present invention and is not particularly limited, but for example, it is in the range of 1 μm to 30 μm. Among them, the range of 1.5 μm to 28 μm is preferable, and the range of 2 μm to 25 μm is particularly preferable. If the line width of the second light shielding portion is smaller than the above range, there is a possibility that the opening can not be sufficiently defined together with the first light shielding portion. When the line width of the second light shielding portion is larger than the above range, for example, a high-definition color filter may not be obtained using the black matrix provided substrate of the present invention. Here, the line width of the second light shielding portion refers to, for example, the distance indicated by W2 in FIG.

本発明における第２遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、後述する額縁遮光部の厚み等に応じて適宜調整される。なお、第２遮光部の具体的な遮光性については、上述した第１遮光部の遮光性と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。本発明における第２遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、１μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１．５μｍ〜２８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２μｍ〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the second light-shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as the desired light-shielding property can be exhibited, and the thickness is appropriately adjusted according to the thickness of the frame light-shielding portion described later. The specific light blocking property of the second light blocking portion can be the same as the light blocking property of the first light blocking portion described above, and thus the description thereof is omitted here. The specific thickness of the second light-shielding portion in the present invention is, for example, preferably in the range of 1 μm to 30 μm, more preferably in the range of 1.5 μm to 28 μm, and particularly in the range of 2 μm to 25 μm It is preferably inside.

（ｂ）第２遮光部が第１遮光部と同一材料である場合
本発明における第２遮光部が第１遮光部と同一の材料である場合、第２遮光部の材料は、上述した第１遮光部の材料と同様とすることができる。したがって、第２遮光部が第１遮光部と同一材料である場合における第２遮光部の材料についての説明は省略する。なお、第２遮光部が第１遮光部と同一材料である場合、第２遮光部と第１遮光部とが交差する交差部間の第２遮光部には、電気的に絶縁される切断部が形成されていることが好ましい。 (B) In the case where the second light shielding portion is the same material as the first light shielding portion When the second light shielding portion in the present invention is the same material as the first light shielding portion, the material of the second light shielding portion is the first material described above. It can be made similar to the material of the light shielding part. Therefore, the description of the material of the second light shielding portion in the case where the second light shielding portion is the same material as the first light shielding portion is omitted. If the second light shielding portion is made of the same material as the first light shielding portion, the second light shielding portion between the intersections where the second light shielding portion and the first light shielding portion intersect is a cut portion electrically insulated. Is preferably formed.

本発明における第２遮光部の線幅としては、本発明のブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。なお、具体的な線幅については、上記「（ａ）第２遮光部が額縁遮光部と同一材料である場合」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The line width of the second light-shielding portion in the present invention can be appropriately selected according to the application and the like of the substrate with a black matrix of the present invention, and is not particularly limited. The specific line width can be the same as the contents described in the above-mentioned section "(a) When the second light shielding portion is the same material as the frame light shielding portion", so the description here is the same. I omit it.

本発明における第２遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、上述した第１遮光部の厚み等に応じて適宜調整される。なお、第２遮光部の具体的な遮光性については、上述した第１遮光部の遮光性と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。本発明における第２遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the second light-shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as the desired light-shielding property can be exhibited, and the thickness is appropriately adjusted according to the thickness and the like of the first light-shielding portion described above. The specific light blocking property of the second light blocking portion can be the same as the light blocking property of the first light blocking portion described above, and thus the description thereof is omitted here. The specific thickness of the second light-shielding portion in the present invention is, for example, preferably in the range of 10 nm to 1000 nm, more preferably in the range of 50 nm to 800 nm, and particularly preferably in the range of 100 nm to 200 nm. Is preferred.

（３）開口部
本発明においては、上述した第１遮光部および第２遮光部により開口部が画定される。例えば、本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いる際には、開口部に着色部が配置される。 (3) Opening In the present invention, the opening is defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion described above. For example, when using the substrate with a black matrix of the present invention for a color filter, a colored portion is disposed in the opening.

本発明における開口部は、図１（ｂ）、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、第１遮光部２および第２遮光部３により完全に囲われていても良く、図２（ｃ）に示すように、第２遮光部３が切断部Ｈを有することにより、一部囲われていない領域を有していても良い。第１遮光部および第２遮光部が同一の材料で形成される場合や、第２遮光部が導電性材料を含む場合には、第２遮光部が切断部を有し、第１遮光部および第２遮光部により一部囲われていない領域を有することが好ましい。 The opening in the present invention may be completely surrounded by the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3 as shown in FIGS. 1 (b), 2 (a) and 2 (b). As shown to (c), when the 2nd light-shielding part 3 has the cutting part H, you may have an area | region which is not enclosed in part. When the first light shielding portion and the second light shielding portion are formed of the same material, or when the second light shielding portion includes a conductive material, the second light shielding portion has a cutting portion, and the first light shielding portion It is preferable to have a region which is not partially surrounded by the second light shielding portion.

本発明における開口部の形状は、上述した第１遮光部および第２遮光部の形状や配置等に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されない。具体的な開口部の形状としては、一般的なカラーフィルタにおける開口部の形状と同様とすることができるが、例えば、例えば、ストライプ形状、くの字形状、デルタ配列等が挙げられる。また、本発明における開口部の大きさについては、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整されるものであり、特に限定されないが、高精細なブラックマトリックス付基板を得るという観点からは、開口部が広いことが好ましい。 The shape of the opening in the present invention is appropriately determined according to the shape, the arrangement, and the like of the first light shielding portion and the second light shielding portion described above, and is not particularly limited. A specific shape of the opening can be the same as the shape of the opening in a general color filter, and examples thereof include a stripe shape, a V shape, and a delta arrangement. The size of the opening in the present invention is appropriately adjusted according to the application of the black matrix-equipped substrate and is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining a high definition black matrix-coated substrate, Preferably the opening is wide.

２．非表示領域
本発明における非表示領域は、表示領域の外側に位置する領域であり、表示領域配線が配置された表面と同一の表面には、表示領域配線と接続された非表示領域配線が配置された領域である。以下、非表示領域に配置される非表示領域配線について説明する。 2. Non-Display Area The non-display area in the present invention is an area located outside the display area, and the non-display area wiring connected to the display area wiring is arranged on the same surface as the surface on which the display area wiring is arranged. Area. The non-display area wiring disposed in the non-display area will be described below.

