JP6517520B2 - 監視装置、イオン注入装置、及び監視方法 - Google Patents
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Description
12 生成照射部
20 ファラデーカップ
30 監視装置
38 フィルタ回路
40 A/D変換回路
50 表示部
52 算出部
54 制御部
Claims (6)
- イオンビームの照射を受けることで生じるビーム電流を検出して出力する検知出力部を有するイオン注入装置の前記検知出力部から出力される前記ビーム電流に含まれるノイズを監視する監視装置であって、
前記ノイズと認められる高周波成分として事前に知得された高周波成分を抽出するハイパスフィルタと、前記ノイズと認められる低周波成分として事前に知得された低周波成分を抽出するローパスフィルタとを有し、前記ハイパスフィルタにより抽出される前記高周波成分及び前記ローパスフィルタにより抽出される前記低周波成分のうちの少なくとも一方を出力するフィルタ部と、
前記ビーム電流の前記高周波成分の含有率に相当する値、及び前記ビーム電流の前記低周波成分の含有率に相当する値の少なくとも一方を算出する算出部と、
を含む監視装置。 - 前記フィルタ部は、前記高周波成分及び前記低周波成分をアナログ信号で出力し、
前記アナログ信号をデジタル信号に変換するA/D変換部を更に含み、
前記算出部は、前記デジタル信号を用いて前記値を算出し、算出した前記値を表示部に表示させる請求項1に記載の監視装置。 - 前記算出部により算出された前記値が閾値を超えた場合に、前記イオンビームが抑制されるように前記イオン注入装置を制御する制御部を更に含む請求項1又は請求項2に記載の監視装置。
- 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の監視装置と、
前記イオンビームを生成して照射する生成照射部と、
前記検知出力部と、を含み、
前記検知出力部は、前記生成照射部により前記イオンビームの照射を受けることで生じる前記ビーム電流を検知して前記監視装置に出力する
イオン注入装置。 - バッチ式の処理を行う請求項4に記載のイオン注入装置。
- イオンビームの照射を受けることで生じるビーム電流を検出して出力する検知出力部を有するイオン注入装置の前記検知出力部から出力される前記ビーム電流に含まれるノイズを監視する監視方法であって、
前記ノイズと認められる高周波成分として事前に知得された高周波成分を抽出するハイパスフィルタと、前記ノイズと認められる低周波成分として事前に知得された低周波成分を抽出するローパスフィルタとを有し、前記ハイパスフィルタにより抽出される前記高周波成分及び前記ローパスフィルタにより抽出される前記低周波成分のうちの少なくとも一方を出力し、
前記ビーム電流の前記高周波成分の含有率に相当する値、及び前記ビーム電流の前記低周波成分の含有率に相当する値の少なくとも一方を算出することを含む監視方法。
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