JP6474623B2

JP6474623B2 - パターニング方法、およびパターニング加工物品

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Publication number: JP6474623B2
Application number: JP2015011778A
Authority: JP
Inventors: 良次青山; 村松　健次; 健次村松; 哲也森本
Original assignee: Nidec Sankyo Corp
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Filing date: 2015-01-23
Publication date: 2019-02-27
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Description

本発明は、レーザビームにより膜を除去するパターニング方法、および当該パターニング方法により製造されたパターニング加工物品に関するものである。

ベースに所定の膜パターンが形成された物品を製造する方法として、印刷や蒸着等の方法でベースに膜を形成した後、膜にレーザビームを照射して膜の一部を除去する方法が提案されている（特許文献１参照）。

特開２０００−２９６６９８号公報

しかしながら、図７（ａ）に示す物品のように、ベースが透光性部材２からなる場合、図７（ｂ）に示す成膜工程で膜３を形成した後、図７（ｃ）に示すレーザビーム照射工程で、透光性部材２の第１面２１の側からレーザビームＬ１を照射すると、残った膜３にピンホールが発生しやすいという問題点がある。すなわち、レーザビームＬ１を照射した際に、図７（ｄ）に示すように、レーザビームＬ１が透光性部材２に入射すると、レーザビームＬ１が透光性部材２の第２面２２（裏面）で反射し、膜３を残すべき領域３０にも強度が大きなレーザビームＬ１が到達して、ピンホール３ａを発生させてしまう。特に、透光性部材２の第２面２２に、側面２５１が傾斜面になっている凸部２５が形成されている場合、レーザビームＬ１を垂直に照射した場合でも、透光性部材２に入射したレーザビームＬ１が凸部２５の側面２５１で反射し、膜３を残すべき領域に到達してしまい、ピンホール３ａが発生する。また、図８に示すように、透光性部材２の第２面２２が平坦である場合でも、透光性部材２の姿勢を変えながらレーザビームＬ２を照射すると、斜めに入射したレーザビームＬ２が第２面２２で反射し、膜３を残すべき領域３０にピンホール３ｂを形成してしまう。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、透光性部材に形成した膜をレーザビームによってパターニングする場合でも、残った膜にピンホールが発生しにくいパターニング方法、および当該パターニング方法により製造されたパターニング加工物品を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明に係るパターニング方法は、透光性部材の第１面に膜を形成する成膜工程と、前記第１面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、を有し、前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第１面とは反対側の第２面に備え、前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第２面側に設けておき
、前記反射抑制体は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の反射抑制層であることを特徴とする。

本発明では、透光性部材の第１面に形成した膜をレーザビームによってパターニングする際、透光性部材の第１面とは反対側の第２面に、第２面でのレーザビームの反射を抑制する反射抑制体を設けておくため、レーザビームが透光性部材に入射して透光性部材の第２面に到達した場合でも第２面での反射が発生しにくい。このため、膜を残すべき領域に強度が大きなレーザビームが到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生
を抑制することができる。

また、本発明において、前記反射抑制体は、前記凸部の側面に密着した状態で重ねられた反射抑制層であり、透光性部材の第２面が空気層と接している場合に比して、透光性部材の第２面側の界面での屈折率差が小さい。従って、透光性部材に入射したレーザビームは、透光性部材の第２面での反射が抑制され、反射抑制層に入射する。また、反射抑制層の透光性部材の反対側でレーザビームが反射した場合でも、透光性部材の第１面から遠い位置で反射する。また、反射抑制層の透光性部材の反対側では、レーザが反射するとしても、正反射せずに散乱となりやすい。従って、膜を残すべき領域に強度が大きなレーザビームが到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。

この場合、前記反射抑制層は、例えば、前記第２面に密着した状態で重ねられた透光性の弾性部材である。

本発明において、前記弾性部材は、一方面に前記透光性部材に向けて突出した突出部を備え、前記弾性部材は、前記突出部が押し潰された状態で前記一方面が前記第２面に密着していることが好ましい。かかる構成によれば、透光性部材の第２面と弾性部材との間に空気層が介在しにくいので、第２面での反射が発生しにくい。

