JP6474623B2 - パターニング方法、およびパターニング加工物品 - Google Patents
パターニング方法、およびパターニング加工物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6474623B2 JP6474623B2 JP2015011778A JP2015011778A JP6474623B2 JP 6474623 B2 JP6474623 B2 JP 6474623B2 JP 2015011778 A JP2015011778 A JP 2015011778A JP 2015011778 A JP2015011778 A JP 2015011778A JP 6474623 B2 JP6474623 B2 JP 6474623B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- translucent member
- laser beam
- translucent
- patterning method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/361—Removing material for deburring or mechanical trimming
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
、前記反射抑制体は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の反射抑制層であることを特徴とする。
を抑制することができる。
nb−0.3 ≦ na ≦ nb+0.2
を満たしている。かかる構成によれば、透光性部材と反射抑制層との屈折率差が小さいので、透光性部材の第2面での反射を抑制することができる。
1面とは反対側の第2面に、第2面でのレーザビームの反射を抑制する反射抑制体を設けておくため、レーザビームが透光性部材に入射して透光性部材の第2面に到達した場合でも第2面での反射が発生しにくい。このため、膜を残すべき領域に強度が大きなレーザビームが到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。
図1は、本発明の実施の形態1に係るパターニング方法の説明図である。図1(a)は、パターニング加工物品の断面図であり、図1(b)〜(d)は、工程断面図である。
ミニウム等の金属の蒸着膜からなる。
nb−0.3 ≦ na ≦ nb+0.2
を満たしている。本形態において、透光性部材2は、ポリカーボネートであり、透光性部材2の屈折率nbは、約1.59である。一方、弾性部材50は、シリコーン樹脂製であり、屈折率naは1.43である。従って、上記の条件式を満たしている。
発生を抑制することができる。
図2は、本発明の実施の形態1の変形例1に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。
図3は、本発明の実施の形態1の変形例2に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。
れた状態で弾性部材50の一方面51が透光性部材2の第2面22に密着する。また、矢印Fで示すように、透光性部材2を弾性部材50に向けて押圧し、弾性部材50の透光性部材2側の一方面51を凸部25に沿って確実に密着させる。かかる構成によれば、透光性部材2の第2面22と弾性部材50との間に空気層が介在しにくいので、第2面22での反射が発生しにくい。かかる構成は、実施の形態1の変形例1のように、弾性部材50の一方面51に、透光性部材2の凸部25が嵌る凹部55が形成されている場合に適用してもよい。
図4は、本発明の実施の形態1の変形例3に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。
上記実施の形態1では、支持部材9と弾性部材50とが別体であったが、支持部材9と弾性部材50とが一体化されていてもよい。
図5は、本発明の実施の形態2に係るパターニング方法の説明図である。図5(a)は、パターニング加工物品の断面図であり、図5(b)〜(d)は、工程断面図である。本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。
らなる透光膜58を形成する。
nb−0.3 ≦ na ≦ nb+0.2
を満たしている。本形態において、透光性部材2は、ポリカーボネートであり、透光性部材2の屈折率nbは、約1.59である。一方、透光膜58は、シリコーン樹脂製であり、屈折率naは1.43である。従って、上記の条件式を満たしている。
図5(a)に示すパターニング加工物品1では、透光性部材2の第2面22に、反射抑制体4(反射抑制層5)として機能した透光膜58が残っていたが、膜3に対するパターニング後、透光膜58を除去してもよい。
図6は、本発明の実施の形態3に係るパターニング方法の説明図である。図6(a)は、パターニング加工物品の断面図であり、図6(b)〜(d)は、工程断面図である。本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を
付してそれらの詳細な説明を省略する。
上記実施の形態1、2、3では、透光性部材2の第2面22に凸部25が形成されていたが、透光性部材2の第2面22が平坦面である場合に本発明を適用してもよい。
Claims (12)
- 透光性部材の第1面に膜を形成する成膜工程と、
前記第1面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、
を有し、
前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第1面とは反対側の第2面に備え、
前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第2面側に設けておき、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の反射抑制層であることを特徴とするパターニング方法。 - 前記反射抑制層は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の弾性部材であることを特徴とする請求項1に記載のパターニング方法。
- 前記弾性部材は、一方面に前記透光性部材に向けて突出した突出部を備え、
前記弾性部材は、前記突出部が押し潰された状態で前記一方面が前記第2面に密着していることを特徴とする請求項2に記載のパターニング方法。 - 前記透光性部材に向けて突出した突出部を一方面に備えた支持部材を準備しておき、
前記弾性部材は、前記支持部材の前記一方面と前記透光性部材との間で弾性変形していることを特徴とする請求項2に記載のパターニング方法。 - 前記透光性部材は、前記弾性部材の前記透光性部材側の面が前記凸部に沿って密着するように前記弾性部材に向けて押圧されていることを特徴とする請求項2乃至4の何れか一項に記載のパターニング方法。
- 前記弾性部材は、前記透光性部材側の面に、前記凸部が嵌る凹部を備えていることを特徴とする請求項2乃至4の何れか一項に記載のパターニング方法。
- 前記反射抑制体は、前記第2面に積層された透光膜であることを特徴とする請求項1に記載のパターニング方法。
- 前記反射抑制層の屈折率をnaとし、前記透光性部材の屈折率をnbとしたとき、
屈折率na、nbは、以下の関係
nb−0.3 ≦ na≦ nb+0.2
を満たしていることを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載のパターニング方法。 - 透光性部材の第1面に膜を形成する成膜工程と、
前記第1面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、
を有し、
前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第1面とは反対側の第2面に備え、
前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第2面側に設けておき、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に形成された散乱用凹凸であることを特徴とするパターニング方法。 - 前記透光性部材は、透光性の樹脂製部材であることを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載のパターニング方法。
- 前記膜は、蒸着膜を含むことを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載のパターニング方法。
- 透光性部材と、
該透光性部材の第1面でパターニングされた膜と、
を有し、
前記透光性部材の前記第1面とは反対側の第2面には、側面が傾斜面になっている複数の凸部が形成され、
前記第2面側には、前記第1面側から入射したレーザビームの前記凸部の側面での反射により前記膜に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを防止することを抑制する反射抑制体が設けられ、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に積層された透光膜であって、前記透光膜の前記透光性部材とは反対側の面は、前記レーザビームを透過可能であることを特徴とするパターニング加工物品。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015011778A JP6474623B2 (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | パターニング方法、およびパターニング加工物品 |
CN201610033573.3A CN105817765B (zh) | 2015-01-23 | 2016-01-19 | 构图方法及构图加工物品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015011778A JP6474623B2 (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | パターニング方法、およびパターニング加工物品 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016135504A JP2016135504A (ja) | 2016-07-28 |
JP2016135504A5 JP2016135504A5 (ja) | 2018-02-08 |
JP6474623B2 true JP6474623B2 (ja) | 2019-02-27 |
Family
ID=56512339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015011778A Expired - Fee Related JP6474623B2 (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | パターニング方法、およびパターニング加工物品 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6474623B2 (ja) |
CN (1) | CN105817765B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107396558B (zh) * | 2017-06-30 | 2021-05-04 | 捷开通讯(深圳)有限公司 | 实现壳体表面纹理的方法及终端 |
CN108817686A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板承载台及切割装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3210251B2 (ja) * | 1996-07-09 | 2001-09-17 | シャープ株式会社 | レーザーパターニング装置 |
JP2000296698A (ja) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Art Laser Giken:Kk | 文字又は絵柄等の描画方法 |
JP2001009583A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Canon Inc | レーザ加工装置 |
JP4287560B2 (ja) * | 1999-11-16 | 2009-07-01 | 株式会社カネカ | 薄膜光電変換モジュールの製造方法 |
WO2003055636A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-10 | Ifire Technology Inc. | Method of laser ablation for patterning thin film layers for electroluminescent displays |
JP2006216820A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | レーザ加工方法、レーザ加工装置および結晶化装置 |
JP4872503B2 (ja) * | 2005-11-16 | 2012-02-08 | 株式会社デンソー | ウェハおよびウェハの加工方法 |
EP2037298A4 (en) * | 2006-06-30 | 2010-07-07 | Panasonic Corp | OPTICAL LINK AND OPTICAL EQUIPMENT THEREWITH |
JP2009101384A (ja) * | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Olympus Corp | レーザ加工方法 |
US20110155219A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-06-30 | Du Pont Apollo Limited | Thin film solar cell and method for fabricating the same |
CN202114400U (zh) * | 2011-04-27 | 2012-01-18 | 瑞世达科技(厦门)有限公司 | 激光光刻机 |
US9182660B2 (en) * | 2012-06-01 | 2015-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Methods for electron beam patterning |
-
2015
- 2015-01-23 JP JP2015011778A patent/JP6474623B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-01-19 CN CN201610033573.3A patent/CN105817765B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105817765A (zh) | 2016-08-03 |
CN105817765B (zh) | 2018-04-20 |
JP2016135504A (ja) | 2016-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5307307B1 (ja) | シート及び発光装置 | |
JP6257132B2 (ja) | 導光体装置 | |
WO2019058834A1 (ja) | 近赤外線センサ用カバー装置 | |
JP2013042162A5 (ja) | ||
JP2013105877A5 (ja) | ||
KR20170018417A (ko) | 유기 전계 발광 소자, 기재 및 발광 장치 | |
US10641931B2 (en) | Fresnel lens and manufacturing method for Fresnel lens | |
JP2015119202A5 (ja) | ||
JP6474623B2 (ja) | パターニング方法、およびパターニング加工物品 | |
JP2015176016A (ja) | レンズアッシー | |
US20120002286A1 (en) | Optical Element and Method of Producing the Same | |
JP2018189939A (ja) | 光学素子、光学素子の多面付け体、光学モジュール及び光照射装置 | |
JP2009028952A (ja) | 光学素子の製造方法 | |
JP2020129630A (ja) | 近接センサおよびこれを用いた電子機器 | |
JP2016018989A (ja) | 発光素子 | |
JP5105771B2 (ja) | 反射防止構造体及びそれを備えた光学装置 | |
TWM470281U (zh) | 光學透鏡 | |
JP2005010442A (ja) | 樹脂性光学部品およびその製造方法 | |
JP6357361B2 (ja) | 再帰性反射体及びこれを利用した立体像表示装置 | |
KR100827175B1 (ko) | 도파로 시트 및 그 제조방법 | |
CN108463666A (zh) | 用于耦合出光的板状光学元件 | |
JP2007025435A (ja) | 複合光学素子 | |
JP2020027778A5 (ja) | ||
US11644683B2 (en) | Optical element including at least two diffractive layers | |
JP2016135504A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171206 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180809 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6474623 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |