JP6474713B2 - Transfer material, transfer material manufacturing method, touch panel manufacturing method, and touch panel - Google Patents
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Description
本発明は、転写材料、転写材料の製造方法、タッチパネルの製造方法およびタッチパネルに関する。詳しくは、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできる転写材料、この転写材料の製造方法、ならびに、この転写材料を用いたタッチパネルの製造方法およびタッチパネルに関する。 The present invention relates to a transfer material, a transfer material manufacturing method, a touch panel manufacturing method, and a touch panel. Specifically, a transfer material that can reduce the haze of the touch panel when a functional layer is transferred from the transfer material to the touch panel to produce the touch panel, a method for manufacturing the transfer material, a method for manufacturing a touch panel using the transfer material, and a touch panel About.
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。 In recent years, electronic devices such as mobile phones, car navigation systems, personal computers, ticket vending machines, and bank terminals have been equipped with a tablet-type input device on the surface of a liquid crystal device, etc., and an instruction image displayed in the image display area of the liquid crystal device In some cases, information corresponding to the instruction image can be input by touching a part where the instruction image is displayed with a finger or a touch pen.
このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。
静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある。
Such input devices (touch panels) include a resistance film type and a capacitance type.
An electrostatic capacitance type input device has an advantage that a light-transmitting conductive film is simply formed on a single substrate. In such a capacitance-type input device, for example, electrode patterns are extended in directions intersecting each other, and when a finger or the like comes into contact, the capacitance between the electrodes is detected to detect the input position. There is a type to do.
特許文献１には、透明基板、異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明薄膜を含む多層膜および透明電極パターンがこの順に積層された領域を面内に含む透明電極パターン付き基板に対して、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルムを用いて、透明電極パターン上に第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層をこの順で積層されるように転写することにより製造された透明積層体が記載されている。
また、特許文献１には、この透明積層体を用いた静電容量型の入力装置（タッチパネル）が記載されている。
In Patent Document 1, a transparent substrate, a multilayer film including at least two transparent thin films having different refractive indexes, and a substrate with a transparent electrode pattern including a region in which transparent electrode patterns are laminated in this order are temporarily provided. It has a support, a first curable transparent resin layer, and a second curable transparent resin layer disposed adjacent to the first curable transparent resin layer in this order. Using a transfer film in which the refractive index of the transparent resin layer is higher than the refractive index of the first curable transparent resin layer and the refractive index of the second curable transparent resin layer is 1.6 or more, on the transparent electrode pattern Describes a transparent laminate produced by transferring the second curable transparent resin layer and the first curable transparent resin layer so as to be laminated in this order.
Patent Document 1 describes a capacitance-type input device (touch panel) using this transparent laminate.
タッチパネルの表示画質の品質を高めるために、タッチパネル用材料には高い透明性が要求される。タッチパネル用材料のように高い透明性が要求される材料において、ヘイズを低く抑えることが必要である。 In order to improve the display image quality of the touch panel, the touch panel material is required to have high transparency. In materials that require high transparency, such as touch panel materials, it is necessary to keep haze low.
本発明者が特許文献１に記載の転写フィルムを用いて透明積層体およびタッチパネルを製造したところ、タッチパネルのヘイズが高く、タッチパネルのヘイズをさらに低くすることが望まれることがわかった。 When this inventor manufactured the transparent laminated body and the touch panel using the transfer film of patent document 1, it turned out that the haze of a touch panel is high and it is desired to make the haze of a touch panel still lower.
本発明が解決しようとする課題は、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできる転写材料を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a transfer material capable of reducing the haze of the touch panel when a touch panel is produced by transferring a functional layer from the transfer material to the touch panel.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、転写材料から保護フィルムを剥離して、被転写体が無い状態で転写材料の支持体側から加熱した場合に、機能層の表面に発生する微小なシワがタッチパネルに使用した時の保護膜の透明性に関連性があることを見出すに至った。
本発明者は、支持体、２層以上の機能層および保護フィルムを有し、機能層のうち少なくとも一つに５０質量％以上の微粒子を含み、他の機能層のうち少なくとも一つは無機微粒子の含有量が１０質量％以下である転写材料において、ピッカース硬度が特定の値以下であるか、加熱前後のヘイズ増加量が特定の値以下とした。この構成により、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできることを見出すに至った。
特開２０１４−１４２８３４号公報に記載の製造方法でも、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも屈折率が高い第二の硬化性透明樹脂層を有する転写フィルムを転写する工程で、保護フィルム剥離後、タッチパネル用の基板の上に転写されるまでの間、加熱ロールによって支持体側から加熱される瞬間があることがわかった。この瞬間に転写フィルムの表面に微小なシワが発生し、タッチパネルのヘイズが悪化することがわかった。また、微小なシワは無機微粒子をほとんど含まない機能層（第一の硬化性透明樹脂層）上に微粒子を含む機能層（第二の硬化性透明樹脂層）を積層した時にのみ発生する問題であることがわかった。この微小なシワは、機能層が硬くなると発生しなくなり、タッチパネルのヘイズも改良されることを見出すに至った。そして、特開２０１４−１４２８３４号公報では、機能層の乾燥条件を特定していなかった。実際に機能層の乾燥を穏やかな条件で行った場合は得られた機能層中の残留有機溶剤の量が多く、特開２０１４−１４２８３４号公報に記載の転写材料は条件１で測定される変形量も条件２で測定されるヘイズ変化率も満たさないものであった。
ここで、タッチパネルの保護膜分野において、転写前の未硬化の時点での転写材料の機能層の表面硬度を高めることは、転写して硬化した後の機能層の表面硬度にほとんど影響がないために従来注目されていなかった。また、転写直前のわずかな時間における転写材料の表面性に着目することは知られていなかった。これに対し、転写して硬化した後の機能層の透明性が、転写前の未硬化の時点での転写材料の機能層の表面硬度と相関性があることも本発明では見出した。なお、機能層の材料組成の組合せや屈折率の組合せ以外の方法で、タッチパネルの透明性を制御できることは知られていなかった。通常、ヘイズの抑制には機能層の材料中の微粒子の大きさや分散状態、樹脂同士の相溶性などに着目されていた。
以上のとおり、本発明は、従来知られていなかった課題に着目し、従来知られていなかった解決手段を採用することにより、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできることを見出したものである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have peeled off the protective film from the transfer material, and when heated from the support side of the transfer material without the transfer target, It has been found that the fine wrinkles that are generated are related to the transparency of the protective film when used in a touch panel.
The inventor has a support, two or more functional layers and a protective film, and at least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles, and at least one of the other functional layers is inorganic fine particles. In the transfer material having a content of 10% by mass or less, the Pickers hardness is a specific value or less, or the haze increase before and after heating is a specific value or less. With this configuration, it has been found that the haze of the touch panel can be reduced when the functional layer is transferred from the transfer material to the touch panel to produce the touch panel.
Even in the production method described in JP-A-2014-142834, the second curing having a refractive index higher than the refractive index of the temporary support, the first curable transparent resin layer, and the first curable transparent resin layer. In the process of transferring the transfer film having the transparent transparent resin layer, it was found that there was a moment when the film was heated from the support side by the heating roll until the film was transferred onto the touch panel substrate after the protective film was peeled off. At this moment, it was found that fine wrinkles were generated on the surface of the transfer film and the haze of the touch panel was deteriorated. Micro wrinkles are a problem that occurs only when a functional layer (second curable transparent resin layer) containing fine particles is laminated on a functional layer (first curable transparent resin layer) containing almost no inorganic fine particles. I found out. The fine wrinkles are not generated when the functional layer is hardened, and it has been found that the haze of the touch panel is also improved. And in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-142834, the drying conditions of the functional layer were not specified. When the functional layer is actually dried under mild conditions, the amount of the residual organic solvent in the obtained functional layer is large, and the transfer material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-142834 is a deformation measured under condition 1. Neither the amount nor the haze change rate measured under Condition 2 was satisfied.
Here, in the protective film field of touch panels, increasing the surface hardness of the functional layer of the transfer material when it is uncured before transfer has little effect on the surface hardness of the functional layer after being transferred and cured. Has not been attracting attention in the past. Further, it has not been known to pay attention to the surface property of the transfer material in a short time immediately before transfer. On the other hand, the present invention also found that the transparency of the functional layer after being transferred and cured has a correlation with the surface hardness of the functional layer of the transfer material at the time of uncured before transfer. It has not been known that the transparency of the touch panel can be controlled by a method other than the combination of the material composition and the refractive index of the functional layer. In general, attention has been paid to the suppression of haze in terms of the size and dispersion state of fine particles in the material of the functional layer, the compatibility between resins, and the like.
As described above, the present invention pays attention to a problem that has not been known so far, and adopts a solution that has not been known so far to transfer a functional layer from a transfer material to a touch panel to produce a touch panel. It has been found that the haze of the touch panel can be lowered.
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は以下のとおりである。
［１］ 支持体、２層以上の機能層および保護フィルムをこの順に有する転写材料であって、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
下記条件１で測定される変形量が２．６μｍ以下である転写材料；
条件１：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量。
［２］ ［１］に記載の転写材料は、条件１で測定される変形量が２．３μｍ以下であることが好ましい。
［３］ ［１］または［２］に記載の転写材料は、下記条件２で測定されるヘイズ変化率が＋１００％以下であることが好ましい；
条件２：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率。
［４］ 支持体、２層以上の機能層および保護フィルムをこの順に有する転写材料であって、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
下記条件２で測定されるヘイズ変化率が＋１００％以下である転写材料；
条件２：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率。
［５］ ［３］または［４］に記載の転写材料は、条件２で測定されるヘイズ変化率が＋５０％以下であることが好ましい。
［６］ ［１］〜［５］のいずれか一つに記載の転写材料は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３３μｌ／ｍ2／μｍ以下であることが好ましい。
［７］ ［１］〜［６］のいずれか一つに記載の転写材料は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３０μｌ／ｍ2／μｍ以下であることが好ましい。
［８］ ［１］〜［７］のいずれか一つに記載の転写材料は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤のうち分子量が５０以下の成分の量が０．８μｌ／ｍ2／μｍ以下であることが好ましい。
［９］ ［１］〜［８］のいずれか一つに記載の転写材料は、機能層の厚みの合計が４〜１２μｍであることが好ましい。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれか一つに記載の転写材料は、５０質量％以上の微粒子を含む機能層が、５０〜９７質量％の微粒子を含むことが好ましい。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一つに記載の転写材料は、転写材料がタッチパネル用材料であることが好ましい。
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれか一つに記載の転写材料は、転写材料がタッチパネル用保護膜形成材料であることが好ましい。
［１３］ 支持体の上に有機溶剤を用いた塗布により２層以上の機能層を形成する工程と、
機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３３μｌ／ｍ2／μｍ以下になるまで機能層を乾燥する工程と、
２層以上の機能層の上に保護フィルムを形成する工程を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下である転写材料の製造方法。
［１４］ ［１］〜［１２］のいずれか一つに記載の転写材料から保護フィルムを剥離する工程と、
加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程と、
基板に転写材料の機能層を積層する工程をこの順で含むタッチパネルの製造方法。
［１５］ ［１４］に記載のタッチパネルの製造方法は、機能層を積層する工程の後に、転写材料の支持体を剥離する工程を含むことが好ましい。
［１６］ 基板と、
２層以上の機能層とを有するタッチパネルであって、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
タッチパネルのヘイズが１％以下であるタッチパネル。
The present invention, which is a specific means for solving the above problems, is as follows.
[1] A transfer material having a support, two or more functional layers and a protective film in this order,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less,
A transfer material having a deformation measured under the following condition 1 of 2.6 μm or less;
Condition 1: With the protective film peeled off from the transfer material, the surface on which the protective film is peeled off is a face angle of 136 °, and a diamond pyramid-shaped Vickers indenter is applied to a load speed of 1.422 mN / sec. The amount of deformation when the load increases to 1 mN.
[2] The transfer material according to [1] preferably has a deformation amount measured under Condition 1 of 2.3 μm or less.
[3] The transfer material according to [1] or [2] preferably has a haze change rate measured under the following condition 2 of + 100% or less;
Condition 2: The haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material changes with respect to the haze of the functional layer before heating. Haze change rate expressed in percentage based on the haze of the functional layer before heating.
[4] A transfer material having a support, two or more functional layers and a protective film in this order,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less,
A transfer material having a haze change rate measured under the following condition 2 of + 100% or less;
Condition 2: The haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material changes with respect to the haze of the functional layer before heating. Haze change rate expressed in percentage based on the haze of the functional layer before heating.
[5] The transfer material according to [3] or [4] preferably has a haze change rate measured under Condition 2 of + 50% or less.
[6] In the transfer material according to any one of [1] to [5], the amount of the residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is preferably 33 μl / m 2 / μm or less.
[7] In the transfer material according to any one of [1] to [6], the amount of the residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is preferably 30 μl / m 2 / μm or less.
[8] In the transfer material according to any one of [1] to [7], the amount of the component having a molecular weight of 50 or less in the residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is 0.8 μl / m 2 / It is preferable that it is below μm.
[9] In the transfer material according to any one of [1] to [8], the total thickness of the functional layers is preferably 4 to 12 μm.
[10] In the transfer material according to any one of [1] to [9], the functional layer containing fine particles of 50% by mass or more preferably contains fine particles of 50 to 97% by mass.
[11] In the transfer material according to any one of [1] to [10], the transfer material is preferably a touch panel material.
[12] In the transfer material according to any one of [1] to [11], the transfer material is preferably a touch panel protective film forming material.
[13] A step of forming two or more functional layers on the support by coating with an organic solvent;
Drying the functional layer until the amount of residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is 33 μl / m 2 / μm or less;
Including a step of forming a protective film on two or more functional layers,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
The method for producing a transfer material, wherein at least one of the functional layers has a content of inorganic fine particles of 10% by mass or less.
[14] A step of peeling the protective film from the transfer material according to any one of [1] to [12];
A step of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side where the protective film has been peeled in contact with air; and
A method for manufacturing a touch panel, comprising a step of laminating a functional layer of a transfer material on a substrate in this order.
[15] The method for manufacturing a touch panel according to [14] preferably includes a step of peeling the support of the transfer material after the step of laminating the functional layers.
[16] a substrate;
A touch panel having two or more functional layers,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less,
A touch panel whose haze is 1% or less.
本発明によれば、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできる転写材料を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transcription | transfer material which can reduce the haze of a touch panel in the case of manufacturing a touch panel by transferring a functional layer from a transcription | transfer material to a touch panel can be provided.
以下、本発明の転写材料、転写材料の製造方法、タッチパネルの製造方法およびタッチパネルについて説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定されない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。 Hereinafter, the transfer material, the transfer material manufacturing method, the touch panel manufacturing method, and the touch panel of the present invention will be described. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments and specific examples of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments and specific examples. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
［転写材料］
本発明の転写材料の第１の態様は、支持体、２層以上の機能層および保護フィルムをこの順に有する転写材料であって、機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、下記条件１で測定される変形量が２．６μｍ以下である。
条件１：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量。
本発明の転写材料の第２の態様は、支持体、２層以上の機能層および保護フィルムをこの順に有する転写材料であって、機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、下記条件２で測定されるヘイズ変化率が＋１００％以下である。
条件２：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率。
[Transfer material]
The first aspect of the transfer material of the present invention is a transfer material having a support, two or more functional layers, and a protective film in this order, and at least one functional layer of the functional layers is fine particles of 50% by mass or more. And at least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less, and the deformation measured under the following condition 1 is 2.6 μm or less.
Condition 1: With the protective film peeled off from the transfer material, the surface on which the protective film is peeled off is a face angle of 136 °, and a diamond pyramid-shaped Vickers indenter is applied to a load speed of 1.422 mN / sec. The amount of deformation when the load increases to 1 mN.
A second aspect of the transfer material of the present invention is a transfer material having a support, two or more functional layers and a protective film in this order, and at least one functional layer of the functional layers is 50% by mass or more of fine particles. And at least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less, and a haze change rate measured under the following condition 2 is + 100% or less.
Condition 2: The haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material changes with respect to the haze of the functional layer before heating. Haze change rate expressed in percentage based on the haze of the functional layer before heating.
これらの第１の態様または第２の態様の構成により、本発明の転写材料は、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできる。
本発明ではタッチパネルのヘイズの抑制に関し鋭意検討を行った。その結果、タッチセンサー基板の上に加熱加圧ロールにより転写材料から機能層を転写する工程において、転写フィルムより保護フィルムを剥離後、転写材料の表面がタッチセンサーに接するまでの極僅かな時間、保護フィルムが無い状態で転写材料が支持体側より加熱される瞬間があることを見出した。また、この瞬間に機能層表面に発生したシワが、タッチパネルのヘイズを高くしていることを突き止めた。また、この微小なシワは、無機微粒子をあまり含まない機能層上に５０質量％以上の微粒子を含む機能層を積層した転写材料を、保護フィルムが無い状態で支持体側から加熱した時に顕著に発生する現象であることがわかった。５０質量％以上の微粒子を含む機能層は熱収縮率が小さくかつ硬い膜であるため、主に支持体の熱収縮によって発生する転写材料中の応力を吸収しきれず、５０質量％以上の微粒子を含む機能層に微小なシワが発生していることがわかった。また、機能層の表面硬度が柔らかいほど微小なシワも発生しやすいことが分った。なお、機能層の表面硬度は機能層に含まれるポリマー、モノマーその他の各種素材の種類や配合品に左右されることは当然だが、残留溶剤の量によっても表面硬度は左右される。本発明ではこれらの検討により、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを大きく低下させることに成功した。
本発明の転写材料の第１の態様では、機能層の表面硬度を規定した。機能層の表面硬度は、転写材料から保護フィルムを剥がした状態で保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量（ビッカース圧子の、保護フィルムを剥がした転写材料への沈みこみ量）を測定することにより評価した。条件１で測定される変形量が小さいほど、保護フィルムを剥がした転写材料の表面硬度は硬い。
本発明の転写材料の第２の態様では、機能層のヘイズ変化率を規定した。機能層のヘイズ変化率は、転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率を測定することにより、評価した。条件２で測定されるヘイズ変化率が小さいほど、保護フィルムを剥がした転写材料の保護フィルムが無い状態で支持体側から加熱した時にヘイズの発生が抑制される。
本明細書中、支持体側機能層とは、転写材料に含まれる機能層のうち、最も支持体に近い機能層のことを言う。保護フィルム側機能層とは、転写材料に含まれる機能層のうち、最も保護フィルムに近い機能層のことを言う。
以下、本発明の転写材料の好ましい態様を説明する。
With the configuration of the first aspect or the second aspect, the transfer material of the present invention can reduce the haze of the touch panel when the functional layer is transferred from the transfer material to the touch panel to manufacture the touch panel.
In the present invention, diligent studies have been made on the haze suppression of the touch panel. As a result, in the process of transferring the functional layer from the transfer material onto the touch sensor substrate with a heat and pressure roll, a very short time until the surface of the transfer material comes into contact with the touch sensor after peeling the protective film from the transfer film, It has been found that there is a moment when the transfer material is heated from the support side in the absence of the protective film. In addition, it was found that wrinkles generated on the surface of the functional layer at this moment increased the haze of the touch panel. In addition, the fine wrinkles are noticeably generated when a transfer material in which a functional layer containing 50% by mass or more of fine particles is laminated on a functional layer that does not contain so much inorganic fine particles is heated from the support side without a protective film. It turned out to be a phenomenon. Since the functional layer containing fine particles of 50% by mass or more is a hard film having a small heat shrinkage rate, it cannot absorb the stress in the transfer material mainly caused by the thermal shrinkage of the support, and the fine particles of 50% by mass or more are absorbed. It was found that minute wrinkles were generated in the functional layer. In addition, it was found that finer wrinkles are more likely to occur as the surface hardness of the functional layer is softer. The surface hardness of the functional layer naturally depends on the types and blends of polymers, monomers and other materials contained in the functional layer, but the surface hardness also depends on the amount of residual solvent. The present invention succeeds in greatly reducing the haze of the touch panel in the case of manufacturing the touch panel by transferring the functional layer from the transfer material to the touch panel by these studies.
In the first aspect of the transfer material of the present invention, the surface hardness of the functional layer is defined. The surface hardness of the functional layer is such that the surface on which the protective film is peeled off from the transfer material has a facing angle of 136 ° and the diamond pyramid-shaped Vickers indenter does not apply a load to a load speed of 1 The load was increased at .422 mN / sec, and the amount of deformation when the load reached 1 mN (the amount of sinking of the Vickers indenter into the transfer material from which the protective film was peeled off) was measured. The smaller the amount of deformation measured under Condition 1, the harder the surface hardness of the transfer material from which the protective film is peeled off.
In the second aspect of the transfer material of the present invention, the haze change rate of the functional layer is defined. The haze change rate of the functional layer is such that the haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on a hot plate at 100 ° C. is peeled off from the transfer material. The amount that changes with respect to haze was evaluated by measuring the haze change rate expressed as a percentage based on the haze of the functional layer before heating. The smaller the haze change rate measured under Condition 2, the more haze is suppressed when heating from the support side in the absence of the protective film of the transfer material from which the protective film has been peeled off.
In the present specification, the support-side functional layer refers to a functional layer closest to the support among the functional layers contained in the transfer material. The protective film side functional layer refers to a functional layer closest to the protective film among the functional layers contained in the transfer material.
Hereinafter, preferred embodiments of the transfer material of the present invention will be described.
＜条件１で測定される変形量＞
本発明の転写材料は、下記条件１で測定される変形量が２．６μｍ以下である。
条件１：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量。
条件１で測定される変形量の範囲は、好ましくは２．３μｍ以下であり、より好ましくは０〜２．２μｍであり、特に好ましくは０〜２．０μｍであり、更に好ましくは０〜１．８５μｍである。
<Deformation amount measured under condition 1>
In the transfer material of the present invention, the deformation measured under the following condition 1 is 2.6 μm or less.
Condition 1: With the protective film peeled off from the transfer material, the surface on which the protective film is peeled off is a face angle of 136 °, and a diamond pyramid-shaped Vickers indenter is applied to a load speed of 1.422 mN / sec. The amount of deformation when the load increases to 1 mN.
The range of deformation measured under Condition 1 is preferably 2.3 μm or less, more preferably 0 to 2.2 μm, particularly preferably 0 to 2.0 μm, and still more preferably 0 to 1. 85 μm.
＜条件２で測定されるヘイズ変化率＞
本発明の転写材料は、下記条件２で測定されるヘイズ変化率が＋１００％以下である。
条件２：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率。
条件２で測定されるヘイズ変化率の範囲は、好ましくは＋７０％以下であり、より好ましくは＋５０％以下であり、特に好ましくは＋３０％以下である。
<Haze change rate measured under condition 2>
In the transfer material of the present invention, the haze change rate measured under the following condition 2 is + 100% or less.
Condition 2: The haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material changes with respect to the haze of the functional layer before heating. Haze change rate expressed in percentage based on the haze of the functional layer before heating.
The range of the haze change rate measured under Condition 2 is preferably + 70% or less, more preferably + 50% or less, and particularly preferably + 30% or less.
＜加熱前の機能層のヘイズ、加熱後の機能層のヘイズ＞
ディスプレイ上にタッチパネルを重ね、タッチパネル越しにディスプレイに表示された画像を観察する時、機能層のヘイズの数値が小さいほど画像がクリアに見える。そのため、加熱前の機能層のヘイズおよび転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズ（以下、加熱後の機能層のヘイズ）の数値は小さいほど好ましい。上記の理由より、加熱前の機能層のヘイズおよび加熱後の機能層のヘイズの数値は０．５％未満であることが好ましく、０．４％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることが特に好ましい。
<Haze of functional layer before heating, haze of functional layer after heating>
When a touch panel is stacked on the display and an image displayed on the display is observed through the touch panel, the smaller the haze value of the functional layer, the clearer the image appears. Therefore, the haze of the functional layer before heating and the haze of the functional layer after heating (hereinafter referred to as “heated layer after heating”) placed for 5 seconds so that the support comes in contact with the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material. The smaller the numerical value of the haze of the functional layer, the better. For the above reason, the numerical value of the haze of the functional layer before heating and the haze of the functional layer after heating is preferably less than 0.5%, more preferably 0.4% or less, and 0.3% It is particularly preferred that
＜転写材料の用途および構成＞
本発明の転写材料は、転写フィルムであることが好ましい。本発明の転写材料は、任意の部材に転写されるが、好ましくはタッチパネルに転写されることが好ましい。
<Use and configuration of transfer material>
The transfer material of the present invention is preferably a transfer film. The transfer material of the present invention is transferred to any member, but is preferably transferred to a touch panel.
本発明の転写材料は、静電容量型入力装置の透明絶縁層用または透明保護層用であることが特に好ましい。より詳しくは、本発明の転写材料は、透明電極パターンの上に、フォトリソ方式により、屈折率調整層およびオーバーコート層（透明保護層）の積層パターンを形成するための転写材料として好ましく用いることができる。また、本発明の転写材料は、フィルム基材上に透明電極を設けたタッチセンサー上に、転写方式によりタッチパネル用保護膜を作製するための転写材料であることが好ましい。
タッチパネル用保護膜には、タッチパネル上の配線を保護するための力学的な強度や、水分やイオン類による配線の腐食を防ぐためのバリアー性などが必要であるが、同時に表示素子の画質を低下させないために、タッチセンサー上に形成されたタッチパネル用保護膜のヘイズが低いことが要求される。
The transfer material of the present invention is particularly preferably for a transparent insulating layer or a transparent protective layer of a capacitive input device. More specifically, the transfer material of the present invention is preferably used as a transfer material for forming a laminated pattern of a refractive index adjusting layer and an overcoat layer (transparent protective layer) on a transparent electrode pattern by a photolithography method. it can. The transfer material of the present invention is preferably a transfer material for producing a touch panel protective film by a transfer method on a touch sensor provided with a transparent electrode on a film substrate.