（１）非表示領域配線
本発明における非表示領域配線は、外部と接続するための端子部と接続された部材である。ここで、「端子部と接続された」とは、端子部と電気的に接続されていることを指す。 (1) Non-Display Area Wiring The non-display area wiring in the present invention is a member connected to a terminal for connecting to the outside. Here, "connected to the terminal portion" indicates that the terminal portion is electrically connected.

本発明における非表示領域配線は、外部と接続するための端子部と接続することができるものであれば特に限定されず、本発明のブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整される。なお、非表示領域配線に用いられる材料については、上述した表示領域配線（第１遮光部）と同様とすることができ、非表示領域配線の線幅、厚み等については、タッチパネルが一体化した一般的なタッチパネル付カラーフィルタに用いられる非表示領域配線と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、端子部についても、一般的なタッチパネル付カラーフィルタにおける端子部と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The non-display area wiring in the present invention is not particularly limited as long as it can be connected to a terminal portion for connection to the outside, and is appropriately adjusted according to the application of the black matrix attached substrate of the present invention. The material used for the non-display area wiring can be the same as the display area wiring (first light shielding portion) described above, and the line width, thickness, etc. of the non-display area wiring are integrated with the touch panel. This can be the same as the non-display area wiring used for a general color filter with a touch panel, so the description here is omitted. Further, since the terminal portion can be similar to the terminal portion in a general color filter with a touch panel, the description here is omitted.

（２）額縁遮光部
本発明においては、非表示領域に、樹脂製の遮光部で形成された額縁遮光部が配置されていても良い。 (2) Frame Light Shielding Portion In the present invention, a frame light shielding portion formed of a resin light shielding portion may be arranged in the non-display area.

非表示領域に額縁遮光部が配置される場合、額縁遮光部上に、上述した非表示領域配線が配置されることが好ましい。例えば、本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタに用いた際に、非表示領域配線が視認されることを防止することができるからである。 When the frame light shielding portion is disposed in the non-display area, it is preferable that the non-display area wiring described above be disposed on the frame light shielding portion. For example, when the black matrix provided substrate of the present invention is used for a color filter, it is possible to prevent the non-display area wiring from being visually recognized.

本発明における額縁遮光部の材料には、ブラックマトリックス付基板の非表示領域に形成することが可能であり、所望の遮光性や意匠性を有する樹脂を含む材料を用いることが好ましい。額縁遮光部の材料としては、例えば、一般的なカラーフィルタの額縁遮光部に用いられる材料等が挙げられる。具体的には、上述した第２遮光部と同様の樹脂を含む材料や、後述する着色部と同様の材料等を用いることができるため、ここでの説明は省略する。 It is possible to form in the non-display area of the substrate with a black matrix as the material of the frame light shielding part in the present invention, and it is preferable to use a material containing a resin having a desired light shielding property and design property. As a material of a frame light-shielding part, the material etc. which are used for the frame light-shielding part of a common color filter are mentioned, for example. Specifically, since it is possible to use a material containing a resin similar to that of the second light shielding portion described above, a material similar to a coloring portion to be described later, and the like, the description here is omitted.

本発明における額縁遮光部の厚みは、ブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、１μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１．５μｍ〜２８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２μｍ〜２５μｍの範囲内であることが好ましい。額縁遮光部の厚みが上記範囲内であることにより、所望の遮光性や意匠性を得ることができる。 The thickness of the frame light-shielding portion in the present invention can be appropriately adjusted depending on the application of the black matrix-attached substrate and the like, and is not particularly limited, for example, preferably in the range of 1 μm to 30 μm It is preferably in the range of -28 μm, and particularly preferably in the range of 2 μm to 25 μm. When the thickness of the frame light shielding portion is in the above range, desired light shielding property and design can be obtained.

３．透明基板
本発明における透明基板は、上述した表示領域および非表示領域を構成する部材を支持する支持体である。 3. Transparent Substrate The transparent substrate in the present invention is a support for supporting the members constituting the display area and the non-display area described above.

本発明における透明基板の材料は、一般的なカラーフィルタに用いられる材料であれば特に限定されないが、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等が挙げられる。中でも無機基板を用いることが好ましく、無機基板の中でもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板の中でも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、例えば、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタに好適であるからである。 Although the material of the transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as it is a material used for a general color filter, for example, a non-flexible inorganic substrate such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, etc. And flexible resin substrates such as a transparent resin film and a resin plate for optics. Among them, it is preferable to use an inorganic substrate, and among the inorganic substrates, it is preferable to use a glass substrate. Furthermore, among the glass substrates, it is preferable to use a non-alkali type glass substrate. Alkali-free type glass substrates are excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and since they do not contain an alkali component in the glass, they are suitable for, for example, color filters used in liquid crystal displays and the like. It is.

ここで、「透明」という場合には、特段の断りがない限り、本発明のブラックマトリックス付基板が用いられた液晶表示装置等の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、本発明のブラックマトリックス付基板の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。 Here, in the case of "transparent", unless otherwise noted, the transparency of an operator such as a liquid crystal display device using the black matrix-provided substrate of the present invention does not interfere with visual recognition from the operation surface Say Therefore, "transparent" is colorless and transparent, includes colored transparency to an extent that does not interfere with visibility, is not defined by strict transmittance, and has a degree of transparency depending on the application etc. of the black matrix attached substrate of the present invention Can be determined.

本発明における透明基板の厚みとしては、各部材を支持できる程度の厚みであれば特に限定されず、本発明のブラックマトリックス付基板の用途等に応じて適宜設計が可能である。透明基板の具体的な厚みについては、一般にブラックマトリックス付基板に用いられる基板の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The thickness of the transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as it can support each member, and can be appropriately designed according to the application and the like of the substrate with a black matrix of the present invention. The specific thickness of the transparent substrate can be generally the same as the thickness of the substrate used for the black matrix-attached substrate, and the description thereof is omitted here.

４．用途
本発明のブラックマトリックス付基板は、例えば、モノクロ液晶表示装置や電子ペーパー等に用いることができる。また、本発明のブラックマトリックス付基板は、カラーフィルタの製造中間体として用いることができる。本発明のブラックマトリックス付基板をカラーフィルタの製造中間体として用いる場合、本発明のブラックマトリックス付基板は、最終的に、カラーフィルタ、タッチパネル付き表示装置、具体的には、タッチパネル付き液晶表示装置やタッチパネル付き有機ＥＬ表示装置等に用いられる。 4. Applications The black matrix-provided substrate of the present invention can be used, for example, in monochrome liquid crystal display devices and electronic paper. Further, the black matrix-provided substrate of the present invention can be used as a production intermediate of a color filter. When the black matrix attached substrate of the present invention is used as a production intermediate of a color filter, the black matrix attached substrate of the present invention finally includes a color filter, a display device with a touch panel, specifically, a liquid crystal display device with a touch panel, It is used for the organic electroluminescent display apparatus etc. with a touch panel.