本発明において、前記透光性部材に向けて突出した突出部を一方面に備えた支持部材を準備しておき、前記弾性部材は、前記支持部材の前記一方面と前記透光性部材との間で弾性変形している構成を採用してもよい。かかる構成によれば、透光性部材の第２面と弾性部材との間に空気層が介在しにくいので、第２面での反射が発生しにくい。

本発明において、前記透光性部材は、前記弾性部材の前記透光性部材側の面が前記凸部に沿って密着するように前記弾性部材に向けて押圧されていることが好ましい。かかる構成によれば、透光性部材の第２面と弾性部材との間に空気層が介在しにくいので、第２面での反射が発生しにくい。

本発明において、前記弾性部材は、前記透光性部材側の面に、前記凸部が嵌る凹部を備えていることが好ましい。かかる構成によれば、透光性部材の第２面と弾性部材との間に空気層が介在しにくいので、第２面での反射が発生しにくい。

本発明において、前記反射抑制体は、前記第２面に積層された透光膜である構成を採用してもよい。

本発明においては、例えば、前記反射抑制層の屈折率をｎａとし、前記透光性部材の屈折率をｎｂとしたとき、屈折率ｎａ、ｎｂは、以下の関係
ｎｂ−０．３ ≦ ｎａ ≦ ｎｂ＋０．２
を満たしている。かかる構成によれば、透光性部材と反射抑制層との屈折率差が小さいので、透光性部材の第２面での反射を抑制することができる。

本発明の別態様に係るパターニング方法は、透光性部材の第１面に膜を形成する成膜工程と、前記第１面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、を有し、前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第１面とは反対側の第２面に備え、前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第２面側に設けておき、前記反射抑制体は、前記凸部の側面に形成された散乱用凹凸であることを特徴とする。本発明では、透光性部材の第１面に形成した膜をレーザビームによってパターニングする際、透光性部材の第
１面とは反対側の第２面に、第２面でのレーザビームの反射を抑制する反射抑制体を設けておくため、レーザビームが透光性部材に入射して透光性部材の第２面に到達した場合でも第２面での反射が発生しにくい。このため、膜を残すべき領域に強度が大きなレーザビームが到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。

本発明において、前記透光性部材は、例えば、透光性の樹脂製部材である。

本発明において、前記膜は、例えば、蒸着膜を含む膜である。

本発明においては、前記反射抑制体を、パターニング加工後に除去する構成、およびパターニング加工後も除去せずに残した構成を採用することができる。

後者の場合、パターニング加工物品は、透光性部材と、該透光性部材の第１面でパターニングされた膜と、を有し、前記透光性部材の前記第１面とは反対側の第２面には、側面が傾斜面になっている複数の凸部が形成され、前記第２面側には、前記第１面側から入射したレーザビームの前記凸部の側面での反射により前記膜に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを防止することを抑制する反射抑制体が設けられ、前記反射抑制体は、前記凸部の側面に積層された透光膜であって、前記透光膜の前記透光性部材とは反対側の面は、前記レーザビームを透過可能であることを特徴とする。

本発明では、透光性部材の第１面に形成した膜をレーザビームによってパターニングする際、透光性部材の第１面とは反対側の第２面に、第２面でのレーザビームの反射を抑制する反射抑制体を設けておくため、レーザビームが透光性部材に入射して透光性部材の第２面に到達した場合でも第２面での反射が発生しにくい。このため、膜を残すべき領域に強度が大きなレーザビームが到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。

本発明の実施の形態１に係るパターニング方法の説明図である。本発明の実施の形態１の変形例１に係るパターニング方法の説明図である。本発明の実施の形態１の変形例２に係るパターニング方法の説明図である。本発明の実施の形態１の変形例３に係るパターニング方法の説明図である。本発明の実施の形態２に係るパターニング方法の説明図である。本発明の実施の形態３に係るパターニング方法の説明図である。本発明の参考例に係るパターニング方法の説明図である。本発明の別の参考例に係るパターニング方法の説明図である。

図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。

［実施の形態１］
図１は、本発明の実施の形態１に係るパターニング方法の説明図である。図１（ａ）は、パターニング加工物品の断面図であり、図１（ｂ）〜（ｄ）は、工程断面図である。