Protective films for touch panels need mechanical strength to protect the wiring on the touch panel and barrier properties to prevent corrosion of the wiring due to moisture and ions, but at the same time reduce the image quality of the display element Therefore, it is required that the protective film for the touch panel formed on the touch sensor has a low haze.
図１２に、本発明の転写材料の好ましい構成の一例を示す。図１２は、支持体２６、支持体側機能層７、保護フィルム側機能層１２（第二の透明樹脂層）および保護フィルム２９（保護剥離層）がこの順で互いに隣接して積層された、本発明の転写材料３０の概略図である。
本発明の転写材料は支持体側機能層７および保護フィルム側機能層１２の少なくとも２層の機能層を有し、このことは機能分離をする上で好ましい。例えば、本発明の転写材料に含まれる機能層を支持体側から順に機能層１、機能層２と順に名づけた時、機能層１をタッチパネル用保護層として機能層２を屈折率調整層とすることで、高屈折率な透明電極パターンが被転写体である場合、これら電極パターンを見えづらくできる。また、機能層２を密着性調整層または高密着力層とすることで本発明の転写材料と被転写体の密着力を高めることができる。
タッチパネルに転写後、タッチパネル内部で支持体側機能層７および保護フィルム側機能層１２のうち少なくとも一方がタッチパネル用保護層であることが好ましく、支持体側機能層７がタッチパネル用保護層であることがより好ましい。
保護フィルム側機能層１２は、タッチパネルに転写後、タッチパネル内部で屈折率調整層などの機能を奏する第二の透明樹脂層であってもよく、タッチパネル内部で高密着力層などの機能を奏する第三の透明樹脂層（不図示）であってもよい。保護フィルム側機能層１２は、タッチパネルに転写後、タッチパネル内部で屈折率調整層などの機能を奏する第二の透明樹脂層であることがより好ましい。
本発明の転写材料は３層以上の機能層を有していてもよい。例えば、本発明の転写材料に含まれる機能層を支持体側から順に機能層１、機能層２、機能層３・・・と順に名づけた時、機能層１の屈折率が最も小さいことが好ましい。これは上記の例にある機能層１が保護層で機能層２が屈折率調整層の態様に機能層３として新たな機能を付け加えるができる。機能層３は例えば高密着力層などであり、高密着力層であることが好ましい。また、機能層１は保護層とし、機能層２、機能層３・・・の順に屈折率が段階的に高くなっていく屈折率調整層とすることにより、上記の透明電極パターンをさらに見えづらくできる。さらに最外層を高密着力層とすることも可能である。
FIG. 12 shows an example of a preferable configuration of the transfer material of the present invention. FIG. 12 shows a book in which a support 26, a support-side functional layer 7, a protective film-side functional layer 12 (second transparent resin layer), and a protective film 29 (protective release layer) are laminated adjacent to each other in this order. It is the schematic of the transfer material 30 of invention.
The transfer material of the present invention has at least two functional layers of a support-side functional layer 7 and a protective film-side functional layer 12, which is preferable for functional separation. For example, when the functional layers included in the transfer material of the present invention are named sequentially as the functional layer 1 and the functional layer 2 from the support side, the functional layer 1 is a protective layer for a touch panel and the functional layer 2 is a refractive index adjustment layer. Thus, when a transparent electrode pattern with a high refractive index is a transfer target, it is difficult to see these electrode patterns. Moreover, the adhesive force of the transfer material of this invention and a to-be-transferred body can be improved by making the functional layer 2 into an adhesive adjustment layer or a high adhesive force layer.
After transfer to the touch panel, at least one of the support-side functional layer 7 and the protective film-side functional layer 12 is preferably a touch-panel protective layer inside the touch panel, and the support-side functional layer 7 is more preferably a touch panel protective layer. preferable.
The protective film side functional layer 12 may be a second transparent resin layer that performs a function such as a refractive index adjustment layer inside the touch panel after being transferred to the touch panel, and a third that exhibits a function such as a high adhesion layer inside the touch panel. The transparent resin layer (not shown) may be used. The protective film-side functional layer 12 is more preferably a second transparent resin layer that performs functions such as a refractive index adjustment layer inside the touch panel after being transferred to the touch panel.
The transfer material of the present invention may have three or more functional layers. For example, when the functional layers included in the transfer material of the present invention are named in order of the functional layer 1, the functional layer 2, the functional layer 3,... In order from the support side, the refractive index of the functional layer 1 is preferably the smallest. This can add a new function as the functional layer 3 to the embodiment in which the functional layer 1 in the above example is a protective layer and the functional layer 2 is a refractive index adjusting layer. The functional layer 3 is, for example, a high adhesion layer, and is preferably a high adhesion layer. The functional layer 1 is a protective layer, and the refractive index adjustment layer whose refractive index increases stepwise in the order of the functional layer 2, the functional layer 3,... Makes the above transparent electrode pattern more difficult to see. it can. Further, the outermost layer can be a high adhesion layer.
＜支持体、保護フィルム＞
本発明の転写材料に用いられる支持体または保護フィルムとしては特に制限はなく、ガラス、Ｓｉウェハ、紙、不織布、フィルムなどを挙げることができる。その中でも、支持体または保護フィルムとしてはフィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
支持体または保護フィルムとして用いられるフィルムとしては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることが好ましい。支持体および保護フィルムの材質は特に限定されず、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、トリ酢酸セルロース（ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ、ＣＯＰ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＰＶＡ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ、ＰＰ）、その他公知の材料を使用できる。コスト、ハンドリング特性、寸法安定性その他の特性上ＰＥＴを使用することが最も好ましい。
支持体または保護フィルムとしては市販のフィルムを用いてもよい。市販のフィルムとしては、例えば、ルミラー １６ＱＳ６２（１６μｍ ＰＥＴ、東レ株式会社）を挙げることができる。
<Support, protective film>
There is no restriction | limiting in particular as a support body or protective film used for the transfer material of this invention, Glass, Si wafer, paper, a nonwoven fabric, a film, etc. can be mentioned. Among them, the support or protective film is preferably a film, and more preferably a resin film.
As the film used as the support or protective film, it is preferable to use a material that is flexible and does not cause significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure or under pressure and heat. The material of the support and the protective film is not particularly limited. Polyethylene terephthalate (PET), cellulose triacetate (TAC), cycloolefin polymer (COP), polyvinyl alcohol (polyvinyl Acol, PV) Polypropylene (PP) and other known materials can be used. Most preferred is the use of PET due to cost, handling properties, dimensional stability and other properties.
A commercially available film may be used as the support or the protective film. Examples of the commercially available film include Lumirror 16QS62 (16 μm PET, Toray Industries, Inc.).
支持体または保護フィルムの厚みには、特に制限はなく、５〜２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０〜１５０μｍの範囲が好ましく、軽量化の観点から１０〜２０μｍの範囲がより好ましい。 The thickness of the support or protective film is not particularly limited, and is generally in the range of 5 to 200 μm. In terms of ease of handling and versatility, the range of 10 to 150 μm is particularly preferable, and the viewpoint of weight reduction. To 10 to 20 μm is more preferable.
支持体または保護フィルムはフィラーを含んでいてもよい。支持体または保護フィルムは滑り性、ハンドリング特性を調整する観点からフィラーを含むことが好ましい。表面が荒れて材料の透明性が低下する問題を抑制するためフィラーは直径１μｍ以下のものを使用することが好ましい。
フィラーの大きさは走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＳＥＭ）により観察を行う。
The support or the protective film may contain a filler. The support or the protective film preferably contains a filler from the viewpoint of adjusting slipperiness and handling characteristics. In order to suppress the problem that the surface becomes rough and the transparency of the material is lowered, it is preferable to use a filler having a diameter of 1 μm or less.
The size of the filler is observed with a scanning electron microscope (SEM).
また、支持体または保護フィルムには、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。 Further, the support or the protective film can be provided with conductivity by a method described in JP-A-2005-221726.
＜支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層＞
本発明の転写材料は、機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下である。
５０質量％以上の微粒子を含む機能層は、保護フィルム側機能層であることが好ましい。
無機微粒子の含有量が１０質量％以下である機能層は、支持体側機能層や、その他の機能層であることが好ましい。
<Support side functional layer, protective film side functional layer, other functional layers>
In the transfer material of the present invention, at least one functional layer of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles, and at least one functional layer of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less.
The functional layer containing fine particles of 50% by mass or more is preferably a protective film side functional layer.
The functional layer having an inorganic fine particle content of 10% by mass or less is preferably a support-side functional layer or other functional layer.
支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層は、熱硬化性であっても、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層は少なくとも熱硬化性であることが、転写後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましく、熱硬化性かつ光硬化性であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点からより好ましい。
なお、本明細書中では説明の都合上、転写材料の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を光硬化した後にこれらの層が光硬化性を失った場合において、これらの層が光硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層と呼ぶ。さらに、これらの層を光硬化した後、熱硬化を行う場合もあるが、その場合もこれらの層が硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層と呼ぶ。同様に、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を熱硬化した後にこれらの層が熱硬化性を失った場合において、これらの層が熱硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層と呼ぶ。
The support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers may be thermosetting, photocurable, thermosetting, and photocurable. Among them, the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and the other functional layers are preferably at least thermosetting from the viewpoint of thermosetting after transfer and imparting film reliability. It is more preferable that it is curable from the viewpoint that it is easy to form a film by photocuring after the transfer, and that the film can be thermally cured after the film formation to provide reliability of the film.
In the present specification, for convenience of explanation, the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers of the transfer material are transferred onto the transparent electrode pattern, and after these layers are photocured, these layers are transferred. In the case where the photo-curing property is lost, these layers are successively referred to as a support-side functional layer, a protective film-side functional layer, and other functional layers, regardless of whether or not these layers have photo-curing properties. Furthermore, after photocuring these layers, there are cases where thermosetting is performed, in which case the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, respectively, regardless of whether or not these layers have curability, Called other functional layers. Similarly, when the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers are transferred onto the transparent electrode pattern and these layers are thermoset, these layers lose their thermosetting properties. Regardless of whether or not the layer has thermosetting properties, they are successively referred to as a support-side functional layer, a protective film-side functional layer, and other functional layers.
転写材料は、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
転写材料がネガ型材料である場合、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層には、金属酸化物粒子、バインダー樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、光重合性化合物、重合開始剤を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
転写材料は、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合開始剤を含むことが好ましい。
The transfer material may be a negative type material or a positive type material.
When the transfer material is a negative type material, metal oxide particles, binder resin (preferably alkali-soluble resin), photopolymerizable compound, polymerization start are provided on the support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers. It is preferable that an agent is included. Furthermore, an additive etc. are used, but it is not restricted to this.
In the transfer material, it is preferable that the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers each independently include a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
転写材料は、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層が透明樹脂層であることが好ましい。
支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
In the transfer material, the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers are preferably transparent resin layers.
The method for controlling the refractive index of the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers is not particularly limited, but a transparent resin layer having a desired refractive index can be used alone, or metal particles or metal oxides can be used. A transparent resin layer to which particles such as particles are added can be used, or a composite of a metal salt and a polymer can be used.
さらに、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。 Furthermore, you may use an additive for a support body side functional layer, a protective film side functional layer, and another functional layer. Examples of the additive include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784, paragraphs 0060-0071 of JP-A-2009-237362, and thermal polymerization described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784. In addition, other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A No. 2000-310706 may be used.
以上、転写材料がネガ型材料である場合を中心に説明したが、転写材料は、ポジ型材料であってもよい。転写材料がポジ型材料である場合、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。 As described above, the case where the transfer material is a negative type material has been mainly described, but the transfer material may be a positive type material. When the transfer material is a positive type material, for example, the materials described in JP-A-2005-221726 are used for the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers, but the material is not limited thereto. .
本発明の転写材料は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が、３３μｌ／ｍ2／μｍ以下であることが好ましく、３０μｌ／ｍ2／μｍ以下であることがより好ましい。ヘイズ増加の原因となる表面の微小なシワを抑制する観点では残留有機溶剤の量は少ないほど好ましいが、乾燥設備の能力により残留有機溶剤のを減らせる範囲が決まる。
また、本発明の転写材料は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤のうち分子量５０以下の成分の量が０．８μｌ／ｍ2／μｍであることが好ましく、０．７μｌ／ｍ2／μｍであることがより好ましい。
本明細書中、有機溶剤とは、常温で、液体の有機材料である。なお、有機溶剤に水は含まれない。
Transfer material of the present invention, the amount of residual organic solvent per thickness 1μm functional layers is preferably not more than 33μl / m 2 / μm, and more preferably less 30μl / m 2 / μm. The amount of residual organic solvent is preferably as small as possible from the viewpoint of suppressing fine wrinkles on the surface that cause an increase in haze, but the range in which the residual organic solvent can be reduced is determined by the capacity of the drying equipment.
The transfer material of the present invention preferably has the amount of molecular weight 50 the following components of the residual organic solvent per thickness 1μm of the functional layer is 0.8μl / m 2 / μm, 0.7μl / m 2 / More preferably, it is μm.
In this specification, an organic solvent is a liquid organic material at room temperature. The organic solvent does not contain water.
本発明で発生を抑制した微小なシワは、機能層の厚みによっても影響を受ける。
本発明の転写材料は、機能層の厚みの合計が４〜１２μｍであることが好ましく、６〜１２μｍであることがより好ましく、８〜１２μｍであることが特に好ましい。機能層の膜厚の合計は厚い方が、微小なシワが発生しづらくヘイズ抑制の観点で好ましい。機能層の膜厚の合計が１２μｍ以下であるとタック性（表面の粘着性）が強くなり過ぎず、製造工程においてハンドリングしやすい。また、機能層の膜厚の合計が１２μｍ以下であると乾燥工程での乾燥負荷が大きくなり過ぎず、製造コストを抑制できる。
The fine wrinkles whose occurrence is suppressed in the present invention are also affected by the thickness of the functional layer.
In the transfer material of the present invention, the total thickness of the functional layers is preferably 4 to 12 μm, more preferably 6 to 12 μm, and particularly preferably 8 to 12 μm. A larger total thickness of the functional layers is preferable from the viewpoint of haze suppression because minute wrinkles are less likely to occur. When the total thickness of the functional layers is 12 μm or less, tackiness (surface adhesiveness) does not become too strong, and handling is easy in the manufacturing process. Further, when the total thickness of the functional layers is 12 μm or less, the drying load in the drying process does not become too large, and the manufacturing cost can be suppressed.
（支持体側機能層の構成）
支持体側機能層が保護層であることが好ましい。これは支持体側機能層の好ましい態様の一つである。
前述の支持体側機能層の二重結合消費率が１０％以下であることが、転写後の支持体側機能層にフォトリソグラフィ適性を付与できる観点から、好ましい。支持体側機能層に用いられる有機溶剤系樹脂組成物を塗布し、乾燥した後に、露光せずに保護フィルム側機能層またはその他の機能層に用いられる水系樹脂組成物を塗布することで、このような範囲に支持体側機能層の二重結合消費率を制御することができる。なお、特開２０１４−１０８５４１号公報の転写材料では、支持体側機能層の二重結合消費率が１０％を超える。
(Configuration of support side functional layer)
The support-side functional layer is preferably a protective layer. This is one of the preferred embodiments of the support-side functional layer.
The double bond consumption rate of the above-mentioned support-side functional layer is preferably 10% or less from the viewpoint of imparting photolithography suitability to the support-side functional layer after transfer. After applying the organic solvent-based resin composition used for the support-side functional layer and drying it, without applying exposure, the aqueous resin composition used for the protective film-side functional layer or other functional layers is applied. The double bond consumption rate of the support-side functional layer can be controlled within such a range. In addition, in the transfer material of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-108541, the double bond consumption rate of a support side functional layer exceeds 10%.
転写材料は、前述の支持体側機能層の屈折率が、１．５〜１．５３であることが好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましく、１．５１〜１．５２であることが特に好ましい。 The transfer material preferably has a refractive index of 1.5 to 1.53, more preferably 1.5 to 1.52, and more preferably 1.51 to 1.52. It is particularly preferred.
転写材料は、前述の支持体側機能層の層厚が、支持体側機能層を用いて静電容量型入力装置の透明保護層を形成するときに十分な表面保護能を発揮させる観点から、１μｍ以上であることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、２〜１２μｍｍであることが特に好ましく、３〜１０μｍｍであることがより特に好ましい。 The transfer material has a layer thickness of the above-mentioned support-side functional layer of 1 μm or more from the viewpoint of exerting sufficient surface protection ability when forming the transparent protective layer of the capacitive input device using the support-side functional layer. It is preferable that it is 1-15 micrometers, It is especially preferable that it is 2-12 micrometers, It is more preferable that it is 3-10 micrometers.
（保護フィルム側機能層、その他の機能層の構成）
転写材料は、前述の保護フィルム側に配置される保護フィルム側機能層を有することが好ましい。
転写材料は、保護フィルム側機能層またはその他の機能層の屈折率が前述の支持体側機能層の屈折率よりも高いことがより好ましい。保護フィルム側機能層またはその他の機能層の屈折率が１．５５以上１．８０以下であることが好ましい。これは保護フィルム側機能層またはその他の機能層が屈折率調整層である場合に更に好ましい態様である。
一方、屈折率調整層の屈折率は、透明電極の屈折率によって調整する必要があり、値の上限値としては特に制限はないが、１．７８以下であることがより好ましく、１．７４以下であってもよい。
特に、透明電極の屈折率が、Ｉｎ及びＺｎの酸化物（ＩＺＯ；Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）の場合の様に２．０を超える場合においては、屈折率調整層の屈折率は、１．７以上１．８０以下であることが好ましい。
機能層中に含まれる微粒子は高屈折率材料であることが好ましく、高屈折率材料が酸化ジルコニウム粒子または酸化チタン粒子であることがより好ましい。機能層中に含まれる微粒子の詳細については、後述の転写材料の製造方法において説明する。
(Configuration of protective film side functional layer and other functional layers)
The transfer material preferably has a protective film-side functional layer disposed on the protective film side.
As for a transfer material, it is more preferable that the refractive index of a protective film side functional layer or other functional layers is higher than the refractive index of the above-mentioned support side functional layer. The refractive index of the protective film side functional layer or other functional layer is preferably 1.55 or more and 1.80 or less. This is a more preferable embodiment when the protective film side functional layer or other functional layer is a refractive index adjusting layer.
On the other hand, the refractive index of the refractive index adjusting layer needs to be adjusted by the refractive index of the transparent electrode, and the upper limit of the value is not particularly limited, but is preferably 1.78 or less, more preferably 1.74 or less. It may be.
In particular, when the refractive index of the transparent electrode exceeds 2.0 as in the case of In and Zn oxides (IZO; Indium Zinc Oxide), the refractive index of the refractive index adjusting layer is 1.7 or more and 1 .80 or less is preferable.
The fine particles contained in the functional layer are preferably a high refractive index material, and more preferably the high refractive index material is zirconium oxide particles or titanium oxide particles. Details of the fine particles contained in the functional layer will be described in a method for producing a transfer material described later.
機能層中に含まれる微粒子の量は、好ましくは５０〜９７質量％以下の範囲である。特に好ましくは６５〜９７質量％の範囲である。微粒子の量は下限値以上であれば目的とする屈折率調整層の機能を達成することができ、上限値以下であれば機能層の強度が高まり、製造工程において傷などが入りにくくなって得率が高くなる。 The amount of fine particles contained in the functional layer is preferably in the range of 50 to 97% by mass or less. Especially preferably, it is the range of 65-97 mass%. If the amount of fine particles is not less than the lower limit value, the intended function of the refractive index adjustment layer can be achieved. The rate is high.
透明電極パターン（好ましくはＩＴＯ；Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）と前述の屈折率調整層との屈折率差、ならびに、前述の屈折率調整層と前述の支持体側機能層との屈折率差を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、透明電極パターン視認性を改善することができる。また、支持体側機能層を積層した後に支持体側機能層を硬化させることなく保護フィルム側機能層またはその他の機能層を積層しても、層分画が良好となって透明電極パターン視認性を改善できるとともに、転写材料から屈折率調整層を透明電極パターン上に転写した後でフォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。 By reducing the refractive index difference between the transparent electrode pattern (preferably ITO; Indium Tin Oxide) and the refractive index adjustment layer, and the refractive index difference between the refractive index adjustment layer and the support-side functional layer. The light reflection is reduced and the transparent electrode pattern becomes difficult to see, and the visibility of the transparent electrode pattern can be improved. In addition, even if the protective film side functional layer or other functional layers are laminated without curing the support side functional layer after laminating the support side functional layer, the layer fraction is improved and the transparent electrode pattern visibility is improved. In addition, the refractive index adjustment layer can be transferred from the transfer material onto the transparent electrode pattern and then developed into a desired pattern by photolithography.
転写材料は、保護フィルム側機能層またはその他の機能層が屈折率調整材として高屈折率素材を含有する屈折率調整層であり、かつ、屈折率調整層の膜厚が５０〜１２０ｎｍであることが好ましい。これは保護フィルム側機能層またはその他の機能層が屈折率調整層である場合に更に好ましい態様である。屈折率調整層の膜厚は１１０ｎｍ以下であることがより好ましい。屈折率調整層の膜厚が２０ｎｍ以上であることが好ましい。屈折率調整層の膜厚が５５〜１００ｎｍであることが特に好ましく、６０〜１００ｎｍであることがより特に好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらにより特に好ましい。
一方、保護フィルム側機能層またはその他の機能層が高密着力層である場合、高密着力層の膜厚が１〜２０μｍであることが特に好ましく、１〜１０μｍであることがより特に好ましく、１〜５μｍであることがさらにより特に好ましい。
The transfer material is a refractive index adjusting layer in which the protective film side functional layer or other functional layer contains a high refractive index material as a refractive index adjusting material, and the film thickness of the refractive index adjusting layer is 50 to 120 nm. Is preferred. This is a more preferable embodiment when the protective film side functional layer or other functional layer is a refractive index adjusting layer. The film thickness of the refractive index adjustment layer is more preferably 110 nm or less. The film thickness of the refractive index adjustment layer is preferably 20 nm or more. The thickness of the refractive index adjusting layer is particularly preferably from 55 to 100 nm, more preferably from 60 to 100 nm, and even more preferably from 70 to 100 nm.
On the other hand, when the protective film side functional layer or other functional layer is a high adhesion layer, the film thickness of the high adhesion layer is particularly preferably 1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, Even more preferably, it is 5 μm.
＜熱可塑性樹脂層＞
転写材料は、支持体側機能層と保護フィルム側機能層との間に熱可塑性樹脂層を設けることもできる。
熱可塑性樹脂層としては、特開２０１４−１４２８４３号公報の［００４２］〜［００４８］に記載の熱可塑性樹脂層を用いることができ、この公報の内容は参照して本明細書に組み込まれる。
<Thermoplastic resin layer>
The transfer material can also provide a thermoplastic resin layer between the support-side functional layer and the protective film-side functional layer.
As the thermoplastic resin layer, a thermoplastic resin layer described in JP-A-2014-142843 [0042] to [0048] can be used, and the content of this publication is incorporated herein by reference.
＜中間層＞
転写材料は、前述の熱可塑性樹脂層と前述の支持体側機能層との間に中間層を設けることもできる。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている。
<Intermediate layer>
In the transfer material, an intermediate layer may be provided between the thermoplastic resin layer and the support-side functional layer. The intermediate layer is described as “separation layer” in JP-A-5-72724.
［転写材料の製造方法］
本発明の転写材料の製造方法は、支持体の上に有機溶剤を用いた塗布により２層以上の機能層を形成する工程と、
機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３３μｌ／ｍ2／μｍ以下になるまで機能層を乾燥する工程と、
２層以上の機能層の上に保護フィルムを形成する工程を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下である。
[Transfer Material Manufacturing Method]
The method for producing a transfer material of the present invention includes a step of forming two or more functional layers on a support by coating using an organic solvent,
Drying the functional layer until the amount of residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is 33 μl / m 2 / μm or less;
Including a step of forming a protective film on two or more functional layers,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less.
転写材料の製造方法は、支持体上に支持体側機能層を形成する工程と、前述の支持体側機能層の上に直接第二の透明樹脂層を形成する工程とを有し、前述の支持体側機能層を形成する工程が、有機溶剤系樹脂組成物を前述の支持体上に塗布する工程であり、前述の第二の透明樹脂層を形成する工程が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を塗布する工程であることが好ましい。第二の透明樹脂層は、保護フィルム側機能層またはその他の機能層であることが好ましく、保護フィルム側機能層であることが好ましい。
このような構成とすることで、層分画が良好であり、かつ、高温高湿下で経時させた場合に水系樹脂組成物を用いて形成された透明樹脂層の吸湿による問題を抑制できる。有機溶剤系樹脂組成物によって得られた支持体側機能層の上に、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を塗布することで、支持体側機能層を硬化せずに第二の透明樹脂層を形成しても層混合が生じず、層分画が良好となる。さらに、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を用いた塗布膜を乾燥させるときに酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、水よりも沸点の低いアンモニアが乾燥工程で揮発しやすいため、酸基を生成（再生）して酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂として第二の透明樹脂層に存在させることができる。そのため、高温高湿下で経時させて吸湿させた場合に第二の透明樹脂層を構成する酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂はすでに水に溶解しなくなっているため、転写材料が吸湿したときの問題も抑制することができる。
The method for producing a transfer material includes a step of forming a support-side functional layer on a support, and a step of forming a second transparent resin layer directly on the support-side functional layer, The step of forming the functional layer is a step of applying the organic solvent-based resin composition on the above-mentioned support, and the step of forming the above-mentioned second transparent resin layer is an ammonium salt of a monomer having an acid group or A step of applying an aqueous resin composition containing an ammonium salt of a resin having an acid group is preferable. The second transparent resin layer is preferably a protective film side functional layer or other functional layer, and is preferably a protective film side functional layer.
By setting it as such a structure, the layer fraction is favorable and the problem by the moisture absorption of the transparent resin layer formed using the aqueous resin composition can be suppressed when it is made to age at high temperature and high humidity. By applying an aqueous resin composition containing an ammonium salt of a monomer having an acid group or an ammonium salt of a resin having an acid group on the support side functional layer obtained by the organic solvent-based resin composition, Even if the second transparent resin layer is formed without curing the layer, layer mixing does not occur, and the layer fraction is improved. Further, when the coating film using an aqueous resin composition containing an ammonium salt of an acid group-containing monomer or an acid group-containing resin is dried, an acid group-containing monomer ammonium salt or an acid group-containing resin is dried. Since ammonia having a boiling point lower than that of water easily volatilizes from the ammonium salt in the drying process, acid groups are generated (regenerated) to be present in the second transparent resin layer as acid group-containing monomers or acid group-containing resins. be able to. Therefore, when the moisture is absorbed over time at high temperature and high humidity, the monomer having acid groups or the resin having acid groups constituting the second transparent resin layer is no longer dissolved in water, so that the transfer material absorbs moisture. It is also possible to suppress problems when doing so.
＜支持体上に支持体側機能層を形成する工程＞
本発明の転写材料の製造方法は、支持体の上に有機溶剤を用いた塗布により２層以上の機能層を形成する工程を含む。
転写材料の製造方法は、支持体上に支持体側機能層を形成する工程を有することがより好ましく、前述の支持体側機能層を形成する工程が有機溶剤系樹脂組成物を前述の支持体上に塗布する工程であることが特に好ましい。
<Step of forming a support-side functional layer on the support>
The method for producing a transfer material of the present invention includes a step of forming two or more functional layers on a support by coating using an organic solvent.
More preferably, the method for producing a transfer material includes a step of forming a support-side functional layer on a support, and the step of forming the above-mentioned support-side functional layer includes placing an organic solvent-based resin composition on the above-described support. A coating step is particularly preferable.
（有機溶剤系樹脂組成物）
有機溶剤系樹脂組成物とは、有機溶剤を含む樹脂組成物のことを言う。有機溶剤系樹脂組成物は、有機溶剤に溶解することが好ましい。
有機溶剤としては、一般的な有機溶剤が使用できる。有機溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。特に、有機溶剤系樹脂組成物は、分子量５０を超える有機溶剤を好ましく用いることができる。ただし、有機溶剤系樹脂組成物は分子量５０以下の有機溶剤を含んでいてもよい。
(Organic solvent resin composition)
The organic solvent-based resin composition refers to a resin composition containing an organic solvent. The organic solvent-based resin composition is preferably dissolved in an organic solvent.
A common organic solvent can be used as the organic solvent. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like. In particular, an organic solvent having a molecular weight exceeding 50 can be preferably used for the organic solvent-based resin composition. However, the organic solvent-based resin composition may contain an organic solvent having a molecular weight of 50 or less.
支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含むことが好ましい。 It is preferable that the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer includes a binder polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
−バインダーポリマー−
前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーとしては任意のポリマー成分を特に制限なく用いることができるが、静電容量型入力装置の透明保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが好ましく用いられる。支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーが、アクリル樹脂を含有することが好ましい。支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーと後述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物に含まれる酸基を有する樹脂またはバインダーポリマーがいずれもアクリル樹脂を含有することが、支持体側機能層と第二の透明樹脂層を転写する前および後の層間密着性を高める観点からより好ましい。支持体側機能層の前述のバインダーポリマーの好ましい範囲を具体的に説明する。
バインダーポリマーの酸価が５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、８０〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
-Binder polymer-
Any polymer component can be used without particular limitation as the binder polymer contained in the organic solvent-based resin composition used for the formation of the above-mentioned support-side functional layer, but it can be used as a transparent protective film of a capacitive input device. From the viewpoint, those having high surface hardness and heat resistance are preferred, alkali-soluble resins are more preferred, and among the alkali-soluble resins, known photosensitive siloxane resin materials, acrylic resin materials, and the like are preferably used. It is preferable that the binder polymer contained in the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer contains an acrylic resin. The binder polymer contained in the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer and the resin or binder polymer having an acid group contained in the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer described below It is more preferable that both contain an acrylic resin from the viewpoint of improving interlayer adhesion before and after transferring the support-side functional layer and the second transparent resin layer. The preferable range of the above-mentioned binder polymer of the support-side functional layer will be specifically described.
The acid value of the binder polymer is preferably 50 to 150 mgKOH / g, more preferably 70 to 120 mgKOH / g, and still more preferably 80 to 110 mgKOH / g.
前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に用いられ、有機溶剤に対して溶解性を有する樹脂としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーを用いることができる。 The resin used in the organic solvent-based resin composition used for the formation of the above-mentioned support-side functional layer is not particularly limited as long as the resin having solubility in the organic solvent is not contrary to the gist of the present invention. An alkali-soluble resin can be selected as appropriate, and the alkali-soluble resin is preferably a polymer described in paragraphs 0025 of JP2011-95716A and paragraphs 0033 to 0052 of JP2010-237589A. Can do.
また支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物は、ポリマーラテックスを含んでいても良い。ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学（高分子刊行会発行（昭和４８年））」に記載されている。 The organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer may contain a polymer latex. The polymer latex referred to herein is a polymer in which water-insoluble polymer fine particles are dispersed in water. The polymer latex is described, for example, in Soichi Muroi “Chemistry of Polymer Latex (published by Kobunshi Shuppankai (Showa 48))”.
使用できるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系（例えばスチレン−ブタジエン系、クロロプレン系）、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、及びこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。
ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合による相互作用を利用するものと共有結合を生成する方法が挙げられる。水素結合力を付与する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸基）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。
これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５〜３５質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％、更に好ましくは１５〜２０質量％の範囲内である。一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸基などに、エポキシ化合物、ブロックドイソシアネート、イソシアネ−ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマーの重量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万〜１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
Polymer particles that can be used include acrylic, vinyl acetate, rubber (for example, styrene-butadiene, chloroprene), olefin, polyester, polyurethane, polystyrene, and copolymers thereof. Particles are preferred.
It is preferable to increase the bonding force between the polymer chains constituting the polymer particles. Examples of means for strengthening the bonding force between polymer chains include a method using a hydrogen bond interaction and a method of generating a covalent bond. As a means for imparting hydrogen bonding strength, it is preferable to introduce a monomer having a polar group in the polymer chain by copolymerization or graft polymerization. As polar groups, carboxyl groups (containing in acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, crotonic acid, partially esterified maleic acid, etc.), primary, secondary and tertiary amino groups, ammonium base, Examples thereof include a sulfonic acid group (styrene sulfonic acid group), and a carboxyl group and a sulfonic acid group are particularly preferable.
The preferable range of the copolymerization ratio of the monomer having these polar groups is 5 to 35% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 15 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the polymer. It is. On the other hand, as means for generating a covalent bond, an epoxy compound, a blocked isocyanate, an isocyanate, a vinyl sulfone compound, an aldehyde compound, a hydroxyl group, a carboxyl group, a primary, secondary amino group, an acetoacetyl group, a sulfonic acid group, etc. , Methylol compounds, carboxylic acid anhydrides and the like.
Among the polymers utilizing these reactions, polyurethane derivatives obtained by the reaction of polyols and polyisocyanate compounds are preferred, polyvalent amines are more preferred as chain extenders, and the above polar groups are introduced into the polymer chains. The ionomer type is particularly preferred.
The weight average molecular weight of the polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 to 100,000. Suitable polymers for the present invention include ethylene ionomers and polyurethane ionomers which are copolymers of ethylene and methacrylic acid.
本発明に用いることができるポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものでもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。
本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０ 三井化学（株）製。固形分２７％）（商品名：ケミパールＳ１００ 三井化学（株）製。固形分２７％）（商品名：ケミパールＳ１１１ 三井化学（株）製。固形分２７％）（商品名：ケミパールＳ２００ 三井化学（株）製。固形分２７％）、（商品名：ケミパールＳ３００ 三井化学（株）製。固形分３５％）（商品名：ケミパールＳ６５０ 三井化学（株）製。固形分２７％）（商品名：ケミパールＳ７５Ｎ 三井化学（株）製。固形分２４％）や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０１ ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−５０℃。なお、ＴｇはＧｌａｓｓ Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０２ ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２２１ ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−３０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１０ ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１３ ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６０２ ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６１１ ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、Ｔｇ−１５℃）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−２１０ 日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＥＴ−４１０ 日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−５１０ 日本純薬製）、ポリアクリル酸（商品名：ジュリマーＡＣ−１０Ｌ 日本純薬製）をアンモニア中和し、乳化した物を挙げることができる。
The polymer latex that can be used in the present invention may be obtained by emulsion polymerization or may be obtained by emulsification. The method for preparing these polymer latexes is described, for example, in “Emulsion Latex Handbook” (edited by Emulsion Latex Handbook Editorial Committee, published by Taiseisha Co., Ltd. (Showa 50)).
Examples of the polymer latex that can be used in the present invention include an aqueous dispersion of polyethylene ionomer (trade name: Chemipearl S120, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., solid content 27%) (trade name: Chemipearl S100, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). (Product name: Chemipearl S111, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. Solid content 27%) (Product name: Chemipearl S200, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., solid content 27%), (Product name: Chemipearl S300, Mitsui) Chemical Co., Ltd. (solid content 35%) (trade name: Chemipearl S650, Mitsui Chemicals Co., Ltd., solid content 27%) (trade name: Chemipearl S75N, Mitsui Chemicals Co., Ltd., solid content 24%), poly Aqueous dispersion of ether polyurethane (trade name: Hydran WLS-201 manufactured by DIC Corporation. Solid content 35%, Tg-50 ° C. Tg is Glass Transition Temperature (trade name: Hydran WLS-202 DIC Co., Ltd., solid content 35%, Tg-50 ° C.) (trade name: Hydran WLS-221 DIC Co., Ltd., solid content 35%. , Tg-30 ° C.) (trade name: Hydran WLS-210 manufactured by DIC Corp., solid content 35%, Tg-15 ° C.) (trade name: Hydran WLS-213 DIC Corp., solid content 35%, Tg (Trade name: Hydran WLI-602 manufactured by DIC Corporation. Solid content: 39.5%, Tg-50 ° C) (Product name: Hydran WLI-611 DIC Co., Ltd., solid content: 39.5%) , Tg-15 ° C), alkyl acrylate copolymer ammonium (trade name: Jurimer AT-210, manufactured by Nippon Pure Chemical), alkyl acrylate copolymer Monium (trade name: Jurimer ET-410, manufactured by Nippon Pure Chemical), alkyl acrylate copolymer ammonium (trade name: Jurimer AT-510, manufactured by Nippon Pure Chemical), polyacrylic acid (trade name: Jurimer AC-10L, manufactured by Nippon Pure Chemical) Can be mentioned that has been neutralized with ammonia and emulsified.
−光重合性化合物−
水系樹脂組成物または有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬株式会社製）、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０ 日本化薬（株）製）、ＮＫエステル Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業（株）製）、アクリット８ＵＸ−０１５Ａ（大成ファインケミカル株式会社製）を好ましく用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
-Photopolymerizable compound-
As the photopolymerizable compound used in the aqueous resin composition or the organic solvent resin composition, the photopolymerizable compounds described in paragraphs 0023 to 0024 of Japanese Patent No. 4098550 can be used. Among these, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and tetraacrylate of pentaerythritol ethylene oxide adduct can be preferably used. These polymerizable compounds may be used alone or in combination. When a mixture of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol triacrylate is used, the ratio of pentaerythritol triacrylate is preferably 0 to 80%, more preferably 10 to 60% in terms of mass ratio.
Examples of the photopolymerizable compound used in the organic solvent-based resin composition include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane diacrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate , Trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (Acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate, polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, bisphenol, etc., and (meth) acrylate after addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide. Urethane acrylates described in JP-A-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, etc .; JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 Polyester acrylates described in various publications such as No .; polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid. Among these, a mixture of trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (trade name KAYARAD DPHA, Japan Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) acrylate and pentaerythritol tetraacrylate mixture (NK ester A-TMMT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), tetraacrylate of pentaerythritol ethylene oxide adduct (Kayarad RP-) 1040 Nippon Kayaku Co., Ltd.), NK ester A-DCP (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), ACRYT 8UX-015A (Taisei Fine Chemi) Cal Co., Ltd.) can be preferably used. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
−光重合開始剤−
前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物が、前述の光重合性化合物および前述の光重合開始剤を含むことによって、支持体側機能層及び前述の第二の透明樹脂層のパターンを形成しやすくできる。
有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合開始剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の光重合開始剤を用いることができる。例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）の他、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９（ＢＡＳＦ製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７、ＢＡＳＦ製）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７、ＢＡＳＦ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １１７３、ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製などを好ましく用いることができる。
前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物中、前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１質量％以上含まれることが好ましく、２質量％以上含まれることがより好ましい。前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物中、前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１０質量％以下含まれることが好ましく、５質量％以下含まれることが透明積層体のパターニング性、基板密着性を改善する観点からより好ましい。
-Photopolymerization initiator-
When the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer includes the photopolymerizable compound and the photopolymerization initiator, the support-side functional layer and the second transparent resin layer are included. The pattern can be easily formed.
As a photoinitiator used for an organic solvent-type resin composition, the photoinitiator of Paragraphs 0031-0042 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-95716 can be used. For example, in addition to 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)] (trade name: IRGACURE OXE-01, manufactured by BASF), ethanone, 1- [9- Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime) (trade name: IRGACURE OXE-02, manufactured by BASF), 2- (dimethylamino) -2 -[(4-Methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (trade name: IRGACURE 379EG, manufactured by BASF), IRGACURE 379 (manufactured by BASF), 2-methyl-1 -(4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one (trade name: IRGACURE 907, manufactured by BASF), 2- Rhodoxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one (trade name: IRGACURE 127, manufactured by BASF), 2-benzyl 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (trade name: IRGACURE 369, manufactured by BASF), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (trade name) : IRGACURE 1173, manufactured by BASF), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name: IRGACURE 184, manufactured by BASF), 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name: IRGACURE 651) , Manufactured by BASF), trade name of oxime ester: Lunar 6, DKSH Bread Co., Ltd. can be preferably used.
In the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer, the photopolymerization initiator is based on the solid content of the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer. The content is preferably 1% by mass or more, and more preferably 2% by mass or more. In the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer, the photopolymerization initiator is based on the solid content of the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer. The content is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less from the viewpoint of improving the patternability and substrate adhesion of the transparent laminate.
−金属酸化物粒子−
前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよい。上述の範囲に前述の支持体側機能層の屈折率を制御するために、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物中、前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、０〜３５質量％含まれることが好ましく、０〜１０質量％含まれることがより好ましく、０〜１質量％含まれることが特に好ましい。
金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れたポジ型感光性樹脂組成物が得られる。
前述の金属酸化物粒子は、支持体側機能層または第二の透明樹脂層からこの粒子を除いた材料からなる組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましい。具体的には、転写材料は第二の透明樹脂層として用いる保護フィルム側機能層またはその他の機能層が、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することが更に好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することが特に好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが最も好ましい。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
-Metal oxide particles-
The organic solvent-based resin composition used for the formation of the above-mentioned support-side functional layer may contain particles (preferably metal oxide particles) for the purpose of adjusting the refractive index and light transmittance. It does not have to be. In order to control the refractive index of the above-mentioned support-side functional layer within the above-mentioned range, metal oxide particles can be included at an arbitrary ratio depending on the type of polymer or polymerizable compound used. In the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer, the metal oxide particles described above are based on the solid content of the organic solvent-based resin composition used for forming the support-side functional layer. 0 to 35% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, and particularly preferably 0 to 1% by mass.
Since the metal oxide particles have high transparency and light transmittance, a positive photosensitive resin composition having a high refractive index and excellent transparency can be obtained.
The metal oxide particles described above preferably have a refractive index higher than that of a composition made of a material obtained by removing the particles from the support-side functional layer or the second transparent resin layer. Specifically, in the transfer material, the protective film side functional layer or other functional layer used as the second transparent resin layer contains particles having a refractive index of 1.50 or more in light having a wavelength of 400 to 750 nm. It is more preferable to contain particles having a refractive index of 1.55 or more, particularly preferably particles having a refractive index of 1.70 or more, and most preferably particles having a refractive index of 1.90 or more. preferable.
Here, that the refractive index in light having a wavelength of 400 to 750 nm is 1.50 or more means that the average refractive index in light having a wavelength in the above range is 1.50 or more. It is not necessary that the refractive index of all light having a wavelength is 1.50 or more. The average refractive index is a value obtained by dividing the sum of the measured values of the refractive index for each light having a wavelength in the above range by the number of measurement points.
なお、前述の金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これは支持体側機能層以外の機能層が屈折率調整層である場合に更に好ましい態様である。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
The metal of the metal oxide particles described above includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
The light-transmitting and high refractive index metal oxide particles include Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, and Nb. Oxide particles containing atoms such as Mo, W, Zn, B, Al, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, and Te are preferable. Titanium oxide, titanium composite oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium / Tin oxide and antimony / tin oxide are more preferable, titanium oxide, titanium composite oxide, and zirconium oxide are more preferable, and titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable. Titanium dioxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. This is a more preferable aspect when the functional layer other than the support-side functional layer is a refractive index adjusting layer. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability.
支持体側機能層および第二の透明樹脂層の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。 From the viewpoint of the transparency of the support-side functional layer and the second transparent resin layer, the average primary particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 200 nm, and particularly preferably 3 to 80 nm. Here, the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope. When the particle shape is not spherical, the longest side is the diameter.
また、前述の金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
転写材料は、支持体側機能層および第二の透明樹脂層として用いる保護フィルム側機能層またはその他の機能層が、ＺｒＯ2粒子、Ｎｂ2Ｏ5粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも一方を有することが、前述の支持体側機能層および前述の第二の透明樹脂層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子及びＮｂ2Ｏ5粒子がより好ましい。
Moreover, the metal oxide particles described above may be used alone or in combination of two or more.
In the transfer material, the protective film-side functional layer or other functional layer used as the support-side functional layer and the second transparent resin layer may have at least one of ZrO 2 particles, Nb 2 O 5 particles, and TiO 2 particles. From the viewpoint of controlling the refractive index within the refractive index range of the support-side functional layer and the second transparent resin layer, ZrO 2 particles and Nb 2 O 5 particles are more preferable.
＜第二の透明樹脂層を形成する工程＞
転写材料の製造方法は、支持体側機能層の上に直接第二の透明樹脂層（好ましくは保護フィルム側機能層）を形成する工程を有することが好ましい。前述の第二の透明樹脂層を形成する工程が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を塗布する工程であることがより好ましい。
<Step of forming the second transparent resin layer>
The method for producing a transfer material preferably includes a step of forming a second transparent resin layer (preferably a protective film side functional layer) directly on the support side functional layer. More preferably, the step of forming the second transparent resin layer is a step of applying an aqueous resin composition containing an ammonium salt of a monomer having an acid group or an ammonium salt of a resin having an acid group.
（水系樹脂組成物）
水系樹脂組成物とは、水を含む樹脂組成物のことを言う。水系樹脂組成物は、水系溶媒に溶解することが好ましい。
水系溶媒としては、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒が好ましい。転写材料の製造方法の好ましい態様では、第二の透明樹脂層の形成に用いる水系樹脂組成物の溶媒が、水および炭素原子数１〜３のアルコールを含むことが好ましく、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含むことがより好ましい。水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率は、質量比で５９／４１〜１００／０の範囲が特に好ましく、６０／４０〜９７／３が透明積層体の着色を改善する観点からより特に好ましく、６２／３８〜９５／５が透明積層体の基板密着性を改善する観点からさらにより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５が最も好ましい。
水、水及びメタノールの混合溶剤、水及びエタノールの混合溶剤が好ましく、乾燥及び塗布性の観点から水及びメタノールの混合溶剤が好ましい。
特に、第二の透明樹脂層形成の際、水及びメタノールの混合溶剤を用いる場合は、水／メタノールの質量比（質量％比率）が５８／４２〜１００／０であることが好ましく、５９／４１〜１００／０の範囲がより好ましく、６０／４０〜９７／３が特に好ましく、６２／３８〜９５／５がより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５がさらにより特に好ましい。この水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２の範囲よりもメタノールが多くなると支持体側機能層が、溶解したり、白濁したりして好ましくない。
上記範囲に制御することにより、第二の透明樹脂層と層混合なく塗布と迅速な乾燥を実現できる。
(Aqueous resin composition)
The aqueous resin composition refers to a resin composition containing water. The aqueous resin composition is preferably dissolved in an aqueous solvent.
As the aqueous solvent, water or a mixed solvent of water and a lower alcohol having 1 to 3 carbon atoms and water is preferable. In a preferred embodiment of the method for producing a transfer material, the solvent of the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer preferably contains water and an alcohol having 1 to 3 carbon atoms. It is more preferable that the alcohol content of ˜3 includes water or a mixed solvent having a mass ratio of 58/42 to 100/0. The alcohol content of water / carbon atoms of 1 to 3 is particularly preferably 59/41 to 100/0 in terms of mass ratio, and more preferably 60/40 to 97/3 improves the coloration of the transparent laminate. Preferably, 62/38 to 95/5 is even more particularly preferable from the viewpoint of improving the substrate adhesion of the transparent laminate, and 62/38 to 85/15 is most preferable.
A mixed solvent of water, water and methanol, and a mixed solvent of water and ethanol are preferable, and a mixed solvent of water and methanol is preferable from the viewpoint of drying and coating properties.
In particular, when a mixed solvent of water and methanol is used in forming the second transparent resin layer, the mass ratio (mass% ratio) of water / methanol is preferably 58/42 to 100/0, The range of 41 to 100/0 is more preferable, 60/40 to 97/3 is particularly preferable, 62/38 to 95/5 is more particularly preferable, and 62/38 to 85/15 is even more particularly preferable. If the amount of water / alcohol content of 1 to 3 carbon atoms is greater than the mass ratio of 58/42, the support-side functional layer is undesirably dissolved or clouded.
By controlling to the said range, application | coating and quick drying are realizable without a 2nd transparent resin layer and layer mixing.
水系樹脂組成物の２５℃におけるｐＨ（ｐｏｗｅｒ ｏｆ ｈｙｄｒｏｇｅｎ）が、７．０以上１２．０以下であることが好ましく、７．０〜１０．０であることがより好ましく、７．０〜８．５であることが特に好ましい。例えば、酸基に対して過剰量のアンモニアを用い、酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂を添加して、上記の好ましい範囲に水系樹脂組成物のｐＨを調整することができる。
また、転写材料の製造方法は、第二の透明樹脂層の形成に用られる水系樹脂組成物が、熱硬化性および光硬化性のうち少なくとも一方であることが好ましい。支持体側機能層および第二の透明樹脂層がこのような硬化性透明樹脂層である場合、転写材料の製造方法によれば支持体側機能層を積層した後に硬化させることなく第二の透明樹脂層を積層しても層分画が良好となって透明電極パターン視認性を改善できるとともに、得られた転写材料から第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写した後でフォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
転写材料の製造方法は、第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を有し、バインダーポリマーと、光または熱重合性化合物と、光または熱重合開始剤とを含むことが好ましい。酸基を有する樹脂のアンモニウム塩のみがバインダーポリマーであってもよく、酸基を有する樹脂のアンモニウム塩の他にさらに他のバインダーポリマーを併用してもよい。酸基を有するモノマーのアンモニウム塩が光または熱重合性化合物であってもよく、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩の他にさらに光または熱重合性化合物を併用してもよい。
The pH of the aqueous resin composition at 25 ° C. (power of hydrogen) is preferably 7.0 or more and 12.0 or less, more preferably 7.0 to 10.0, and more preferably 7.0 to 8. 5 is particularly preferred. For example, an excess amount of ammonia with respect to the acid group can be used, and a monomer having an acid group or a resin having an acid group can be added to adjust the pH of the aqueous resin composition to the above preferred range.
Moreover, as for the manufacturing method of a transfer material, it is preferable that the water-system resin composition used for formation of a 2nd transparent resin layer is at least one among thermosetting and photocurable. When the support-side functional layer and the second transparent resin layer are such a curable transparent resin layer, according to the method for producing a transfer material, the second transparent resin layer is not cured after the support-side functional layer is laminated. Even if the layers are laminated, the layer fraction is improved and the visibility of the transparent electrode pattern can be improved, and the second transparent resin layer is transferred from the obtained transfer material onto the transparent electrode pattern and then desired by photolithography. Can be developed into a pattern.
