JP6453727B2 - 基板処理装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
基板保持具に多段に保持された複数の基板を処理する反応管と、
前記反応管内部に設置され、前記複数の基板を処理する反応ガスを供給するガス供給部と、
前記反応管の外壁に垂直方向に当設されて内部に電磁波が伝送されるとともに、前記外壁に当設される面に開口によって前記電磁波を供給する導波管と、前記導波管に接続され前記電磁波を生成する電磁波生成部とを有し、前記ガス供給部から供給された前記反応ガスを活性化させる第1のプラズマ生成部と、
を有する技術が提供される。
以下、本発明の第1の実施形態について図1乃至図10を参照しながら説明する。
(1)基板処理装置の構成
(加熱装置)
図1に示すように、処理炉202は加熱装置(加熱機構)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、後述するようにガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
(処理室)
ヒータ207の内側には、ヒータ207と同心円状に反応管203が配設されている。反応管203は、例えば石英(SiO2)または炭化シリコン(SiC)等の耐熱性材料からなり、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。反応管203の下方には、反応管203と同心円状に、マニホールド209が配設されている。マニホールド209は、例えばステンレス(SUS)等の金属からなり、上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド209の上端部は、反応管203の下端部に係合しており、反応管203を支持するように構成されている。マニホールド209と反応管203との間には、シール部材としてのOリング220aが設けられている。マニホールド209がヒータベースに支持されることにより、反応管203は垂直に据え付けられた状態となる。主に、反応管203とマニホールド209とにより処理容器(反応容器)が構成されている。処理容器の筒中空部には処理室201が形成されている。処理室201は、複数枚の基板としてのウエハ200を、後述する基板保持具としてのボート217によって水平姿勢で垂直方向に多段に配列した状態で収容可能に構成されている。なお、処理容器は上記の構成に限らず、反応管203のみを処理容器と称する場合もある。
(ガス供給部)
処理室201内には、ノズル249a、249bが、マニホールド209の側壁を貫通するように設けられている。ノズル249a、249bには、ガス供給管232a,232bが、それぞれ接続されている。このように、処理容器には2本のノズル249a、249bと、2本のガス供給管232a,232bとが設けられており、処理室201内へ複数種類のガスを供給することが可能となっている。
(基板支持具)
図1に示すように基板支持具としてのボート217は、複数枚、例えば25〜200枚のウエハ200を、水平姿勢で、かつ、互いに中心を揃えた状態で垂直方向に整列させて多段に支持するように、すなわち、間隔を空けて配列させるように構成されている。ボート217は、例えば石英やSiC等の耐熱性材料からなる。ボート217の下部には、例えば石英やSiC等の耐熱性材料からなる断熱板218が多段に支持されている。この構成により、ヒータ207からの熱がシールキャップ219側に伝わりにくくなっている。但し、本実施形態はこのような形態に限定されない。例えば、ボート217の下部に断熱板218を設けずに、石英やSiC等の耐熱性材料からなる筒状の部材として構成された断熱筒を設けてもよい。
(プラズマ生成部)
次にプラズマ生成部について、図2及び図3を用いて説明する。
(排気部)
反応管203には、図1に示すように処理室201内の雰囲気を排気する排気管231が設けられている。排気管231には、処理室201内の圧力を検出する圧力検出器(圧力検出部)としての圧力センサ245および排気バルブ(圧力調整部)としてのAPC(Auto Pressure Controller)バルブ244を介して、真空排気装置としての真空ポンプ246が接続されている。APCバルブ244は、真空ポンプ246を作動させた状態で弁を開閉することで、処理室201内の真空排気および真空排気停止を行うことができ、更に、真空ポンプ246を作動させた状態で、圧力センサ245により検出された圧力情報に基づいて弁開度を調節することで、処理室201内の圧力を調整することができるように構成されているバルブである。主に、排気管231、APCバルブ244、圧力センサ245により、排気系が構成される。真空ポンプ246を排気系に含めて考えてもよい。排気管231は、反応管203に設ける場合に限らず、ノズル249a,249bと同様にマニホールド209に設けてもよい。
(周辺装置)
マニホールド209の下方には、マニホールド209の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体としてのシールキャップ219が設けられている。シールキャップ219は、マニホールド209の下端に垂直方向下側から当接されるように構成されている。シールキャップ219は、例えばSUS等の金属からなり、円盤状に形成されている。シールキャップ219の上面には、マニホールド209の下端と当接するシール部材としてのOリング220bが設けられている。