図１（ａ）に示すパターニング加工物品１は、板状の透光性部材２と、透光性部材２の第１面２１でパターニングされた膜３とを有している。透光性部材２は、第１面２１に凹部２１０が形成されており、膜３は、凹部２１０の底部から除去されている。このため、膜３は、凹部２１０の周りを囲むように形成されている。また、透光性部材２は、第２面２２に、側面２５１が傾斜面になっている複数の凸部２５が形成されている。

透光性部材２は、ポリカーボネート、アクリル樹脂等の透光性樹脂や、ガラス等からなる。本形態において、透光性部材２は、ポリカーボネートからなる。膜３は、塗装膜や蒸着膜、または塗装膜と蒸着膜を組み合わせた膜からなる。本形態において、膜３は、アル
ミニウム等の金属の蒸着膜からなる。

パターニング加工物品１は、表面（第１面２１）が膜３によって装飾された装飾品からなり、第２面２２側から入射する光は、凸部２５で屈折して、第１面２１のうち、膜３が除去された凹部２１０の底部から出射される。

かかるパターニング加工物品１は、図１（ｂ）〜（ｄ）に示すパターニング方法によって製造される。具体的には、図１（ｂ）に示す透光性部材２を金型成形により製造した後、成膜工程では、蒸着によって第１面２１にアルミニウム膜からなる膜３を形成する。その際、マスク蒸着法を使用して、膜３を凹部２１０の周り、および凹部２１０の底部の縁に形成する。一方、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、ウレタンゴム等からなる透光性の弾性部材５０を準備しておく。

次に、図１（ｃ）に示すレーザ照射工程では、支持部材９によって弾性部材５０を支持した後、弾性部材５０の一方面５１に透光性部材２を重ね、弾性部材５０の透光性部材２側の一方面５１を透光性部材２の第２面２２に密着させる。その際、矢印Ｆで示すように、透光性部材２を弾性部材５０に向けて押圧し、弾性部材５０の透光性部材２側の一方面５１を凸部２５に沿って確実に密着させることが好ましい。かかる構成によれば、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０の一方面５１との間には空気層が介在しにくい。この状態で、透光性部材２の第１面２１の側から膜３にレーザビームＬ１を照射し、図１（ｄ）に示すように、膜３の一部を除去する。本形態では、膜３のうち、凹部２１０の底部に形成されている部分にレーザビームＬ１を照射して、膜３を除去する。

ここで、弾性部材５０の屈折率をｎａとし、透光性部材２の屈折率をｎｂとしたとき、屈折率ｎａ、ｎｂは、以下の関係
ｎｂ−０．３ ≦ ｎａ ≦ ｎｂ＋０．２
を満たしている。本形態において、透光性部材２は、ポリカーボネートであり、透光性部材２の屈折率ｎｂは、約１．５９である。一方、弾性部材５０は、シリコーン樹脂製であり、屈折率ｎａは１．４３である。従って、上記の条件式を満たしている。

このようなパターニング方法では、透光性部材２の第１面２１に形成した膜３をレーザビームＬ１によってパターニングする際、図１（ｄ）に示すように、膜３を除去した位置からレーザビームＬ１が透光性部材２の第１面２１から入射し、第２面２２に向かう。ここで、第２面２２には、弾性部材５０が配置されており、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０の一方面５１との間には空気層が介在しにくい。このため、弾性部材５０は、第２面２２でのレーザビームＬ１の反射を抑制する反射抑制体４（反射抑制層５）として機能する。従って、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくく、弾性部材５０に入射する。

特に本形態では、弾性部材５０の屈折率ｎａ、および透光性部材２の屈折率ｎｂが上式を満たしており、弾性部材５０と透光性部材２とは同等の屈折率を有している。このため、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくく、弾性部材５０に入射する。

そして、弾性部材５０に入射したレーザビームＬ１は、弾性部材５０の他方面５２に到達するが、弾性部材５０の他方面５２は、透光性部材２の第２面２２から大きく離間している。また、レーザビームＬ１は、弾性部材５０の他方面５２を透過するか、反射しても散乱するだけである。このため、レーザビームＬ１が弾性部材５０の他方面５２に到達しても、膜３を残した領域３０に向けて反射しにくい。それ故、膜３を残すべき領域３０に強度が大きなレーザビームＬ１が到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの
発生を抑制することができる。

また、透光性部材２の姿勢を変えながらレーザビームＬ２を照射すると、一点鎖線で示すように、レーザビームＬ２が斜め方向から照射されるため、透光性部材２の第１面２１から入射した第２レーザビームＬ２は、斜めに進行するが、かかるレーザビームＬ２も、レーザビームＬ１と同様、透光性部材２の第２面２２で反射しにくいので、膜３を残すべき領域３０に大きな強度をもって到達するという事態が発生しにくい。それ故、ピンホールの発生を抑制することができる。

［実施の形態１の変形例１］
図２は、本発明の実施の形態１の変形例１に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。

図２（ａ）に示すように、本形態でも、実施の形態１と同様、透光性部材２は、第２面２２に、側面２５１が傾斜面になっている複数の凸部２５が形成されている。本形態では、弾性部材５０の一方面５１に、透光性部材２の凸部２５が嵌る凹部５５が形成されており、凹部５５の側面５５１は、凸部２５の側面２５１と同様、傾斜している。従って、図２（ｂ）に示すレーザ照射工程において、支持部材９によって弾性部材５０を支持した後、弾性部材５０の一方面５１に透光性部材２を重ねると、透光性部材２の凸部２５が弾性部材５０の凹部５５に嵌った状態になる。従って、透光性部材２の第２面２２に弾性部材５０の一方面５１が密着するので、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０の一方面５１との間には空気層が介在しにくい。その際、矢印Ｆで示すように、透光性部材２を弾性部材５０に向けて押圧し、弾性部材５０の透光性部材２側の一方面５１を凸部２５に沿って確実に密着させることが好ましい。

そして、透光性部材２の第１面２１の側から膜３にレーザビームＬ１を照射し、膜３の一部を除去する。

本形態でも、実施の形態１と同様、透光性部材２の第２面２２には、弾性部材５０が配置されており、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０の一方面５１との間には空気層が介在しにくい。このため、弾性部材５０は、第２面２２でのレーザビームＬ１の反射を抑制する反射抑制体４（反射抑制層５）として機能する。従って、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくい等、実施の形態１と同様な効果を奏する。また、透光性部材２は、側面２５１が傾斜面になっている凸部２５を第２面２２に備えているが、弾性部材５０は、透光性部材２側の一方面５１に、凸部２５が嵌る凹部５５を備えている。このため、弾性部材５０の一方面５１が透光性部材２に密着するので、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０の一方面５１との間には空気層が介在しにくい。このため、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくい。

［実施の形態１の変形例２］
図３は、本発明の実施の形態１の変形例２に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。

本形態では、図３（ａ）に示すように、弾性部材５０の一方面５１には、膜３を除去する領域（図３（ｂ）に示すレーザビームＬ１が照射される領域）に透光性部材２に向けて突出した突出部５４が形成されている。このため、図３（ｂ）に示すように、支持部材９に対して弾性部材５０および透光性部材２を重ねて配置したとき、突出部５４が押し潰さ
れた状態で弾性部材５０の一方面５１が透光性部材２の第２面２２に密着する。また、矢印Ｆで示すように、透光性部材２を弾性部材５０に向けて押圧し、弾性部材５０の透光性部材２側の一方面５１を凸部２５に沿って確実に密着させる。かかる構成によれば、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０との間に空気層が介在しにくいので、第２面２２での反射が発生しにくい。かかる構成は、実施の形態１の変形例１のように、弾性部材５０の一方面５１に、透光性部材２の凸部２５が嵌る凹部５５が形成されている場合に適用してもよい。

［実施の形態１の変形例３］
図４は、本発明の実施の形態１の変形例３に係るパターニング方法の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。

本形態では、図４（ａ）に示すように、支持部材９の一方面９１には、膜３を除去する領域（図４（ｂ）に示すレーザビームＬ１が照射される領域）に透光性部材２に向けて突出した突出部９４が形成されている。このため、図４（ｂ）に示すように、支持部材９に対して弾性部材５０および透光性部材２を重ねて配置したとき、膜３を除去する領域では、突出部９４によって弾性部材５０の一方面５１が透光性部材２の第２面２２に強く密着する。また、矢印Ｆで示すように、透光性部材２を弾性部材５０に向けて押圧し、弾性部材５０の透光性部材２側の一方面５１を凸部２５に沿って確実に密着させる。かかる構成によれば、透光性部材２の第２面２２と弾性部材５０との間に空気層が介在しにくいので、第２面２２での反射が発生しにくい。かかる構成は、実施の形態１の変形例１のように、弾性部材５０の一方面５１に、透光性部材２の凸部２５が嵌る凹部５５が形成されている場合に適用してもよい。

