JP6512484B2 - 微粒子製造装置及び製造方法 - Google Patents
微粒子製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6512484B2 JP6512484B2 JP2016061967A JP2016061967A JP6512484B2 JP 6512484 B2 JP6512484 B2 JP 6512484B2 JP 2016061967 A JP2016061967 A JP 2016061967A JP 2016061967 A JP2016061967 A JP 2016061967A JP 6512484 B2 JP6512484 B2 JP 6512484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- vacuum chamber
- wall
- electrode
- inner chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/02—Making microcapsules or microballoons
- B01J13/04—Making microcapsules or microballoons by physical processes, e.g. drying, spraying
- B01J13/046—Making microcapsules or microballoons by physical processes, e.g. drying, spraying combined with gelification or coagulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
- H01J37/32825—Working under atmospheric pressure or higher
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
- B01J2219/0813—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes employing four electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0826—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear
- B01J2219/0828—Wires
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0826—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear
- B01J2219/083—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear cylindrical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0837—Details relating to the material of the electrodes
- B01J2219/0839—Carbon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0875—Gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0881—Two or more materials
- B01J2219/0886—Gas-solid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
- B01J2219/0898—Hot plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/339—Synthesising components
Description
前記真空チャンバーに接続されて、材料の粒を前記真空チャンバー内に材料供給口から供給する材料供給装置と、
前記真空チャンバーに配置して前記真空チャンバー内のプラズマ生成領域でプラズマを発生させる電極と、
前記真空チャンバーに接続されて、前記真空チャンバーから排出された微粒子を回収する回収装置とを有し、
前記真空チャンバー内で発生させた前記プラズマにより、前記材料供給装置から供給された前記材料から前記微粒子を製造する微粒子製造装置であって、
前記真空チャンバーの壁と前記プラズマ生成領域との間に、前記真空チャンバーの前記壁との間に外側空間を設けるインナーチャンバーを設置し、さらに前記真空チャンバーの前記壁と前記インナーチャンバーの壁との間の前記外側空間にガスを供給するガス供給管を備えるとともに、
前記インナーチャンバーの前記壁に前記電極が通過できる電極貫通穴を設け、前記真空チャンバーと前記インナーチャンバーとの間の前記外側空間に前記ガス供給管から導入した前記ガスを、前記電極と前記電極貫通穴との隙間から前記インナーチャンバーの内側の空間に導入する。
次いで、前記真空チャンバーに設置した電極により前記インナーチャンバーの内側の空間の前記プラズマ生成領域に熱プラズマを生成し、
次いで、材料の粒が真空チャンバーに供給され、供給された前記材料の粒が前記生成された熱プラズマの生成領域中を通過するときに、蒸発又は気化して材料ガスとなり、
さらに、前記材料ガスが前記熱プラズマの領域から抜けた瞬間、前記材料ガスが急激に冷やされて微粒子を生成する一方、
前記ガス供給時に、前記外側空間に供給した前記ガスを、前記インナーチャンバーの前記壁に設けられて前記電極が通過できる電極貫通穴と前記電極との隙間から、前記インナーチャンバーの内側の空間に導入する。
図1は、第1実施形態に係わる微粒子製造装置の概略縦断面図を示す。図2は、第1実施形態に係わる微粒子製造装置において電極部分を横方向に切断した状態での概略断面平面図を示す。図3は、第1実施形態でのプロセスフローを示す。図1〜図3を用いて、一例として、シリコンのナノメートルオーダーの微粒子を製造する例を説明する。
3 微粒子回収部
4 電極
4a 電極駆動装置
5(5−1,5−2,5−3,…,5−n) 交流電源
10 材料供給装置
11 材料供給管
12 材料供給口
13 反応室壁
14 ガス供給管
15 ガス供給管
20 配管
21 圧力調整バルブ
22 循環ポンプ
26 流量調整器
27 ガス供給装置
30 材料粒子
31 アーク放電
32 微粒子
51 インナーチャンバー
51a 壁
52 板
53 板
54 貫通穴
100 制御装置
115 インナーチャンバーの外側の空間
116 インナーチャンバーの内側の空間
154 隙間
Claims (9)
- 真空チャンバーと、
前記真空チャンバーに接続されて、材料の粒を前記真空チャンバー内に材料供給口から供給する材料供給装置と、