Ｂ．カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、上述したブラックマトリックス付基板と、上記ブラックマトリックス付基板の上記第１遮光部および上記第２遮光部により画定される開口部に配置された着色部とを有することを特徴とするものである。 B. Color filter The color filter of the present invention comprises the above-described black matrix-provided substrate and a colored portion disposed in the opening defined by the first light-shielding portion and the second light-shielding portion of the black matrix-provided substrate. It is characterized by

本発明のカラーフィルタについて、図を用いて説明する。図３（ａ）は、本発明のカラーフィルタの一例を示す概略平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）の領域Ｘ２および領域Ｙ２を示す概略斜視図である。図３（ａ）に示すように、本発明のカラーフィルタ２００は、中心に位置する表示領域Ｘと、表示領域の外側に位置する非表示領域Ｙとを有する。また、本発明のカラーフィルタ２００は、透明基板と１と、透明基板１の一方の表面上に配置されたブラックマトリックス１０と、着色部１１（ここでは、赤色着色部１１Ｒ、緑色着色部１１Ｇ、青色着色部１１Ｂ）とを有する。表示領域Ｘ（Ｘ２）におけるブラックマトリックス１０は、方向αで示される第１の方向に並列に配置された第１遮光部２と、第１の方向に交差する方向βで示される第２の方向に並列に配置された第２遮光部３と、第１遮光部２および第２遮光部３により画定される開口部に配置された着色部１１（ここでは、赤色着色部１１Ｒ、緑色着色部１１Ｇ、青色着色部１１Ｂ）とを有し、第１遮光部２は、少なくとも透明基板１側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線である。また、非表示領域Ｙ（Ｙ２）において、表示領域Ｘが配置された表面と同一の表面には、樹脂製の遮光部で形成された額縁遮光部４が配置され、図示はしないが、非表示領域配線は、額縁遮光部４上に配置されており、非表示領域配線は外部と接続するための端子部と接続されている。 The color filter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 (a) is a schematic plan view showing an example of the color filter of the present invention, and FIG. 3 (b) is a schematic perspective view showing a region X2 and a region Y2 of FIG. 3 (a). As shown in FIG. 3A, the color filter 200 of the present invention has a display area X located at the center and a non-display area Y located outside the display area. Further, the color filter 200 of the present invention includes the transparent substrate 1, the black matrix 10 disposed on one surface of the transparent substrate 1, the colored portion 11 (here, the red colored portion 11R, the green colored portion 11G, And a blue colored portion 11B). The black matrix 10 in the display area X (X2) has a first light shielding portion 2 disposed in parallel in a first direction indicated by the direction α, and a second direction indicated by a direction β intersecting the first direction. Colored portions 11 (here, red colored portions 11R, green colored portions 11G) disposed in the openings defined by the second light shielding portion 3 and the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion 3 arranged in parallel to each other. The first light-shielding portion 2 is a display area wiring formed of a metal that has low light reflection at least on the side of the transparent substrate 1 and has a light-shielding property. Further, in the non-display area Y (Y2), the frame light-shielding portion 4 formed of a light-shielding portion made of resin is disposed on the same surface as the surface on which the display region X is disposed. The area wiring is disposed on the frame light shielding portion 4, and the non-display area wiring is connected to a terminal for connecting to the outside.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を有することにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なカラーフィルタとすることができる。なお、具体的な効果の説明については、上述した「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 According to the present invention, since the first light shielding portion has the substrate with the black matrix which is the display region wiring, it is not necessary to provide the display region wiring on the light shielding portion, and the display region wiring is accompanied by the thinning of the light shielding portion. It is possible to provide a color filter that can solve the influence, that is, the problem of alignment between the light shielding portion and the display area wiring. In addition, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of "A. board | substrate with a black matrix" mentioned above about description of a concrete effect, description here is abbreviate | omitted.

以下、本発明のカラーフィルタの各構成について説明する。 Hereafter, each structure of the color filter of this invention is demonstrated.

１．表示領域
本発明における表示領域は、ブラックマトリックス付基板の中心に位置する。また、表示領域におけるブラックマトリックスは、第１の方向に並列に配置された第１遮光部と、第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置された第２遮光部と、第１遮光部および第２遮光部により画定される開口部に配置された着色部とを有し、第１遮光部は、少なくとも透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線である。 1. Display Area The display area in the present invention is located at the center of the black matrix-attached substrate. Further, the black matrix in the display area includes a first light shielding portion arranged in parallel in the first direction and a second light shielding portion arranged in parallel in the second direction which is a direction intersecting the first direction. And a colored portion disposed in the opening defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion, wherein the first light shielding portion is formed of a metal that has low reflection at least on the transparent substrate side and has a light shielding property Display area wiring.

なお、本発明における第１遮光部、第２遮光部および開口部については、上述した「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。以下、本発明における着色部について説明する。 The first light-shielding portion, the second light-shielding portion, and the opening in the present invention can be the same as the contents described in the section “A. Substrate with black matrix” described above, so I omit it. Hereinafter, the colored part in the present invention will be described.

（１）着色部
本発明における着色部は、第１遮光部および第２遮光部により画定される開口部に配置される部材である。 (1) Colored Portion The colored portion in the present invention is a member disposed in the opening defined by the first light blocking portion and the second light blocking portion.

着色部は、例えば赤、緑、青の３色の着色部を有する。着色部の色としては、赤、緑、青の３色を少なくとも含むものであればよく、例えば、赤、緑、青の３色、赤、緑、青、黄の４色、または、赤、緑、青、黄、シアンの５色等とすることもできる。 The colored portion has, for example, three colored portions of red, green and blue. The color of the colored part may be any color including at least three colors of red, green and blue, for example, three colors of red, green and blue, four colors of red, green, blue and yellow, or red, It can also be five colors, such as green, blue, yellow and cyan.

