JP6421490B2 - Can roll and sputtering apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、キャンロール、およびスパッタリング装置に関する。さらに詳しくは、成膜物質の付着を防止するために養生されたキャンロール、およびそのキャンロールを備えるスパッタリング装置に関する。   The present invention relates to a can roll and a sputtering apparatus. More particularly, the present invention relates to a can roll cured to prevent adhesion of a film forming substance and a sputtering apparatus including the can roll.

液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話等には、耐熱性樹脂フィルムの上に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板が用いられている。フレキシブル配線基板は、耐熱性樹脂フィルムの片面または両面に金属膜を成膜した金属膜付樹脂フィルムに対して、フォトリソグラフィーやエッチング等の薄膜技術によりパターニング処理を施すことによって得られる。近年、フレキシブル配線基板の配線パターンは、ますます微細化、高密度化する傾向にあり、これにともなって夾雑物を含まない高品質な金属膜付樹脂フィルムが求められている。   In a liquid crystal panel, a notebook computer, a digital camera, a mobile phone, and the like, a flexible wiring board in which a wiring pattern is formed on a heat resistant resin film is used. The flexible wiring board can be obtained by subjecting a resin film with a metal film, in which a metal film is formed on one side or both sides of a heat resistant resin film, to a patterning process by a thin film technique such as photolithography or etching. In recent years, the wiring pattern of a flexible wiring board has been increasingly miniaturized and densified, and accordingly, a high-quality resin film with a metal film that does not contain impurities is required.

金属膜付樹脂フィルムの製造方法として、金属箔を接着剤により耐熱性樹脂フィルムに貼り付ける方法（３層基板の製造方法）、金属箔に耐熱性樹脂溶液をコーティングした後に乾燥させる方法（キャスティング法）、耐熱性樹脂フィルムに真空成膜法単独で、または真空成膜法と湿式めっき法との併用で金属膜を成膜する方法（メタライジング法）等が知られている。   As a method for producing a resin film with a metal film, a method in which a metal foil is attached to a heat-resistant resin film with an adhesive (a method for producing a three-layer substrate), a method in which a metal foil is coated with a heat-resistant resin solution and then dried (casting method) ), A method of forming a metal film on a heat-resistant resin film by a vacuum film forming method alone or by using a combination of a vacuum film forming method and a wet plating method (metalizing method) and the like are known.

上記製造方法のうち、メタライジング法で利用される真空成膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等が挙げられる。例えば、特許文献１には、ポリイミド絶縁層上にクロムをスパッタリングしてクロム層を成膜した後、銅をスパッタリングして銅からなる導体層を形成する方法が記載されている。   Among the manufacturing methods, examples of the vacuum film forming method used in the metalizing method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and an ion beam sputtering method. For example, Patent Document 1 describes a method of forming a conductor layer made of copper by sputtering copper on a polyimide insulating layer to form a chromium layer and then sputtering copper.

また、特許文献２には、長尺樹脂フィルムに連続的に成膜するスパッタリング装置が開示されている。このスパッタリング装置には、ロールツーロールで搬送される長尺樹脂フィルムを巻き付けて冷却するクーリングローラ（キャンロールとも称される。）が備えられている。このようなスパッタリング装置を用いれば、連続的なメタライジング法による処理で金属膜付樹脂フィルムを製造することができる。   Patent Document 2 discloses a sputtering apparatus for continuously forming a film on a long resin film. This sputtering apparatus is provided with a cooling roller (also referred to as a can roll) that winds and cools a long resin film conveyed by roll-to-roll. If such a sputtering apparatus is used, the resin film with a metal film can be manufactured by the process by a continuous metalizing method.

ところで、上記のスパッタリング装置は、スパッタリングカソードに取り付けたターゲットにイオンをぶつけ、ターゲットを構成する粒子を叩き出して、その粒子（スパッタ粒子）を被成膜基材の表面に堆積させるものである。一部のスパッタ粒子は被成膜基材に向かわずに、それ以外の場所、例えばキャンロール自体に飛散してそこに付着する。これが剥離して製品である金属膜付樹脂フィルムを汚染するという問題がある。   By the way, the above sputtering apparatus strikes ions on a target attached to a sputtering cathode, knocks out particles constituting the target, and deposits the particles (sputtered particles) on the surface of the film formation substrate. Some of the sputtered particles do not go to the substrate to be deposited, but are scattered and adhered to other places, for example, the can roll itself. There exists a problem that this peels and contaminates the resin film with a metal film which is a product.