前記真空チャンバーに配置して前記真空チャンバー内のプラズマ生成領域でプラズマを発生させる電極と、
前記真空チャンバーに接続されて、前記真空チャンバーから排出された微粒子を回収する回収装置とを有し、
前記真空チャンバー内で発生させた前記プラズマにより、前記材料供給装置から供給された前記材料から前記微粒子を製造する微粒子製造装置であって、
前記真空チャンバーの壁と前記プラズマ生成領域との間に、前記真空チャンバーの前記壁との間に外側空間を設けるインナーチャンバーを設置し、さらに前記真空チャンバーの前記壁と前記インナーチャンバーの壁との間の前記外側空間にガスを供給するガス供給管を備えるとともに、
前記インナーチャンバーの前記壁に前記電極が通過できる電極貫通穴を設け、前記真空チャンバーと前記インナーチャンバーとの間の前記外側空間に前記ガス供給管から導入した前記ガスを、前記電極と前記電極貫通穴との隙間から前記インナーチャンバーの内側の空間に導入する、微粒子製造装置。 - 前記ガス供給管から前記外側空間に前記ガスを供給することで、前記真空チャンバーの前記壁と前記インナーチャンバーの前記壁との間の前記インナーチャンバーの前記外側空間の圧力が前記インナーチャンバーの内側の空間の圧力よりも高くしている、請求項1に記載の微粒子製造装置。
- 前記真空チャンバーの前記壁の温度よりも前記インナーチャンバーの温度が高く、前記真空チャンバーと前記インナーチャンバーとの間に導入するガス温度より前記インナーチャンバー内に導入するガス温度が高い、請求項1又は2に記載の微粒子製造装置。
- 前記プラズマを発生させる前記電極は、先端が前記真空チャンバー内に突出して前記プラズマを発生させる複数本の電極である、請求項1〜3のいずれか1つに記載の微粒子製造装置。
- 前記プラズマを発生させる前記電極は、複数本の電極であって、
前記複数本の電極にそれぞれ接続されて、其々、位相の異なる電力を供給する交流電源をさらに備えて、前記交流電源から前記複数本の電極のそれぞれに前記位相の異なる電力が供給されて、アーク放電を生成させて前記プラズマを発生させる、請求項1〜4のいずれか1つに記載の微粒子製造装置。 - 前記インナーチャンバーが炭素材料からなる、請求項1〜5のいずれか1つに記載の微粒子製造装置。
- 前記電極が炭素材料からなる、請求項1〜6のいずれか1つに記載の微粒子製造装置。
- 真空チャンバーにガスを供給するとともに、前記真空チャンバーの壁と、前記真空チャンバーの前記壁とプラズマ生成領域との間に配置されたインナーチャンバーの壁と前記真空チャンバーの前記壁との間の外側空間にもガスを供給し、
次いで、前記真空チャンバーに設置した電極により前記インナーチャンバーの内側の空間の前記プラズマ生成領域に熱プラズマを生成し、
次いで、材料の粒が真空チャンバーに供給され、供給された前記材料の粒が前記生成された熱プラズマの生成領域中を通過するときに、蒸発又は気化して材料ガスとなり、
さらに、前記材料ガスが前記熱プラズマの領域から抜けた瞬間、前記材料ガスが急激に冷やされて微粒子を生成する一方、
前記ガス供給時に、前記外側空間に供給した前記ガスを、前記インナーチャンバーの前記壁に設けられて前記電極が通過できる電極貫通穴と前記電極との隙間から、前記インナーチャンバーの内側の空間に導入する、微粒子製造方法。 - 前記電極は複数本の電極であり、
前記熱プラズマは、位相が互いに異なる電力を交流電源から前記複数本の電極に其々供給して、パルス状に放電させるアーク放電である、請求項8に記載の微粒子製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061967A JP6512484B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 微粒子製造装置及び製造方法 |
CN201710075012.4A CN107224944B (zh) | 2016-03-25 | 2017-02-10 | 微粒子制造装置以及制造方法 |
US15/430,439 US10363540B2 (en) | 2016-03-25 | 2017-02-10 | Production apparatus and production method for fine particles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016061967A JP6512484B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 微粒子製造装置及び製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017170402A JP2017170402A (ja) | 2017-09-28 |
JP6512484B2 true JP6512484B2 (ja) | 2019-05-15 |
Family
ID=59896302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016061967A Active JP6512484B2 (ja) | 2016-03-25 | 2016-03-25 | 微粒子製造装置及び製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10363540B2 (ja) |
JP (1) | JP6512484B2 (ja) |
CN (1) | CN107224944B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017075686A1 (en) * | 2015-11-03 | 2017-05-11 | Responsible Energy Inc. | System and apparatus for processing material to generate syngas in a modular architecture |
CN108203880A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-26 | 耐途隆株式会社 | 纤维的功能性物质吸附装置 |
US10974220B2 (en) | 2018-02-09 | 2021-04-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Fine particle producing apparatus and fine particle producing method |
WO2020015156A1 (zh) * | 2018-07-16 | 2020-01-23 | 卢驭龙 | 电加热装置和电焰灶 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2659807B2 (ja) | 1989-01-26 | 1997-09-30 | 万鎔工業株式会社 | 直接製錬方法 |