着色部としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。着色部に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色部に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色部に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色部に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。着色部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。 As a colored part, what disperse | distributed the coloring material in binder resin can be used, for example. As a coloring material used for a coloring part, the pigment, dye, etc. of each color are mentioned. For example, as a coloring material used for a red coloring part, a perylene pigment, a lake pigment, an azo pigment, a quinacridone pigment, an anthraquinone pigment, an anthracene pigment, an isoindoline pigment, etc. are mentioned, for example. Moreover, as a coloring material used for a green coloring part, For example, phthalocyanine-based pigments, such as a halogen polysubstituted phthalocyanine pigment or a halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigment, a triphenylmethane-based basic dye, an isoindoline based pigment, an iso indoline pigment Rinon pigments and the like can be mentioned. Furthermore, as a coloring material used for a blue coloring part, a copper phthalocyanine type pigment, an anthraquinone type pigment, an indanthrene type pigment, an indophenol type pigment, a cyanine type pigment, a dioxazine type pigment etc. are mentioned, for example. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more. As a binder resin used for a coloring part, photosensitive resin which has reactive vinyl groups, such as an acrylate type, a methacrylate type, a polyvinyl cinnamate type, or a cyclization rubber type, is mentioned, for example.

着色部には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。 In the colored part, in addition to the above-mentioned materials, if necessary, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc. It can be contained.

また、着色部が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていてもよい。 In addition, on the same plane on which the colored portion is formed, a white layer containing a binder resin may be formed without containing the above-described color material.

着色部の配列は特に限定されるものではなく、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができる。 The arrangement of the colored portions is not particularly limited, and may be a known arrangement such as a stripe, mosaic, triangle, or four-pixel arrangement.

着色部の厚さとしては、カラーフィルタにおける一般的な着色部の膜厚と同様とすることができ、例えば１μｍ〜５μｍの範囲内で設定することができる。 The thickness of the colored portion can be the same as the thickness of a general colored portion in a color filter, and can be set, for example, in the range of 1 μm to 5 μm.

２．非表示領域
本発明における非表示領域は、表示領域の外側に位置する領域であり、表示領域配線が配置された表面と同一の表面には、表示領域配線と接続された非表示領域配線が配置された領域である。なお、本発明における非表示領域については、上述した「Ａ．ブラックマトリックス付基板２．非表示領域」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 2. Non-Display Area The non-display area in the present invention is an area located outside the display area, and the non-display area wiring connected to the display area wiring is arranged on the same surface as the surface on which the display area wiring is arranged. Area. The non-display area in the present invention can be the same as the contents described in the section “A. 2. Substrate with black matrix 2. Non-display area” described above, so the description here is omitted.

３．透明基板
本発明における透明基板は、上述した表示領域および非表示領域を構成する部材を支持する支持体である。なお、透明基板の具体的な説明については、上述した「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 3. Transparent Substrate The transparent substrate in the present invention is a support for supporting the members constituting the display area and the non-display area described above. The specific description of the transparent substrate can be the same as the contents described in the section “A. Substrate with Black Matrix” described above, so the description here is omitted.

４．その他
本発明のカラーフィルタは、上述した構成の他にも、必要に応じてその他の構成を有していても良い。その他の構成としては、例えば、オーバーコート層が挙げられる。 4. Others The color filter of the present invention may have other configurations as needed in addition to the above-described configurations. As another structure, an overcoat layer is mentioned, for example.

本発明において用いられるオーバーコート層は、表示領域における第１遮光部、第２遮光部および着色部を覆うように配置される。本発明のカラーフィルタがオーバーコート層を有することにより、カラーフィルタの表面を平坦化することができ、カラーフィルタを液晶表示装置等に用いた際に、視認性を向上させることが可能となる。 The overcoat layer used in the present invention is disposed to cover the first light shielding portion, the second light shielding portion, and the colored portion in the display region. When the color filter of the present invention has an overcoat layer, the surface of the color filter can be planarized, and visibility can be improved when the color filter is used for a liquid crystal display device or the like.

オーバーコート層の材料は、一般的なカラーフィルタに用いられるオーバーコート層と同様とすることができ、有機材料および無機材料のいずれも用いることができる。オーバーコート層が無機材料から構成される場合には、バリア性を付与することができる。なお、オーバーコート層の具体的な材料については、例えば特開２０１０−１６０３４５号公報で開示された材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The material of the overcoat layer can be the same as the overcoat layer used for a general color filter, and either an organic material or an inorganic material can be used. When the overcoat layer is composed of an inorganic material, barrier properties can be imparted. In addition, about the specific material of overcoat layer, since it can be made to be the same as that of the material disclosed, for example by Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-160345, description here is abbreviate | omitted.

５．用途
本発明のカラーフィルタは、各種表示装置に用いることができるが、中でも、タッチパネル付き表示装置、具体的には、タッチパネル付き液晶表示装置やタッチパネル付き有機ＥＬ表示装置等に用いることができる。 5. Applications The color filter of the present invention can be used for various display devices, but among them, it can be used for a display device with a touch panel, specifically, a liquid crystal display device with a touch panel or an organic EL display device with a touch panel.

Ｃ．ブラックマトリックス付基板の製造方法
本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法は、上述したブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、上記透明基板上に、上記額縁遮光部と上記第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程と、上記額縁遮光部および上記第２遮光部が配置された上記透明基板上に、上記表示領域配線と上記非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程とを有することを特徴とする製造方法である。以下、これを第１実施態様とする。 C. Method for producing a black matrix-attached substrate The method for producing a black matrix-attached substrate according to the present invention is a method for producing a black matrix-attached substrate according to the present invention, which comprises: A step of arranging a resin light shielding portion simultaneously arranging the second light shielding portion, the display area wiring and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding section and the second light shielding section are arranged And a wiring arrangement step of arranging at the same time. Hereinafter, this will be referred to as a first embodiment.

また、本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法は、上述したブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、上記透明基板上に、上記額縁遮光部を配置する額縁遮光部配置工程と、上記額縁遮光部が配置された上記透明基板上に、上記第２遮光部、上記表示領域配線、および上記非表示領域配線を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程とを有することを特徴とする製造方法である。以下、これを第２実施態様とする。 The method for producing a black matrix-attached substrate according to the present invention is a method for producing a black matrix-attached substrate as described above, wherein the frame light-shielding portion comprises the frame light-shielding portion disposed on the transparent substrate. An arranging step, and a second light shielding portion and a wiring arranging step for simultaneously arranging the second light shielding portion, the display area wiring, and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding portion is arranged. It is a manufacturing method characterized by the above. Hereinafter, this will be referred to as a second embodiment.