これに対して、特許文献３には、キャンロール等の支持体に被覆シートを貼り付けて、被成膜基材から外れて飛散したスパッタ粒子を、支持体に代えて被覆シートに付着させることが開示されている。成膜物質が付着した被覆シートを交換することで、製品の汚染を防止することができる。   On the other hand, in Patent Document 3, a covering sheet is attached to a support such as a can roll, and the sputtered particles scattered from the deposition target substrate are attached to the covering sheet instead of the support. Is disclosed. By exchanging the covering sheet to which the film-forming substance is adhered, it is possible to prevent the product from being contaminated.

特開平２−９８９９４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-98994 特開昭６２−２４７０７３号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-247073 特開２００６−７７２８６号公報JP 2006-77286 A

しかし、特許文献３の技術では、被覆シートの上に薄いフィルム状の基材が重ねられるため、被覆シートにシワが生じていると基材にもシワが生じ、成膜物質が不均一となる等、成膜品に悪影響を及ぼすという問題がある。しかも、円筒形のキャンロールの外周面に被覆シートをシワなく貼り付けることは現実的には困難であり、被覆シートの張り替えのたびに作業員は注意深い作業が要求され、多大な労力がかかる。   However, in the technique of Patent Document 3, since a thin film-like base material is stacked on the covering sheet, if the covering sheet is wrinkled, the base material is also wrinkled, and the film-forming substance becomes uneven. There is a problem of adversely affecting the film-formed product. In addition, it is practically difficult to attach the cover sheet to the outer peripheral surface of the cylindrical can roll without wrinkles, and each time the cover sheet is replaced, an operator is required to perform careful work, and a great deal of labor is required.

本発明は上記事情に鑑み、スパッタ粒子による汚染を防止でき、かつ、成膜品への悪影響を低減できるキャンロール、およびスパッタリング装置を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a can roll and a sputtering apparatus that can prevent contamination by sputtered particles and reduce adverse effects on a film-formed product.

第１発明のキャンロールは、スパッタリング法により帯状の被成膜基材に成膜するスパッタリング装置に設けられるキャンロールであって、キャンロール本体と、前記キャンロール本体の外周面であって、前記被成膜基材からはみ出る露出部分に巻回された養生帯と、を備え、前記養生帯は前記キャンロール本体の軸方向に分割された複数の帯からなり、前記複数の帯のうち前記被成膜基材側に配置される基材側帯は、その上に前記被成膜基材の縁が重なる位置に巻回されており、前記キャンロール本体の外周面に直接巻回されており、前記複数の帯のうち前記基材側帯に隣接する端側帯は、その縁が前記基材側帯の上に重ねられており、その縁が前記被成膜基材の縁から離れた位置に配置されていることを特徴とする。
第２発明のキャンロールは、第１発明において、前記基材側帯の幅寸法は、60mm以下であることを特徴とする。
第３発明のキャンロールは、第１または第２発明において、前記基材側帯は、伸縮性を有することを特徴とする。
第４発明のキャンロールは、第１、第２または第３発明において、前記基材側帯は、前記被成膜基材と同一素材で形成されていることを特徴とする。
第５発明のスパッタリング装置は、第１、第２、第３または第４発明のキャンロールを備えることを特徴とする。 The can roll of the first invention is a can roll provided in a sputtering apparatus for forming a film on a belt-shaped film forming substrate by a sputtering method, the can roll main body and the outer peripheral surface of the can roll main body, A curing band wound around an exposed portion that protrudes from the film-forming substrate, and the curing band is composed of a plurality of bands divided in the axial direction of the can roll body, and of the plurality of bands, The substrate side band disposed on the film forming substrate side is wound around the position where the edge of the film forming substrate overlaps, and is directly wound around the outer peripheral surface of the can roll body, Of the plurality of bands, an end side band adjacent to the base material side band has an edge superimposed on the base material side band, and the edge is disposed at a position away from the edge of the film formation substrate. It is characterized by.
The can roll of the second invention is characterized in that, in the first invention, a width dimension of the base material side band is 60 mm or less.
The can roll of the third invention is characterized in that, in the first or second invention, the base material side band has stretchability.
The can roll according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that, in the first, second, or third aspect , the base material side band is formed of the same material as the film formation base material.
A sputtering apparatus according to a fifth aspect is characterized by including the can roll according to the first, second, third, or fourth aspect.