JPH0693310A (ja) * | 1991-12-19 | 1994-04-05 | Chubu Electric Power Co Inc | 金属微粒子製造装置 |
FR2764280B1 (fr) * | 1997-06-06 | 1999-07-16 | Yvan Alfred Schwob | Procede pour la fabrication de carbone 60 |
JP2002029718A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-29 | Takeshi Hatanaka | フラーレンおよびカーボンナノチューブの製造法およびその装置 |
US20030106788A1 (en) * | 2001-11-02 | 2003-06-12 | Sergei Babko-Malyi | Non-thermal plasma slit discharge apparatus |
CA2385802C (en) * | 2002-05-09 | 2008-09-02 | Institut National De La Recherche Scientifique | Method and apparatus for producing single-wall carbon nanotubes |
JP2004263257A (ja) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Chugai Ro Co Ltd | 粉体製造装置 |
JP2005343784A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-12-15 | Fukui Prefecture | ナノ構造炭素材料の製造方法及び製造装置 |
JP4828108B2 (ja) | 2004-10-14 | 2011-11-30 | タマティーエルオー株式会社 | 物理蒸着装置 |
JP2010526986A (ja) | 2007-05-11 | 2010-08-05 | エスディーシー マテリアルズ インコーポレイテッド | 熱交換器、冷却装置及び冷却方法 |
JP6224428B2 (ja) | 2013-11-19 | 2017-11-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台にフォーカスリングを吸着する方法 |
JP6590203B2 (ja) * | 2015-11-12 | 2019-10-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 |
-
2016
- 2016-03-25 JP JP2016061967A patent/JP6512484B2/ja active Active
-
2017
- 2017-02-10 CN CN201710075012.4A patent/CN107224944B/zh active Active
- 2017-02-10 US US15/430,439 patent/US10363540B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170274344A1 (en) | 2017-09-28 |
US10363540B2 (en) | 2019-07-30 |
CN107224944A (zh) | 2017-10-03 |
JP2017170402A (ja) | 2017-09-28 |
CN107224944B (zh) | 2021-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6590203B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
JP6337354B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
JP6512484B2 (ja) | 微粒子製造装置及び製造方法 | |
JP6890291B2 (ja) | 微粒子製造装置及び製造方法 | |
US10124406B2 (en) | Production apparatus and production method for fine particles | |
JP2010520644A (ja) | 半導体グレードシリコンのプラズマ溶射 | |
TW201515996A (zh) | SiOx粉末製造方法及SiOx粉末製造裝置 | |
JP2011168412A (ja) | 一酸化珪素微粒子の製造方法および一酸化珪素微粒子 | |
CN110124599B (zh) | 微粒制造装置以及微粒制造方法 | |
JP7142241B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
JP6551851B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
KR101537216B1 (ko) | 플라즈마 아크 방전법을 이용한 실리콘 분말의 제조방법 | |
US10898957B2 (en) | Production apparatus and production method for fine particles | |
JP6552469B2 (ja) | プラズマ発生装置及び方法並びにこれらを用いた微粒子製造装置及び方法 | |
JP2015205247A (ja) | 微粒子材料製造装置 | |
JP2019136679A (ja) | 複合粒子製造装置及び製造方法 | |
JP7266181B2 (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
KR101332967B1 (ko) | 나노 분말 제조 장치 및 시스템 | |
JP2023175451A (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
JP2019103961A (ja) | 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 | |
JP2005255490A (ja) | 粒状結晶の製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180427 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190314 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190328 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6512484 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |