JP6485679B2 - 有機elパネル及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、有機ELパネル及びその製造方法に関する。
有機ELパネルを均一に発光させるため、共通配線における電圧降下を抑える必要があり、特許文献1には、透明電極の共通配線上に透明電極より電気抵抗率の低い補助電極を配置することで透明電極の電気抵抗を低下させ、透明電極による電圧降下を抑える有機ELパネルが開示されている。
特開2003−123990号公報
しかしながら、光源として有機ELパネルは、高輝度の均一発光が求められるため、大面積または長尺とした場合、共通配線に流れる電流が増大し、共通配線での電圧降下がさらに増大する。共通配線での電圧降下を抑制するため、共通配線の配線幅を大きくする必要があり、有機ELパネルの発光部の外側領域(額縁)に配置される外部電源からの共通配線の面積が増大し、有機ELパネルの額縁が大きくなり、有機ELパネルの小型化が困難であった。
本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、発光輝度のむらを抑制した狭額縁の有機ELパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の第一の観点における有機ELパネルは、外部電源から共通配線で給電される透光性の第一電極と、前記第一電極と対となる第二電極と、前記第一電極と前記第二電極とで挟持される少なくとも発光層を有する有機層と、前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を支持する支持基板と、前記支持基板との間で前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を覆う封止部材と、を備え、前記第一電極上に前記第一電極よりも抵抗率の低い補助電極を形成し、前記封止部材の外側面に溝部を設け、前記溝部に前記補助電極に接触する導電性材料からなる補助導電部を設け、前記支持基板側から光を出射するものである。
また、第二の観点における有機ELパネルの製造方法は、共通基板から分割して複数の有機ELパネルを製造する方法において、透光性の支持基板上に透光性の導電材料からなる第一電極と、前記第一電極上の一部に前記導電材料よりも抵抗率の低い補助電極と、を形成する工程と、前記補助電極を絶縁材料で覆い、前記第一電極上に少なくとも発光層を有する有機層と、前記第一電極と対になる第二電極とを順次積層する工程と、前記支持基板上に前記第一電極、前記補助電極、前記第二電極、前記有機層を封止部材で封止する工程と、上記工程で生成した前記共通基板を複数の有機ELパネルに分割する分割工程と、前記分割工程で生成された前記有機ELパネルの外側面に前記封止部材で形成される溝部に導電性材料からなる補助導電部を前記補助電極に接触するように形成する工程と、を有前記封止部材は、前記有機層と対向する平板部と、前記平板部を囲むように前記支持基板側に延在する支持部と、を有し、前記平板部の一部は前記支持部より外側に延出し、前記溝部は、前記支持部と前記支持部から外側に延在した前記平板部とで形成される有機ELパネルの製造方法である。
本発明によれば、発光輝度のむらを抑制した狭額縁の有機ELパネル及びその製造方法を提供することができる。
本発明の実施形態におけるマルチ有機EL基板の平面図である。 上記実施形態におけるマルチ有機EL基板の断面図であり、図1におけるA−A断面図である。 上記実施形態におけるマルチ有機EL基板の断面図であり、図1におけるB−B断面図である。 上記実施形態における有機ELパネルの断面図であり、補助電極上ではない断面図である。 変形例における有機ELパネルの(a)断面図と(b)平面図である。 変形例における有機ELパネルの断面図である。
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づき説明する。
有機ELパネル100は、支持基板10と、支持基板10上に形成される第一電極20と、第一電極20上の一部に形成される補助電極30と、絶縁層40と、有機層50と、第二電極60と、封止部材70と、接着剤80と、補助導電部90とから主に構成される。有機ELパネル100は、第一端子部101と第二端子部102を有し、第一端子部101を図示しない外部電源の陽極、第二端子部102を前記外部電源の陰極に接続し、第一端子部101(第二端子部102)への給電により発光部Eを発光させる。本実施形態における有機ELパネル100は、複数の有機ELパネル100を共通基板(マルチ有機EL基板100a)で生成した後、分割することで個々の有機ELパネル100を形成するものである。