In the transfer material manufacturing method, the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer has an ammonium salt of a monomer having an acid group or an ammonium salt of a resin having an acid group, a binder polymer, Or it is preferable that a thermopolymerizable compound and light or a thermal-polymerization initiator are included. Only the ammonium salt of the resin having an acid group may be a binder polymer, or in addition to the ammonium salt of a resin having an acid group, another binder polymer may be used in combination. The ammonium salt of the monomer having an acid group may be a photo or thermopolymerizable compound, and in addition to the ammonium salt of the monomer having an acid group, a photo or thermopolymerizable compound may be used in combination.
−酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩−
水系樹脂組成物は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む。
酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩としては特に制限はない。
転写材料の製造方法は、第二の透明樹脂層の前述の酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩が、酸基を有するアクリルモノマーまたはアクリル樹脂のアンモニウム塩であることが好ましい。
-Ammonium salt of monomer having acid group or Ammonium salt of resin having acid group-
The aqueous resin composition contains an ammonium salt of a monomer having an acid group or an ammonium salt of a resin having an acid group.
The ammonium salt of the monomer having an acid group or the ammonium salt of a resin having an acid group is not particularly limited.
In the method for producing the transfer material, the ammonium salt of the monomer having an acid group or the ammonium salt of a resin having an acid group in the second transparent resin layer is an acrylic monomer having an acid group or an ammonium salt of an acrylic resin. Is preferred.
転写材料の製造方法は、酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂をアンモニア水溶液に溶解させ、前述の酸基の少なくとも一部がアンモニウム塩化したモノマーまたは樹脂を含む水系樹脂組成物を調製する工程を含むことが好ましい。
本発明に用いることができるアンモニア水溶液の濃度としては特に制限はないが、アンモニア濃度が０．１〜２５質量％のアンモニア水溶液が好ましく、０．５〜１０質量％のアンモニア水溶液がより好ましく、１〜５質量％のアンモニア水溶液が特に好ましい。
A method for producing a transfer material includes a step of dissolving an acid group-containing monomer or acid group-containing resin in an aqueous ammonia solution, and preparing an aqueous resin composition containing a monomer or resin in which at least a part of the acid group is ammonium-chlorinated. It is preferable to contain.
The concentration of the aqueous ammonia solution that can be used in the present invention is not particularly limited, but an ammonia aqueous solution having an ammonia concentration of 0.1 to 25% by mass is preferable, an ammonia aqueous solution of 0.5 to 10% by mass is more preferable, and 1 A ˜5% by weight aqueous ammonia solution is particularly preferred.
−−酸基を有する樹脂−−
酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂としては、酸基を有する樹脂であることが好ましく、１価の酸基（カルボキシル基など）を有する樹脂であることがより好ましい。
第二の透明樹脂層の形成に用られる水系樹脂組成物に用い、水系溶媒（好ましくは水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒）に対して溶解性を有する樹脂としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択できる。
水系樹脂組成物に用いられる酸基を有する樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（すなわち酸基：例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。このうち、更に好ましくは、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものである。酸基としては、カルボキシル基が好ましい。
--Resin having acid groups--
The monomer having an acid group or the resin having an acid group is preferably a resin having an acid group, and more preferably a resin having a monovalent acid group (such as a carboxyl group).
As a resin that is used in the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer and has solubility in an aqueous solvent (preferably a mixed solvent of water or a lower alcohol having 1 to 3 carbon atoms and water). There is no particular limitation as long as it is not contrary to the gist of the present invention, and it can be appropriately selected from known ones.
The resin having an acid group used in the aqueous resin composition is preferably an alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin is a linear organic polymer, and is a group that promotes at least one alkali solubility in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain). It can be appropriately selected from alkali-soluble resins having an acid group (for example, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, etc.). Of these, more preferred are those which are soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution. As the acid group, a carboxyl group is preferable.
アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることもできる。 For production of the alkali-soluble resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by radical polymerization can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. You can also.
上記の線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４０８２４号公報の各公報に記載されているような、ポリ（メタ）アクリル酸、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、スチレン／マレイン酸等のマレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びにカルボキシアルキルセルロースおよびカルボキシアルキル澱粉等の側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等である。更に側鎖に（メタ）アクリロイル基等の反応性官能基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。 As said linear organic high molecular polymer, the polymer which has carboxylic acid in a side chain is preferable. For example, JP 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12777, JP-B 54-25957, JP-A 59-53836, JP-A 59-71048, JP Poly (meth) acrylic acid, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, croton as described in Japanese Patent Publication Nos. 46-2121 and 56-40824. Acid copolymers, maleic acid copolymers such as styrene / maleic acid, partially esterified maleic acid copolymers, etc., and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain such as carboxyalkyl cellulose and carboxyalkyl starch, hydroxyl groups For example, an acid anhydride added to a polymer. Furthermore, a high molecular polymer having a reactive functional group such as a (meth) acryloyl group in the side chain is also preferred.
これらの中では特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
この他、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用なものとして挙げられる。このポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
Of these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and multi-component copolymers composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers are particularly suitable.
In addition, those obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl methacrylate are also useful. This polymer can be used by mixing in an arbitrary amount.
上記以外に、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。 In addition to the above, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate described in JP-A-7-140654 Macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, etc. Is mentioned.
アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が好適である。 As a specific structural unit of the alkali-soluble resin, a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is particularly suitable.
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、トリルアクリレート、ナフチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等を挙げることができる。
Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds. Here, the hydrogen atom of the alkyl group and the aryl group may be substituted with a substituent.
Specific examples of alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) ) Acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl acrylate, tolyl acrylate, naphthyl acrylate, cyclohexyl acrylate and the like.
また、ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）等を挙げることができる。ここで、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ2は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ3は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアラルキル基を表す。 Examples of the vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, CH 2 = CR 1 R 2 , CH 2 = C (R 1 ) (COOR 3 ) and the like can be mentioned. Here, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group or carbon having 1 to 8 carbon atoms. Represents an aralkyl group of formula 6-12.
これら共重合可能な他の単量体は、１種単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他の単量体は、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート及びスチレンから選択される少なくとも１種であり、特に好ましくは、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2及び／又はＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）である。 These other copolymerizable monomers can be used singly or in combination of two or more. Other preferred copolymerizable monomers are selected from CH 2 ═CR 1 R 2 , CH 2 ═C (R 1 ) (COOR 3 ), phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and styrene. It is at least one, and particularly preferably CH 2 = CR 1 R 2 and / or CH 2 = C (R 1 ) (COOR 3 ).
この他に反応性官能基を有する（メタ）アクリル化合物、ケイヒ酸等に、この反応性官能基と反応可能な置換基を有する線状高分子を反応させて、エチレン不飽和二重結合をこの線状高分子に導入した樹脂が挙げられる。反応性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が例示でき、この反応性官能基と反応可能な置換基としては、イソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等をあげることができる。 In addition, a linear polymer having a substituent capable of reacting with the reactive functional group is reacted with a (meth) acrylic compound having a reactive functional group, cinnamic acid, etc. Examples thereof include resins introduced into linear polymers. Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group. Examples of the substituent capable of reacting with the reactive functional group include an isocyanate group, an aldehyde group, and an epoxy group.
これらの中でも、酸基を有する樹脂としては、酸基を有するアクリル樹脂であることが好ましい。なお、本明細書中、アクリル樹脂には、メタクリル樹脂とアクリル樹脂の両方が含まれ、同様に（メタ）アクリルにはメタクリルとアクリルが含まれる。 Among these, the resin having an acid group is preferably an acrylic resin having an acid group. In this specification, acrylic resin includes both methacrylic resin and acrylic resin, and (meth) acrylic similarly includes methacrylic and acrylic.
−−酸基を有するモノマー−−
酸基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーや、以下のモノマーを好ましく用いることができる。
例えば、３〜４官能のラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝８０〜１２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ））、５〜６官能のラジカル重合性モノマー（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝２５〜７０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ））等が挙げられる。具体的な名称は記載していないが、必要に応じ、２官能のアルカリ可溶性ラジカル重合性モノマーを用いても良い。
その他、特開２００４−２３９９４２号公報の［００２５］〜［００３０］に記載の酸基を有するモノマーも好ましく用いることができ、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
これらの中でも、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーをより好ましく用いることができる。なお、本明細書中、アクリルモノマーは、メタクリルモノマーとアクリルモノマーの両方が含まれる。
--Monomer having acid group--
As the monomer having an acid group, acrylic monomers such as (meth) acrylic acid and derivatives thereof, and the following monomers can be preferably used.
For example, 3 to 4 functional radical polymerizable monomers (penterythritol tri and tetraacrylate skeletons with carboxylic acid groups introduced (acid value = 80 to 120 mg-KOH / g)), 5 to 6 functional radical polymerizable monomers (Dipentaerythritol penta and hexaacrylate skeleton introduced with a carboxylic acid group (acid value = 25 to 70 mg-KOH / g)) and the like. Although a specific name is not described, a bifunctional alkali-soluble radically polymerizable monomer may be used as necessary.
In addition, monomers having an acid group described in [0025] to [0030] of JP-A-2004-239842 can be preferably used, and the contents of this publication are incorporated in the present invention.
Among these, acrylic monomers such as (meth) acrylic acid and derivatives thereof can be used more preferably. In the present specification, the acrylic monomer includes both a methacrylic monomer and an acrylic monomer.
−他のバインダーポリマー−
水系樹脂組成物に用いられる酸基を有さない他のバインダーポリマーとしては特に制限はなく、前述の支持体側機能層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に用いられるバインダーポリマーを用いることができる。
-Other binder polymers-
There is no restriction | limiting in particular as another binder polymer which does not have an acid group used for a water-based resin composition, It is using the binder polymer used for the organic solvent-type resin composition used for formation of the above-mentioned support side functional layer. it can.
−重合性化合物−
前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物が、前述の光重合性化合物または熱重合性化合物などの重合性化合物を含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。前述の酸基を有するモノマー以外の他の光重合性化合物を含むことがより好ましい。
水系樹脂組成物に用いられる重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。さらに、水系樹脂組成物に用いられる酸基を有するモノマー以外の他の光重合性化合物としては、アルコール可溶性モノマーを挙げることができる。アルコール可溶性モノマーとしては特に制限はないが、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレートアシッドホスフェートであるＪＰＡ−５１４（城北化学工業株式会社製）などを挙げることができる。
これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
水系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物として、具体的には、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ 新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ 新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ３ 新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５７％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０ 日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ−２３４９（東亜合成社製）などを挙げることができる。
水系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、これらの中でも、転写材料のレチキュレーションを改善する観点からは、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ 新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ 新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）を好ましく用いることができる。
また、重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましく、０．１〜５質量％であることが特に好ましく、１〜３質量％であることが更により特に好ましい。
-Polymerizable compound-
The viewpoint that the aqueous resin composition used for the formation of the second transparent resin layer described above contains a polymerizable compound such as the photopolymerizable compound or the thermopolymerizable compound described above is cured to increase the strength of the film. To preferred. It is more preferable to include other photopolymerizable compounds other than the aforementioned monomer having an acid group.
As the polymerizable compound used in the aqueous resin composition, the polymerizable compounds described in paragraphs 0023 to 0024 of Japanese Patent No. 4098550 can be used. Among these, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and tetraacrylate of pentaerythritol ethylene oxide adduct can be preferably used. Furthermore, as a photopolymerizable compound other than the monomer having an acid group used in the aqueous resin composition, an alcohol-soluble monomer can be exemplified. Although there is no restriction | limiting in particular as an alcohol soluble monomer, For example, JPA-514 (made by Johoku Chemical Co., Ltd.) etc. which are 2-hydroxyethyl methacrylate acid phosphates can be mentioned.
These polymerizable compounds may be used alone or in combination. When a mixture of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol triacrylate is used, the ratio of pentaerythritol triacrylate is preferably 0 to 80%, more preferably 10 to 60% in terms of mass ratio.
Specifically, as a photopolymerizable compound used in the aqueous resin composition, a water-soluble polymerizable compound represented by the following structural formula 1 and a pentaerythritol tetraacrylate mixture (NK ester A-TMMT Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) ), Containing about 10% triacrylate as an impurity), a mixture of pentaerythritol tetraacrylate and triacrylate (NK ester A-TMM3LM-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., triacrylate 37%), pentaerythritol tetraacrylate and Mixture of triacrylate (NK Ester A-TMM-3L made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., triacrylate 55%), mixture of pentaerythritol tetraacrylate and triacrylate (NK Ester A-TMM3 made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) , Triac relay 57%), tetraacrylate of pentaerythritol ethylene oxide (EO) adduct (Kayarad RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.
Among these, as the photopolymerizable compound used in the aqueous resin composition, from the viewpoint of improving the reticulation of the transfer material, a water-soluble polymerizable compound represented by the following structural formula 1, pentaerythritol tetraacrylate Mixture (NK ester A-TMMT, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), pentaerythritol tetraacrylate and triacrylate mixture (NK ester A-TMM3LM-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., triacrylate 37%), penta A mixture of erythritol tetraacrylate and triacrylate (NK ester A-TMM-3L manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., triacrylate 55%) can be preferably used.
Moreover, it is preferable that it is 0.1-20 mass% with respect to the total mass of solid content of a resin composition, and, as for content of a polymeric compound, it is more preferable that it is 0.1-10 mass%, 0 It is particularly preferably 1 to 5% by mass, even more preferably 1 to 3% by mass.
−光重合開始剤−
水系樹脂組成物に用いられ、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有する光重合開始剤としてはＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９や、下記構造式２の開始剤が使用できる。
また、重合開始剤の含有量は、樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０〜５質量％であることが好ましく、０〜１質量％であることがより好ましく、０〜０．５質量％であることが更に好ましい。
IRGACURE 2959 or an initiator of the following structural formula 2 is used as a photopolymerization initiator used in an aqueous resin composition and having solubility in water or a mixed solvent of water having a lower alcohol having 1 to 3 carbon atoms and water. it can.
Moreover, it is preferable that it is 0-5 mass% with respect to the total mass of solid content of a resin composition, as for content of a polymerization initiator, it is more preferable that it is 0-1 mass%, and it is 0-0.5. More preferably, it is mass%.
−金属酸化物粒子−
前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよいが、金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の第二の透明樹脂層の屈折率を制御する観点から好ましい。前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物には、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物中、前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、５０〜９７質量％含まれることが好ましく、６５〜９７質量％含まれることがより好ましい。
-Metal oxide particles-
The aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer described above may contain particles (preferably metal oxide particles) for the purpose of adjusting the refractive index and light transmittance. Although not necessary, it is preferable that metal oxide particles are included from the viewpoint of controlling the refractive index of the second transparent resin layer within the above range. The aqueous resin composition used for forming the above-mentioned second transparent resin layer can contain metal oxide particles in an arbitrary ratio depending on the type of polymer or polymerizable compound used. In the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer, the metal oxide particles described above are based on the solid content of the aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer. 50 to 97% by mass, and more preferably 65 to 97% by mass.
−金属酸化抑制剤−
前述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる水系樹脂組成物は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。第二の透明樹脂層が金属酸化抑制剤を含有することにより、第二の透明樹脂層を支持体（基板、透明電極、金属配線部等）上に積層する際に、第二の透明樹脂層と直接接する金属配線部を表面処理することが可能となる。上記表面処理による金属配線部の保護性は、第二の透明樹脂層（及び支持体側機能層）を除去した後にも有効であると考えられる。
本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
また、本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾ−ル環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及び、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、又はイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが好ましく例示され、イミダゾール、ベンズイミダゾール及びベンゾトリアゾールがより好ましい。
また、金属酸化抑制剤の含有量は、第二の透明樹脂層の全質量に対し、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
-Metal oxidation inhibitor-
The aqueous resin composition used for forming the second transparent resin layer described above preferably contains a metal oxidation inhibitor. When the second transparent resin layer contains a metal oxidation inhibitor, the second transparent resin layer is laminated when the second transparent resin layer is laminated on a support (substrate, transparent electrode, metal wiring portion, etc.). It is possible to surface-treat the metal wiring portion that is in direct contact with the surface. The protection of the metal wiring part by the surface treatment is considered to be effective even after the second transparent resin layer (and the support-side functional layer) is removed.
The metal oxidation inhibitor used in the present invention is preferably a compound having an aromatic ring containing a nitrogen atom in the molecule.
In addition, as the metal oxidation inhibitor used in the present invention, the aromatic ring containing the nitrogen atom is an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiadiazole ring, or a condensed ring of these with another aromatic ring. It is preferably at least one ring selected from the group consisting of the above, and the aromatic ring containing a nitrogen atom is more preferably an imidazole ring or a condensed ring of an imidazole ring and another aromatic ring.
The other aromatic ring may be a monocyclic ring or a heterocyclic ring, but is preferably a monocyclic ring, more preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and even more preferably a benzene ring.
Preferable metal oxidation inhibitors include imidazole, benzimidazole, tetrazole, mercaptothiadiazole, and benzotriazole, and imidazole, benzimidazole, and benzotriazole are more preferable.
Moreover, it is preferable that content of a metal oxidation inhibitor is 0.1-20 mass% with respect to the total mass of a 2nd transparent resin layer, It is more preferable that it is 0.5-10 mass%, More preferably, it is 1-5 mass%.
＜機能層を乾燥する工程＞
本発明の転写材料の製造方法は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３３μｌ／ｍ2／μｍ以下になるまで機能層を乾燥する工程を含む。
分子量５０以下の有機溶剤の量が少ない組成物を用いて機能層を形成する場合、機能層の乾燥温度は、５０〜１２０℃であることが好ましく、低温で乾燥して製造コストを低減する観点から５０〜９０℃であることがより好ましく、６０〜８０℃であることが特に好ましく、６５〜７５℃であることが特に好ましい。分子量５０以下の有機溶剤の量が少ない組成物としては、例えば支持体側機能層を形成する工程に好ましく用いられる有機溶剤系樹脂組成物を挙げることができる。分子量５０以下の有機溶剤の量が少ない組成物は、組成物に含まれる有機溶剤のうち、分子量５０以下の有機溶剤の割合が２０質量％未満であることが好ましく、１０質量％未満であることがより好ましく、１質量％未満であることが特に好ましい。
分子量５０以下の有機溶剤の量が多い組成物を用いて機能層を形成する場合、機能層の乾燥温度は、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量および機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤のうち分子量が５０以下の成分の量を低減する観点から７０〜１２０℃であることが好ましく、９０〜１２０℃であることがより好ましく、９０〜１１０℃であることが特に好ましく、９５〜１０５℃であることが特に好ましい。分子量５０以下の有機溶剤の量が多い組成物としては、例えば第二の透明樹脂層や支持体側機能層を形成する工程に好ましく用いられる水系樹脂組成物を挙げることができる。分子量５０以下の有機溶剤の量が多い組成物は、組成物に含まれる有機溶剤のうち、分子量５０以下の有機溶剤の割合が５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
機能層の乾燥時間は特に制限はなく、上記乾燥温度で１０〜２００秒であることが好ましく、３０〜１００秒であることがより好ましく、４５〜８０秒であることが特に好ましい。
<Process for drying functional layer>
The method for producing a transfer material of the present invention includes a step of drying the functional layer until the amount of the residual organic solvent per 1 μm of the thickness of the functional layer is 33 μl / m 2 / μm or less.
When forming a functional layer using a composition with a small amount of organic solvent having a molecular weight of 50 or less, the drying temperature of the functional layer is preferably 50 to 120 ° C., and the viewpoint of reducing the production cost by drying at a low temperature To 50 to 90 ° C, more preferably 60 to 80 ° C, and particularly preferably 65 to 75 ° C. Examples of the composition having a small amount of an organic solvent having a molecular weight of 50 or less include an organic solvent-based resin composition preferably used in the step of forming the support-side functional layer. In the composition having a small amount of the organic solvent having a molecular weight of 50 or less, the proportion of the organic solvent having a molecular weight of 50 or less is preferably less than 20% by weight, and less than 10% by weight, among the organic solvents contained in the composition. Is more preferable, and it is especially preferable that it is less than 1 mass%.
When a functional layer is formed using a composition having a large amount of an organic solvent having a molecular weight of 50 or less, the drying temperature of the functional layer depends on the amount of residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer and the residual per 1 μm thickness of the functional layer. From the viewpoint of reducing the amount of a component having a molecular weight of 50 or less in the organic solvent, it is preferably 70 to 120 ° C, more preferably 90 to 120 ° C, particularly preferably 90 to 110 ° C, 95 It is particularly preferable that the temperature is ˜105 ° C. Examples of the composition having a large amount of the organic solvent having a molecular weight of 50 or less include an aqueous resin composition preferably used in the step of forming the second transparent resin layer and the support-side functional layer. In a composition having a large amount of an organic solvent having a molecular weight of 50 or less, the proportion of the organic solvent having a molecular weight of 50 or less is preferably 50% by mass or more, and 80% by mass or more, among the organic solvents contained in the composition. Is more preferable, and 90% by mass or more is particularly preferable.
The drying time of the functional layer is not particularly limited, and is preferably 10 to 200 seconds, more preferably 30 to 100 seconds, and particularly preferably 45 to 80 seconds at the above drying temperature.
（アンモニアの揮発）
転写材料の製造方法は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程を含むことが好ましい。前述の酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程が、塗布された前述の水系樹脂組成物を加熱する工程であることが好ましい。なお、機能層を乾燥する工程で十分にアンモニアの揮発ができる場合は、機能層を乾燥する工程がアンモニアの揮発を兼ねてもよい。
塗布された前述の水系樹脂組成物を加熱する工程の詳細な条件の好ましい範囲について、以下に示す。
加熱・乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる。加熱・乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
これらの条件の中でも、５０〜１２０℃の温度で加熱することが特に好ましく、６０〜１００℃の温度に加熱することが更に好ましい。加熱・乾燥後の組成物としては、含水率が５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下にすることがより好ましく、１質量％以下にすることが更に好ましい。
(Volatilization of ammonia)
The method for producing a transfer material preferably includes a step of generating an acid group by volatilizing ammonia from an ammonium salt of a monomer having an acid group or an ammonium salt of a resin having an acid group. The step of generating an acid group by volatilizing ammonia from the ammonium salt of the monomer having an acid group or the ammonium salt of a resin having an acid group is a step of heating the applied aqueous resin composition. Preferably there is. In the case where ammonia can be sufficiently volatilized in the step of drying the functional layer, the step of drying the functional layer may also serve as volatilization of ammonia.
The preferable range of detailed conditions of the step of heating the applied aqueous resin composition is described below.
As a heating / drying method, it can be carried out by passing through a furnace equipped with a heating device or by blowing air. The heating / drying conditions may be appropriately set according to the organic solvent used, and examples thereof include a method of heating to a temperature of 40 to 150 ° C.
Among these conditions, heating at a temperature of 50 to 120 ° C is particularly preferable, and heating to a temperature of 60 to 100 ° C is more preferable. The composition after heating and drying preferably has a water content of 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and still more preferably 1% by mass or less.
＜保護フィルムを形成する工程＞
本発明の転写材料の製造方法は、２層以上の機能層の上に保護フィルムを形成する工程を含む。保護フィルムを形成する工程については特に制限はない。例えば、塗布膜である機能層への保護フィルムの重ね合わせや接着剤や粘着剤を用いた貼り合わせなどの公知の方法で保護フィルムを形成することができる。
<Process for forming protective film>
The method for producing a transfer material of the present invention includes a step of forming a protective film on two or more functional layers. There is no restriction | limiting in particular about the process of forming a protective film. For example, the protective film can be formed by a known method such as superposition of the protective film on the functional layer that is a coating film or bonding using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.
＜その他の工程＞
転写材料が保護フィルム側機能層と支持体側機能層に加えてその他の機能層を有する場合、転写材料の製造方法はその他の機能層を第二の透明樹脂層として形成し、第二の透明樹脂層上に前述の保護フィルム側機能層を第三の透明樹脂層として形成する工程を含んでいてもよい。第三の透明樹脂層を形成する工程の好ましい態様は、支持体側機能層を形成する工程の好ましいと同様であり、有機溶剤系樹脂組成物を用いることが好ましい。第三の透明樹脂層として保護フィルム側機能層を形成する場合、保護フィルム側機能層に用いられるバインダーポリマーとしては特に制限はないが、高密着力層を形成するためにポリエステル系ポリマーなどを用いることが好ましい。保護フィルム側機能層に用いられるバインダーポリマーとしては、例えば、バイロン５００（東洋紡製）を用いることができる。第三の透明樹脂層として保護フィルム側機能層を形成する場合、保護フィルム側機能層にはさらに公知の界面活性剤を添加することが好ましく、例えばメガファックＦ５６０（ＤＩＣ製）を添加することが好ましい。なお、支持体側機能層を形成する工程における有機溶剤系樹脂組成物も公知の界面活性剤を添加することが好ましく、例えばメガファックＦ５６０（ＤＩＣ製）を添加することが好ましい。
前述の支持体上に前述の支持体側機能層を形成した後に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程を含んでいてもよい。
前述の熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、前述の熱可塑性樹脂層と前述の支持体側機能層の間に中間層を形成する工程を含んでいてもよい。
その他の透明樹脂層の製造方法は、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００９４〜００９８に記載の感光性転写材料の作製方法を採用することができる。
<Other processes>
When the transfer material has other functional layers in addition to the protective film-side functional layer and the support-side functional layer, the transfer material manufacturing method forms the other functional layer as the second transparent resin layer, and the second transparent resin A step of forming the protective film side functional layer as a third transparent resin layer on the layer may be included. A preferred embodiment of the step of forming the third transparent resin layer is the same as that of the step of forming the support-side functional layer, and it is preferable to use an organic solvent-based resin composition. When the protective film side functional layer is formed as the third transparent resin layer, the binder polymer used in the protective film side functional layer is not particularly limited, but a polyester polymer or the like is used to form a high adhesion layer. Is preferred. As a binder polymer used for the protective film side functional layer, for example, Byron 500 (manufactured by Toyobo) can be used. When the protective film side functional layer is formed as the third transparent resin layer, it is preferable to add a known surfactant to the protective film side functional layer. For example, MegaFuck F560 (manufactured by DIC) may be added. preferable. In addition, it is preferable to add a well-known surfactant also to the organic solvent-type resin composition in the process of forming a support body side functional layer, for example, it is preferable to add Megafac F560 (made by DIC).