本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の第１実施態様について図を用いて説明する。図４は、本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法は、図４（ａ）に示すように、透明基板上１に、額縁遮光部４と第２遮光部３とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程と、図４（ｂ）に示すように、額縁遮光部４および第２遮光部３が配置された透明基板１上に、表示領域配線２と非表示領域配線（図示なし）とを同時に配置する配線配置工程とを有する。 The first embodiment of the method for producing a black matrix-provided substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic process drawing showing an example of the method for producing a black matrix-provided substrate of the present invention. In the method of manufacturing a black matrix-attached substrate according to the present invention, as shown in FIG. 4A, the resin light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion 4 and the second light shielding portion 3 simultaneously on the transparent substrate 1 As shown in FIG. 4B, on the transparent substrate 1 on which the frame light shielding portion 4 and the second light shielding portion 3 are disposed, the wiring for simultaneously arranging the display area wiring 2 and the non-display area wiring (not shown) And disposing.

また、本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の第２実施態様について図を用いて説明する。図５は、本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法は、図５（ａ）に示すように、透明基板１上に、額縁遮光部４を配置する額縁遮光部配置工程と、図５（ｂ）に示すように、額縁遮光部４が配置された透明基板１上に、表示領域配線（第１遮光部）２、第２遮光部３、および非表示領域配線（図示なし）を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程とを有する。 The second embodiment of the method for producing a black matrix-attached substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic process drawing showing an example of the method for producing a black matrix-provided substrate of the present invention. As shown in FIG. 5A, the method of manufacturing a black matrix-attached substrate according to the present invention includes a frame light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion 4 on the transparent substrate 1 as shown in FIG. A second light shielding portion in which the display area wiring (first light shielding section) 2, the second light shielding section 3, and the non-display area wiring (not shown) are simultaneously disposed on the transparent substrate 1 on which the frame light shielding section 4 is disposed. And a wiring placement process.

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であるブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なブラックマトリックス付基板を得ることができる。また、額縁遮光部と第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程、および表示領域配線と非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程を有することにより、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。なお、本発明の具体的な効果の説明については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
以下、本発明のブラックマトリックス付基板の製造方法について、第１実施態様および第２実施態様に分けて説明する。 According to the present invention, it is not necessary to provide the display area wiring on the light shielding section by the method for manufacturing the black matrix mounted substrate in which the first light shielding section is the display area wiring. Thus, it is possible to obtain a black matrix provided substrate capable of solving the influence on the display area wiring due to the thinning of the display area, that is, the problem of the alignment between the light shielding portion and the display area wiring. In addition, the manufacturing process can be simplified by including a resin light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion and the second light shielding portion simultaneously and a wiring arranging step of arranging the display area wiring and the non-display area wiring simultaneously. It is possible to In addition, about description of the concrete effect of this invention, since it can be made to be the same as the content described in the term of the said "A. board | substrate with a black matrix", description here is abbreviate | omitted.
Hereinafter, the method for producing a black matrix-provided substrate of the present invention will be described by dividing it into the first embodiment and the second embodiment.

１．第１実施態様
本態様のブラックマトリックス付基板の製造方法は、透明基板上に、額縁遮光部と第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程と、額縁遮光部および第２遮光部が配置された透明基板上に、表示領域配線と非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程とを有する。 1. First Embodiment In the method of manufacturing a black matrix-attached substrate according to the present embodiment, a resin light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion and the second light shielding portion simultaneously on the transparent substrate, the frame light shielding portion and the second light shielding portion And a wiring arrangement step of arranging the display area wiring and the non-display area wiring at the same time on the transparent substrate on which is arranged.

ここで、従来のブラックマトリックス付基板においては、フォトリソグラフィ法等を用いて遮光部に所定の開口部を形成している。そのため、例えば図１０に示すように、開口部のコーナーが丸みを帯びてしまう場合があり、開口部が狭まってしまうという問題がある。一方、本態様によれば、第１の方向に並列に配置された第１遮光部（表示領域配線）、および第１の方向に交差する第２の方向に並列に配置された第２遮光部を別の工程により形成することができるため、フォトリソグラフィ法等を用いて一度の工程で開口部を形成した場合のように、開口部のコーナーが丸みを帯びてしまうといった問題を回避することができる。すなわち、本態様においては、開口部を囲う各辺をそれぞれ別体の部材によりそれぞれ形成することができるため、従来に比べてより広い開口部を確保することが可能となると考えられる。 Here, in the conventional black matrix-provided substrate, a predetermined opening is formed in the light shielding portion using a photolithography method or the like. Therefore, for example, as shown in FIG. 10, the corners of the opening may be rounded, and the opening may be narrowed. On the other hand, according to this aspect, the first light shielding portion (display area wiring) arranged in parallel in the first direction, and the second light shielding portion arranged in parallel in the second direction crossing the first direction. Can be formed by another process, so that the problem that the corners of the opening are rounded as in the case where the opening is formed in one process using a photolithography method or the like can be avoided. it can. That is, in this aspect, since the sides surrounding the opening can be respectively formed by separate members, it is considered possible to secure a wider opening than in the prior art.

以下、本態様のブラックマトリックス付基板の製造方法に含まれる各工程について説明する。 Hereinafter, each process included in the method for manufacturing a black matrix-provided substrate of the present embodiment will be described.

（１）樹脂製遮光部配置工程
本態様における樹脂製遮光部配置工程は、透明基板上に、額縁遮光部と第２遮光部とを同時に配置する工程である。なお、透明基板、額縁遮光部および第２遮光部については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。 (1) Resin-made light-shielding part arrangement | positioning process The resin-made light-shielding part arrangement | positioning process in this aspect is a process of arrange | positioning a frame light-shielding part and a 2nd light-shielding part simultaneously on a transparent substrate. The transparent substrate, the frame light shielding portion, and the second light shielding portion are the same as the contents described in the section “A. Substrate with Black Matrix”, and therefore the description thereof is omitted here.

本態様における樹脂製遮光部配置工程は、透明基板上に、額縁遮光部と第２遮光部とを同時に配置することができる工程であれば特に限定されない。具体的な樹脂製遮光部配置工程としては、例えば、透明基板上に、額縁遮光部および第２遮光部の構成材料を成膜する方法が挙げられる。成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、塗布法等が挙げられる。また、パターニング方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法によりエッチングする方法が挙げられる。なお、具体的な樹脂製遮光部配置工程については、一般的なカラーフィルタにおける樹脂製遮光部配置工程と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The resin-made light-shielding part arrangement | positioning process in this aspect will not be specifically limited if it is a process which can arrange | position a frame light-shielding part and a 2nd light-shielding part simultaneously on a transparent substrate. As a specific resin-made light-shielding part arrangement | positioning process, the method of forming the film forming material of a frame light-shielding part and a 2nd light-shielding part on a transparent substrate is mentioned, for example. As a film-forming method, sputtering method, a vacuum evaporation method, the apply | coating method etc. are mentioned, for example. Moreover, as a patterning method, the method of etching by photolithography method is mentioned, for example. The specific resin light shielding portion arranging step can be the same as the resin light shielding portion arranging step in a general color filter, and thus the description thereof is omitted here.

（２）配線配置工程
本態様における配線配置工程は、額縁遮光部および第２遮光部が配置された透明基板上に、表示領域配線と非表示領域配線とを同時に配置する工程である。なお、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。 (2) Wiring Arrangement Step The wiring arrangement step in this aspect is a step of simultaneously arranging the display area wiring and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding portion and the second light shielding portion are arranged. The display area wiring (first light shielding portion) and the non-display area wiring are the same as the contents described in the section “A. Substrate with black matrix”, and therefore the description thereof is omitted here.

本発明における配線配置工程は、額縁遮光部および第２遮光部が配置された透明基板上に、表示領域配線と非表示領域配線とを同時に配置することができる工程であれば特に限定されない。具体的な配線配置工程としては、例えば、透明基板上に、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線の構成材料を成膜し、次いで所定の形状にパターニングする方法が挙げられる。成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、塗布法等が挙げられる。また、エッチング方法としては、ポジ型レジストを用いたエッチング方法が挙げられる。なお、具体的な配線配置工程については、タッチパネルが一体化した一般的なタッチパネル付カラーフィルタにおける配線配置工程と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。さらに、配線配置工程としては、例えば、透明基板上に、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線の構成材料として、金属ナノ粒子を含有するインクを、吐出法等によりパターン状に形成する方法も挙げられる。 The wiring arrangement step in the present invention is not particularly limited as long as the display area wiring and the non-display area wiring can be simultaneously arranged on the transparent substrate on which the frame light shielding portion and the second light shielding portion are arranged. As a specific wiring arrangement step, for example, there is a method of forming a film of a constituent material of the display area wiring (first light shielding portion) and the non-display area wiring on a transparent substrate and then patterning it into a predetermined shape. As a film-forming method, sputtering method, a vacuum evaporation method, the apply | coating method etc. are mentioned, for example. Further, as an etching method, an etching method using a positive resist is mentioned. In addition, about a specific wiring arrangement process, since it can be made to be the same as the wiring arrangement process in the general color filter with a touch panel which the touch panel integrated, the description here is omitted. Furthermore, in the wiring arrangement step, for example, an ink containing metal nanoparticles as a constituent material of the display area wiring (the first light shielding portion) and the non-display area wiring on a transparent substrate is patterned in a discharge pattern or the like. Methods to form are also mentioned.

２．第２実施態様
本態様のブラックマトリックス付基板の製造方法は、上記透明基板上に、上記額縁遮光部を配置する額縁遮光部配置工程と、上記額縁遮光部が配置された上記透明基板上に、上記第２遮光部、上記表示領域配線、および上記非表示領域配線を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程とを有する。
以下、本態様のブラックマトリックス付基板の製造方法に含まれる各工程について説明する。 2. Second Embodiment In the method of manufacturing a black matrix-attached substrate according to the present embodiment, a frame light shielding portion disposing step of disposing the frame light shielding portion on the transparent substrate, and a transparent substrate on the frame light shielding portion. And a second light shielding portion for simultaneously arranging the second light shielding portion, the display area wiring, and the non-display area wiring, and a wiring arranging step.
Hereinafter, each process included in the method for manufacturing a black matrix-provided substrate of the present embodiment will be described.

（１）額縁遮光部配置工程
本態様における額縁遮光部配置工程は、透明基板上に、額縁遮光部を配置する工程である。なお、透明基板および額縁遮光部については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。 (1) Frame Light-Shielding Portion Arrangement Step The frame light-shielding portion arrangement step in this aspect is a step of arranging a frame light-shielding portion on a transparent substrate. In addition, about a transparent substrate and a frame light-shielding part, since it is the same as the content described in the said "A. board | substrate with a black matrix", description here is abbreviate | omitted.

本態様における額縁遮光部配置工程は、透明基板上に、額縁遮光部を配置することができる工程であれば特に限定されない。具体的な額縁遮光部配置工程としては、例えば、透明基板上に、額縁遮光部の構成材料を成膜する方法が挙げられる。成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、塗布法等が挙げられる。また、パターニング方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法によりエッチングする方法が挙げられる。なお、具体的な額縁遮光部配置工程については、一般的なカラーフィルタにおける額縁遮光部配置工程と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The frame light shielding part arranging step in this aspect is not particularly limited as long as the frame light shielding part can be arranged on the transparent substrate. As a specific frame light-shielding part arrangement | positioning process, the method of film-forming the constituent material of a frame light-shielding part on a transparent substrate is mentioned, for example. As a film-forming method, sputtering method, a vacuum evaporation method, the apply | coating method etc. are mentioned, for example. Moreover, as a patterning method, the method of etching by photolithography method is mentioned, for example. In addition, since it can be made to be the same as that of the frame light-shielding part arrangement | positioning process in a general color filter about a specific frame light-shielding part arrangement | positioning process, description here is abbreviate | omitted.

（２）第２遮光部および配線配置工程
本態様における第２遮光部および配線配置工程は、額縁遮光部が配置された透明基板上に、第２遮光部、表示領域配線、および非表示領域配線を同時に配置する工程である。なお、第２遮光部、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。 (2) Second Light-Shielding Section and Wiring Arrangement Process The second light-shielding section and the wiring arrangement process in this aspect are the second light shielding section, the display area wiring, and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding section is arranged. It is the process of arranging at the same time. The second light-shielding portion, the display area wiring (first light-shielding portion), and the non-display area wiring are the same as the contents described in the section "A. Substrate with black matrix" above, so I omit it.