第１発明によれば、キャンロール本体の露出部分に養生帯が巻回されているので、スパッタ粒子がキャンロール本体に付着することを防止でき、メンテナンス作業が容易である。また、養生帯は複数の帯からなるので、基材側帯を幅狭とすることができる。そのため、被成膜基材と重なる基材側帯をキャンロール本体の外周面にシワが生じることなく巻き付けることが容易であり、成膜品への悪影響を低減できる。また、基材側帯がキャンロール本体に直接巻回されるため、スパッタリング装置の運転中に基材側帯がズレにくく、成膜品への悪影響を低減できる。また、基材側帯とキャンロール本体との間に他の帯が挟まらないので、基材側帯は平坦な状態であり、シワが生じにくい。
第２発明によれば、基材側帯が十分に幅狭であるので、取り付け作業において基材側帯の端部を手で持って引き伸ばす際に、均等に力を加えることができる。そのため、基材側帯をキャンロール本体の外周面にシワが生じることなく密着させて巻き付けることが容易である。
第３発明によれば、前記基材側帯は伸縮性を有するので、長尺方向に引き伸ばすことができる。取り付け作業において基材側帯の端部を引っ張り、長尺方向に引き伸ばすようにして巻き付けることで、基材側帯をキャンロール本体の外周面にシワなく密着させることができる。
第４発明によれば、基材側帯と被成膜基材とは同一素材であるので、熱膨張率が同じであり、成膜品への悪影響を低減できる。
第５発明によれば、キャンロール本体の露出部分に養生帯が巻回されているので、スパッタ粒子がキャンロール本体に付着することを防止でき、メンテナンス作業が容易である。また、養生帯は複数の帯からなるので、基材側帯を幅狭とすることができる。そのため、被成膜基材と重なる基材側帯をキャンロール本体の外周面にシワが生じることなく巻き付けることが容易であり、成膜品への悪影響を低減できる。 According to the first invention, since the curing zone is wound around the exposed portion of the can roll body, it is possible to prevent the sputter particles from adhering to the can roll body, and the maintenance work is easy. Moreover, since a curing zone consists of a some belt | band | zone, a base material side belt | band | zone can be made narrow. Therefore, it is easy to wind the base material side band that overlaps the film formation target base material without causing wrinkles on the outer peripheral surface of the can roll body, and the adverse effect on the film-formed product can be reduced. Further, since the base material side band is wound directly around the can roll body, the base material side band is not easily displaced during the operation of the sputtering apparatus, and adverse effects on the film-formed product can be reduced. In addition, since no other band is sandwiched between the base material side band and the can roll main body, the base material side band is in a flat state and is not easily wrinkled.
According to the second aspect of the invention, since the base material side band is sufficiently narrow, it is possible to apply force evenly when holding and extending the end part of the base material side band by hand in the attaching operation. For this reason, it is easy to wind the base material side band in close contact with the outer peripheral surface of the can roll body without causing wrinkles.
According to the third aspect of the invention, the base material side band has stretchability and can be stretched in the longitudinal direction. By pulling the end of the base material side band in the attaching operation and winding it so as to extend in the longitudinal direction, the base material side band can be closely attached to the outer peripheral surface of the can roll body.
According to the fourth invention, since the base material side band and the film formation target substrate are the same material, they have the same coefficient of thermal expansion, and the adverse effect on the film-formed product can be reduced.
According to the fifth aspect , since the curing zone is wound around the exposed portion of the can roll main body, it is possible to prevent the sputter particles from adhering to the can roll main body, and the maintenance work is easy. Moreover, since a curing zone consists of a some belt | band | zone, a base material side belt | band | zone can be made narrow. Therefore, it is easy to wind the base material side band that overlaps the film formation target base material without causing wrinkles on the outer peripheral surface of the can roll body, and the adverse effect on the film-formed product can be reduced.

本発明の一実施形態に係るキャンロールの正面図である。It is a front view of the can roll concerning one embodiment of the present invention. 同キャンロールの養生帯等の取り付け方法の説明図である。It is explanatory drawing of the attachment methods, such as a curing zone of the can roll. 同キャンロールの養生帯等の取り付け方法の説明図である。It is explanatory drawing of the attachment methods, such as a curing zone of the can roll. スパッタリング装置の説明図である。It is explanatory drawing of a sputtering device.