(制御装置)
次に制御装置について図4を用いて説明する。図4は、図1に示す基板処理装置におけるコントローラの一例を示すブロック図である。図4に示すように、制御部(制御装置)であるコントローラ121は、CPU(Central Processing Unit)121a、RAM(Random Access Memory)121b、記憶装置121c、I/Oポート121dを備えたコンピュータとして構成されている。RAM121b、記憶装置121c、I/Oポート121dは、内部バス121eを介して、CPU121aとデータ交換可能なように構成されている。コントローラ121には、例えばタッチパネル等として構成された入出力装置122が接続されている。
(2)基板処理
上述の基板処理装置を用い、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板上に膜を形成するプロセス例について、図5および図6を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
本明細書において「ウエハ」という言葉を用いた場合は、「ウエハそのもの」を意味する場合や、「ウエハとその表面に形成された所定の層や膜等との積層体(集合体)」を意味する場合、すなわち、表面に形成された所定の層や膜等を含めてウエハと称する場合がある。また、本明細書において「ウエハの表面」という言葉を用いた場合は、「ウエハそのものの表面(露出面)」を意味する場合や、「ウエハ上に形成された所定の層や膜等の表面、すなわち、積層体としてのウエハの最表面」を意味する場合がある。
(搬入ステップ:S1)
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
(圧力・温度調整ステップ:S2)
処理室201の内部、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。真空ポンプ246は、少なくとも後述する改質処理が終了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。
(成膜ステップ:S3,S4,S5,S6)
その後、ステップS3,S4,S5,S6を順次実行することで成膜ステップを行う。
ステップS3では、処理室201内のウエハ200に対してBTBASガスを供給する。なお、このステップS3を原料供給ステップS3と称してもよい。
成膜処理が終了した後、処理室201内のウエハ200に対して反応ガスとしてのプラズマ励起させたO2ガスを供給する(S5)。なお、このステップS5を反応体(リアクタント)供給ステップS5と称してもよい。
上述したS3,S4,S5,S6をこの順番に沿って非同時に、すなわち、同期させることなく行うことを1サイクルとし、このサイクルを所定回数(n回)、すなわち、1回以上行うことにより、ウエハ200上に、所定組成および所定膜厚のSiO膜を形成することができる。図6に上述のサイクルを複数回繰り返す基板処理プロセスのタイムチャートを示す。最上段がアミノシラン原料(BTBAS)、第2段が酸化剤(O2)、第3段が不活性ガス(N2)、第4段が高周波電力(マイクロ波電力)の各々のオン、オフの状態を示す。上述のサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiO層の厚さを所望の膜厚よりも小さくし、SiO層を積層することで形成されるSiO膜の膜厚が所望の膜厚になるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すことが好ましい。
(大気圧復帰ステップ:S8)
上述の成膜処理が完了したら、バルブ243bを閉じ、O2ガスの供給を停止する。また、バッファ室237への高周波電力(マイクロ波電力)の供給を停止する。そして、バルブ243c,243dを開き、ガス供給管232c,232dのそれぞれから不活性ガスとしてのN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。これにより、処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するO2ガス等が処理室201内から除去される(不活性ガスパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰:S8)。
(搬出ステップ:S9)
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、マニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出されることとなる(ウエハディスチャージ)。なお、ウエハディスチャージの後は、処理室201内へ空のボート217を搬入するようにしてもよい。
(3)本実施形態による効果
本実施形態によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
(a)マイクロ波による表面波プラズマを用いた縦型基板処理装置とすることにより、基板処理温度の低温化ニーズに対応した基板処理技術を提供することができる。