支持基板10は、矩形状の透明ガラス材からなり、電気絶縁性の基板である。なお、本実施例においては、支持基板10としてガラス材を用いたが、これ以外にも、プラスチックやセラミック等の透明材料を基板として用いることも可能である。
第一電極20は、ITO等の透光性導電材料によって形成され、蒸着法やスパッタリング法等の手段によって支持基板10上に電極膜を形成した後、フォトリソグラフィー法等によって所定の形状にパターニングされた透光性の配線である。本実施形態において、第一電極20は、発光部Eの全体に形成されるが、図1における有機ELパネル100の左右辺に対して垂直な複数のストライプ状に形成されてもよい。第一電極20は、後述する第一端子部101を介して前記外部電源に電気的に接続され、第一端子部101を介した前記外部電源からの給電に基づいて、第一電極20全体に電力が供給される共通配線構造を有する。
補助電極30は、第一電極20上にアルミニウムなどの第一電極20の透光性導電材料よりも抵抗の低い金属をスパッタリング法等の手段によって、50〜1500nmの膜厚で単層または積層の膜状に形成し、フォトリソグラフィー法等の手段によって所定の形状にパターニングしてなる非透光性の配線である。本実施形態において、補助電極30は、第一電極20上に、図1における有機ELパネル100の左右辺に対して垂直な複数のストライプ状に形成されている。
絶縁層40は、例えばポリイミド系の透明な絶縁性材料から構成され、スピンコート法などによって1.0μm程度の薄膜で層状に形成された後、フォトリソグラフィー法で所望の形状にパターニングされる。絶縁層40は、第一電極20上にストライプ状に形成された補助電極30を覆うように、補助電極30と後述する有機層50との間に形成され、第一電極20と後述する第二電極60との短絡を防止する。
有機層50は、第一電極20上に形成されるものであり、正孔注入輸送層,発光層,電子輸送層及び電子注入層を蒸着法等の手段によって順次積層形成してなり、例えば白色発光をなすものである。なお、有機層50は、前記発光層は単一で形成されていてもよく、また、他に層が付加されるものであってもよい。
第二電極60は、アルミニウムやマグネシウム銀等の第一電極20よりも導電率が高い金属性導電材料を蒸着法等の手段により有機層50の背面側に層状に形成される。第二電極60は、後述する第二端子部102を介して前記外部電源に電気的に接続され、第二端子部102を介した外部電源からの給電に基づいて、第二電極60全体に電力が供給される共通配線構造を有する。
封止部材70は、例えばガラス材料からなる平板部材をサンドブラスト、切削及びエッチング等の適宜方法で凹形状に形成してなるものであり、有機層50と対向する平板部71と、平板部71を囲むように支持基板10側に延在する支持部72と、マルチ有機EL基板100aを複数の有機ELパネル100に分割する際に分割される分割部73と、支持部72の外側に平板部71と、支持部72とで形成される溝部74と、を有する。本実施形態において、溝部74は、熱プレス成型法,エッチング法,サンドブラスト法及び切削法の何れかの手段により形成されている。
接着剤80は、例えば紫外線硬化性エポキシ樹脂からなり、支持部72を支持基板10(補助電極30)に接着させることで支持基板10上に有機層50を気密的に配設し、封止部材70と支持基板10(補助電極30)とで有機層50を封止する。また、封止部材70は、第一電極20,第二電極60の先端部が外部に露出するように支持基板10よりも若干小さめに形成され、支持部72の一部が第一電極20,第二電極60に重なり合うように配設されている。
補助導電部90は、例えば、体積抵抗率1.5×10−4Ω/cmで粘度10Pa・sの導電性ペーストからなり、マルチ有機EL基板100aを分割した後、個々の有機ELパネル100の側面に、平板部71,支持部72,補助電極30により形成される溝部74に補助電極30と電気的に接続されるように塗布され、その後に熱で硬化される。