つぎに、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
＜スパッタリング装置＞
図４に示すように、本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置Ａは、ロールツーロール方式で連続的に帯状の被成膜基材ｆを搬送しつつ、スパッタリング法により被成膜基材ｆに成膜して成膜品ｍｆを製造する装置であり、スパッタリングウェブコータとも称される。 Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
<Sputtering device>
As shown in FIG. 4, a sputtering apparatus A according to an embodiment of the present invention conveys a belt-shaped film-forming substrate f continuously by a roll-to-roll method, and forms a film-forming substrate f by a sputtering method. Is a device for producing a film-formed product mf, which is also referred to as a sputtering web coater.

スパッタリング装置Ａは、真空チャンバー１０内において、巻出ロール４１から巻取ロール４８に向かって搬送される被成膜基材ｆを、キャンロールＣに巻きつけて冷却しながらスパッタリング処理を施す。キャンロールＣは、スパッタリング処理により熱せられる被成膜基材ｆを冷却するため、内部に冷媒が循環している。本実施形態は、このキャンロールＣに特徴を有するので後に詳説する。   In the vacuum chamber 10, the sputtering apparatus A performs a sputtering process while winding the film-forming substrate f transported from the unwinding roll 41 toward the winding roll 48 around the can roll C and cooling it. Since the can roll C cools the film-forming substrate f heated by the sputtering process, a refrigerant circulates inside. Since the present embodiment is characterized by this can roll C, it will be described in detail later.

被成膜基材ｆとして長尺樹脂フィルムを用い、長尺樹脂フィルム上に導電膜を成膜することで成膜品ｍｆとして導電膜付樹脂フィルムを連続的に製造することができる。導電膜付樹脂フィルムとは、樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に導電膜が積層されたものである。導電膜には、銅薄膜等の金属膜のほか、合金膜、ＩＴＯ（錫添加インジウム酸化物）膜やＡＴＯ（錫添加アンチモン酸化物）膜等の導電性酸化物膜も含まれる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムのほか、ポリイミドフィルム等の耐熱性樹脂フィルムを用いることができる。特に、金属膜付樹脂フィルムに用いる耐熱性樹脂フィルムとしては、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルム等が好ましい。   By using a long resin film as the film-forming substrate f and forming a conductive film on the long resin film, a resin film with a conductive film can be continuously produced as the film-formed product mf. A resin film with a conductive film is obtained by laminating a conductive film on at least one surface of a resin film. In addition to a metal film such as a copper thin film, the conductive film includes an alloy film, a conductive oxide film such as an ITO (tin-added indium oxide) film and an ATO (tin-added antimony oxide) film. As the resin film, besides a polyethylene terephthalate film, a heat resistant resin film such as a polyimide film can be used. In particular, as a heat-resistant resin film used for a resin film with a metal film, polyimide film, polyamide film, polyester film, polytetrafluoroethylene film, polyphenylene sulfide film, polyethylene naphthalate film, liquid crystal polymer film Etc. are preferred.

真空チャンバー１０には、図示しないドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオコイル等の種々の装置が備えられている。真空チャンバー１０内を1×10-4Pa程度まで減圧した後、アルゴンガスや目的に応じて添加される酸素ガス等のスパッタリングガスを導入して0.1〜10Pa程度まで圧力調整される。真空チャンバー１０の形状や素材は、上記減圧状態に耐え得るものであれば特に限定されない。 The vacuum chamber 10 is provided with various devices such as a dry pump, a turbo molecular pump, and a cryocoil (not shown). After reducing the pressure in the vacuum chamber 10 to about 1 × 10 −4 Pa, the pressure is adjusted to about 0.1 to 10 Pa by introducing a sputtering gas such as argon gas or oxygen gas added according to the purpose. The shape and material of the vacuum chamber 10 are not particularly limited as long as the vacuum chamber 10 can withstand the reduced pressure state.

真空チャンバー１０内には、上記巻出ロール４１、巻取ロール４８、およびキャンロールＣのほか、被成膜基材ｆの搬送経路を画定する各種のロールが設けられている。すなわち、真空チャンバー１０内には、フリーロール４２、４７、張力センサロール４３、４６、フィードロール４４、４５が設けられており、被成膜基材ｆはこれらのロールに巻回されている。   In the vacuum chamber 10, in addition to the unwinding roll 41, the winding roll 48, and the can roll C, various types of rolls that demarcate the transport path of the film formation substrate f are provided. That is, free rolls 42 and 47, tension sensor rolls 43 and 46, and feed rolls 44 and 45 are provided in the vacuum chamber 10, and the film-forming substrate f is wound around these rolls.