After forming the above-mentioned support side functional layer on the above-mentioned support, a process of forming a thermoplastic resin layer may be further included.
After the step of forming the thermoplastic resin layer, a step of forming an intermediate layer between the thermoplastic resin layer and the support-side functional layer may be included.
As another method for producing the transparent resin layer, the method for producing a photosensitive transfer material described in paragraphs 0094 to 0098 of JP-A-2006-259138 can be employed.
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、基板と、
２層以上の機能層とを有するタッチパネルであって、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
タッチパネルのヘイズが１％以下である。
本発明のタッチパネルは、本発明のタッチパネルの製造方法によって製造されたタッチパネルであることが好ましい。
タッチパネルには、抵抗膜型、静電容量型などがある。
静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型のタッチパネル（静電容量型入力装置）では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある。本発明のタッチパネルは、静電容量型入力装置であることが好ましい。
静電容量型入力装置は、後述の透明積層体を有することが好ましい。
[Touch panel]
The touch panel of the present invention includes a substrate,
A touch panel having two or more functional layers,
At least one of the functional layers contains 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers has an inorganic fine particle content of 10% by mass or less,
The haze of the touch panel is 1% or less.
The touch panel of the present invention is preferably a touch panel manufactured by the touch panel manufacturing method of the present invention.
The touch panel includes a resistance film type and a capacitance type.
An electrostatic capacitance type input device has an advantage that a light-transmitting conductive film is simply formed on a single substrate. In such a capacitive touch panel (capacitance input device), for example, when an electrode pattern extends in a direction crossing each other and a finger or the like comes into contact, the capacitance between the electrodes changes. There is a type that detects and detects the input position. The touch panel of the present invention is preferably a capacitive input device.
It is preferable that the capacitive input device has a transparent laminate described later.
＜透明積層体＞
透明積層体は、透明電極パターンと、この透明電極パターン側に好ましくは隣接して配置された保護フィルム側機能層と、この保護フィルム側機能層に隣接またはその他の機能層を介して配置された支持体側機能層とを有することが好ましい。
透明積層体は、支持体側機能層に隣接する保護フィルム側機能層またはその他の機能層（転写材料の製造方法における第二の透明樹脂層）の屈折率が前述の支持体側機能層の屈折率よりも高く、前述の第二の透明樹脂層の屈折率が１．６以上であることがより好ましい。このような構成とすることにより、透明電極パターンが視認される問題を解決することができ、パターニング性が良好となる。
さらに透明積層体は、基板密着性が良好であることが好ましい。
<Transparent laminate>
The transparent laminate is disposed through the transparent electrode pattern, the protective film side functional layer preferably disposed adjacent to the transparent electrode pattern side, or adjacent to the protective film side functional layer or via another functional layer. It is preferable to have a support-side functional layer.
In the transparent laminate, the refractive index of the protective film side functional layer adjacent to the support side functional layer or other functional layer (second transparent resin layer in the production method of the transfer material) is greater than the refractive index of the above support side functional layer. The refractive index of the second transparent resin layer is more preferably 1.6 or more. By setting it as such a structure, the problem that a transparent electrode pattern is visually recognized can be solved, and patterning property becomes favorable.
Furthermore, the transparent laminate preferably has good substrate adhesion.
（透明積層体の構成）
透明積層体は、前述の透明電極パターンの前述の支持体側機能層に隣接する保護フィルム側機能層またはその他の機能層（転写材料の製造方法における第二の透明樹脂層）が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から、好ましい。なお、本明細書中、特に断りがなく「透明膜」と記載する場合は、上記の「屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜」を指す。
透明積層体は、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜の前述の透明電極パターンが形成された側と反対側に、基板をさらに有することが好ましい。
(Configuration of transparent laminate)
The transparent laminate has a protective film side functional layer adjacent to the support side functional layer or other functional layer (second transparent resin layer in the method for producing a transfer material) on the side of the transparent electrode pattern. From the viewpoint of further improving the visibility of the transparent electrode pattern, it is preferable to further have a transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm on the opposite side. In the present specification, when “transparent film” is described without particular notice, it refers to the “transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm”.
The transparent laminate may further include a substrate on the opposite side of the transparent film having the refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm on which the transparent electrode pattern is formed. preferable.
図１１に透明積層体の構成の一例を示す。
図１１では、基板１、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１を有し、さらに透明電極パターン４、保護フィルム側機能層１２および支持体側機能層７がこの順に積層された領域２１を面内に有する。また、図１１では、前述の透明積層体は、上記領域に加えて、基板１、および異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明薄膜を含む多層膜である透明膜１１がこの順に積層された領域（図１１の構成では、保護フィルム側機能層１２と支持体側機能層７がこの順に積層された領域２２（すなわち、透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２））を含むことが示されている。
換言すれば、前述の透明電極パターン付き基板は、基板１、透明膜１１、透明電極パターン４、保護フィルム側機能層１２および支持体側機能層７がこの順に積層された領域２１を面内方向に含む。
面内方向とは、透明積層体の基板と平行な面に対して略平行方向を意味する。したがって、透明電極パターン４、保護フィルム側機能層１２および支持体側機能層７がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン４、保護フィルム側機能層１２および支持体側機能層７がこの順に積層された領域の、透明積層体の基板と平行な面への正射影が、透明積層体の基板と平行な面内に存在することを意味する。
ここで、透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、透明積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の透明積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、透明積層体における透明電極パターンは、静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されず、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
FIG. 11 shows an example of the configuration of the transparent laminate.
In FIG. 11, the substrate 1 has a transparent film 11 having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm, and further includes a transparent electrode pattern 4, a protective film side functional layer 12, and a support side functional layer. 7 has an in-plane region 21 laminated in this order. In addition, in FIG. 11, the above-described transparent laminate is a region in which, in addition to the above region, a substrate 1 and a transparent film 11 that is a multilayer film including at least two kinds of transparent thin films having different refractive indexes are laminated in this order. (In the configuration of FIG. 11, it is shown that the protective film side functional layer 12 and the support side functional layer 7 include a region 22 in which the protective film side functional layer 12 and the support side functional layer 7 are laminated in this order (that is, a non-pattern region 22 where a transparent electrode pattern is not formed) ing.
In other words, the substrate with a transparent electrode pattern described above has a region 21 in which the substrate 1, the transparent film 11, the transparent electrode pattern 4, the protective film side functional layer 12 and the support side functional layer 7 are laminated in this order in the in-plane direction. Including.
The in-plane direction means a direction substantially parallel to a plane parallel to the substrate of the transparent laminate. Therefore, the transparent electrode pattern 4, the protective film side functional layer 12, and the support side functional layer are included in the plane including the region in which the transparent electrode pattern 4, the protective film side functional layer 12 and the support side functional layer 7 are laminated in this order. This means that the orthogonal projection of the region 7 in this order on the plane parallel to the substrate of the transparent laminate exists in the plane parallel to the substrate of the transparent laminate.
Here, in the case where the transparent laminate is used for a capacitive input device described later, the transparent electrode pattern has a first transparent electrode pattern and a second transparent electrode pattern in two directions substantially perpendicular to the row direction and the column direction, respectively. (See, for example, FIG. 3). For example, in the configuration of FIG. 3, the transparent electrode pattern in the transparent laminate may be the second transparent electrode pattern 4 or the pad portion 3 a of the first transparent electrode pattern 3. In other words, in the following description of the transparent laminate, the transparent electrode pattern may be represented by “4” as a representative, but the transparent electrode pattern in the transparent laminate is the second in the capacitive input device. It is not limited to the use for the transparent electrode pattern 4, and may be used as the pad portion 3a of the first transparent electrode pattern 3, for example.
透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、透明電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
図１１には、透明積層体が非パターン領域２２を含む態様が示されている。
透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の少なくとも一部に、前述の基板、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
透明積層体は、前述の基板、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層がこの順に積層された領域において、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層が互いに隣接していることが好ましい。
但し、前述の非パターン領域２２のその他の領域には、本発明の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、図１におけるマスク層２や、絶縁層５や導電性要素６などを積層することができる。
It is preferable that a transparent laminated body contains the non-pattern area | region in which the above-mentioned transparent electrode pattern is not formed. In the present specification, the non-pattern region means a region where the transparent electrode pattern 4 is not formed.
FIG. 11 shows a mode in which the transparent laminate includes the non-pattern region 22.
The transparent laminate has a region in which the substrate, the transparent film, and the second transparent resin layer are stacked in this order on at least a part of the non-pattern region 22 where the transparent electrode pattern is not formed. It is preferable to include in-plane.
In the transparent laminate, the aforementioned transparent film and the aforementioned second transparent resin layer are adjacent to each other in a region where the aforementioned substrate, the aforementioned transparent film and the aforementioned second transparent resin layer are laminated in this order. It is preferable.
However, in the other areas of the non-pattern area 22 described above, other members may be arranged at arbitrary positions as long as not departing from the spirit of the present invention. When used in an apparatus, the mask layer 2, the insulating layer 5, the conductive element 6 and the like in FIG. 1 can be laminated.
透明積層体は、前述の基板および透明膜が互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の基板１の上に隣接して前述の透明膜１１が積層している態様が示されている。
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、前述の基板および前述の透明膜の間に、第三の透明膜が積層されていてもよい。例えば、前述の基板および前述の透明膜の間に、屈折率１．５〜１．５２の第三の透明膜（図１１には不図示）を含むことが好ましい。
In the transparent laminate, the aforementioned substrate and transparent film are preferably adjacent to each other.
FIG. 11 shows a mode in which the above-described transparent film 11 is laminated adjacently on the above-described substrate 1.
However, a third transparent film may be laminated between the aforementioned substrate and the aforementioned transparent film as long as it does not contradict the gist of the present invention. For example, it is preferable to include a third transparent film (not shown in FIG. 11) having a refractive index of 1.5 to 1.52 between the aforementioned substrate and the aforementioned transparent film.
透明積層体は前述の透明膜の厚みが５５〜１１０ｎｍであることが好ましく、６０〜１１０ｎｍであることがより好ましく、７０〜９０ｎｍであることが特に好ましい。
ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を意味する。
The transparent laminate preferably has a thickness of the above-described transparent film of 55 to 110 nm, more preferably 60 to 110 nm, and particularly preferably 70 to 90 nm.
Here, the transparent film described above may have a single layer structure or a laminated structure of two or more layers. When the above-mentioned transparent film has a laminated structure of two or more layers, the film thickness of the above-mentioned transparent film means the total film thickness of all layers.
透明積層体は、前述の透明膜および前述の透明電極パターンが互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の透明膜１１の一部の領域上に隣接して前述の透明電極パターン４が積層している態様が示されている。
図１１に示すように、前述の透明電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、前述の基板側の面の方が、前述の基板と反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
ここで、前述の透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１〜１５°であることがより好ましく、０．５〜５°であることが特に好ましい。
本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図１０に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図１０におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における膜厚）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０〜３０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１５００ｎｍであることがより好ましく、３００〜１０００ｎｍであることが特に好ましい。
なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
In the transparent laminate, the aforementioned transparent film and the aforementioned transparent electrode pattern are preferably adjacent to each other.
FIG. 11 shows an aspect in which the transparent electrode pattern 4 is laminated adjacently on a partial region of the transparent film 11.
As shown in FIG. 11, the end of the transparent electrode pattern 4 is not particularly limited in shape, but may have a tapered shape. For example, the surface on the substrate side described above is the above-described surface. You may have a taper shape wider than the surface on the opposite side to a board | substrate.
Here, the angle of the end portion of the transparent electrode pattern (hereinafter also referred to as a taper angle) when the end portion of the transparent electrode pattern has a tapered shape is preferably 30 ° or less, 0.1 to 15 More preferably, it is 0.5 to 5 °.
The method for measuring the taper angle in this specification can be obtained by taking a photomicrograph of the end of the transparent electrode pattern described above, approximating the taper portion of the photomicrograph to a triangle, and directly measuring the taper angle. .
FIG. 10 shows an example in which the end portion of the transparent electrode pattern is tapered. The triangle that approximates the tapered portion in FIG. 10 has a bottom surface of 800 nm and a height (film thickness at the upper base portion substantially parallel to the bottom surface) of 40 nm, and the taper angle α at this time is about 3 °. The triangular bottom surface approximating the tapered portion is preferably 10 to 3000 nm, more preferably 100 to 1500 nm, and particularly preferably 300 to 1000 nm.
In addition, the preferable range of the height of the triangle which approximated the taper part is the same as the preferable range of the film thickness of the transparent electrode pattern.
透明積層体は、前述の透明電極パターンおよび前述の第二の透明樹脂層が互いに隣接している領域を含むことが好ましい。
図１１には、前述の透明電極パターン、保護フィルム側機能層および支持体側機能層がこの順に積層された領域２１において、前述の透明電極パターン、保護フィルム側機能層および支持体側機能層が互いに隣接している態様が示されている。
The transparent laminate preferably includes a region where the above-described transparent electrode pattern and the above-described second transparent resin layer are adjacent to each other.
In FIG. 11, in the region 21 in which the transparent electrode pattern, the protective film side functional layer, and the support side functional layer are laminated in this order, the transparent electrode pattern, the protective film side functional layer, and the support side functional layer are adjacent to each other. The embodiment is shown.
また、透明積層体は、前述の透明膜および保護フィルム側機能層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の両方が連続して直接または他の層を介して被覆されたことが好ましい。
ここで、「連続して」とは、前述の透明膜および保護フィルム側機能層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、前述の透明膜および保護フィルム側機能層は、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、前述の透明膜および保護フィルム側機能層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の非パターン領域２２が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、後述する静電容量型入力装置に含まれる絶縁層５や、後述する静電容量型入力装置のように透明電極パターンが２層以上含まれる場合は２層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図１１には、保護フィルム側機能層１２が積層している態様が示されている。保護フィルム側機能層１２は、前述の透明膜１１上の透明電極パターン４が積層していない領域と、透明電極パターン４が積層している領域との上にまたがって積層している。すなわち、保護フィルム側機能層１２は、前述の透明膜１１と隣接しており、さらに、保護フィルム側機能層１２は、透明電極パターン４と隣接している。
また、透明電極パターン４の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（テーパー角と同じ傾きで）保護フィルム側機能層１２が積層していることが好ましい。
In addition, the transparent laminate has the above-mentioned transparent electrode pattern and the protective film side functional layer so that both the above-described transparent electrode pattern and the non-pattern region 22 where the above-mentioned transparent electrode pattern is not formed are directly or other layers. It is preferable to coat via.
Here, “continuously” means that the transparent film and the protective film side functional layer are not a pattern film but a continuous film. That is, it is preferable that the transparent film and the protective film side functional layer have no opening from the viewpoint of making the transparent electrode pattern less visible.
Moreover, it is preferable that the above-mentioned transparent electrode pattern and the above-mentioned non-pattern area | region 22 are directly coat | covered with the above-mentioned transparent film and the protective film side functional layer rather than covering through another layer. As the “other layer” in the case of being covered through another layer, there are an insulating layer 5 included in a capacitance type input device described later, and a transparent electrode pattern as in a capacitance type input device described later. In the case where two or more layers are included, a transparent electrode pattern of the second layer can be exemplified.
FIG. 11 shows an aspect in which the protective film side functional layer 12 is laminated. The protective film side functional layer 12 is laminated over the region where the transparent electrode pattern 4 on the transparent film 11 is not laminated and the region where the transparent electrode pattern 4 is laminated. That is, the protective film side functional layer 12 is adjacent to the transparent film 11 described above, and the protective film side functional layer 12 is adjacent to the transparent electrode pattern 4.
Moreover, when the edge part of the transparent electrode pattern 4 is a taper shape, it is preferable that the protective film side functional layer 12 is laminated | stacked along the taper shape (with the same inclination as a taper angle).
図１１では、保護フィルム側機能層１２の前述の透明電極パターンが形成された表面とは反対側の表面上に、支持体側機能層７が積層された態様が示されている。 In FIG. 11, the aspect by which the support body side functional layer 7 was laminated | stacked on the surface on the opposite side to the surface in which the above-mentioned transparent electrode pattern of the protective film side functional layer 12 was formed is shown.
（基板）
透明積層体は、前述の基板が屈折率１．５〜１．５５のガラス基板であることが好ましい。前述の基板の屈折率は、１．５〜１．５２であることが特に好ましい。
前述の基板は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、前述の基板としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
(substrate)
In the transparent laminate, the above-mentioned substrate is preferably a glass substrate having a refractive index of 1.5 to 1.55. The refractive index of the aforementioned substrate is particularly preferably 1.5 to 1.52.
The aforementioned substrate is made of a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and tempered glass represented by gorilla glass manufactured by Corning Inc. can be used. Moreover, as the above-mentioned substrate, materials used in JP 2010-86684 A, JP 2010-152809 A, and JP 2010-257492 A can be preferably used.
（透明電極パターン）
前述の透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前述の透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、前述の導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４〜００１６等を参考にすることができる。その中でも、前述の透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
透明積層体は、前述の透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることが好ましい。
(Transparent electrode pattern)
The refractive index of the transparent electrode pattern is preferably 1.75 to 2.1.
The material for the transparent electrode pattern is not particularly limited, and a known material can be used. For example, it can be made of a light-transmitting conductive metal oxide film such as ITO or IZO. Examples of such metal films include ITO films; metal films such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; metal oxide films such as SiO 2 . At this time, the film thickness of each element can be 10 to 200 nm. Further, since the amorphous ITO film is made into a polycrystalline ITO film by firing, the electrical resistance can be reduced. The first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and the conductive element 6 to be described later are a photosensitive film having a photocurable resin layer using the above-described conductive fibers. It can also be manufactured. In addition, when the first conductive pattern or the like is formed of ITO or the like, paragraphs 0014 to 0016 of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to. Among these, the transparent electrode pattern described above is preferably an ITO film.
The transparent laminate is preferably an ITO film having a refractive index of 1.75 to 2.1.
（支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の構成）
透明積層体に含まれる支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の好ましい範囲は、転写材料における前述の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の好ましい範囲と同様である。
(Structure of support side functional layer, protective film side functional layer, and other functional layers)
Preferred ranges of the support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers included in the transparent laminate are the above-described support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other preferred functional layer ranges in the transfer material. It is the same.
（透明膜）
透明積層体は、前述の透明膜の屈折率が１．６〜１．７８であり、１．６５〜１．７４であることが好ましい。ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、前述の透明膜の材料は特に制限されない。
(Transparent film)
The transparent laminated body has a refractive index of 1.6 to 1.78, preferably 1.65 to 1.74. Here, the transparent film described above may have a single layer structure or a laminated structure of two or more layers. When the aforementioned transparent film has a laminated structure of two or more layers, the refractive index of the aforementioned transparent film means the refractive index of all layers.
As long as the refractive index range is satisfied, the material for the transparent film is not particularly limited.
前述の透明膜の材料の好ましい範囲と屈折率などの物性の好ましい範囲は、前述の転写材料の製造方法における第二の透明樹脂層（保護フィルム側機能層またはその他の機能層）のそれらの好ましい範囲と同様である。
透明積層体は、前述の透明膜と前述の保護フィルム側機能層が、同一材料によって構成されたことが光学的均質性の観点から好ましい。
The preferred range of the material of the transparent film and the preferred range of physical properties such as refractive index are those preferred for the second transparent resin layer (the protective film side functional layer or other functional layer) in the method for producing the transfer material. Similar to range.
In the transparent laminate, it is preferable from the viewpoint of optical homogeneity that the transparent film and the protective film-side functional layer described above are made of the same material.
透明積層体は、前述の透明膜が透明樹脂膜であることが好ましい。
透明樹脂膜に用いられる金属酸化物粒子や樹脂（バインダー）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、転写材料における保護フィルム側機能層またはその他の機能層に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
透明積層体は、前述の透明膜が無機膜であってもよい。無機膜に用いられる材料としては、転写材料における保護フィルム側機能層またはその他の機能層に用いられる材料を好ましく用いることができる。
In the transparent laminate, the aforementioned transparent film is preferably a transparent resin film.
The metal oxide particles, resin (binder) and other additives used for the transparent resin film are not particularly limited as long as they are not contrary to the gist of the present invention, and the protective film side functional layer or other functional layer in the transfer material is used. Resins used and other additives can be preferably used.
In the transparent laminate, the transparent film described above may be an inorganic film. As a material used for the inorganic film, a material used for the protective film side functional layer or other functional layer in the transfer material can be preferably used.
（第三の透明膜）
前述の第三の透明膜の屈折率は、１．５〜１．５５であることが前述の基板の屈折率に近付けて、透明電極パターンの視認性を改善する観点から好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましい。
(Third transparent film)
From the viewpoint of improving the visibility of the transparent electrode pattern, the refractive index of the third transparent film is preferably 1.5 to 1.55 from the viewpoint of improving the visibility of the transparent electrode pattern. More preferably, it is 1.52.
＜静電容量型入力装置＞
静電容量型入力装置は、本発明の転写材料を用いて、透明電極パターンを含む基板上に転写材料の前述の保護フィルム側機能層および前述の支持体側機能層をこの順で積層することにより作製されてなること、あるいは、透明積層体を有することが好ましい。
静電容量型入力装置は、本発明の転写材料から保護フィルム側機能層と前述の保護フィルム側機能層に隣接して配置された支持体側機能層とを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上に転写して作製されてなることが好ましい。
静電容量型入力装置は、本発明の転写材料から転写された支持体側機能層および保護フィルム側機能層を同時に硬化されてなることが好ましく、支持体側機能層および保護フィルム側機能層を同時にパターン硬化されてなることがより好ましい。なお、本発明の転写材料から転写された支持体側機能層および保護フィルム側機能層を同時に硬化する際、本発明の転写材料から保護フィルムを剥離しないことが好ましい。
静電容量型入力装置は、本発明の転写材料から転写され、同時にパターン硬化されてなる支持体側機能層および保護フィルム側機能層の未硬化部分を現像し、取り除かれてなることがより好ましい。なお、本発明の転写材料から転写された支持体側機能層および保護フィルム側機能層を同時に硬化した後、現像する前に本発明の転写材料から保護フィルムを剥離することが好ましい。静電容量型入力装置は、引き回し配線の端末部で、ポリイミドフィルム上に形成されたフレキシブル配線と接続する必要があるため、支持体側機能層（および保護フィルム側機能層）に覆われていないことが好ましい。
その態様を図１３に示した。図１３は透明電極パターンの引き回し配線（別の導電性要素６）と引き回し配線の端末部３１を含む、以下の構成の静電容量型入力装置を示した。
引き回し配線の端末部３１上の支持体側機能層（および保護フィルム側機能層）が未硬化部（未露光部）となっているため、現像で除去され、引き回し配線の端末部３１が露出している。
具体的な露光、現像の態様を図１４および図１５に示した。図１４は、支持体側機能層および保護フィルム側機能層を有する本発明の転写材料３０を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態を示す。フォトリソグラフィを利用する場合、すなわち露光により硬化する場合は、図１５に示した形状の支持体側機能層と保護フィルム側機能層の硬化部（露光部）３３を、マスクを用いてパターン露光および未露光部の現像をすることにより、得ることができる。具体的には、図１５では、支持体側機能層と保護フィルム側機能層の未硬化部として引き回し配線の端末部に対応する開口部３４と、静電容量型入力装置の枠部の輪郭の外側にはみ出していた支持体側機能層と保護フィルム側機能層を有する本発明の転写材料の端部とが取り除かれた、引き回し配線の端末部（取出配線部）を覆わないための支持体側機能層と保護フィルム側機能層の硬化部（所望のパターン）が得られる。
これにより、ポリイミドフィルム上に作製されたフレキシブル配線を、引き回し配線の端末部３１に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
静電容量型入力装置は、透明電極パターンと、この透明電極パターンに隣接して配置された保護フィルム側機能層と、この保護フィルム側機能層に隣接して配置された支持体側機能層とを有し、前述の保護フィルム側機能層の屈折率が前述の支持体側機能層の屈折率よりも高く、前述の保護フィルム側機能層の屈折率が１．６以上である、透明積層体を有することが好ましい。
以下、静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
<Capacitance type input device>
The capacitance-type input device uses the transfer material of the present invention to laminate the above-described protective film-side functional layer and the above-mentioned support-side functional layer of the transfer material on the substrate including the transparent electrode pattern in this order. It is preferable to be manufactured or to have a transparent laminate.
The capacitance type input device includes a protective film side functional layer and a support side functional layer disposed adjacent to the protective film side functional layer from the transfer material of the present invention, and a transparent electrode of the capacitance type input device. It is preferable to be produced by transferring onto a pattern.
The capacitance type input device is preferably formed by simultaneously curing the support-side functional layer and the protective film-side functional layer transferred from the transfer material of the present invention, and simultaneously patterning the support-side functional layer and the protective film-side functional layer. More preferably, it is cured. When simultaneously curing the support-side functional layer and the protective film-side functional layer transferred from the transfer material of the present invention, it is preferable not to peel the protective film from the transfer material of the present invention.
More preferably, the electrostatic capacity type input device is developed by removing uncured portions of the support-side functional layer and the protective film-side functional layer, which are transferred from the transfer material of the present invention and simultaneously pattern-cured. In addition, it is preferable to peel the protective film from the transfer material of the present invention after simultaneously curing the support-side functional layer and the protective film-side functional layer transferred from the transfer material of the present invention before developing. Capacitance type input device must be connected to the flexible wiring formed on the polyimide film at the end of the routing wiring, so it is not covered by the support side functional layer (and the protective film side functional layer) Is preferred.
This aspect is shown in FIG. FIG. 13 shows a capacitance-type input device having the following configuration including a lead wire (another conductive element 6) of a transparent electrode pattern and a terminal portion 31 of the lead wire.
Since the support side functional layer (and the protective film side functional layer) on the terminal portion 31 of the routing wiring is an uncured portion (unexposed portion), it is removed by development, and the terminal portion 31 of the routing wiring is exposed. Yes.
Specific exposure and development modes are shown in FIGS. 14 shows a state before the transfer material 30 of the present invention having a support-side functional layer and a protective film-side functional layer is laminated on a transparent electrode pattern of a capacitive input device and cured by exposure or the like. Indicates. When photolithography is used, that is, when cured by exposure, the cured portion (exposed portion) 33 of the support-side functional layer and the protective film-side functional layer having the shape shown in FIG. It can be obtained by developing the exposed area. Specifically, in FIG. 15, the opening 34 corresponding to the terminal portion of the routing wiring as the uncured portion of the support-side functional layer and the protective film-side functional layer, and the outside of the outline of the frame portion of the capacitive input device The support-side functional layer for covering the terminal portion (extracted wiring portion) of the lead-out wiring, in which the end portion of the transfer material of the present invention having the support-side functional layer and the protective film-side functional layer that protruded is removed, A cured portion (desired pattern) of the protective film side functional layer is obtained.
Thereby, the flexible wiring produced on the polyimide film can be directly connected to the terminal portion 31 of the routing wiring, and the sensor signal can be sent to the electric circuit.
The capacitance-type input device comprises a transparent electrode pattern, a protective film side functional layer disposed adjacent to the transparent electrode pattern, and a support side functional layer disposed adjacent to the protective film side functional layer. And having a transparent laminate in which the refractive index of the protective film side functional layer is higher than the refractive index of the support side functional layer and the refractive index of the protective film side functional layer is 1.6 or more. It is preferable.
Hereinafter, the detail of the preferable aspect of an electrostatic capacitance type input device is demonstrated.
静電容量型入力装置は、基板（透明積層体における前述の基板に相当する）と、前述の基板の非接触面側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）および（８）の要素を有し、透明積層体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン；
（４）前述の第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前述の第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン；
（５）前述の第一の透明電極パターンと前述の第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層；
（７） 前述の（３）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように形成された保護フィルム側機能層；
（８） 前述の（７）の要素を覆うように隣接して形成された支持体側機能層。
ここで、前述の（７）保護フィルム側機能層が、透明積層体における前述の保護フィルム側機能層に相当する。また、前述の（８）支持体側機能層が、透明積層体における前述の支持体側機能層に相当する。なお、前述の支持体側機能層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
The capacitance-type input device includes at least the following (3) to (5), (7) and (8) on the substrate (corresponding to the above-mentioned substrate in the transparent laminate) and on the non-contact surface side of the above-mentioned substrate. It has elements and preferably has a transparent laminate.
(3) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in the first direction via the connection portions;
(4) A plurality of second electrode patterns comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated from the first transparent electrode pattern and extend in a direction intersecting the first direction.
(5) An insulating layer for electrically insulating the first transparent electrode pattern and the second electrode pattern described above;
(7) The protective film side functional layer formed so as to cover all or part of the elements of (3) to (5) described above;
(8) A support-side functional layer formed so as to cover the element of (7) described above.
Here, the above-mentioned (7) protective film side functional layer corresponds to the above-mentioned protective film side functional layer in the transparent laminate. Moreover, the above-mentioned (8) support body side functional layer is equivalent to the above-mentioned support body side functional layer in a transparent laminated body. The above-mentioned support-side functional layer is preferably a so-called transparent protective layer in a generally known electrostatic capacitance type input device.
静電容量型入力装置は、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
静電容量型入力装置は、さらに、（６）前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続される、前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンとは別の導電性要素を有していてもよい。
ここで、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（４）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターン、前述の（４）第二の電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
In the capacitive input device, the above-mentioned (4) second electrode pattern may be a transparent electrode pattern or a transparent electrode pattern, but is preferably a transparent electrode pattern.
The capacitance-type input device further includes (6) the first transparent electrode pattern described above and the first transparent electrode pattern electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern described above and the second electrode pattern described above. The second electrode pattern may have a different conductive element.
Here, when the above-mentioned (4) second electrode pattern is not a transparent electrode pattern and does not have the above-mentioned (6) another conductive element, the above-mentioned (3) first transparent electrode pattern is It corresponds to the transparent electrode pattern in the transparent laminate.
When the above-mentioned (4) second electrode pattern is a transparent electrode pattern and does not have the above-mentioned (6) another conductive element, the above-mentioned (3) first transparent electrode pattern and the above-mentioned (4 ) At least one of the second electrode patterns corresponds to the transparent electrode pattern in the transparent laminate.
When the above-mentioned (4) second electrode pattern is not a transparent electrode pattern but has the above-mentioned (6) another conductive element, the above-mentioned (3) the first transparent electrode pattern and the above-mentioned (6) another At least one of the conductive elements corresponds to the transparent electrode pattern in the transparent laminate.
When the above-mentioned (4) second electrode pattern is a transparent electrode pattern and has the above-mentioned (6) another conductive element, the above-mentioned (3) first transparent electrode pattern, the above-mentioned (4) first At least one of the two electrode patterns and the above-described another conductive element (6) corresponds to the transparent electrode pattern in the transparent laminate.
静電容量型入力装置は、さらに（２）透明膜を、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の基板の間、前述の（４）第二の電極パターンと前述の基板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の基板の間に有することが好ましい。ここで、前述の（２）透明膜が、透明積層体における、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜に相当することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から好ましい。 The capacitance-type input device further includes (2) a transparent film between (3) the first transparent electrode pattern and the substrate, and (4) a second electrode pattern and the substrate. Or it is preferable to have between the above-mentioned (6) another electroconductive element and the above-mentioned board | substrate. Here, the visibility of the transparent electrode pattern is that the above-mentioned (2) transparent film corresponds to a transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm in the transparent laminate. From the viewpoint of further improving.
静電容量型入力装置は、さらに必要に応じて（１）マスク層および／または加飾層を有することが好ましい。前述のマスク層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に額縁として加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の（２）透明膜と前述の基板の間、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の基板の間、前述の（４）第二の透明電極パターンと前述の基板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の基板の間に有することが好ましい。前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の基板に隣接して設けられることがより好ましい。
It is preferable that the capacitance-type input device further has (1) a mask layer and / or a decoration layer as necessary. The mask layer described above is provided as a black frame around the area touched by a finger or a touch pen so that the transparent electrode pattern routing wiring cannot be visually recognized from the contact side or is decorated. The above-mentioned decoration layer is provided for decoration as a frame around the area touched with a finger or a touch pen. For example, it is preferable to provide a white decoration layer.
The above-mentioned (1) mask layer and / or decorative layer is formed between the above-mentioned (2) transparent film and the above-mentioned substrate, (3) between the above-mentioned first transparent electrode pattern and the above-mentioned substrate, 4) It is preferable to have between the 2nd transparent electrode pattern and the above-mentioned board | substrate, or between the above-mentioned (6) another electroconductive element and the above-mentioned board | substrate. The aforementioned (1) mask layer and / or decorative layer is more preferably provided adjacent to the aforementioned substrate.
静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前述の保護フィルム側機能層と、前述の保護フィルム側機能層に隣接またはその他の機能層を介して配置された前述の支持体側機能層を含むことによって、透明電極パターンを目立たなくすることができ、透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。さらに、上述のとおり、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜と前述の保護フィルム側機能層を用いて、透明電極パターンを挟みこむ構成とすることによって、より透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。 Even when the capacitance-type input device includes such various members, the protective film side functional layer disposed adjacent to the transparent electrode pattern and the protective film side functional layer are adjacent to each other. Alternatively, by including the above-mentioned support-side functional layer disposed via another functional layer, the transparent electrode pattern can be made inconspicuous, and the visibility problem of the transparent electrode pattern can be improved. Further, as described above, the transparent electrode pattern is sandwiched between the transparent film having the refractive index of 1.6 to 1.78 and the film thickness of 55 to 110 nm and the protective film side functional layer. By this, the visibility problem of the transparent electrode pattern can be improved.
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図１は、静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１において静電容量型入力装置１０は、基板（前面板）１と、マスク層２と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、保護フィルム側機能層１２と、支持体側機能層７と、から構成されている態様が示されている。
また、後述する図３におけるＸ−Ｙ断面を表した図９も同様に、静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図９において静電容量型入力装置１０は、基板１と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、保護フィルム側機能層１２と、支持体側機能層７と、から構成されている態様が示されている。
<Configuration of capacitance type input device>
First, a preferable configuration of the capacitive input device will be described together with a method for manufacturing each member constituting the device. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a preferred configuration of a capacitive input device. In FIG. 1, the capacitive input device 10 includes a substrate (front plate) 1, a mask layer 2, a transparent film 11 having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm, The aspect comprised from the one transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, the insulating layer 5, the electroconductive element 6, the protective film side functional layer 12, and the support body side functional layer 7 It is shown.
Similarly, FIG. 9 showing an XY cross section in FIG. 3 to be described later is also a cross sectional view showing a preferable configuration of the capacitance type input device. 9, the capacitive input device 10 includes a substrate 1, a transparent film 11 having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm, a first transparent electrode pattern 3, The aspect comprised from the 2nd transparent electrode pattern 4, the protective film side functional layer 12, and the support body side functional layer 7 is shown.
基板１は、透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げた材料を用いることができる。また、図１において、基板１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。静電容量型入力装置１０においては、基板１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。 The substrate 1 can use the materials mentioned as the material of the transparent electrode pattern in the transparent laminate. Moreover, in FIG. 1, the side in which each element of the board | substrate 1 is provided is called a non-contact surface side. In the capacitive input device 10, input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface (the surface opposite to the non-contact surface) of the substrate 1.
また、基板１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル基板の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
静電容量型入力装置１０には、図２に示すように、基板１の一部の領域（図２においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層２が設けられている。更に、基板１には、図２に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。
A mask layer 2 is provided on the non-contact surface of the substrate 1. The mask layer 2 is a frame-like pattern around the display area formed on the non-contact surface side of the touch panel substrate, and is formed so as to prevent the lead-out wiring and the like from being seen.
As shown in FIG. 2, the capacitance type input device 10 is provided with a mask layer 2 so as to cover a part of the substrate 1 (a region other than the input surface in FIG. 2). Further, the substrate 1 can be provided with an opening 8 in a part thereof as shown in FIG. A pressing mechanical switch can be installed in the opening 8.
基板１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができ、ＩＴＯ膜であることが好ましい。 On the contact surface of the substrate 1, a plurality of first transparent electrode patterns 3 in which a plurality of pad portions are formed extending in the first direction via connection portions, and the first transparent electrode pattern 3 and the electric A plurality of second transparent electrode patterns 4 comprising a plurality of pad portions that are insulated and extend in a direction intersecting the first direction, and the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode An insulating layer 5 that electrically insulates the electrode pattern 4 is formed. As the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and the conductive element 6 to be described later, those listed as materials for the transparent electrode pattern in the transparent laminate can be used. It is preferable that
また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、基板１の非接触面およびマスク層２の基板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図１においては、第二の透明電極パターンが、基板１の非接触面およびマスク層２の基板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
このように、一定の厚みが必要なマスク層と基板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
In addition, at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 is installed across both regions of the non-contact surface of the substrate 1 and the surface of the mask layer 2 opposite to the substrate 1. be able to. In FIG. 1, a diagram is shown in which the second transparent electrode pattern is disposed across both regions of the non-contact surface of the substrate 1 and the surface of the mask layer 2 opposite to the substrate 1.
Thus, even when a photosensitive film is laminated across the mask layer and the back surface of the substrate that require a certain thickness, an expensive facility such as a vacuum laminator is used by using a photosensitive film having a specific layer configuration to be described later. Even without using, it is possible to perform lamination without generating bubbles at the mask portion boundary with a simple process.
図３を用いて第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４について説明する。図３は、第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図３における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
また、図３における第一の透明電極パターン３や第二の透明電極パターン４や後述する導電性要素６が形成されていない領域が、透明積層体における非パターン領域２２に相当する。
The first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern. As shown in FIG. 3, the first transparent electrode pattern 3 is formed such that the pad portion 3a extends in the first direction via the connection portion 3b. The second transparent electrode pattern 4 is electrically insulated by the first transparent electrode pattern 3 and the insulating layer 5 and extends in a direction intersecting the first direction (second direction in FIG. 3). It is constituted by a plurality of pad portions that are formed. Here, when the first transparent electrode pattern 3 is formed, the pad portion 3a and the connection portion 3b described above may be manufactured as one body, or only the connection portion 3b is manufactured, and the pad portion 3a and the second portion 3b are formed. The transparent electrode pattern 4 may be integrally formed (patterned). When the pad portion 3a and the second transparent electrode pattern 4 are produced (patterned) as a single body (patterning), as shown in FIG. 3, a part of the connection part 3b and a part of the pad part 3a are connected, and an insulating layer is formed. Each layer is formed so that the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are electrically insulated by 5.
Moreover, the area | region in which the 1st transparent electrode pattern 3 in FIG. 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 mentioned later is not formed is equivalent to the non-pattern area | region 22 in a transparent laminated body.
図１において、マスク層２の基板１とは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。
図１においては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。
In FIG. 1, a conductive element 6 is provided on the surface of the mask layer 2 opposite to the substrate 1. The conductive element 6 is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4, and is different from the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4. Is another element.
In FIG. 1, a view in which the conductive element 6 is connected to the second transparent electrode pattern 4 is shown.
また、図１においては、各構成要素の全てを覆うように支持体側機能層７が設置されている。支持体側機能層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と支持体側機能層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、透明積層体における支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。 Moreover, in FIG. 1, the support body side functional layer 7 is installed so that all of each component may be covered. The support-side functional layer 7 may be configured to cover only a part of each component. The insulating layer 5 and the support-side functional layer 7 may be the same material or different materials. As a material which comprises the insulating layer 5, what was mentioned as a material of the support body side functional layer in a transparent laminated body, a protective film side functional layer, and another functional layer can be used preferably.
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図４〜８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された基板１の一例を示す上面図である。図５は、マスク層２が形成された基板の一例を示す上面図である。図６は、第一の透明電極パターン３が形成された基板の一例を示す上面図である。図７は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４が形成された基板の一例を示す上面図である。図８は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された基板の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
<Method for Manufacturing Capacitive Input Device>
As an example of an embodiment formed in the process of manufacturing a capacitance-type input device, the embodiments shown in FIGS. FIG. 4 is a top view showing an example of the substrate 1 in which the opening 8 is formed. FIG. 5 is a top view showing an example of the substrate on which the mask layer 2 is formed. FIG. 6 is a top view showing an example of the substrate on which the first transparent electrode pattern 3 is formed. FIG. 7 is a top view showing an example of a substrate on which the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are formed. FIG. 8 is a top view showing an example of a substrate on which a conductive element 6 different from the first and second transparent electrode patterns is formed. These show the example which actualized the following description, and the scope of the present invention is not limitedly interpreted by these drawings.
静電容量型入力装置の製造方法において、前述の保護フィルム側機能層１２および前述の支持体側機能層７を形成する場合、本発明の転写材料を用いて、各要素が任意に形成された前述の基板１の表面に前述の保護フィルム側機能層および前述の支持体側機能層を転写することで形成することができる。 In the method of manufacturing a capacitance-type input device, when the protective film side functional layer 12 and the support side functional layer 7 are formed, each element is arbitrarily formed using the transfer material of the present invention. It can form by transferring the above-mentioned protective film side functional layer and the above-mentioned support body side functional layer to the surface of the substrate 1.
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６の少なくとも一要素が、支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する前述の感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
本発明の転写材料や前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素を形成すると、開口部を有する基板でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に基板の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層において、ガラス端からのレジスト成分のはみ出し（モレ）がないため基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化されたタッチパネルを製造することができる。
In the method for manufacturing the capacitance type input device, at least one element of the mask layer 2, the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, the insulating layer 5, and the conductive element 6 is: It is preferable to form using the above-mentioned photosensitive film which has a support body and a photocurable resin layer in this order.
When each of the above-described elements is formed using the transfer material of the present invention or the above-described photosensitive film, there is no leakage of the resist component from the opening even on the substrate having the opening, and a light-shielding pattern is formed particularly directly above the boundary line of the substrate. In a necessary mask layer, there is no protrusion of the resist component from the edge of the glass, so that the touch panel reduced in thickness and weight can be manufactured by a simple process without contaminating the back side of the substrate.
前述のマスク層、絶縁層、導電性光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターンおよび導電性要素などの永久材を、前述の感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、支持体にラミネートされた後、必要に応じてパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性樹脂層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。 Using the above-mentioned photosensitive film as a permanent material such as the first transparent electrode pattern, the second transparent electrode pattern and the conductive element when the mask layer, the insulating layer, and the conductive photocurable resin layer are used. The photosensitive film is laminated to a support and then exposed in a pattern as necessary. In the case of negative materials, the unexposed part is exposed, and in the case of positive materials, the exposed part is developed. The pattern can be obtained by removing them. In the development, the thermoplastic resin layer and the photocurable resin layer may be developed and removed with separate liquids, or may be removed with the same liquid. You may combine well-known image development facilities, such as a brush and a high pressure jet, as needed. After the development, post-exposure and post-bake may be performed as necessary.
（感光性フィルム）
本発明のタッチパネルを製造するときに好ましく用いられる、本発明の転写材料以外の前述の感光性フィルムについては、特開２０１４−１７８９２２号公報の［０２２２］〜［０２５５］に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
(Photosensitive film)
The above-described photosensitive film other than the transfer material of the present invention, which is preferably used when manufacturing the touch panel of the present invention, is described in [0222] to [0255] of JP-A No. 2014-178922. Is incorporated herein by reference.
＜画像表示装置＞
静電容量型入力装置および画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、『タッチパネルの技術と開発』、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用できる。
<Image display device>
Capacitance type input devices and image display devices are the latest touch panel technology (published July 6, 2009, Techno Times), supervised by Yuji Mitani, touch panel technology and development, CMC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 lecture textbook, Cypress Semiconductor Corporation application note AN2292, etc. can be applied.
［タッチパネルの製造方法］
本発明のタッチパネルの製造方法は、本発明の転写材料から保護フィルムを剥離する工程と、
加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程と、
基板に転写材料の機能層を積層する工程をこの順で含む。
タッチパネルの製造方法は、透明電極パターン上に、本発明の転写材料の前述の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を積層する工程を含むことが好ましい。
本発明のタッチパネルの製造方法は、機能層を積層する工程の後に、転写材料の支持体を剥離する工程を含むことが好ましい。
このような構成により、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を一括して転写することができ、透明電極パターンが視認される問題がないタッチパネルを容易に、生産性良く製造することができる。
なお、タッチパネルの製造方法における前述の保護フィルム側機能層、その他の機能層は、前述の透明電極パターン上と、前述の非パターン領域では前述の透明膜上に直接、または、他の層を介して、製膜されることが好ましい。
[Method for manufacturing touch panel]
The touch panel manufacturing method of the present invention includes a step of peeling the protective film from the transfer material of the present invention,
A step of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side where the protective film has been peeled in contact with air; and
The step of laminating the functional layer of the transfer material on the substrate is included in this order.
It is preferable that the manufacturing method of a touch panel includes the process of laminating | stacking the above-mentioned support body side functional layer, protective film side functional layer, and other functional layer of the transfer material of this invention on a transparent electrode pattern.
It is preferable that the manufacturing method of the touch panel of this invention includes the process of peeling the support body of a transcription | transfer material after the process of laminating | stacking a functional layer.
With this configuration, the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers can be transferred together, and a touch panel that does not have a problem of visually recognizing the transparent electrode pattern can be easily manufactured with high productivity. can do.
In addition, the above-mentioned protective film side functional layer and other functional layers in the touch panel manufacturing method are directly on the above-mentioned transparent film in the above-mentioned transparent electrode pattern and in the above-mentioned non-pattern region, or via other layers. Thus, it is preferable to form a film.
（基板の表面処理）
後の転写工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予め基板（特に基板として前面板も兼ねるガラス基板を用いる場合）の非接触面に表面処理を施すことができる。前述の表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）０．３質量％水溶液（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
(Surface treatment of substrate)
In order to improve the adhesion of each layer by lamination in a later transfer step, a surface treatment can be performed on a non-contact surface of a substrate (in particular, when a glass substrate that also serves as a front plate is used as the substrate). As the aforementioned surface treatment, it is preferable to carry out a surface treatment (silane coupling treatment) using a silane compound. As the silane coupling agent, those having a functional group that interacts with the photosensitive resin are preferable. For example, a 0.3% by mass aqueous solution of silane coupling solution (N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane) (trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is sprayed for 20 seconds with a shower, and a pure water shower Wash. Thereafter, the reaction is carried out by heating. A heating tank may be used, and the reaction can be promoted by preheating the substrate of the laminator.
（透明電極パターンの製膜）
前述の透明電極パターンは、静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６の形成方法などを用いて、基板上または前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
(Transparent electrode pattern film formation)
The aforementioned transparent electrode pattern is formed on the substrate by using the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and another conductive element 6 formation method in the description of the capacitive input device. A method using a photosensitive film is preferable because it can be formed on a transparent film having a refractive index of 1.6 to 1.78 and a film thickness of 55 to 110 nm.
（支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の製膜）
本発明のタッチパネルの製造方法は、本発明の転写材料から前述の保護フィルムを剥離する工程（保護フィルム剥離工程）と、
加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程と、
基板に転写材料の機能層を積層する工程をこの順で含む。
支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を形成する方法は、基板に転写材料の機能層を積層する工程である。基板に転写材料の機能層を積層する工程は、前述の保護フィルムが剥離された本発明の転写材料の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン上に転写する転写工程でありことが好ましい。
タッチパネルの製造方法は、基板に転写材料の機能層を積層する工程の後に、透明電極パターン上に転写された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を露光する露光工程と、露光された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を現像する現像工程と、を有することが好ましい。
(Support side functional layer, protective film side functional layer, film formation of other functional layers)
The touch panel manufacturing method of the present invention includes a step of peeling the above-described protective film from the transfer material of the present invention (protective film peeling step),
A step of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side where the protective film has been peeled in contact with air; and
The step of laminating the functional layer of the transfer material on the substrate is included in this order.
The method for forming the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers is a step of laminating a functional layer of a transfer material on a substrate. In the step of laminating the functional layer of the transfer material on the substrate, the support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers of the transfer material of the present invention from which the protective film is peeled off are transferred onto the transparent electrode pattern. It is preferable that it is a transfer process.
The touch panel manufacturing method includes an exposure step of exposing the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers transferred onto the transparent electrode pattern after the step of laminating the functional layer of the transfer material on the substrate, It is preferable to have a developing step for developing the exposed support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers.
−保護フィルム剥離工程−
保護フィルム剥離工程としては特に制限はない。例えば、図１８に示した保護フィルム剥離用ロール５２を用いて、転写材料から保護フィルム２９を剥離することが好ましい。
-Protective film peeling process-
There is no restriction | limiting in particular as a protective film peeling process. For example, it is preferable to peel off the protective film 29 from the transfer material using the protective film peeling roll 52 shown in FIG.
−加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程−
加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程としては特に制限はない。例えば、図１９に示した加熱ロール５１に転写材料の支持体２６を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の保護フィルム側機能層１２を空気に接触させて一瞬の間（１秒間程度）だけ搬送することが好ましい。本発明の転写フィルムを用いる場合、この工程で保護フィルムが無い状態で転写材料が支持体側より加熱される瞬間に、機能層の表面のシワの発生を抑制できる。
なお、「空気に接触させて搬送する」ことの意義は、製造装置や基板や他の部材などの固体や液体に接触させずに搬送することにある。そのため、空気の代わりに、例えば窒素雰囲気の中で窒素ガスに接触させて搬送する態様も本発明に含まれる。
-A step of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side from which the protective film has been peeled in contact with air-
There is no particular limitation on the step of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side from which the protective film has been peeled in contact with air. For example, the support 26 of the transfer material is brought into contact with the heating roll 51 shown in FIG. 19, and the protective film side functional layer 12 on the side where the protective film is peeled is brought into contact with air for a moment (about 1 second). It is preferable to transport only. When the transfer film of the present invention is used, the generation of wrinkles on the surface of the functional layer can be suppressed at the moment when the transfer material is heated from the support side without any protective film in this step.
The significance of “transporting in contact with air” is to transport without contacting with a solid or liquid such as a manufacturing apparatus, a substrate, or another member. Therefore, instead of air, for example, an embodiment in which the material is conveyed in contact with nitrogen gas in a nitrogen atmosphere is also included in the present invention.
−積層工程−
基板に転写材料の機能層を積層する工程としては特に制限はない。例えば、図１９に示した基板１上に、保護フィルム側機能層１２（機能層２）、支持体側機能層７（機能層１）および支持体２６をこの順で転写したことが好ましい。
前述の積層工程は、前述の保護フィルムが剥離された本発明の転写材料の前述の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン上に転写する工程であることがより好ましい。
支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の透明電極パターンへの転写（貼り合わせ）は、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することにより行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
-Lamination process-
There is no particular limitation on the step of laminating the functional layer of the transfer material on the substrate. For example, it is preferable to transfer the protective film side functional layer 12 (functional layer 2), the support side functional layer 7 (functional layer 1), and the support 26 in this order on the substrate 1 shown in FIG.
The aforementioned laminating step may be a step of transferring the above-mentioned support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers of the transfer material of the present invention from which the above-mentioned protective film has been peeled onto the transparent electrode pattern. More preferred.
For transfer (bonding) of the support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers to the transparent electrode pattern, the support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers are superimposed on the transparent electrode pattern surface. It is preferably carried out by pressurizing and heating. For laminating, known laminators such as a laminator, a vacuum laminator, and an auto-cut laminator that can further increase productivity can be used.
−露光工程、現像工程、およびその他の工程−
前述の露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
-Exposure process, development process, and other processes-
As examples of the exposure step, the development step, and other steps described above, the method described in paragraphs 0035 to 0051 of JP-A-2006-23696 can be suitably used in the present invention.
前述の露光工程は、透明電極パターン上に転写された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を露光する工程である。
具体的には、前述の透明電極パターン上に形成された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の上方に所定のマスクを配置し、その後このマスク、支持体を介してマスク上方から前述の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を露光する方法が挙げられる。
ここで、前述の露光の光源としては、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
The aforementioned exposure step is a step of exposing the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers transferred onto the transparent electrode pattern.
Specifically, a predetermined mask is disposed above the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers formed on the transparent electrode pattern, and then the mask and the mask are interposed through the mask. The method of exposing the above-mentioned support side functional layer, protective film side functional layer, and other functional layers from above is mentioned.
Here, as the light source for the exposure, any light source capable of irradiating light in a wavelength range that can cure the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers (for example, 365 nm, 405 nm, etc.) is appropriately used. It can be selected and used. Specifically, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned. As an exposure amount, it is about 5-200 mJ / cm < 2 > normally, Preferably it is about 10-100 mJ / cm < 2 >.
前述の現像工程は、露光された光硬化性樹脂層を現像する工程である。
前述の現像工程は、パターン露光された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
前述の現像は、現像液を用いて行うことができる。前述の現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ（ｐｏｗｅｒ ｏｆ Ｋａ、Ｋａは酸解離定数）＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。一方、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前述の非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前述の現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
The aforementioned developing process is a process of developing the exposed photocurable resin layer.
The above-described development step is a development step in a narrow sense in which the pattern-exposed support-side functional layer, protective film-side functional layer, and other functional layers are subjected to pattern development with a developer.
The development described above can be performed using a developer. The developer is not particularly limited, and a known developer such as the developer described in JP-A-5-72724 can be used. The developing solution is preferably a developing solution in which the photocurable resin layer has a dissolution type developing behavior. For example, pKa (power of Ka, Ka is an acid dissociation constant) = 7 to 13 mol of a compound of 7 to 13 mol / mol. A developer containing a concentration of L is preferred. On the other hand, the developer in the case where the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and the other functional layers themselves do not form a pattern is a developer that does not dissolve the aforementioned non-alkali development type colored composition layer. For example, a developer containing a compound having pKa = 7 to 13 at a concentration of 0.05 to 5 mol / L is preferable. A small amount of an organic solvent miscible with water may be added to the developer. Examples of organic solvents miscible with water include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, and benzyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like. The concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
Further, a known surfactant can be further added to the developer. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
前述の現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、前述のシャワー現像について説明すると、露光後の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に光硬化性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。 As the development method described above, any of paddle development, shower development, shower & spin development, dip development, and the like may be used. Here, the above-described shower development will be described. The uncured portion can be removed by spraying a developer onto the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers after the exposure. When a thermoplastic resin layer or an intermediate layer is provided, an alkaline solution having a low solubility of the photocurable resin layer is sprayed by a shower or the like before development to remove the thermoplastic resin layer or the intermediate layer. It is preferable to keep it. Further, after the development, it is preferable to remove the development residue while spraying a cleaning agent or the like with a shower and rubbing with a brush or the like. The liquid temperature of the developer is preferably 20 ° C. to 40 ° C., and the pH of the developer is preferably 8 to 13.
タッチパネルの製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層が、熱硬化性である場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。 The manufacturing method of a touch panel may have other processes, such as a post exposure process and a post bake process. When the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers are thermosetting, it is preferable to perform a post-baking step.
尚、パターニング露光や全面露光は、支持体（仮支持体）を剥離してから行ってもよいし、支持体を剥離する前に露光し、その後、支持体を剥離してもよい。パターニング露光や全面露光は、支持体（仮支持体）を剥離してから行うことが好ましい。
パターニング露光や全面露光は、マスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でも良い。
The patterning exposure and the entire surface exposure may be performed after the support (temporary support) is peeled off, or may be exposed before the support is peeled off, and then the support may be peeled off. The patterning exposure and the entire surface exposure are preferably performed after the support (temporary support) is peeled off.
The patterning exposure and overall exposure may be exposure through a mask or digital exposure using a laser or the like.
（転写材料の支持体を剥離する工程）
本発明のタッチパネルの製造方法は、機能層を積層する工程の後に、転写材料の支持体を剥離する工程を含むことが好ましい。転写材料の支持体を剥離する工程としては特に制限はない。例えば、図２０に示した支持体剥離用ロール５３を用いて、支持体２６を剥離することが好ましい。
本発明の転写材料の支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターンにラミネート後、支持体（仮支持体）を取り除く工程を含む方法がより好ましい。
(Process of peeling the support of the transfer material)
It is preferable that the manufacturing method of the touch panel of this invention includes the process of peeling the support body of a transcription | transfer material after the process of laminating | stacking a functional layer. There is no particular limitation on the step of peeling the transfer material support. For example, it is preferable to peel the support 26 using the support peeling roll 53 shown in FIG.
A method including a step of removing the support (temporary support) after laminating the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers of the transfer material of the present invention on the transparent electrode pattern is more preferable.
タッチパネルの製造方法は、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を同時に硬化する工程を含むことが好ましく、同時にパターン硬化する工程を含むことがより好ましい。転写材料は、支持体側機能層を積層した後に、支持体側機能層を硬化させることなく、保護フィルム側機能層、その他の機能層を積層されることが好ましい。このようにして得られた転写材料から転写された支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層は、同時に硬化することができる。これにより、転写材料から支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
タッチパネルの製造方法は、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層を同時に硬化する工程の後に、支持体側機能層、保護フィルム側機能層、その他の機能層の未硬化部分（光硬化の場合は、未露光部分のみ、または、露光部分のみ）を現像して、取り除く工程を含むことがより好ましい。
The touch panel manufacturing method preferably includes a step of simultaneously curing the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers, and more preferably includes a pattern curing step. The transfer material is preferably laminated with a protective film side functional layer and other functional layers without curing the support side functional layer after laminating the support side functional layer. The support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and other functional layers transferred from the transfer material thus obtained can be simultaneously cured. Thereby, after transferring a support body side functional layer, a protective film side functional layer, and other functional layers from a transfer material onto a transparent electrode pattern, it can be developed into a desired pattern by photolithography.
The touch panel manufacturing method includes the step of simultaneously curing the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and the other functional layers, followed by the support-side functional layer, the protective film-side functional layer, and the uncured portions of the other functional layers (light In the case of curing, it is more preferable to include a step of developing and removing only the unexposed part or only the exposed part.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。「重量部」および「重量％」は、「質量部」および「質量％」と同義である。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass. “Parts by weight” and “% by weight” are synonymous with “parts by mass” and “% by mass”.
［実施例１〜７および比較例１］
＜機能層１の形成＞
（機能層１形成用の塗布液の調製）
以下の各成分を混合して、機能層１形成用の塗布液を調製した。
[Examples 1 to 7 and Comparative Example 1]
<Formation of functional layer 1>
(Preparation of coating solution for forming functional layer 1)
The following components were mixed to prepare a coating solution for forming the functional layer 1.
−機能層１形成用の塗布液の処方−
−（Ａ）工程−
フィルム状の支持体として、ルミラー １６ＱＳ６２（１６μｍ ＰＥＴ、東レ株式会社製）を用いた。フィルム状の支持体の上に、有機溶剤を用いた機能層１形成用の塗布液を用いてダイコーターにより塗布を行い、下記表５に記載の残留有機溶剤の量となるまで下記表５に記載の機能層１ 乾燥温度、乾燥時間にしたがって乾燥し、乾燥後の厚み８μｍの機能層１（支持体側機能層）を形成した。
下記表５に記載の乾燥温度、乾燥時間で機能層を乾燥することで、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量を特定の範囲に制御できることは、あらかじめ別に作製したサンプルを用いて実験することにより事前に確認した。
-(A) Process-
Lumirror 16QS62 (16 μm PET, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as a film-like support. On the film-like support, coating is performed by a die coater using a coating solution for forming the functional layer 1 using an organic solvent, and the amount of residual organic solvent described in Table 5 below is obtained in Table 5 below. Described functional layer 1 Drying was performed according to the drying temperature and drying time to form a functional layer 1 (support side functional layer) having a thickness of 8 μm after drying.
The ability to control the amount of residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer to a specific range by drying the functional layer at the drying temperature and drying time shown in Table 5 below was tested using a sample prepared in advance. This was confirmed in advance.
＜機能層２の形成＞
支持体、支持体側機能層である機能層１、保護フィルム側機能層である機能層２、保護フィルムの層構成からなる実施例１〜７および比較例１の転写材料については、上記（Ａ）工程に続けて、下記のようにして機能層２を設けた。
機能層２は密着性調整層、屈折率調整層などの機能をもつ機能層である。
<Formation of functional layer 2>
Regarding the transfer material of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 comprising the layer structure of the support, the functional layer 1 that is the support-side functional layer, the functional layer 2 that is the protective film-side functional layer, and the protective film, the above (A) Following the process, the functional layer 2 was provided as follows.
The functional layer 2 is a functional layer having functions such as an adhesion adjusting layer and a refractive index adjusting layer.
（機能層２形成用の塗布液の処方）
上記のアクリル系ポリマー水溶液は下記の組成となるように調製した。
(Prescription of coating solution for forming functional layer 2)
The above acrylic polymer aqueous solution was prepared to have the following composition.
下記表５に記載の機能層２形成用の塗布液を上記の方法で作製した機能層１の上に、機能層１と同じ方法で塗布し、下記表５に記載の残留有機溶剤の量となるまで下記表５に記載の機能層２ 乾燥温度、乾燥時間にしたがって乾燥を行い、乾燥後の厚み８３ｎｍの機能層２を形成した。 The coating liquid for forming the functional layer 2 described in Table 5 below was applied on the functional layer 1 prepared by the above method in the same manner as the functional layer 1, and the amount of the residual organic solvent described in Table 5 below was determined. Functional layer 2 described in Table 5 below was dried according to the drying temperature and drying time until the functional layer 2 having a thickness of 83 nm after drying was formed.
＜保護フィルムの積層＞
上記＜機能層１の形成＞および上記＜機能層２の形成＞に続けて、得られた機能層２の上にルミラー １６ＱＳ６２（１６μｍ ＰＥＴ、東レ株式会社製）を保護フィルムとして重ね合わせた。支持体、機能層１、機能層２および保護フィルムをロール状に巻き取る方法により、下記表５に記載の各実施例および比較例の転写材料を作製した。
なお、各実施例および比較例の転写材料の機能層の厚みの合計は、８．０８３μｍであった。
<Lamination of protective film>
Subsequent to <Formation of functional layer 1> and <Formation of functional layer 2>, Lumirror 16QS62 (16 μm PET, manufactured by Toray Industries, Inc.) was overlaid on the obtained functional layer 2 as a protective film. The transfer materials of Examples and Comparative Examples described in Table 5 below were produced by a method of winding the support, the functional layer 1, the functional layer 2, and the protective film in a roll shape.
The total thickness of the functional layers of the transfer materials of each example and comparative example was 8.083 μm.
［参考例１および２］
実施例４と同様にして、支持体の上に機能層１を形成した。
得られた機能層１の上に実施例１で用いた保護フィルムを重ね合わせた。支持体、機能層１および保護フィルムをロール状に巻き取る方法により、下記表５に記載の参考例１および２の転写材料を作製した。
[Reference Examples 1 and 2]
In the same manner as in Example 4, the functional layer 1 was formed on the support.
The protective film used in Example 1 was overlaid on the obtained functional layer 1. Transfer materials of Reference Examples 1 and 2 described in Table 5 below were produced by a method of winding the support, the functional layer 1 and the protective film in a roll shape.
［評価］
各実施例および比較例ならびに参考例の転写材料の評価は下記のように行った。
[Evaluation]
The transfer materials of the examples, comparative examples, and reference examples were evaluated as follows.
＜条件１で測定される変形量＞
下記条件１で測定される変形量を、以下の方法で測定した。
条件１：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量。
図１６に条件１で測定される変形量の測定方法の一例の概略図を示した。図１６は、実施例１などの支持体２６、支持体側機能層７（機能層１）、保護フィルム側機能層１２（機能層２）、保護フィルム２９をこの順で有する転写材料についての、条件１で測定される変形量の測定方法の概略図である。厚み１ｍｍのスライドガラス４２（松浪硝子工業株式会社製）上に転写材料の支持体２６の表面とスライドガラス４２が接するように、接着剤（不図示。アロンアルファＥｘｔｒａ２０００、東亜合成株式会社製）により接着した。その後、転写材料から保護フィルムを剥離した。微小硬度計（島津製作所製、ＤＵＨ−Ｗ２０１）により、保護フィルムを剥がした側の表面である保護フィルム側機能層１２の表面の表面硬度を測定した。測定は、対面角１３６°ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子４１を使用し、ビッカース圧子４１を保護フィルム側機能層１２の表面に接した。荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時のビッカース圧子４１の、転写材料から保護フィルムを剥離した積層体への沈みこみ量を測定した。この沈みこみ量を条件１で測定される変形量とよび、表面硬度の指標とした。表面硬度が硬いほど条件１で測定される変形量が小さくなる。
得られた結果を下記表５に記載した。
<Deformation amount measured under condition 1>
The amount of deformation measured under the following condition 1 was measured by the following method.
Condition 1: With the protective film peeled off from the transfer material, the surface on which the protective film is peeled off is a face angle of 136 °, and a diamond pyramid-shaped Vickers indenter is applied to a load speed of 1.422 mN / sec. The amount of deformation when the load increases to 1 mN.
FIG. 16 shows a schematic diagram of an example of a deformation amount measuring method measured under condition 1. FIG. 16 shows conditions for a transfer material having the support 26, the support-side functional layer 7 (functional layer 1), the protective film-side functional layer 12 (functional layer 2), and the protective film 29 in this order, such as Example 1. 2 is a schematic diagram of a method for measuring a deformation amount measured in 1. FIG. Bonded with an adhesive (not shown; Aron Alpha Extra 2000, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) so that the surface of the transfer material support 26 and the slide glass 42 are in contact with a slide glass 42 (made by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd.) having a thickness of 1 mm. did. Thereafter, the protective film was peeled from the transfer material. The surface hardness of the surface of the protective film side functional layer 12, which is the surface on the side where the protective film was peeled off, was measured with a micro hardness meter (manufactured by Shimadzu Corporation, DUH-W201). For the measurement, a diamond-shaped pyramid-shaped Vickers indenter 41 having a facing angle of 136 ° was used, and the Vickers indenter 41 was in contact with the surface of the protective film side functional layer 12. The load was increased at a load speed of 1.422 mN / sec from a state where no load was applied, and the amount of sinking of the Vickers indenter 41 into the laminate from which the protective film was peeled off when the load reached 1 mN was measured. . This amount of sinking was called the amount of deformation measured under condition 1 and was used as an index of surface hardness. The harder the surface hardness, the smaller the amount of deformation measured under condition 1.
The obtained results are shown in Table 5 below.
＜加熱前の機能層のヘイズ＞
各実施例および比較例の転写材料の保護フィルムを剥離し、むき出しになった保護フィルム側機能層がガラス板と接するように厚み０．７ｍｍのガラス板に重ね合わせ、圧力０．６ＭＰａ、ロール温度１００℃、速度４．０ｍ／ｍｉｎでラミネート法により熱転写した。熱転写した後、室温までガラス基板を冷却し、支持体を剥離し、ガラス基板上に機能層を形成した。使用したガラス板は０．７ｍｍ厚、コーニング製ガラス板イーグルＸＧであり、使用する前にシランカップリング剤ＫＢＭ−６０３（信越化学工業株式会社製）の純水３３倍希釈液（２０℃）に３０秒浸漬後、純水にて２分間水洗後、１１０℃５分間加熱処理後に使用した。
ガラス基板上に形成した機能層は紫外線（ｉ線）を８０ｍＪ照射し、１４５℃２５分間のポストベーク処理を行った。
このようにして作製したガラス基板上の機能層サンプルについて、ヘイズメータＮＤＨ ４０００（日本電色工業株式会社製）によりヘイズを測定した。
得られた結果を加熱前の機能層のヘイズとして、下記表５に記載した。
<Haze of functional layer before heating>
The protective film of the transfer material of each Example and Comparative Example was peeled off and superimposed on a 0.7 mm thick glass plate so that the exposed protective film side functional layer was in contact with the glass plate, pressure 0.6 MPa, roll temperature Thermal transfer was performed by a laminating method at 100 ° C. and a speed of 4.0 m / min. After thermal transfer, the glass substrate was cooled to room temperature, the support was peeled off, and a functional layer was formed on the glass substrate. The glass plate used was 0.7 mm thick, Corning glass plate Eagle XG. After immersion for 30 seconds, it was washed with pure water for 2 minutes and then used after heat treatment at 110 ° C. for 5 minutes.
The functional layer formed on the glass substrate was irradiated with 80 mJ of ultraviolet rays (i-line) and subjected to a post-bake treatment at 145 ° C. for 25 minutes.
Thus, about the functional layer sample on the produced glass substrate, haze was measured with the haze meter NDH4000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
The obtained results are shown in Table 5 below as the haze of the functional layer before heating.
＜加熱後の機能層のヘイズ＞
（保護フィルムを剥離後の転写材料の加熱方法）
図１７に加熱後の機能層のヘイズの測定に用いるサンプルの調製方法の一例の概略図を示した。図１７は、実施例１などの支持体２６、支持体側機能層７（機能層１）、保護フィルム側機能層１２（機能層２）、保護フィルム２９をこの順で有する転写材料についての、加熱後の機能層のヘイズの測定に用いるサンプルの調製方法の概略図である。転写材料から保護フィルムを剥離した。その後、表面温度１００℃に設定したホットプレート４３（シリコンラバーヒーター、オームヒーター株式会社製）上に、支持体２６がホットプレート４３の表面に接するように５秒間置いて加熱を行った。温度調整はアズワン社製デジタルマルチ温調器を使用し、加熱は２５℃相対湿度５０％の室内環境で行った。得られたサンプルを、加熱後の機能層のヘイズの測定に用いるサンプルとした。
加熱後の機能層のヘイズの測定に用いるサンプルを用いた以外は加熱前の機能層のヘイズの測定方法と同様の方法で、加熱後の機能層のヘイズを測定した。
得られた結果を下記表５に記載した。
<Haze of functional layer after heating>
(Method of heating transfer material after peeling protective film)
FIG. 17 shows a schematic diagram of an example of a method for preparing a sample used for measuring the haze of the functional layer after heating. FIG. 17 shows the heating of the transfer material having the support 26, the support-side functional layer 7 (functional layer 1), the protective film-side functional layer 12 (functional layer 2), and the protective film 29 in this order. It is the schematic of the preparation method of the sample used for the measurement of the haze of a later functional layer. The protective film was peeled from the transfer material. Thereafter, heating was performed by placing the support 26 on the hot plate 43 (silicon rubber heater, manufactured by Ohm Heater Co., Ltd.) set at a surface temperature of 100 ° C. for 5 seconds so as to contact the surface of the hot plate 43. The temperature was adjusted using a digital multi-temperature controller manufactured by ASONE, and heating was performed in an indoor environment at 25 ° C. and 50% relative humidity. The obtained sample was used as a sample used for measuring the haze of the functional layer after heating.
The haze of the functional layer after heating was measured in the same manner as the method for measuring the haze of the functional layer before heating, except that the sample used for measuring the haze of the functional layer after heating was used.
The obtained results are shown in Table 5 below.
＜条件２で測定されるヘイズ変化率＞
下記条件２で測定されるヘイズ変化率を、以下の式にしたがって求めた。
条件２：転写材料から保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に支持体が接するように５秒間置いた加熱後の機能層のヘイズが、加熱前の機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の機能層のヘイズを基準として百分率で表したヘイズ変化率。
条件２で測定されるヘイズ変化率＝１００％×（加熱後の機能層のヘイズ−加熱前の機能層のヘイズ）／加熱前の機能層のヘイズ
得られた結果を下記表５に記載した。
<Haze change rate measured under condition 2>
The haze change rate measured under the following condition 2 was determined according to the following formula.
Condition 2: The haze of the functional layer after heating for 5 seconds so that the support is in contact with the support on the hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material changes with respect to the haze of the functional layer before heating. Haze change rate expressed in percentage based on the haze of the functional layer before heating.
Haze change rate measured under condition 2 = 100% × (haze of functional layer after heating−haze of functional layer before heating) / haze of functional layer before heating The results obtained are shown in Table 5 below.
＜残留有機溶剤＞
残留有機溶剤の測定は、カバーフィルムを剥がした面積１００ｃｍ2のサンプルをガラス瓶に入れ密封し加熱したときに発生する残留有機溶剤ガスをガスクロマトグラフィー（島津製作所製 ＧＣ２０１０）により分析した。
機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量と、機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤のうち分子量が５０以下の成分の量をそれぞれ求めた。なお、機能層に含まれる有機溶剤のうち分子量が５０以下の成分は、メタノールおよびエタノールである。
得られた結果を下記表５に記載した。
<Residual organic solvent>
The residual organic solvent was measured by gas chromatography (GC2010 manufactured by Shimadzu Corporation) for the residual organic solvent gas generated when a sample with an area of 100 cm 2 from which the cover film had been peeled was placed in a glass bottle and sealed and heated.
The amount of the residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer and the amount of the component having a molecular weight of 50 or less among the residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer were determined. In addition, the component whose molecular weight is 50 or less among the organic solvents contained in the functional layer is methanol and ethanol.
The obtained results are shown in Table 5 below.
＜加熱後の表面シワ＞
加熱後の機能層のヘイズにおける、保護フィルムを剥離後の転写材料の加熱方法と同様の方法で、各実施例および比較例ならびに参考例の転写材料を加熱した。
各実施例および比較例ならびに参考例の転写材料の加熱後の表面シワを、電子顕微鏡（商品名ＳＵ３５００、日立ハイテクノロジース社製）を用いて観察した。観察した結果を、以下の基準にしたがって評価した。
多：顕微鏡観察した機能層表面の約１／４以上の領域にシワが見られる。
中：顕微鏡観察した機能層表面の約１／８以上１／８未満の領域にシワが見られる。
少：顕微鏡観察した機能層表面の１／８未満の領域にシワが見られる。
なし：顕微鏡観察した機能層表面にシワが見られない。
得られた結果を下記表５に記載した。
また、図２１（Ａ）に比較例１の転写材料の加熱後の表面シワを観察した電子顕微鏡写真を示した。図２１（Ｂ）に実施例５の転写材料の加熱後の表面シワを観察した電子顕微鏡写真を示した。
<Surface wrinkles after heating>
In the haze of the functional layer after heating, the transfer materials of each Example, Comparative Example, and Reference Example were heated in the same manner as the method of heating the transfer material after peeling the protective film.
The surface wrinkles after heating of the transfer materials of Examples, Comparative Examples, and Reference Examples were observed using an electron microscope (trade name SU3500, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The observed results were evaluated according to the following criteria.
Multi: Wrinkles are observed in a region of about 1/4 or more of the surface of the functional layer observed with a microscope.
Middle: Wrinkles are observed in the region of about 1/8 or more and less than 1/8 of the surface of the functional layer observed with a microscope.
Small: Wrinkles are observed in an area of less than 1/8 of the functional layer surface observed with a microscope.
None: No wrinkles are observed on the surface of the functional layer observed with a microscope.
The obtained results are shown in Table 5 below.
FIG. 21A shows an electron micrograph of the surface wrinkles after heating of the transfer material of Comparative Example 1. FIG. 21B shows an electron micrograph of the surface wrinkles after heating of the transfer material of Example 5.
＜タッチパネルのヘイズ＞
（積層体作製に用いる透明電極パターンフィルムの作製）
−透明膜の形成−
膜厚３８μｍ、屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面改質を行った。得られたフィルムを透明フィルム基板とした。
次に、下記表４中に示す材料−Ｃの材料を、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板上に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの透明膜を製膜した。
<Touch panel haze>
(Preparation of transparent electrode pattern film used for laminate production)
-Formation of transparent film-
A cycloolefin resin film having a film thickness of 38 μm and a refractive index of 1.53 is a wire electrode having a diameter of 1.2 mm with an output voltage of 100%, an output of 250 W, an electrode length of 240 mm, and a work electrode distance of 1. Surface modification was performed by performing a corona discharge treatment for 3 seconds under the condition of 5 mm. The obtained film was used as a transparent film substrate.