［実施の形態１の他の変形例］
上記実施の形態１では、支持部材９と弾性部材５０とが別体であったが、支持部材９と弾性部材５０とが一体化されていてもよい。

［実施の形態２］
図５は、本発明の実施の形態２に係るパターニング方法の説明図である。図５（ａ）は、パターニング加工物品の断面図であり、図５（ｂ）〜（ｄ）は、工程断面図である。本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明を省略する。

図５（ａ）に示すパターニング加工物品１も、実施の形態１と同様、板状の透光性部材２と、透光性部材２の第１面２１でパターニングされた膜３とを有している。透光性部材２は、透光性樹脂やガラス等からなる。本形態において、透光性部材２は、ポリカーボネート等の透光性樹脂からなる。膜３は、塗装膜や蒸着膜、または塗装膜と蒸着膜を組み合わせた膜からなる。本形態において、膜３は、アルミニウム等の金属の蒸着膜からなる。

透光性部材２は、第２面２２に、側面２５１が傾斜面になっている複数の凸部２５が形成されている。さらに、パターニング加工物品１には、第２面２２を覆うように透光膜５８が形成されている。

かかるパターニング加工物品１は、図５（ｂ）〜（ｄ）に示すパターニング方法によって製造される。具体的には、図５（ｂ）に示す透光性部材２を製造した後、成膜工程では、蒸着によって第１面２１にアルミニウム膜からなる膜３を形成する。その際、マスク蒸着法を使用して、膜３を凹部２１０の周り、および凹部２１０の底部の縁に形成する。一方、透光性部材２の第２面２２に、塗布法等によってシリコーン樹脂やアクリル樹脂等か
らなる透光膜５８を形成する。

次に、図５（ｃ）に示すレーザ照射工程では、透光性部材２の第１面２１の側から膜３にレーザビームＬ１を照射し、図５（ｄ）に示すように、膜３の一部を除去する。本形態では、膜３のうち、凹部２１０の底部に形成されている部分にレーザビームＬ１を照射して、膜３を除去する。

ここで、透光膜５８の屈折率をｎａとし、透光性部材２の屈折率をｎｂとしたとき、屈折率ｎａ、ｎｂは、以下の関係
ｎｂ−０．３ ≦ ｎａ ≦ ｎｂ＋０．２
を満たしている。本形態において、透光性部材２は、ポリカーボネートであり、透光性部材２の屈折率ｎｂは、約１．５９である。一方、透光膜５８は、シリコーン樹脂製であり、屈折率ｎａは１．４３である。従って、上記の条件式を満たしている。

このようなパターニング方法では、透光性部材２の第１面２１に形成した膜３をレーザビームＬ１によってパターニングする際、膜３を除去した位置からレーザビームＬ１が透光性部材２の第１面２１から入射し、第２面２２に向かう。ここで、第２面２２には、透光膜５８が形成されており、透光性部材２の第２面２２と透光膜５８の一方面５８１との間には空気層が介在しない。このため、透光膜５８は、第２面２２でのレーザビームＬ１の反射を抑制する反射抑制体４（反射抑制層５）として機能する。従って、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくく、透光膜５８に入射する。

特に本形態では、透光膜５８の屈折率ｎａ、および透光性部材２の屈折率ｎｂが上式を満たしており、透光膜５８と透光性部材２とは同等の屈折率を有している。このため、レーザビームＬ１が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ１は、第２面２２で反射しにくく、透光膜５８に入射する。

そして、透光膜５８に入射したレーザビームＬ１は、透光膜５８の他方面５８２に到達するが、レーザビームＬ１は、透光膜５８の他方面５８２を透過するか、反射しても散乱するだけである。このため、レーザビームＬ１が透光膜５８の他方面５８２に到達しても、膜３を残した領域３０に向けて反射しにくい。それ故、膜３を残すべき領域３０に強度が大きなレーザビームＬ１が到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。

