JP6507973B2 - ウェハの製造方法および生産システム - Google Patents
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に関する。
第1ウェハの第1の認証マークおよび第1の認証マークがマーキングされた外表面(11)の情報を記憶手段(200)に記憶する工程と、
第2ウェハ(2b)の外表面(12)に識別用の第2の認証マーク(M2)をマーキングする工程と、
第2ウェハの第2の認証マークおよび第2の認証マークがマーキングされた外表面(12)の情報を記憶手段に記憶する工程と、
第1ウェハと第2ウェハとをマーキングがされた外表面の反対面同士で貼り合わせる第1の貼り合わせ工程と、
第1の貼り合わせ工程により得られる多層ウェハ(2)の第1の認証マーク、第2の認証マーク、およびこれらのマーキングがされた外表面(11、12)の情報を記憶手段に記憶する工程と、
多層ウェハの表裏の外表面(11、12)のうち一方の外表面に対して加工処理を行い、第1の認証マークまたは第2の認証マークを消失させる第1の加工工程と、
第3ウェハ(2c)の外表面に識別用の第3の認証マーク(M3)をマーキングする工程と、
第3ウェハの第3の認証マークおよび第3の認証マークがマーキングされた外表面の情報を記憶手段に記憶する工程と、
第1の加工処理後に、多層ウェハのうち第1の認証マークまたは第2の認証マークが消えた一方の外表面と、第3ウェハのうち第3の認証マークがマーキングされた外表面の反対面とを貼り合わせる第2の貼り合わせ工程と、
第2の貼り合わせ工程により得られる加工用ウェハ(10)の外表面(11、12)にマーキングされた第1の認証マークまたは第2の認証マーク、および第3の認証マーク並びに認証マークのある外表面の情報を記憶手段に記憶する工程と、
加工用ウェハについての記憶工程の後、加工用ウェハにおける外表面に対して加工処理を行う第2の加工工程と、
第2の加工工程により、加工用ウェハにおける表裏の外表面のうち、いずれか一方の外表面(11)にマーキングされた第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えたときに、記憶手段によって、他方の外表面(12)に残っている第1ないし第3の認証マークのいずれか1つに基づいて、消えた認証マークを導き出すマーク導出工程と、を備えることを特徴とする。
多層ウェハの表裏の外表面のうち一方の外表面に対して第1の加工処理を行った後、多層ウェハのうち第1の加工処理により第1の認証マークまたは第2の認証マークが消えた面と、外表面に識別用の第3の認証マーク(M3)がマーキングされた第3ウェハ(2c)と、をマーキングされた外表面の反対面同士で貼り合わせて加工用ウェハ(10)とし、
加工用ウェハにおける外表面に対して加工処理を行う第2の加工工程を行うようにしたウェハの製造方法を制御する生産システムであって、
第1ウェハ、第2ウェハ、多層ウェハ、第3ウェハおよび加工用ウェハにおける外表面の情報を記憶する記憶手段(200)と、加工用ウェハにおける外表面にマーキングを行うマーキング手段(102)と、を備え、
記憶手段によって、加工用ウェハにおける表裏の外表面の両認証マークを記憶しておき、 第2の加工工程後の加工用ウェハにおける表裏の外表面のうち、いずれか一方の外表面にマーキングされた第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えたときに、記憶手段によって、他方の外表面に残っている第1ないし第3の認証マークのいずれか1つに基づいて、前記消えた認証マークを導き出すようにしたことを特徴とする。
本発明の第1実施形態にかかる生産システムについて、図1を参照して述べる。図1において、加工用ウェハ10は、表裏の外表面11、12の一方を一方の外表面11、他方を他方の外表面12とするシリコン等の半導体よりなるものである。
原石ロットは生産する製品に応じて、生産システムにてロット投入処理を行う。このロット投入により、システム上、ロットIDが生成され、このロットIDは記憶手段200に記憶される。1個のロットは複数個の単層ウェハ1の集合体よりなるが、ロットIDとは、この集合体を識別する固有の記号または番号である。
そして、加工用ウェハ10の一方の外表面11に第1認証マークM1をマーキングする。具体的には、記憶手段200から制御手段100へ、第1認証マークM1およびそのマーキング面が指示される。すると、マーキング手段102によって、加工用ウェハ10の一方の外表面11に第1認証マークM1がマーキングされる。
次に、加工用ウェハ10の他方の外表面12に、第1認証マークM1と同一マーク、たとえば上記第1認証マークM1の例と同様の「1111」を、第2認証マークM2としてマーキングする。
次に、加工工程として、加工用ウェハ10における外表面11、12に対して加工処理を行う。具体的には、加工工程は、加工用ウェハ10における表裏の外表面11、12のいずれか一方に加工処理を行うことで、当該加工処理された外表面の認証マークが消えるものである。
次に、本製造方法では、加工工程後の加工用ウェハ10における第1認証マークM1が消えた一方の外表面11に、上記マーク導出工程によって導き出された第1認証マークM1を、再マーキングする。
本発明の第2実施形態にかかるウェハの製造方法について、図4を参照して、上記第1実施形態との相違点を中心に述べる。本実施形態の製造方法については、上記図1と同様の生産システムにより制御される。
この工程では、第1ウェハ2aについて、上記第1実施形態と同様、ロット投入工程および第1認証マークM1のマーキング工程を行う。これにより、第1認証マークM1がマーキングされた第1ウェハ2aが用意される。
一方で、第2ウェハ2bについても、上記同様、ロット投入工程を行い、第2認証マークM2のマーキング工程を行う。この第2ウェハ2bに対する第2認証マークM2のマーキングは、上記第1認証マークM1のマーキングと同じ要領で行う。これにより、第2認証マークM2がマーキングされた第2ウェハ2bが用意される。
次に、加工工程として、加工用ウェハ10における外表面11、12に対して研磨等の加工処理を行う。ここで、図4(d)の加工工程では、当該加工工程後の加工用ウェハ10における第1ウェハ2a側の外表面すなわち一方の外表面11では、第1認証マークM1が消え、第2ウェハ2b側の外表面すなわち他方の外表面12では、第2認証マークM2が残るものである。
次に、本製造方法においても、上記第1実施形態と同様、加工工程後の加工用ウェハ10における第1認証マークM1が消えた一方の外表面11に、上記マーク導出工程によって導き出された第1認証マークM1を、マーキング手段102によって、再マーキングする。
本発明の第3実施形態にかかるウェハの製造方法は、上記第2実施形態の変形例であり、本製造方法について、図5を参照して、上記第2実施形態との相違点を中心に述べる。なお、本実施形態の製造方法についても、上記図1と同様の生産システムにより制御される。
この工程では、第1ウェハ2aについて、上記同様、ロット投入工程および第1認証マークM1のマーキング工程を行う。これにより、第1認証マークM1がマーキングされた第1ウェハ2aが用意される。
一方で、上記第2実施形態と同様に、第2ウェハ2bについても、上記同様、ロット投入工程を行い、第2認証マークM2のマーキング工程を行う。
次に、上記第2実施形態同様、加工工程を行うと、図5(d)に示されるように、当該加工工程後の加工用ウェハ10における第1ウェハ2a側の一方の外表面11では、第1認証マークM1が消え、第2ウェハ2b側の他方の外表面12では、第2認証マークM2が残る。
次に、上記第2実施形態と同様、加工工程後の加工用ウェハ10における第1認証マークM1が消えた一方の外表面11に、上記マーク導出工程によって導き出された第1認証マークM1を、マーキング手段102によって、再マーキングする。
本発明の第4実施形態にかかるウェハの製造方法は、上記第2実施形態の変形例であり、本製造方法について、図6を参照して、上記第2実施形態との相違点を中心に述べる。なお、本実施形態の製造方法についても、上記図1と同様の生産システムにより制御される。
この工程では、第1ウェハ2aについて、上記第2実施形態と同様、ロット投入工程および第1認証マークM1のマーキング工程を行う。これにより、第1認証マークM1がマーキングされた第1ウェハ2aが用意される。
一方で、上記第2実施形態と同様に、第2ウェハ2bについても、上記同様、ロット投入工程を行い、第2認証マークM2のマーキング工程を行う。
次に、上記第2実施形態同様、加工工程を行うと、図6(d)に示されるように、当該加工工程後の加工用ウェハ10における第1ウェハ2a側の一方の外表面11では、第1認証マークM1が消え、第2ウェハ2b側の他方の外表面12では、第2認証マークM2が残る。
次に、上記第2実施形態と同様、加工工程後の加工用ウェハ10における第1認証マークM1が消えた一方の外表面11に、上記マーク導出工程によって導き出された第1認証マークM1を、マーキング手段102によって、再マーキングする。ここでは、加工用ウェハ10における第3ウェハ2cの外表面に、第1認証マークM1が再マーキングされるものである。
なお、上記各実施形態に示した製造方法において、マーク導出工程までは行うが、再マーキング工程は行わないものであってもよい。たとえば、加工工程にて認証マークが消えてしまっても、マーク導出工程により、加工用ウェハ10の履歴が判明すればよいものであり、当該認証マークが消えた後の工程において、再マーキングが不要ならば、再マーキングが行わなくてもよい。
11 加工用ウェハにおける一方の外表面
12 加工用ウェハにおける他方の外表面
102 マーキング手段
200 記憶手段
M1 第1認証マーク
M2 第2認証マーク
Claims (4)
- 第1ウェハ(2a)の外表面(11)に識別用の第1の認証マーク(M1)をマーキングする工程と、
前記第1ウェハの前記第1の認証マークおよび前記第1の認証マークがマーキングされた前記外表面(11)の情報を記憶手段(200)に記憶する工程と、
第2ウェハ(2b)の外表面(12)に識別用の第2の認証マーク(M2)をマーキングする工程と、
前記第2ウェハの前記第2の認証マークおよび前記第2の認証マークがマーキングされた前記外表面(12)の情報を前記記憶手段に記憶する工程と、
前記第1ウェハと前記第2ウェハとを前記マーキングがされた前記外表面の反対面同士で貼り合わせる第1の貼り合わせ工程と、
前記第1の貼り合わせ工程により得られる多層ウェハ(2)の前記第1の認証マーク、前記第2の認証マーク、およびこれらのマーキングがされた前記外表面(11、12)の情報を前記記憶手段に記憶する工程と、
前記多層ウェハの表裏の前記外表面(11、12)のうち一方の前記外表面に対して加工処理を行い、前記第1の認証マークまたは前記第2の認証マークを消失させる第1の加工工程と、
第3ウェハ(2c)の外表面に識別用の第3の認証マーク(M3)をマーキングする工程と、
前記第3ウェハの前記第3の認証マークおよび前記第3の認証マークがマーキングされた前記外表面の情報を前記記憶手段に記憶する工程と、
前記第1の加工処理後に、前記多層ウェハのうち前記第1の認証マークまたは前記第2の認証マークが消えた一方の前記外表面と、前記第3ウェハのうち前記第3の認証マークがマーキングされた前記外表面の反対面とを貼り合わせる第2の貼り合わせ工程と、
前記第2の貼り合わせ工程により得られる加工用ウェハ(10)の外表面(11、12)にマーキングされた前記第1の認証マークまたは前記第2の認証マーク、および前記第3の認証マーク並びに前記認証マークのある外表面の情報を前記記憶手段に記憶する工程と、
前記加工用ウェハについての記憶工程の後、前記加工用ウェハにおける前記外表面に対して加工処理を行う第2の加工工程と、
前記第2の加工工程により、前記加工用ウェハにおける表裏の前記外表面のうち、いずれか一方の外表面(11)にマーキングされた前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えたときに、前記記憶手段によって、他方の外表面(12)に残っている前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つに基づいて、前記消えた認証マークを導き出すマーク導出工程と、を備えることを特徴とするウェハの製造方法。 - 前記第2の加工工程後の前記加工用ウェハにおける前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えた一方の外表面に、前記マーク導出工程によって導き出された前記消えた認証マークを、再マーキングする再マーキング工程を備えることを特徴とする請求項1に記載のウェハの製造方法。
- 外表面(11)に識別用の第1の認証マーク(M1)がマーキングされた第1ウェハ(2a)と、外表面(12)に識別用の第2の認証マーク(M2)がマーキングされた第2ウェハ(2b)と、が前記マーキングされた前記外表面の反対面同士で貼り合わせられた多層ウェハ(2)を用意し、
前記多層ウェハの表裏の外表面のうち一方の前記外表面に対して第1の加工処理を行った後、前記多層ウェハのうち前記第1の加工処理により前記第1の認証マークまたは前記第2の認証マークが消えた面と、外表面に識別用の第3の認証マーク(M3)がマーキングされた第3ウェハ(2c)と、を前記マーキングされた前記外表面の反対面同士で貼り合わせて加工用ウェハ(10)とし、
前記加工用ウェハにおける外表面に対して加工処理を行う第2の加工工程を行うようにしたウェハの製造方法を制御する生産システムであって、
前記第1ウェハ、前記第2ウェハ、前記多層ウェハ、前記第3ウェハおよび前記加工用ウェハにおける外表面の情報を記憶する記憶手段(200)と、
前記加工用ウェハにおける外表面にマーキングを行うマーキング手段(102)と、を備え、
前記記憶手段によって、前記加工用ウェハにおける表裏の外表面の両認証マークを記憶しておき、
前記第2の加工工程後の前記加工用ウェハにおける表裏の外表面のうち、いずれか一方の外表面にマーキングされた前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えたときに、前記記憶手段によって、他方の外表面に残っている前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つに基づいて、前記消えた認証マークを導き出すようにしたことを特徴とする生産システム。 - 前記第2の加工工程後の前記加工用ウェハにおける前記第1ないし第3の認証マークのいずれか1つが消えた一方の外表面に、前記記憶手段によって導き出された前記消えた認証マークを、前記マーキング手段によって再マーキングするようにしたことを特徴とする請求項3に記載の生産システム。
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