本発明における第２遮光部および配線配置工程は、額縁遮光部が配置された透明基板上に、第２遮光部、表示領域配線、および非表示領域配線を同時に配置することができる工程であれば特に限定されない。具体的な第２遮光部および配線配置工程としては、例えば、透明基板上に、第２遮光部、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線の構成材料を成膜し、次いで所定の形状にパターニングする方法が挙げられる。成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、塗布法等が挙げられる。また、エッチング方法としては、ポジ型レジストを用いたエッチング方法が挙げられる。なお、具体的な第２遮光部および配線配置工程については、タッチパネルが一体化した一般的なタッチパネル付カラーフィルタにおける第２遮光部および配線配置工程と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。さらに、第２遮光部および配線配置工程としては、例えば、透明基板上に、第２遮光部、表示領域配線（第１遮光部）および非表示領域配線の構成材料として、金属ナノ粒子を含有するインクを、吐出法等によりパターン状に形成する方法も挙げられる。 The second light shielding portion and the wiring disposing step in the present invention are steps capable of simultaneously disposing the second light shielding portion, the display area wiring, and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding portion is arranged. It is not particularly limited. As a specific second light shielding portion and wiring disposing step, for example, a constituent material of the second light shielding portion, the display area wiring (first light shielding portion) and the non-display area wiring is formed on a transparent substrate, The method of patterning in the shape of is mentioned. As a film-forming method, sputtering method, a vacuum evaporation method, the apply | coating method etc. are mentioned, for example. Further, as an etching method, an etching method using a positive resist is mentioned. The specific second light-shielding portion and the wiring arrangement step can be similar to the second light-shielding portion and the wiring arrangement step in a general color filter with a touch panel integrated with a touch panel, and thus the description herein Is omitted. Furthermore, as the second light shielding portion and the wiring disposing step, for example, metal nanoparticles are contained on the transparent substrate as a constituent material of the second light shielding portion, the display area wiring (first light shielding portion) and the non-display area wiring. There is also a method of forming the ink in a pattern by a discharge method or the like.

Ｄ．カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述したブラックマトリックス付基板の製造方法によりブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板製造工程と、上記ブラックマトリックス付基板製造工程により得られた上記ブラックマトリックス付基板の上記第１遮光部および上記第２遮光部により画定される開口部に、着色部を配置する着色部配置工程とを有することを特徴とする製造方法である。 D. Method of Manufacturing Color Filter The method of manufacturing a color filter of the present invention can be obtained by the process of manufacturing a black matrix-coated substrate which manufactures a substrate with a black matrix by the above-described method of manufacturing a black matrix-coated substrate And a colored portion disposing step of disposing a colored portion in an opening portion defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion of the black matrix provided substrate.

本発明のカラーフィルタの製造方法について図を用いて説明する。図６は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略工程図である。図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、本発明のカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリックス付基板製造工程により得られたブラックマトリックス付基板の第１遮光部２および上記第２遮光部３により画定される開口部１３に、着色部１１（ここでは、赤色着色部１１Ｒ、緑色着色部１１Ｇ、青色着色部１１Ｂ）を配置する着色部配置工程を有する。なお、図６（ａ）〜（ｃ）において説明していない符号については、図４（ａ）、（ｂ）と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、ここでは、ブラックマトリックス付基板製造工程として、「Ｃ．ブラックマトリックス付基板の製造方法」の項に記載した第１実施態様を用いた例を挙げたが、ブラックマトリックス付基板製造工程として、「Ｃ．ブラックマトリックス付基板の製造方法」の項に記載した第２実施態様を用いることもできる。 The method for producing a color filter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a schematic process drawing showing an example of the method for producing a color filter of the present invention. As shown in FIGS. 6 (a) to 6 (c), according to the method of manufacturing a color filter of the present invention, the first light shielding portion 2 and the second light shielding portion of the black matrix attached substrate obtained by the black matrix attached substrate manufacturing step. A colored portion arranging step of arranging colored portions 11 (here, a red colored portion 11R, a green colored portion 11G, and a blue colored portion 11B) in the opening 13 defined by 3 is provided. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG. 6 (a)-(c), since it can be made to be the same as that of FIG. 4 (a), (b), description here is abbreviate | omitted. In addition, although the example using the first embodiment described in the section “C. Method of manufacturing a black matrix-equipped substrate” is described here as the process of manufacturing the black matrix-coated substrate, as the black matrix-equipped substrate manufacturing process, It is also possible to use the second embodiment described in the section "C. Method for producing a black matrix-attached substrate".

本発明によれば、第１遮光部が表示領域配線であることにより、表示領域配線を遮光部上に設ける必要がなくなり、遮光部の細線化に伴う表示領域配線への影響、すなわち、遮光部と表示領域配線との位置合わせの問題を解決することが可能なカラーフィルタを得ることができる。なお、本発明の具体的な効果の説明については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、本発明におけるブラックマトリックス付基板製造工程については、上述した「Ｃ．ブラックマトリックス付基板の製造方法」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法に含まれる着色部配置工程について説明する。 According to the present invention, since the first light shielding portion is the display region wiring, it is not necessary to provide the display region wiring on the light shielding portion, and the influence on the display region wiring due to thinning of the light shielding portion, ie, the light shielding portion It is possible to obtain a color filter that can solve the problem of alignment between the pixel and the display area wiring. In addition, about description of the concrete effect of this invention, since it can be made to be the same as the content described in the term of the said "A. board | substrate with a black matrix", description here is abbreviate | omitted.
In addition, since the process for producing a black matrix-attached substrate in the present invention can be the same as the contents described in the section "C. Method for producing a black matrix-attached substrate" described above, the description here is omitted.
Hereinafter, the coloring part arrangement | positioning process included in the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated.

１．着色部配置工程
本発明における着色部配置工程は、第１遮光部および第２遮光部により画定される開口部に、着色部を配置する工程である。なお、着色部については、上記「Ａ．ブラックマトリックス付基板」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。 1. Colored Portion Arrangement Step The colored portion arrangement step in the present invention is a step of arranging the colored portion in the opening defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion. In addition, about a coloring part, since it is the same as the content described in the term of said "A. board | substrate with a black matrix", description here is abbreviate | omitted.

本発明における着色部配置工程は、第１遮光部および第２遮光部により画定される開口部に、着色部を配置することができる工程であれば特に限定されない。着色部配置工程においては、着色部の構成材料を、各開口部にパターン状に配置しても良く、着色部の構成材料を、複数の開口部上に帯状に配置しても良い。具体的な着色部の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。 The colored portion disposing step in the present invention is not particularly limited as long as the colored portion can be disposed in the opening defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion. In the colored part disposing step, the constituent material of the colored part may be disposed in a pattern at each opening, or the constituent material of the colored part may be disposed in a band shape on a plurality of openings. As a specific formation method of a coloring part, the photolithography method, the inkjet method, the printing method etc. are mentioned, for example.

２．その他の工程
本発明のカラーフィルタの製造方法は、少なくとも上述した工程を有していれば良く、必要に応じてその他の工程を有していても良い。その他の工程としては、第１遮光部、第２遮光部および着色部を覆うようにオーバーコート層を配置するオーバーコート層配置工程が挙げられる。なお、オーバーコート層の具体的な配置方法については、一般的なカラーフィルタに用いられるオーバーコート層の配置方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 2. Other Steps The method for producing a color filter of the present invention may have at least the above-described steps, and may include other steps as necessary. As another process, the overcoat layer arrangement | positioning process which arrange | positions overcoat layer so that a 1st light-shielding part, a 2nd light-shielding part, and a coloring part may be covered is mentioned. The specific arrangement method of the overcoat layer can be the same as the arrangement method of the overcoat layer used for a general color filter, so the description here is omitted.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an exemplification, and it has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any one having the same function and effect can be used. It is included in the technical scope of the invention.

１ …透明基板
２ …第１遮光部
３ …第２遮光部
４ …額縁遮光部
１１ …着色部
１００ …ブラックマトリックス付基板
２００ …カラーフィルタ
Ｘ …表示領域
Ｙ …非表示領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... 1st light-shielding part 3 ... 2nd light-shielding part 4 ... Frame light-shielding part 11 ... coloring part 100 ... Substrate with black matrix 200 ... Color filter X ... Display area Y ... Non-display area

Claims

透明基板と、前記透明基板の一方の表面上に配置されたブラックマトリックスと、を有するブラックマトリックス付基板であって、
前記ブラックマトリックス付基板は、表示領域と、前記表示領域の外側に位置する非表示領域とを有し、
前記表示領域における前記ブラックマトリックスは、第１の方向に並列に配置された第１遮光部と、前記第１の方向に交差する方向である第２の方向に並列に配置された第２遮光部とを有し、
前記第１遮光部は、少なくとも前記透明基板側が低反射であり、かつ遮光性を有する金属で形成された表示領域配線であり、
前記透明基板の前記非表示領域であり、かつ前記表示領域配線が配置された表面と同一の表面には、前記表示領域配線と接続された非表示領域配線が配置されており、前記非表示領域配線は外部と接続するための端子部と接続されており、
前記非表示領域には、樹脂製の遮光部で形成された額縁遮光部が配置され、前記非表示領域配線は、前記額縁遮光部上に配置されていることを特徴とするブラックマトリックス付基板。 A black matrix provided substrate comprising: a transparent substrate; and a black matrix disposed on one surface of the transparent substrate,
The substrate with black matrix has a display area and a non-display area located outside the display area,
The black matrix in the display area is a first light shielding portion arranged in parallel in a first direction and a second light shielding portion arranged in parallel in a second direction which is a direction intersecting the first direction. Have and
The first light shielding portion is a display area wiring formed of a metal that has low light reflection at least on the side of the transparent substrate and has a light shielding property,
A non-display area wiring connected to the display area wiring is disposed on the same surface as the non-display area of the transparent substrate and on the surface on which the display area wiring is disposed, and the non-display area The wiring is connected to the terminal for connection to the outside ,
In the non-display area, a frame light-shielding portion formed of a resin light-shielding portion is disposed, and the non-display area wiring is disposed on the frame light-shielding portion .

前記第２遮光部は、前記額縁遮光部と同一の材料で形成されており、前記第１遮光部と前記第２遮光部との交差部においては、前記第２遮光部の前記透明基板とは反対側の表面上で前記第１遮光部が交差するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載のブラックマトリックス付基板。 The second light shielding portion is formed of the same material as the frame light shielding portion, and the crossing portion between the first light shielding portion and the second light shielding portion is the transparent substrate of the second light shielding portion. The substrate with a black matrix according to claim 1, wherein the first light shields are arranged to cross each other on the surface on the opposite side.

前記第２遮光部は、前記第１遮光部と同一の材料で形成され、前記第２遮光部と前記第１遮光部とが交差する交差部間の前記第２遮光部には、電気的に絶縁される切断部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のブラックマトリックス付基板。 The second light shielding portion is formed of the same material as the first light shielding portion, and the second light shielding portion between crossing portions where the second light shielding portion and the first light shielding portion intersect is electrically The black matrix-attached substrate according to claim 1 , wherein the cut portion to be insulated is formed.

請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のブラックマトリックス付基板と、前記ブラックマトリックス付基板の前記第１遮光部および前記第２遮光部により画定される開口部に配置された着色部とを有することを特徴とするカラーフィルタ。 The black matrix provided substrate according to any one of claims 1 to 3 and the opening portion defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion of the black matrix provided substrate And a colored portion.

請求項２に記載のブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、前記額縁遮光部と前記第２遮光部とを同時に配置する樹脂製遮光部配置工程と、
前記額縁遮光部および前記第２遮光部が配置された前記透明基板上に、前記表示領域配線と前記非表示領域配線とを同時に配置する配線配置工程と、を有することを特徴とするブラックマトリックス付基板の製造方法。 A method of manufacturing a black matrix-coated substrate according to claim 2 , wherein the black matrix-coated substrate is manufactured.
A resin light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion and the second light shielding portion simultaneously on the transparent substrate;
Providing a black matrix including a step of simultaneously arranging the display area wiring and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding portion and the second light shielding portion are arranged. Method of manufacturing a substrate

請求項３に記載のブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、前記額縁遮光部を配置する額縁遮光部配置工程と、
前記額縁遮光部が配置された前記透明基板上に、前記第２遮光部、前記表示領域配線、および前記非表示領域配線を同時に配置する第２遮光部および配線配置工程と、を有することを特徴とするブラックマトリックス付基板の製造方法。 A method of manufacturing a black matrix-coated substrate according to claim 3 , wherein the black matrix-coated substrate is manufactured.
A frame light shielding portion arranging step of arranging the frame light shielding portion on the transparent substrate;
A second light shielding portion and a wiring arranging step of simultaneously arranging the second light shielding portion, the display area wiring, and the non-display area wiring on the transparent substrate on which the frame light shielding portion is arranged; Method of manufacturing a black matrix-provided substrate

請求項５または請求項６に記載のブラックマトリックス付基板の製造方法によりブラックマトリックス付基板を製造するブラックマトリックス付基板製造工程と、
前記ブラックマトリックス付基板製造工程により得られた前記ブラックマトリックス付基板の前記第１遮光部および前記第２遮光部により画定される開口部に、着色部を配置する着色部配置工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 A process for producing a black matrix-provided substrate, which comprises producing a black matrix-provided substrate by the method for producing a black matrix-provided substrate according to claim 5 or 6 ;
A colored portion disposing step of disposing a colored portion in an opening portion defined by the first light shielding portion and the second light shielding portion of the black matrix attached substrate obtained by the black matrix attached substrate manufacturing step; A method of manufacturing a color filter characterized by