JP6457754B2 - 投影リソグラフィのための照明光学ユニット - Google Patents
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Description
d(x,y,a,b)=F1(x,y)−F2(x+a,y+b)
nは、照明設定のそれぞれ考慮する照明極の番号を表している。
Nは、考慮する照明設定の照明極の個数を表している。
In(x)は、視野の場所x(視野高さ)における照明極nの強度を表している。この強度は、照明視野3上又はウェーハ平面22の像視野上で走査方向又は物体変位方向yにわたる積分の後の合計強度である。
は、視野の場所xにおける照明極nのビームが照明系の瞳平面を通る交点を表している。従って、このベクトルは2次元である。
rNAは、上記で着目した瞳平面内の瞳絞りの半径である。
ここでのeは、2つの瞳レンズ要素45、46の間の距離である。
H(x,y)=A+Bx2y
T(x;Y)=d/dx(H(x,y)+H(x,y−Y))
T(x;X)=d/dx(H(x+X1)+H(x−X2))
13 ラスターモジュール
14 照明角度変更デバイス
14a、14b 照明角度変更ユニット
22 ウェーハ平面
Claims (14)
- 1次光源(6)の照明光(8)を用いて照明視野(3)を照明するための投影リソグラフィのための照明光学ユニットであって、
ラスター行とラスター列に配置されて前記照明視野(3)の形状を予め定めるために前記照明光(8)に影響を及ぼすラスター要素(12a,16a)を含む少なくとも1つのラスター配置(12,16)を含み、
物体変位方向(y)に変位可能な物体(23)を配置することができる前記照明視野(3)に向けた前記ラスター要素(12a,16a)からの前記照明光(8)の重ね合わせ伝達のための伝達光学ユニット(17)を含み、
照明角度変更デバイス(14,14’;34;44a;51;63;63a;88;95;98;101;104;110;113)を含み、これが、該照明角度変更デバイス(14;34;44a;51;63;63a;88;95;98;101;104;110;113)上に入射する前記照明光(8)を前記物体変位方向(y)に垂直な偏向平面(xz)において異なる偏向角を用いて場所依存態様で偏向し、
前記照明角度変更デバイス(14,14’;34;44a;51;63;63a;88;95;98;101;104;110;113)は、少なくとも、
前記ラスター配置(12,16)に対して全体的に変位可能であり、かつ前記物体変位方向(y)に垂直な前記偏向平面(xz)に前記照明光(8)に対する偏向角を発生させるように機能する照明角度変更ユニット(14b,14b’;34b;45,46;51;64,65;73,74;76,77;89;96;99;106;112;116;117)、
を含み、
前記ラスター配置(12,16)に対する前記全体的変位可能照明角度変更ユニット(14b,14b’;34b;45,46;51;64,65;73,74;76,77;89;96;99;106;112;116;117)の変位可能性が、前記物体変位方向(y)に垂直な前記偏向平面(xz)における前記偏向角の大きさに影響を及ぼすことに資するものであり、
前記照明角度変更ユニットによってもたらすことができる前記偏向平面(xz)内の偏向角が、最大で3°又は50mradであるように、前記照明角度変更デバイスが設計されている、
ことを特徴とする照明光学ユニット。 - 前記照明角度変更デバイス(14;34)は、
前記物体変位方向(y)に垂直な前記偏向平面(xz)に前記照明光(8)に対する少なくとも1つの更に別の偏向角を発生させるための少なくとも1つの更に別の照明角度変更ユニット(14a,14a’;34a;46,45;64,65;73,74;90;96;100;105;111;114)、
を更に含み、
前記照明角度変更ユニット(14a,14a’,14b;34a,34b;45,46;76,77,64,65;76,77,73,74;89;90;96;99;100;105;106;112;116;117;114)は、それらが前記照明光(8)に順次影響を及ぼすように配置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。 - 前記更に別の照明角度変更ユニット(14a;34a)は、静的ユニットとして具現化されることを特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。
- 前記更に別の照明角度変更ユニット(14a;34a)は、少なくとも2つの角度変更部分に絶対値が異なる静的偏向角を発生させることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記変位可能照明角度変更ユニット(14b;34b)の最大偏向効果が、前記更に別の照明角度変更ユニット(14a;34a)の最大偏向効果よりも小さいことを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記照明角度変更ユニットの少なくとも1つが、以下に提示する構成要素:
ルーフエッジプリズム(14a,14b)、
円柱レンズ要素(34a,34b)、
サドル面構成要素(51)、
非球面構成要素、
自由曲面構成要素、
楔体(64,65;73,74;76,77)、
レンズ要素(45,46)、
のうちの1つとして具現化されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。 - 前記照明角度変更ユニットの少なくとも1つが、楔体(64,65;73,74;76,77)として具現化され、
前記照明光(8)のビーム方向(z)に垂直な平面(xy)における楔縁部領域(68;75)の勾配に対して|dy/dx|≧2が成り立ち、ここで、yは、前記物体変位方向(y)に沿って延びる、
ことを特徴とする請求項6に記載の照明光学ユニット。 - 前記変位可能照明角度変更ユニット(14b;34b;51)は、照明光学ユニットの光軸(2)の回りにピボット回転可能として具現化されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記少なくとも1つの変位可能照明角度変更ユニット(14b;34b;45,46;51;64,65;73,74;76,77)を前記ラスター配置(12,16)に対して変位させるための変位ドライブ(30;49;52;72)を特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記照明視野(3)にわたる前記照明光(8)の照明パラメータを測定するための測定デバイス(32)を特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記測定デバイス(32)は、制御/調整ユニット(33)を通じて前記変位ドライブ(30;49;52;72)に信号接続されることを特徴とする請求項9及び請求項10に記載の装置。
- 請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含み、かつ
照明視野(3)の少なくとも一部を像平面(22)内の像視野に結像するための投影光学ユニット(21)を含む、
ことを特徴とする光学系。 - 請求項12に記載の光学系を含み、
1次光源(6)を含み、
前記照明視野(3)に物体(23)を装着するための物体変位ドライブ(25)を有する物体ホルダ(24)を含み、
前記像視野にウェーハ(22a)を装着するためのウェーハ変位ドライブ(27)を有するウェーハホルダ(26)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付加された基板(22a)を与える段階と、 結像される構造を有するレチクル(23)を与える段階と、
請求項13に記載の投影露光装置(1)を与える段階と、
前記投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(23)の少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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