(b)マイクロ波による表面波プラズマを用いることにより、電子温度を低くできるためウエハへのダメージを低減でき、良質の膜を形成できる。また、電子温度を低くできるため反応管やバッファ室内壁でのスパッタを回避できる。
(c)導波管を反応管の長手方向(縦方向)に沿い円周に対しては部分的に配置することにより単純構造で均一なプラズマを生成できる。
(d)導波管を反応管の円周に対して部分的に配置することにより、導波管の外側にヒータを設けたホットウオール方式であっても、効率良く基板を加熱することができる。
(e)導波管を処理室の外側に設置することが可能となるため、処理室内の金属汚染を抑止できる。
(f)導波管をカーボンで構成することにより、金属汚染を抑止できる。また、仮に高温での基板処理が必要な場合であっても対応が可能となる。
(4)変形例
本実施形態における基板処理工程は、上述の態様に限定されず、以下に示す変形例のように変更することができる。
(変形例1)
第1の変形例について図7を用いて説明する。図7(a)は、構成要素が省略されている箇所もあるが基本的には図2と同様である。また、図7(b)は構成要素が省略されている箇所もあるが下記本変形例の特徴(導波管分割配置)を除き基本的には図1と同様である。また、同一符号は同一構成要素を示すため説明を省略した箇所もある。
(変形例2)
第2の変形例について図8を用いて説明する。なお、図8(a)は構成要素が省略されている箇所もあるが基本的には図2と同様である。また、図8(b)は構成要素が省略されている箇所もあるが下記本変形例の特徴(導波管分割配置)を除き基本的には図1と同様である。また、同一符号は同一構成要素を示すため説明を省略した箇所もある。
(変形例3)
第3の変形例について図9を用いて説明する。なお、図9は構成要素が省略されている箇所もあるが基本的には図2と同様である。また、全体構成は下記本変形例の特徴(バッファ室無)を除き基本的には図1と同様である。また、同一符号は同一構成要素を示すため説明を省略した箇所もある。
(変形例4)
第4の変形例について図10を用いて説明する。なお、図10(a)は構成要素が省略されている箇所もあるが基本的には図2と同様である。また、図10(b)は構成要素が省略されている箇所もあるが下記本変形例の特徴(導波管突出配置)を除き基本的には図1と同様である。また、同一符号は同一構成要素を示すため説明を省略した箇所もある。
<第2の実施形態>
また、本発明は、ウエハ200上に、原料ガスとして第1の実施形態で前述したSi含有ガスを用い、反応ガスとしてNH3ガスのような窒素(N)含有ガス(窒化ガス)を用い、シリコン窒化膜(Si3N4膜、以下、SiN膜と称する)を形成する場合においても、好適に適用可能である。
本発明の第2の実施形態では、反応ガスとして2種類の窒素含有ガスを用い、SiN膜を形成する場合について、図11を用いて説明する。なお、第1の実施形態(含む変形例)に記載され本実施例に未記載の事項は特段の理由が無い限り本実施形態にも適用することができる。なお、図11(a)は構成要素が省略されている箇所もあるが下記本実施形態の特徴(2種プラズマ源配置)を除き基本的には図2と同様である。また、図11(b)は構成要素が省略されている箇所もあるが下記本実施形態の特徴(2種プラズマ源設置)を除き基本的には図1と同様である。また、同一符号は同一構成要素を示すため説明を省略した箇所もある。
本実施の形態においては原料ガスとして、ウエハが配置された反応管203(処理室201)内にジクロロシラン(SiH2Cl2:DCS)ガスを導入し、ウエハをDCSガスに晒す(DCS供給:S3対応)。これにより、ウエハ上にシリコン含有層が形成される。DCSガスは、ガス供給管232aとノズル249a、或いはガス供給配管232bとノズル249bを用いて導入することもできるが、別のガス供給管とノズルを設置し、これを用いることもできる。ガス供給管を共用する場合にはガス供給管内の十分なパージが必要となるが、別のガス供給管を用いることにより、ガス供給管内における異種ガスの混入(汚染)を防止できる。なお、ヒータの温度は、ウエハの温度が、常温〜500℃の範囲内の温度であって、例えば400℃となるような温度に設定することが好ましい。ウエハの温度が500℃を超えると、ウエハ上に予め形成されているレジストパターンが、後述するステップ2b(O2ガス供給)を行った際等に酸化され、揮発してしまうことがある。また、ウエハの温度が低すぎると、ウエハ上に原料ガス(DCS)のガス分子層が形成され難くなり、実用的な成膜速度が得られなくなることがある。よって、ウエハの温度は、常温〜500℃の範囲内の温度であって、例えば400℃とするのが好ましい。
処理室201の内部の残留ガスを除去した後、ガス供給管232aのバルブ243aを開き、ガス供給管232a内に第1の反応ガスとしてのNH3ガスを流す。ガス供給管232a内を流れたNH3ガスは、MFC 241aにより流量調整される。流量調整されたNH3ガスは、ノズル249aのガス供給孔250aからバッファ室238内に供給される。このとき、電極330間に高周波電源305から高周波電力を印加することで、バッファ室238内に供給されたNH3ガスはプラズマ励起され、活性種としてガス供給孔から処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このときウエハに対して、プラズマで活性化されたNH3ガスが供給されることとなる(NH3 *供給:S5対応)。