また、透光性部材２の姿勢を変えながらレーザビームＬ２を照射すると、一点鎖線で示すように、レーザビームＬ２が斜め方向から照射されるため、透光性部材２の第１面２１から入射した第２レーザビームＬ２は、斜めに進行するが、かかるレーザビームＬ２も、レーザビームＬ１と同様、膜３を残すべき領域３０に大きな強度をもって到達するという事態が発生しにくい。それ故、ピンホールの発生を抑制することができる。

［実施の形態２の変形例］
図５（ａ）に示すパターニング加工物品１では、透光性部材２の第２面２２に、反射抑制体４（反射抑制層５）として機能した透光膜５８が残っていたが、膜３に対するパターニング後、透光膜５８を除去してもよい。

［実施の形態３］
図６は、本発明の実施の形態３に係るパターニング方法の説明図である。図６（ａ）は、パターニング加工物品の断面図であり、図６（ｂ）〜（ｄ）は、工程断面図である。本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を
付してそれらの詳細な説明を省略する。

図６（ａ）に示すパターニング加工物品１も、実施の形態１と同様、板状の透光性部材２と、透光性部材２の第１面２１でパターニングされた膜３とを有している。透光性部材２は、透光性樹脂やガラス等からなる。本形態において、透光性部材２は、ポリカーボネート等の透光性樹脂からなる。膜３は、塗装膜や蒸着膜、または塗装膜と蒸着膜を組み合わせた膜からなる。本形態において、膜３は、アルミニウム等の金属の蒸着膜からなる。透光性部材２は、第２面２２に、側面２５１が傾斜面になっている複数の凸部２５が形成されている。

ここで、透光性部材２の第２面２２のうち、膜３が残っている領域３０と平面視で重なる領域には、複数の凹凸からなる散乱用凹凸４０が形成されている。本形態において、散乱用凹凸４０は、膜３が除去されている領域と平面視で重なる領域には形成されていない。

かかるパターニング加工物品１は、図６（ｂ）〜（ｄ）に示すパターニング方法によって製造される。具体的には、図６（ｂ）に示す透光性部材２を金型成形により製造する際、第２面２２には、膜３を残す領域３０と平面視で重なる領域に散乱用凹凸４０を形成する。そして、成膜工程では、蒸着によって第１面２１にアルミニウム膜からなる膜３を形成する。その際、マスク蒸着法を使用して、膜３を凹部２１０の周り、および凹部２１０の底部の縁に形成する。

次に、図６（ｃ）に示すレーザ照射工程では、透光性部材２の第１面２１の側から膜３にレーザビームＬ２を照射し、図６（ｄ）に示すように、膜３の一部を除去する。本形態では、膜３のうち、凹部２１０の底部に形成されている部分に対して斜め方向からレーザビームＬ２を照射して、膜３を除去する。

このようなパターニング方法では、透光性部材２の第１面２１に形成した膜３をレーザビームＬ２によってパターニングする際、膜３を除去した位置からレーザビームＬ２が透光性部材２の第１面２１から入射し、第２面２２に向かう。ここで、第２面２２には、膜３を残す領域３０と平面視で重なる領域に散乱用凹凸４０が形成されており、散乱用凹凸４０は、第２面２２でのレーザビームＬ２の反射を抑制する反射抑制体４として機能する。従って、レーザビームＬ２が第２面２２に到達した場合でも、レーザビームＬ２は、第２面２２で反射しにくく、散乱するだけである。このため、レーザビームＬ２は、第２面２２に到達しても、膜３を残した領域３０に向けて反射しにくい。それ故、膜３を残すべき領域３０に強度が大きなレーザビームＬ２が到達するという事態が発生しにくいので、ピンホールの発生を抑制することができる。

［他の実施の形態］
上記実施の形態１、２、３では、透光性部材２の第２面２２に凸部２５が形成されていたが、透光性部材２の第２面２２が平坦面である場合に本発明を適用してもよい。

上記実施の形態１、２、３では、透光性部材２は、ポリカーボネート等の透光性樹脂からなっていたが、ガラス等の無機材料であってもよい。また、膜３は、アルミニウム等の金属の蒸着膜であったが、印刷や転写によって形成された塗装膜であってもよいし、塗装膜と蒸着膜を組み合わせた膜であってもよい。