第一端子部101は、支持基板10上に形成される第一電極20及び補助電極30のうち、封止部材70の内部から外部に引き出し形成された部分であり、第一電極20及び補助電極30と前記外部電源とを電気的に接続する。
第二端子部102は、第一電極20と同時に同材料で形成された図示しないベース部上にクロム等の抵抗率の低い金属材料からなる図示しない金属層を積層して形成されるもので、第二電極60と前記外部電源とを電気的に接続させる。
以上の各部によって有機ELパネル100が構成される。有機ELパネル100は、支持基板10側から光を出射するいわゆるボトムエミッション型の有機ELパネルである。
次に、図3を用いて有機ELパネル100の製造方法を説明する。図3は、マルチ有機EL基板100aの断面図であり、図1におけるB−B断面図である。なお、図3は、補助電極30を通る断面図であるが、補助電極30を通らない同じ方向からの断面図を図4に示す。
まず、蒸着法やスパッタリング法等の手段によって支持基板10上に第一電極20と補助電極30とを形成した後、フォトリソグラフィー法等によって、支持基板10上にスリット状の第一電極20及び補助電極30を形成する「第一電極形成工程、図3(a)」。
次に、絶縁層40をスピンコート法などによって補助電極30の背面側に薄膜で形成された後、フォトリソグラフィー法で所望の形状にパターニングされる。そして第一電極20に対応するように有機層50を積層形成し、さらに、有機層50上に第二電極60を積層形成する「有機層形成工程、第2電極形成工程、図3(b)」。
次に、窒素雰囲気中において、接着剤80が塗布された封止部材70と支持基板10とを重ね合わせ装置(図示せず)によって平行状態を保ちながら、かつ各平板部71が発光部Eに対応するように重ね合わされるとともに、紫外線を照射することにより封止部材70の支持部72と支持基板10(補助電極30)とが接合固定され、これにより有機ELパネル100を複数有するマルチ有機EL基板100aが得られる「接合工程,図3(c)」。
次に、前記接合工程によって得られたマルチ有機EL基板100aにおいて、複数の有機ELパネル100の境界である分割部73をスクライブ法等の手段によって切断し、溝部74の余剰部分である余剰部74aを前記スクライブ法等の手段によって切断することで個々の有機ELパネル100が得られる「切断工程,図3(d)」。
そして、有機ELパネル100の溝部74にニードル等を用いて補助導電部90を塗布し、塗布後、補助導電部90を硬化させる「塗布工程、図3(e)」。
以上に説明した本実施形態における有機ELパネル100は、外部電源から共通配線で給電される透光性の第一電極20と、第一電極20と対となる第二電極60と、少なくとも発光層を有する有機層50を第一電極20と第二電極60とで挟持した有機EL素子を透光性の支持基板10上に配設し、有機EL素子を気密的に覆う封止部材70を配設してなる有機ELパネル100であって、第一電極20上に第一電極20よりも抵抗率の低い補助電極30を形成し、封止部材70の少なくとも一部に溝部74を設け、溝部74に導電性材料からなる補助導電部90を配置するものである。
これにより、共通配線の第一端子部101の幅を広くしなくても発光部Eの全体に亘る第一電極20への電気抵抗を低く抑えることができる。すなわち、共通配線の電気抵抗を小さく抑えて発光部Eを均一に発光させることができ、縁を狭くした狭額縁の有機ELパネル100を提供することができる。
なお、本発明は以上の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で、適宜、変更(構成要素の削除も含む)を加えることが可能である。
上記実施形態では、有機ELパネル100の中央から外側に向けて、有機EL素子(有機層50)、封止部材70の支持部72、補助導電部90、第一端子部101と順に配置され、有機ELパネル100の縁側には第一端子部101が配置されていたが、図5(a)に示すように、有機ELパネル100の外側に補助導電部90を配置し、補助導電部90と通電可能に第二端子部102の両端(図5(b)の第二端子部102の上下)に第一端子部101を配置してもよい。このようにすることで、有機ELパネル100の一方の対辺に第一端子部101を配設するスペースを設けなくてもよく、縁を狭くした狭額縁の有機ELパネル100を提供することができる。
また、図6(a)(b)に示すように、補助導電部90内に体積抵抗率1.5×10−7Ω/cmで直径0.2mmのスズメッキ銅線などからなる導線91を設けてもよい。かかる構成により、共通配線(第一電極20)の電気抵抗をさらに低く抑えて発光部Eを均一に発光させることができ、縁を狭くした狭額縁の有機ELパネル100を提供することができる。
100 有機ELパネル
100a マルチ有機EL基板
101 第一端子部
102 第二端子部
10 支持基板
20 第一電極
30 補助電極
40 絶縁層
50 有機層
60 第二電極
70 封止部材
71 平板部
72 支持部
73 分割部
74 溝部
80 接着剤
90 補助導電部
91 導線

E 発光部

Claims (5)

  1. 外部電源から共通配線で給電される透光性の第一電極と、
    前記第一電極と対となる第二電極と、
    前記第一電極と前記第二電極とで挟持される少なくとも発光層を有する有機層と、
    前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を支持する支持基板と、
    前記支持基板との間で前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を覆う封止部材と、を備え、
    前記第一電極上に前記第一電極よりも抵抗率の低い補助電極を形成し、
    前記封止部材の外側面に溝部を設け、前記溝部に前記補助電極に接触する導電性材料からなる補助導電部を設け、
    前記支持基板側から光を出射する、
    ことを特徴とする有機ELパネル。
  2. 外部電源から共通配線で給電される透光性の第一電極と、
    前記第一電極と対となる第二電極と、
    前記第一電極と前記第二電極とで挟持される少なくとも発光層を有する有機層と、
    前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を支持する支持基板と、
    前記支持基板との間で前記第一電極、前記第二電極、前記有機層を覆う封止部材と、を備え、
    前記第一電極上に前記第一電極よりも抵抗率の低い補助電極を形成し、
    前記封止部材の少なくとも一部に溝部を設け、前記溝部に前記補助電極に接触する導電性材料からなる補助導電部を設け、
    前記封止部材は、前記有機層と対向する平板部と、前記平板部を囲むように前記支持基板側に延在する支持部と、を有し、前記平板部の一部は前記支持部より外側に延出し、前記溝部は、前記支持部と前記支持部から外側に延在した前記平板部とで形成される、
    ことを特徴とする有機ELパネル。
  3. 前記補助導電部は、導電性ペーストからなる、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELパネル。
  4. 前記補助導電部は、前記補助電極に電気的に接続された導線を有する、
    ことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の有機ELパネル。
  5. 共通基板から分割して複数の有機ELパネルを製造する方法において、
    透光性の支持基板上に透光性の導電材料からなる第一電極と、前記第一電極上の一部に前記導電材料よりも抵抗率の低い補助電極と、を形成する工程と、
    前記補助電極を絶縁材料で覆い、前記第一電極上に少なくとも発光層を有する有機層と、前記第一電極と対になる第二電極とを順次積層する工程と、
    前記支持基板上に前記第一電極、前記補助電極、前記第二電極、前記有機層を封止部材で封止する工程と、
    上記工程で生成した前記共通基板を複数の有機ELパネルに分割する分割工程と、
    前記分割工程で生成された前記有機ELパネルの外側面に前記封止部材で形成される溝部に導電性材料からなる補助導電部を前記補助電極に接触するように形成する工程と、を有し、
    前記封止部材は、前記有機層と対向する平板部と、前記平板部を囲むように前記支持基板側に延在する支持部と、を有し、前記平板部の一部は前記支持部より外側に延出し、前記溝部は、前記支持部と前記支持部から外側に延在した前記平板部とで形成される、
    ことを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
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