反応ガスとしては、例えば、アンモニア(NH3)ガスの他、ジアゼン(N2H2)ガス、ヒドラジン(N2H4)ガス、N3H8ガス等の窒化水素系ガスや、これらの化合物を含むガス等を用いることができる。また、反応ガスとしては、トリエチルアミン((C2H5)3N、略称:TEA)ガス、ジエチルアミン((C2H5)2NH、略称:DEA)ガス、モノエチルアミン(C2H5NH2、略称:MEA)ガス等のエチルアミン系ガスや、トリメチルアミン((CH3)3N、略称:TMA)ガス、ジメチルアミン((CH3)2NH、略称:DMA)ガス、モノメチルアミン(CH3NH2、略称:MMA)ガス等のメチルアミン系ガス等を用いることができる。また、反応ガスとしては、トリメチルヒドラジン((CH3)2N2(CH3)H、略称:TMH)ガス等の有機ヒドラジン系ガス等を用いることができる。
(g)導波管が反応管の長手方向(縦方向)に複数個となるように分割することにより、縦方向のプラズマ分布を制御することができる。
(h)導波管を反応管の長手方向(縦方向)に分割し、各々の高周波電源の出力を制御することにより、縦方向のプラズマ分布を詳細に制御することができる。
(i)バッファ室を省略することにより、プラズマ強度が増大され、成膜速度を向上することができ、スループットを高めることができる。
(j)導波管をヒータで覆わず露出させることにより、導波管のメンテナンスを容易に実施することが可能となる。また、ヒータを小型化できるため基板処理装置の小型化を図ることができる。
(k)2種類以上のプラズマ源を設置することにより、成膜プロセスにて、ガス種により最適なプラズマ源を選択的に使用することができる。
(HCDS→NH3 *→O2 *)×n ⇒ SiON
(HCDS→C3H6→O2 *→NH3 *)×n ⇒ SiOCN
(HCDS→TEA→O2 *)×n ⇒ SiOC
(HCDS→C3H6→NH3 *)×n ⇒ SiCN
(HCDS→BCl3→NH3 *)×n ⇒ SiBN
(HCDS→C3H6→BCl3→NH3 *)×n ⇒ SiBCN
この場合、反応ガスとしての酸化剤には、上述した反応ガスを用いることができる。
(TDMAT→O2 *)×n ⇒ TiO
(TEMAH→O2 *)×n ⇒ HfO
(TEMAZ→O2 *)×n ⇒ ZrO
(TMA→O2 *)×n ⇒ AlO
(TMA→NH3 *)×n ⇒ AlN
すなわち、本発明は、半導体系膜や金属系膜を形成する処理を行った後の処理室201内をパージする場合に、好適に適用することができる。これらの成膜処理の処理手順、処理条件は、上述の実施形態や変形例に示す成膜処理と同様な処理手順、処理条件とすることができる。また、成膜処理を行った後に実施するパージ処理の処理手順、処理条件は、上述の実施形態や変形例に示すパージ処理と同様の処理手順、処理条件とすることができる。これらの場合においても、上述の実施形態と同様の効果が得られる。
本発明の一態様によれば、
基板保持具に多段に保持された複数の基板を処理する反応管と、
前記反応管内部に設置され、前記複数の基板を処理する反応ガスを供給するガス供給部と、
前記反応管の外壁に垂直方向に当設されて内部に電磁波が伝送されるとともに、前記外壁に当設される面に開口によって前記電磁波を供給する導波管と、前記導波管に接続され前記電磁波を生成する電磁波生成部とを有し、前記ガス供給部から供給された前記反応ガスを活性化させる第1のプラズマ生成部と、
を備える基板処理装置が提供される。
前記導波管は、前記ガス供給部の背面に位置する前記反応管の外壁に設置される付記1に記載の基板処理装置が提供される。
電力が供給されてプラズマを発生させる電極を有し、当該プラズマにより前記反応ガスと異なる反応ガスを活性化する第2のプラズマ生成部をさらに備える付記1または2に記載の基板処理装置が提供される。
前記第1のプラズマ生成部は、表面波プラズマ方式にてプラズマ生成を行うよう構成され、前記第2のプラズマ生成部は、CCP(容量結合プラズマ)方式にてプラズマ生成を行うよう構成される付記3に記載の基板処理装置が提供される。
前記導波管は少なくとも前記ガス供給部の数と同数設けられる付記1から4のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記第1のプラズマ生成部、窒素含有ガス、水素含有ガスまたは希ガスのいずれか1つまたは複数である付記1から5のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記導波管は、少なくとも耐熱性材料(カーボン)にて構成される付記1から6のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記反応管は石英などの誘電体で構成されている付記1から7のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記反応管と前記導波管の間には誘電体が設けられている付記1から7のいずれか1つに記載の基板処理装置。