上記実施の形態１、２、３では、成膜工程において、膜３を凹部２１０の周り、および凹部２１０の底部の縁に形成し、凹部２１０の底部の中央部分には形成しなかったが、透光性部材２の第１面２１の全面に膜３を形成してもよい。

本発明では、実施の形態１、２、３で説明した各構成を組み合わせてもよい。例えば、実施の形態１＋実施の形態２、実施の形態１＋実施の形態３、実施の形態２＋実施の形態３、実施の形態１＋実施の形態２+実施の形態３に相当する形態を採用してもよい。

１・・パターニング加工物品、２・・透光性部材、３・・膜、４・・反射抑制体、５・・反射抑制層、９・・支持部材、２１・・第１面、２２・・第２面、２５・・凸部、４０・・散乱用凹凸（反射抑制体）、５０・・弾性部材（反射抑制体、反射抑制層）、５４・・突出部、５５・・凹部、５８・・透光膜（反射抑制体、反射抑制層）、９４・・突出部、Ｌ１、Ｌ２・・レーザビーム

Claims

透光性部材の第１面に膜を形成する成膜工程と、
前記第１面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、
を有し、
前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第１面とは反対側の第２面に備え、
前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第２面側に設けておき、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の反射抑制層であることを特徴とするパターニング方法。
前記反射抑制層は、前記凸部の側面に密着した状態で重なる透光性の弾性部材であることを特徴とする請求項１に記載のパターニング方法。
前記弾性部材は、一方面に前記透光性部材に向けて突出した突出部を備え、
前記弾性部材は、前記突出部が押し潰された状態で前記一方面が前記第２面に密着していることを特徴とする請求項２に記載のパターニング方法。
前記透光性部材に向けて突出した突出部を一方面に備えた支持部材を準備しておき、
前記弾性部材は、前記支持部材の前記一方面と前記透光性部材との間で弾性変形していることを特徴とする請求項２に記載のパターニング方法。
前記透光性部材は、前記弾性部材の前記透光性部材側の面が前記凸部に沿って密着するように前記弾性部材に向けて押圧されていることを特徴とする請求項２乃至４の何れか一項に記載のパターニング方法。
前記弾性部材は、前記透光性部材側の面に、前記凸部が嵌る凹部を備えていることを特徴とする請求項２乃至４の何れか一項に記載のパターニング方法。
前記反射抑制体は、前記第２面に積層された透光膜であることを特徴とする請求項１に記載のパターニング方法。
前記反射抑制層の屈折率をｎａとし、前記透光性部材の屈折率をｎｂとしたとき、
屈折率ｎａ、ｎｂは、以下の関係
ｎｂ−０．３ ≦ ｎａ≦ ｎｂ＋０．２
を満たしていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載のパターニング方法。
透光性部材の第１面に膜を形成する成膜工程と、
前記第１面の側から前記膜にレーザビームを照射して前記膜の一部を除去するレーザ照射工程と、
を有し、
前記透光性部材は、側面が傾斜面になっている複数の凸部を前記第１面とは反対側の第２面に備え、
前記レーザ照射工程では、前記凸部の側面での前記レーザビームの反射によって前記膜を残すべき領域に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを抑制する反射抑制体を前記第２面側に設けておき、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に形成された散乱用凹凸であることを特徴とするパターニング方法。
前記透光性部材は、透光性の樹脂製部材であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載のパターニング方法。
前記膜は、蒸着膜を含むことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載のパターニング方法。
透光性部材と、
該透光性部材の第１面でパターニングされた膜と、
を有し、
前記透光性部材の前記第１面とは反対側の第２面には、側面が傾斜面になっている複数の凸部が形成され、
前記第２面側には、前記第１面側から入射したレーザビームの前記凸部の側面での反射により前記膜に前記レーザビームが到達してピンホールが発生することを防止することを抑制する反射抑制体が設けられ、
前記反射抑制体は、前記凸部の側面に積層された透光膜であって、前記透光膜の前記透光性部材とは反対側の面は、前記レーザビームを透過可能であることを特徴とするパターニング加工物品。