Next, the material of the material-C shown in the following Table 4 was applied on a transparent film substrate using a slit-shaped nozzle, and then irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ) and dried at about 110 ° C. As a result, a transparent film having a refractive index of 1.60 and a film thickness of 80 nm was formed.
なお、明細書中の「ｗｔ％」は「質量％」と同義である。
式（３）
Formula (3)
−透明電極パターンの形成−
上記にて得られた透明フィルム基板上に透明膜が積層されたフィルムを、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ2含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ＤＣマグネトロンスパッタリング条件は、透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａとした。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。
-Formation of transparent electrode pattern-
The film obtained by laminating a transparent film on the transparent film substrate obtained above was introduced into a vacuum chamber, and an ITO target having a SnO 2 content of 10% by mass (indium: tin = 95: 5 (molar ratio)). ) Was used to form an ITO thin film having a thickness of 40 nm and a refractive index of 1.82 by DC magnetron sputtering, and a film having a transparent film and a transparent electrode layer formed on a transparent film substrate was obtained. The DC magnetron sputtering conditions were a transparent film substrate temperature of 150 ° C., an argon pressure of 0.13 Pa, and an oxygen pressure of 0.01 Pa. The surface resistance of the ITO thin film was 80Ω / □ (Ω per square).
−−エッチング用感光性フィルムＥ１の調製−−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料である、エッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。
--- Preparation of photosensitive film E1 for etching--
On a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support, a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried using a slit nozzle. Next, an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried. Further, a coating liquid for photocurable resin layer for etching having the following formulation E1 was applied and dried. Thus, the thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15.1 μm, the intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and the photocurable resin layer for etching having a film thickness of 2.0 μm are formed on the temporary support. A laminate was obtained, and finally a protective film (12 μm thick polypropylene film) was pressure-bonded. In this way, a photosensitive film E1 for etching, which is a transfer material in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), and the photocurable resin layer for etching are integrated, was produced.
−−熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１−−
・メタノール ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝
５５／１１．７／４．５／２８．８、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）
：９．１質量部
・フッ素系ポリマー ：０．５４質量部
上記のフッ素系ポリマーは、Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ４０部とＨ（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５５部とＨ（ＯＣＨＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５部との共重合体で、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液である（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）
--- Coating solution for thermoplastic resin layer: Formulation H1--
Methanol: 11.1 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts by mass Methyl ethyl ketone: 52.4 parts by mass Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio) (Molar ratio) =
(55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, weight average molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.)
: 5.83 parts by mass-Styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37,
Weight average molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.): 13.6 parts by mass / monomer 1 (trade name: BPE-500, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
: 9.1 parts by mass / fluorine polymer: 0.54 parts by mass The above fluorine-based polymer is composed of 40 parts of C 6 F 13 CH 2 CH 2 OCOCH═CH 2 and H (OCH (CH 3 ) CH 2 ) 7 OCOCH. = a copolymer of CH 2 55 parts of H (OCHCH 2) 7 OCOCH = CH 2 5 parts, weight average molecular weight 30,000, methyl ethyl ketone 30 wt% solution (trade name: Megafac F780F, Dainippon ink and chemicals Manufactured by Kogyo Co., Ltd.)
−−中間層用塗布液：処方Ｐ１−−
・ポリビニルアルコール ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水 ：５２４質量部
・メタノール ：４２９質量部
-Intermediate layer coating solution: Formulation P1--
Polyvinyl alcohol: 32.2 parts by mass (trade name: PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree = 88%, polymerization degree 550)
・ Polyvinylpyrrolidone: 14.9 parts by mass (trade name: K-30, manufactured by ISP Japan Co., Ltd.)
-Distilled water: 524 parts by mass-Methanol: 429 parts by mass
−−エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１−−
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体
（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、質量平均分子量６００００、
酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ） ：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）
：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノ
メタクリレート０．５モル付加物 ：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジ
メタノールモノアクリレート ：２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ：０．４２質量部
・２，２−ビス（オルト−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール ：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩 ：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット ：０．２６質量部
・フェノチアジン ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール ：２０質量部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。
-Coating liquid for etching photocurable resin layer: Formulation E1--
Methyl methacrylate / styrene / methacrylic acid copolymer (copolymer composition (mass%): 31/40/29, mass average molecular weight 60000,
Acid value 163 mg KOH / g): 16 parts by mass Monomer 1 (Brand name: BPE-500, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
: 5.6 parts by mass-tetramethylene oxide monomethacrylate 0.5 mol adduct of hexamethylene diisocyanate: 7 parts by mass-cyclohexane dimethanol monoacrylate as a compound having one polymerizable group in the molecule: 2.8 parts by mass 2-chloro-N-butylacridone: 0.42 parts by mass 2,2-bis (ortho-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole: 2.17 parts by mass Malachite Green oxalate: 0.02 parts by mass, leuco crystal violet: 0.26 parts by mass, phenothiazine: 0.013 parts by mass, surfactant (trade name: Megafac F-780F, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
: 0.03 parts by mass · Methyl ethyl ketone: 40 parts by mass · 1-methoxy-2-propanol: 20 parts by mass The viscosity at 100 ° C after removing the solvent of the coating liquid E1 for photocurable resin layer for etching is 2500 Pa · sec. Met.
−−透明電極パターンの形成−−
透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、保護フィルムを剥離したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした（透明フィルム基板の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面とこのエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理した。その後、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。
透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基板上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムを得た。
--- Formation of transparent electrode pattern-
The film in which the transparent film and the transparent electrode layer were formed on the transparent film substrate was washed, and the photosensitive film E1 for etching from which the protective film was peeled was laminated (temperature of the transparent film substrate: 130 ° C., rubber roller temperature 120 ° C., wire Pressure 100 N / cm, conveyance speed 2.2 m / min). After peeling off the temporary support, the distance between the exposure mask (quartz exposure mask having a transparent electrode pattern) surface and the photocurable resin layer for etching is set to 200 μm, and the exposure amount is 50 mJ / cm 2 (i-line). ) For pattern exposure.
Next, a triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, a trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) diluted 10 times with pure water) at 25 ° C. for 100 seconds, A surfactant-containing cleaning solution (trade name: T-SD3 (manufactured by FUJIFILM Corporation) was diluted 10-fold with pure water) was treated at 33 ° C. for 20 seconds. After that, the residue is removed with a rotating brush and an ultra-high pressure washing nozzle, and further a post-bake treatment at 130 ° C. for 30 minutes is performed to form a transparent film, a transparent electrode layer, and a photocurable resin layer pattern for etching on the transparent film substrate. A formed film was obtained.
A film in which a transparent film, a transparent electrode layer, and a photocurable resin layer pattern for etching are formed on a transparent film substrate is immersed in an etching tank containing ITO etchant (hydrochloric acid, potassium chloride aqueous solution, liquid temperature 30 ° C.), The exposed transparent electrode layer that was not covered with the photocurable resin layer for etching was dissolved and removed for 100 seconds to obtain a film with a transparent electrode pattern having the photocurable resin layer pattern for etching.
Next, a film with a transparent electrode pattern having a photocurable resin layer pattern for etching was applied to a resist stripping solution (N-methyl-2-pyrrolidone, monoethanolamine, surfactant (trade name: Surfynol 465, air (Products) Liquid temperature 45 ° C) is immersed in a resist stripping tank, treated for 200 seconds, the photocurable resin layer for etching is removed, and a film on which a transparent film and a transparent electrode pattern are formed is formed on a transparent film substrate. Obtained.
（タッチパネルの作製）
図１８、図１９および図２０に示したタッチパネルの製造方法の一例の概略図にしたがって、各実施例および比較例の転写材料から、基板に機能層を転写した。
まず、図１８に示した保護フィルム剥離用ロール５２を用いて、転写材料から保護フィルム２９を剥離した。
続けて、保護フィルムを剥離した転写材料を搬送し、図１９に示した加熱ロール５１に転写材料の支持体２６を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の保護フィルム側機能層１２を空気に接触させて一瞬の間（１秒間程度）だけ搬送した。
続けて、透明フィルム基板（基板１）上に透明膜（不図示）および透明電極パターン（不図示）を形成したフィルムの透明膜と透明電極パターンを、保護フィルム側機能層１２（機能層２）が覆うように、保護フィルム側機能層１２（機能層２）、支持体側機能層７（機能層１）および支持体２６をこの順で転写した。具体的には、基板１に相当する透明フィルム基板の温度：４０℃、加熱ロール５１に相当するゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分で、基板１と加熱ロール５１で保護フィルムを剥離した転写材料を挟圧しながら搬送した。
その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
その後、図２０に示した支持体剥離用ロール５３を用いて、支持体２６を剥離した。
その後、炭酸ソーダ２％水溶液３２℃で６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜、透明電極パターン、保護フィルム側機能層（機能層２）および支持体側機能層（機能層１）がこの順で連続して積層された各積層体を製膜した。
(Production of touch panel)
According to the schematic diagram of an example of the touch panel manufacturing method shown in FIGS. 18, 19, and 20, the functional layer was transferred to the substrate from the transfer material of each example and comparative example.
First, the protective film 29 was peeled from the transfer material using the protective film peeling roll 52 shown in FIG.
Subsequently, the transfer material from which the protective film has been peeled is conveyed, the transfer material support 26 is brought into contact with the heating roll 51 shown in FIG. 19, and the protective film side functional layer 12 on the side from which the protective film has been peeled is removed from the air. Was conveyed for a moment (about 1 second).
Subsequently, the transparent film and the transparent electrode pattern of the film in which the transparent film (not shown) and the transparent electrode pattern (not shown) are formed on the transparent film substrate (substrate 1) are transferred to the protective film side functional layer 12 (functional layer 2). The protective film side functional layer 12 (functional layer 2), the support side functional layer 7 (functional layer 1), and the support 26 were transferred in this order so as to cover. Specifically, the temperature of the transparent film substrate corresponding to the substrate 1 is 40 ° C., the rubber roller temperature corresponding to the heating roll 51 is 110 ° C., the linear pressure is 3 N / cm, and the conveyance speed is 2 m / min. The transfer material from which the protective film was peeled was conveyed while being pressed.
Then, using a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, between the exposure mask (quartz exposure mask having a pattern for overcoat formation) and the temporary support. The distance was set to 125 μm, and pattern exposure was performed with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (i-line) through a temporary support.
Then, the support body 26 was peeled off using the support peeling roll 53 shown in FIG.
Thereafter, washing treatment was performed for 60 seconds at 32 ° C. with a 2% aqueous solution of sodium carbonate. Residues were removed by spraying ultrapure water from the ultra-high pressure cleaning nozzle onto the transparent film substrate after the cleaning treatment. Subsequently, air was blown to remove moisture on the transparent film substrate, and a post-bake treatment at 145 ° C. for 30 minutes was performed. On the transparent film substrate, a transparent film, a transparent electrode pattern, a protective film side functional layer (functional layer 2) And each laminated body by which the support body side functional layer (functional layer 1) was continuously laminated | stacked in this order was formed into a film.
特開２００９−４７９３６号公報の［００９７］〜［０１１９］に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各積層体を貼り合せ、更に、前面ガラス板を張り合わせることで、公知の方法で各積層体を有し、静電容量型入力装置を構成要素として備えたタッチパネル（フィルムセンサー）を作製した。 The liquid crystal display element manufactured by the method described in JP-A-2009-47936 [0097] to [0119] is bonded to each previously manufactured laminate and is further bonded to a front glass plate. The touch panel (film sensor) which has each laminated body by this method, and was equipped with the capacitive input device as a component was produced.
（タッチパネルのヘイズの測定）
ヘイズメータＮＤＨ ４０００（日本電色工業株式会社製）により、作製したタッチパネルのヘイズを測定した。作製したタッチパネルは透明電極パターンがＸ方向のみに配置されたものであり、１枚の実施例または比較例の転写材料を用いて、保護フィルム側機能層（機能層２）および支持体側機能層（機能層１）をそれぞれ１層ずつ転写したものであった。
タッチパネルのヘイズは実用上１．００％未満であることが必要であり、０．７％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。
得られた結果を下記表５に記載した。
(Measurement of haze of touch panel)
The haze of the produced touch panel was measured with a haze meter NDH 4000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The produced touch panel has a transparent electrode pattern arranged only in the X direction. Using one transfer material of Example or Comparative Example, the protective film side functional layer (functional layer 2) and the support side functional layer ( Each of the functional layers 1) was transferred one by one.
The haze of the touch panel needs to be practically less than 1.00%, preferably 0.7% or less, and more preferably 0.5% or less.
The obtained results are shown in Table 5 below.
上記表５より、本発明の転写材料は、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできることがわかった。また、本発明の転写材料は加熱後の表面シワも少なかった。このことから、加熱ロールに転写材料の支持体を接触させ、かつ、保護フィルムを剥離した側の機能層を空気に接触させて搬送する工程において、機能層の表面にシワの発生を抑制できるために、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズを低くできると予想される。
一方、比較例１より、条件１で測定される変形量が本発明で規定する上限値を超える場合、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズが高くなることがわかった。また、比較例１からは、条件２で測定されるヘイズ変化率が本発明で規定する上限値を超える場合、転写材料から機能層をタッチパネルに転写してタッチパネルを製造する場合のタッチパネルのヘイズが高くなることもわかった。
なお、参考例１および２より、転写材料が５０質量％以上の微粒子を含む機能層を有さない場合は、加熱後の表面シワが「なし」であり、本発明で解決しようとする課題が生じないことがわかった。
From Table 5 above, it was found that the transfer material of the present invention can reduce the haze of the touch panel when the functional layer is transferred from the transfer material to the touch panel to produce the touch panel. Further, the transfer material of the present invention had few surface wrinkles after heating. From this, it is possible to suppress the generation of wrinkles on the surface of the functional layer in the process of bringing the support of the transfer material into contact with the heating roll and transporting the functional layer on the side where the protective film has been peeled in contact with air. Furthermore, it is expected that the haze of the touch panel can be lowered when the touch panel is manufactured by transferring the functional layer from the transfer material.
On the other hand, from Comparative Example 1, when the deformation amount measured under Condition 1 exceeds the upper limit defined in the present invention, the haze of the touch panel when the touch panel is manufactured by transferring the functional layer from the transfer material to the touch panel is increased. I understood it. Moreover, from the comparative example 1, when the haze change rate measured on condition 2 exceeds the upper limit prescribed | regulated by this invention, the haze of a touch panel in the case of manufacturing a touch panel by transferring a functional layer from a transfer material to a touch panel is obtained. I also found that it would be expensive.
From Reference Examples 1 and 2, when the transfer material does not have a functional layer containing fine particles of 50% by mass or more, the surface wrinkle after heating is “none”, and there is a problem to be solved by the present invention. It turns out that it does not occur.
さらに、各実施例および比較例の転写材料またはタッチパネルの機能層の無機微粒子（金属酸化物粒子）の含有量を以下の方法で測定した。
転写材料またはタッチパネルの断面を切削した後、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡；Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で、断面を観察する。転写材料またはタッチパネルの機能層（保護フィルム側機能層、支持体側機能層）との膜断面積における、無機微粒子の占有面積の割合を層内の任意の３箇所で測定し、その平均値を体積分率（ＶＲ）とみなす。
体積分率（ＶＲ）と重量分率（ＷＲ）は、下記の式で換算することにより、転写材料またはタッチパネルの機能層（保護フィルム側機能層、支持体側機能層）内における無機微粒子の重量分率（ＷＲ）を算出する。
ＷＲ＝Ｄ＊ＶＲ／（１．１＊（１−ＶＲ）＋Ｄ＊ＶＲ）
Ｄ：無機微粒子の比重
無機微粒子が、酸化チタンの場合Ｄ＝４．０、酸化ジルコニウムの場合Ｄ＝６．０として計算することができる。
その結果、機能層１−Ａの微粒子または無機微粒子の含有量（対固形分）は０質量％であった。機能層２−Ａ、機能層２−Ｂ、機能層２−Ｃおよび機能層２−Ｄの微粒子または無機微粒子の含有量は９６．２質量％（対固形分）であった。
なお、各実施例および比較例の転写材料またはタッチパネルの機能層（保護フィルム側機能層、支持体側機能層）の無機微粒子の含有量は、機能層の組成から算出することもできる。転写材料またはタッチパネルの機能層（保護フィルム側機能層、支持体側機能層）の無機微粒子の含有量は、機能層の組成から算出した含有量と同じであった。
Furthermore, the content of the inorganic fine particles (metal oxide particles) in the transfer material of each example and comparative example or the functional layer of the touch panel was measured by the following method.
After cutting the cross section of the transfer material or the touch panel, the cross section is observed with a TEM (Transmission Electron Microscope). The proportion of the area occupied by inorganic fine particles in the cross-sectional area of the transfer material or touch panel functional layer (protective film side functional layer, support side functional layer) is measured at any three locations in the layer, and the average value is measured by volume. Considered as a fraction (VR).
The volume fraction (VR) and the weight fraction (WR) are converted by the following formula to obtain the weight fraction of the inorganic fine particles in the functional layer (protective film side functional layer, support side functional layer) of the transfer material or touch panel. The rate (WR) is calculated.
WR = D * VR / (1.1 * (1-VR) + D * VR)
D: Specific gravity of inorganic fine particles It can be calculated as D = 4.0 when the inorganic fine particles are titanium oxide and D = 6.0 when the inorganic fine particles are zirconium oxide.
As a result, the content (based on solid content) of fine particles or inorganic fine particles in the functional layer 1-A was 0% by mass. The content of fine particles or inorganic fine particles in the functional layer 2-A, the functional layer 2-B, the functional layer 2-C, and the functional layer 2-D was 96.2% by mass (based on the solid content).
In addition, the content of the inorganic fine particles in the functional layer (protective film side functional layer, support side functional layer) of the transfer material or touch panel of each Example and Comparative Example can also be calculated from the composition of the functional layer. The content of the inorganic fine particles in the functional layer (protective film side functional layer, support side functional layer) of the transfer material or the touch panel was the same as the content calculated from the composition of the functional layer.
１ 基板
２ マスク層
３ 透明電極パターン（第一の透明電極パターン）
３ａ パッド部分
３ｂ 接続部分
４ 透明電極パターン（第二の透明電極パターン）
５ 絶縁層
６ 別の導電性要素
７ 支持体側機能層（オーバーコート層または透明保護層の機能を有することが好ましい）
８ 開口部
１０ 静電容量型入力装置
１１ 透明膜
１２ 保護フィルム側機能層（第二の透明樹脂層であることが好ましい：屈折率調整層または透明絶縁層の機能を有してもよい）
１３ 透明積層体
２１ 透明電極パターンと保護フィルム側機能層と支持体側機能層がこの順に積層された領域
２２ 非パターン領域
α テーパー角
２６ 支持体
２９ 保護フィルム
３０ 転写材料
３１ 引き回し配線の端末部
３３ 支持体側機能層と保護フィルム側機能層の硬化部
３４ 引き回し配線の末端部に対応する開口部（支持体側機能層と保護フィルム側機能層の未硬化部）
４１ ビッカース圧子
４２ スライドガラス
４３ ホットプレート
５１ 加熱ロール
５２ 保護フィルム剥離用ロール
５３ 支持体剥離用ロール
Ｃ 第一の方向
Ｄ 第二の方向
1 Substrate 2 Mask layer 3 Transparent electrode pattern (first transparent electrode pattern)
3a Pad portion 3b Connection portion 4 Transparent electrode pattern (second transparent electrode pattern)
5 Insulating layer 6 Another conductive element 7 Support side functional layer (preferably having the function of an overcoat layer or a transparent protective layer)
8 Opening 10 Capacitive Input Device 11 Transparent Film 12 Protective Film Side Functional Layer (Preferably Second Transparent Resin Layer: May Have Function of Refractive Index Adjusting Layer or Transparent Insulating Layer)
13 Transparent laminated body 21 Area 22 in which transparent electrode pattern, protective film side functional layer and support side functional layer are laminated in this order 22 Non-pattern area α Taper angle 26 Support body 29 Protective film 30 Transfer material 31 Leading wire terminal portion 33 Support Cured portion 34 of body side functional layer and protective film side functional layer Opening corresponding to terminal portion of routing wiring (uncured portion of support side functional layer and protective film side functional layer)
41 Vickers Indenter 42 Slide Glass 43 Hot Plate 51 Heating Roll 52 Protective Film Peeling Roll 53 Support Peeling Roll C First Direction D Second Direction
Claims (15)
前記機能層のうち少なくとも前記保護フィルム側に配置される保護フィルム側機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
前記機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
下記条件１で測定される変形量が２．６μｍ以下である転写材料；
ただし、前記保護フィルム側機能層が光重合開始剤を含む場合を除く；
条件１：前記転写材料から前記保護フィルムを剥がした状態で前記保護フィルムを剥がした側の表面を対面角１３６°、ダイヤモンド製ピラミッド型形状のビッカース圧子により、荷重が掛からない状態から負荷速度１．４２２ｍＮ／ｓｅｃで荷重を増やしていき荷重が１ｍＮに達した時の変形量。 A transfer material having a support, two or more functional layers and a protective film in this order,
The protective film side functional layer disposed on at least the protective film side of the functional layer includes fine particles of 50% by mass or more,
At least one of the functional layers has a content of inorganic fine particles of 10% by mass or less,
A transfer material having a deformation measured under the following condition 1 of 2.6 μm or less;
However, the case where the said protective film side functional layer contains a photoinitiator is excluded;
Condition 1: With the protective film peeled off from the transfer material, the surface on the side where the protective film was peeled off was applied at a loading speed of 1. The amount of deformation when the load reaches 1 mN while increasing the load at 422 mN / sec.
条件２：前記転写材料から前記保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に前記支持体が接するように５秒間置いた加熱後の前記機能層のヘイズが、加熱前の前記機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の前記機能層のヘイズを基準とする百分率で表したヘイズ変化率。 The transfer material according to claim 1 or 2, wherein a haze change rate measured under the following condition 2 is + 100% or less;
Condition 2: The haze of the functional layer after heating, which was placed for 5 seconds so that the support was in contact with a hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material, The haze change rate which expressed the quantity which changes with respect to haze with the percentage on the basis of the haze of the said functional layer before a heating.
前記機能層のうち少なくとも前記保護フィルム側に配置される保護フィルム側機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
前記機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下であり、
下記条件２で測定されるヘイズ変化率が＋１００％以下である転写材料；
ただし、前記保護フィルム側機能層が光重合開始剤を含む場合を除く；
条件２：前記転写材料から前記保護フィルムを剥がした状態で１００℃のホットプレート上に前記支持体が接するように５秒間置いた加熱後の前記機能層のヘイズが、加熱前の前記機能層のヘイズに対して変化する量を、加熱前の前記機能層のヘイズを基準とする百分率で表したヘイズ変化率。 A transfer material having a support, two or more functional layers and a protective film in this order,
The protective film side functional layer disposed on at least the protective film side of the functional layer includes fine particles of 50% by mass or more,
At least one of the functional layers has a content of inorganic fine particles of 10% by mass or less,
A transfer material having a haze change rate measured under the following condition 2 of + 100% or less;
However, the case where the said protective film side functional layer contains a photoinitiator is excluded;
Condition 2: The haze of the functional layer after heating, which was placed for 5 seconds so that the support was in contact with a hot plate at 100 ° C. with the protective film peeled off from the transfer material, The haze change rate which expressed the quantity which changes with respect to haze with the percentage on the basis of the haze of the said functional layer before a heating.
前記機能層の厚み１μｍあたりの残留有機溶剤の量が３３μｌ／ｍ2／μｍ以下になるまで前記機能層を乾燥する工程と、
２層以上の前記機能層の上に保護フィルムを形成する工程を含み、
前記機能層を乾燥する工程における乾燥温度が８０〜１１０℃であり、かつ、乾燥時間が１００秒以下であり、
前記機能層のうち少なくとも一つの機能層は５０質量％以上の微粒子を含み、
前記機能層のうち少なくとも一つの機能層は無機微粒子の含有量が１０質量％以下である転写材料の製造方法。 A step of forming two or more functional layers on a support by coating with an organic solvent;
Drying the functional layer until the amount of residual organic solvent per 1 μm thickness of the functional layer is 33 μl / m 2 / μm or less;
Including a step of forming a protective film on the functional layer of two or more layers,
The drying temperature in the step of drying the functional layer is 80 to 110 ° C., and the drying time is 100 seconds or less,
At least one of the functional layers includes 50% by mass or more of fine particles,
At least one of the functional layers is a method for producing a transfer material in which the content of inorganic fine particles is 10% by mass or less.
加熱ロールに前記転写材料の前記支持体を接触させ、かつ、前記保護フィルムを剥離した側の前記機能層を空気に接触させて搬送する工程と、
基板に前記転写材料の前記機能層を積層する工程をこの順で含むタッチパネルの製造方法。 A step of peeling the protective film from the transfer material according to any one of claims 1 to 12,
Bringing the support of the transfer material into contact with a heating roll and transporting the functional layer on the side from which the protective film has been peeled in contact with air; and
A method for manufacturing a touch panel, which includes a step of laminating the functional layer of the transfer material on a substrate in this order.
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