前記反応管の外側には同心円状に設けられた加熱装置が備えられ、前記導波管は、前記反応管の径方向(水平方向)において前記加熱装置よりも外側へ突出している付記1から9のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記導波管の外側には、前記反応管と同心円状に設けられた加熱装置を有する付記1から10のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記ガス供給部は、反応ガスを供給するとともに前記反応ガスを一時的に溜めるバッファ室を備えた反応ガス供給部を有し、好ましくは、さらに、原料ガスを供給する原料ガス供給部を有する付記1から11のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
前記導波管は、前記反応管の長手方向(縦方向)において複数に分割されている付記1から12のいずれか1つに記載の基板処理装置が提供される。
分割された前記導波管は、それぞれ独立した高周波電源に接続されている付記13に記載の基板処理装置が提供される。
本発明の別の態様によれば、
複数の基板を反応管に搬入する工程と、
前記反応管に反応ガスを供給する工程と、
前記反応管の外壁に垂直方向に当設されて内部に電磁波が伝送されるとともに、前記外壁に当設される面に設けた開口によって前記電磁波を供給する導波管と、前記導波管に接続され前記電磁波を生成する電磁波生成部とを有する第1のプラズマ生成部によって前記処理ガスを活性化する工程と、
を有する半導体装置の製造方法、または基板処理方法が提供される。
前記原料ガスを供給する工程をさらに有し、
前記原料ガスを供給する工程と、前記反応ガスを供給する工程と、前記反応管の外壁面に当設されて内部を電磁波が伝送する導波管と前記電磁波を生成する電磁波生成部から構成された第1のプラズマ生成部によって前記反応ガスを活性化する工程とを1サイクルとし、複数サイクル繰り返すことを特徴とする付記15に記載の方法が提供される。
本発明の更に別の態様によれば、
複数の基板を反応管に搬入する手順と、
前記反応管に反応ガスを供給する手順と、
前記反応管の外壁に垂直方向に当設されて内部に電磁波が伝送されるとともに、前記外壁に当設される面に設けた開口によって前記電磁波を供給する導波管と、前記導波管に接続され前記電磁波を生成する電磁波生成部とを有する第1のプラズマ生成部によって前記処理ガスを活性化する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム、または、該プログラムを記憶可能な記録媒体が提供される。
前記原料ガスを供給する手順をさらに有し、
前記原料ガスを供給する手順と、前記反応ガスを供給する手順と、前記反応管の外壁面に当設されて内部を電磁波が伝送する導波管と前記電磁波を生成する電磁波生成部から構成された第1のプラズマ生成部によって前記反応ガスを活性化する手順とを1サイクルとし、複数サイクル繰り返すようにコンピュータに実行させる付記17に記載のプログラム、または、該プログラムを記憶可能な記録媒体が提供される。
Claims (6)
- 基板保持具に多段に保持された複数の基板を処理する反応管と、
前記反応管内部に設置され、前記複数の基板を処理する反応ガスを供給するガス供給部と、
前記反応管の外壁に当設される面に開口を有し、内部に伝送される電磁波を前記開口から前記反応管内へ供給する導波管と、前記導波管に接続され前記電磁波を生成する電磁波生成部とを有し、前記ガス供給部から供給された前記反応ガスを活性化させる第1のプラズマ生成部と、を備え、
前記導波管は、前記反応管の長手方向に沿い、前記反応管の円周に対しては部分的に配置される基板処理装置。 - 前記導波管は、前記ガス供給部の背面に位置する前記反応管の外壁に設置される請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記導波管は、内部が中空となるよう構成され、前記反応管の外壁面に当設されている壁面には前記開口として複数のスロットアンテナが設けられ、
前記反応管の外側に、前記反応管と同心円状に設けられた加熱装置を更に備える請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 電力が供給されてプラズマを発生させる電極を有し、当該プラズマにより前記反応ガスと異なる反応ガスを活性化する第2のプラズマ生成部をさらに備える請求項1から3のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記ガス供給部は、前記長手方向に沿って設けられて側面の複数のガス供給孔から前記反応ガスを供給するノズルと、前記反応ガスを一時的に溜めるバッファ室と、を備えた請求項2から4のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 複数の基板を反応管に搬入する工程と、
前記反応管に処理ガスを供給する工程と、
第1のプラズマ生成部によって、前記反応管の外壁に当設される面に開口を有する導波管の内部に、前記導波管に接続された電磁波生成部からの電磁波を伝送させて、前記開口から前記反応管内へ前記電磁波を供給し、前記処理ガスを活性化する工程と、を有し、
前記導波管は、前記反応管の長手方向に沿い、前記反応管の円周に対しては部分的に配置される半導体装置の製造方法。
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