巻出ロール４１からキャンロールＣまでの搬送経路には、フリーロール４２、張力センサロール４３、フィードロール４４が設けられている。巻出ロール４１から巻き出された被成膜基材ｆは、フリーロール４２により案内され、張力センサロール４３により張力が測定され、フィードロール４４によりキャンロールＣに導入される。   In the conveyance path from the unwinding roll 41 to the can roll C, a free roll 42, a tension sensor roll 43, and a feed roll 44 are provided. The film-forming substrate f unwound from the unwinding roll 41 is guided by the free roll 42, the tension is measured by the tension sensor roll 43, and introduced into the can roll C by the feed roll 44.

また、キャンロールＣから巻取ロール４８からまでの搬送経路には、フィードロール４５、張力センサロール４６、フリーロール４７が設けられている。キャンロールＣ上でスパッタリング処理が施された成膜品ｍｆは、フィードロール４５により送り出され、張力センサロール４６により張力が測定され、フリーロール４７により案内されて、巻取ロール４８に巻き取られる。   A feed roll 45, a tension sensor roll 46, and a free roll 47 are provided on the conveyance path from the can roll C to the take-up roll 48. The film-formed product mf subjected to the sputtering process on the can roll C is sent out by the feed roll 45, the tension is measured by the tension sensor roll 46, guided by the free roll 47, and taken up by the take-up roll 48. .

キャンロールＣはモータ駆動により回転する。このキャンロールＣの周速度に対して、フィードロール４４、４５の回転数が調整されており、これによりキャンロールＣの外周面に被成膜基材ｆを密着させて搬送することができる。また、巻出ロール４１および巻取ロール４８は、パウダークラッチ等によりトルク制御が行われており、被成膜基材ｆの張力バランスが保たれている。   The can roll C rotates by driving the motor. The rotation speeds of the feed rolls 44 and 45 are adjusted with respect to the peripheral speed of the can roll C, whereby the film forming substrate f can be brought into close contact with the outer peripheral surface of the can roll C and conveyed. The unwinding roll 41 and the winding roll 48 are torque controlled by a powder clutch or the like, and the tension balance of the film-forming substrate f is maintained.

キャンロールＣの外周面に対向する位置には、被成膜基材ｆの搬送経路に沿って４つのスパッタリングカソード５１〜５４が設けられている。各スパッタリングカソード５１〜５４には、キャンロールＣの外周面に対向する面にターゲットが取り付けられており、ターゲットから叩き出されたスパッタ粒子が被成膜基材ｆの表面上に堆積して導電膜が成膜される。   At the position facing the outer peripheral surface of the can roll C, four sputtering cathodes 51 to 54 are provided along the conveyance path of the film forming substrate f. Each of the sputtering cathodes 51 to 54 has a target attached to the surface facing the outer peripheral surface of the can roll C, and sputtered particles sputtered from the target are deposited on the surface of the film-forming substrate f to conduct electricity. A film is formed.

例えば、搬送経路上流側のスパッタリングカソード５１にニッケル系合金のターゲットを取り付け、下流側のスパッタリングカソード５２〜５４に銅のターゲットを取り付けることで、被成膜基材ｆである長尺樹脂フィルムの表面にニッケル合金からなる下地金属層と、銅薄膜層とが積層された銅薄膜付樹脂フィルムｍｆを製造することができる。なお、下地金属層は、ニッケル合金のほか、クロム、ニッケルクロム合金、コンスタンタン、モネル等の金属や合金を用いることができる。その組成は金属膜付樹脂フィルムの電気絶縁性や耐マイグレーション性等の要求される特性に応じて選択される。   For example, by attaching a nickel alloy target to the sputtering cathode 51 on the upstream side of the conveyance path and attaching a copper target to the sputtering cathodes 52 to 54 on the downstream side, the surface of the long resin film that is the film formation substrate f A resin film mf with a copper thin film in which a base metal layer made of a nickel alloy and a copper thin film layer are laminated can be manufactured. In addition to the nickel alloy, the base metal layer can be made of a metal or alloy such as chromium, nickel-chromium alloy, constantan, or monel. The composition is selected according to required properties such as electrical insulation and migration resistance of the resin film with metal film.

上記のスパッタリング装置Ａを用いて、被成膜基材ｆに導電膜を成膜することで、成膜品ｍｆを製造することができる。なお、金属膜付樹脂フィルムの場合、金属膜をさらに厚くするには、金属膜付樹脂フィルムに湿式めっき処理を施して金属膜をさらに積層すればよい。湿式めっき処理を行う場合には、電気めっき処理のみで金属膜を形成してもよいし、無電解めっき処理と電解めっき処理と併用して金属膜を形成してもよい。また、金属膜付樹脂フィルムに対して、サブトラクティブ法等によりパターンニングすることによって、液晶テレビ、携帯電話等に使用されるフレキシブル配線基板が得られる。   Using the sputtering apparatus A, a film-formed product mf can be manufactured by forming a conductive film on the film-forming substrate f. In the case of a resin film with a metal film, in order to further increase the thickness of the metal film, the metal film may be further laminated by subjecting the resin film with a metal film to wet plating. When the wet plating process is performed, the metal film may be formed only by the electroplating process, or the metal film may be formed by using both the electroless plating process and the electrolytic plating process. Moreover, the flexible wiring board used for a liquid crystal television, a mobile telephone, etc. is obtained by patterning with a subtractive method etc. with respect to the resin film with a metal film.

＜キャンロール＞
つぎに、本実施形態の特徴部分であるキャンロールＣを説明する。
図１に示すように、キャンロールＣは、キャンロール本体１と、キャンロール本体１の外周面に巻回された養生帯２とを備える。キャンロール本体１は、円柱状のロールであり、内部に冷媒が循環している。キャンロール本体１の素材は特に限定されないが、例えばステンレス鋼で形成されており、表面は硬質クロムめっきが施されている。 <Can Roll>
Next, the can roll C which is a characteristic part of the present embodiment will be described.
As shown in FIG. 1, the can roll C includes a can roll main body 1 and a curing band 2 wound around the outer peripheral surface of the can roll main body 1. The can roll main body 1 is a cylindrical roll, and a refrigerant circulates therein. Although the raw material of the can roll main body 1 is not specifically limited, For example, it forms with stainless steel and the surface is hard-chrome plated.

キャンロール本体１の略中央部分には長尺樹脂フィルム等の被成膜基材ｆが巻回される。キャンロール本体１の幅寸法は被成膜基材ｆの幅寸法より大きく設定されているため、キャンロール本体１の両端部が露出する。この露出部分（被成膜基材ｆからはみ出る部分）に養生帯２が巻回されており、スパッタ粒子がキャンロール本体１に付着することを防止している。   A film-forming base material f such as a long resin film is wound around a substantially central portion of the can roll body 1. Since the width dimension of the can roll main body 1 is set larger than the width dimension of the film-forming substrate f, both end portions of the can roll main body 1 are exposed. The curing zone 2 is wound around this exposed portion (the portion protruding from the film-forming substrate f) to prevent the sputter particles from adhering to the can roll body 1.

養生帯２はキャンロール本体１の軸方向に分割された複数の帯からなる。本実施形態では、養生帯２は、被成膜基材ｆ側（キャンロール本体１中央側）に配置される基材側帯２１と、基材側帯２１に隣接し、キャンロール本体１端側に配置される端側帯２２との２本の帯からなる。これら基材側帯２１および端側帯２２は、キャンロール本体１の外周面に巻き付けられ、密着状態で貼り付けられている。   The curing zone 2 is composed of a plurality of zones divided in the axial direction of the can roll body 1. In this embodiment, the curing band 2 is adjacent to the substrate-side band 21 disposed on the film-forming substrate f side (center side of the can roll main body 1), the substrate side band 21, and on the end side of the can roll main body 1 It consists of two bands with the end side band 22 arranged. These base material side belt | band | zone 21 and the end side belt | band | zone 22 are wound around the outer peripheral surface of the can roll main body 1, and are affixed on the contact | adherence state.

養生帯２は２つの帯２１、２２からなるので、基材側帯２１を幅狭とすることができる。基材側帯２１の幅寸法は、40mm以上60mm以下とすることが好ましい。後述のごとく、基材側帯２１の幅寸法を60mm以下とすれば、十分に幅狭であるので、基材側帯２１の取り付け作業が容易となるからである。また、基材側帯２１の幅寸法を40mm以上とすれば、基材側帯２１と被成膜基材ｆとの重ね幅および端側帯２２との重ね幅を十分に確保できるからである。   Since the curing band 2 includes two bands 21 and 22, the base material side band 21 can be narrowed. The width dimension of the base material side band 21 is preferably 40 mm or more and 60 mm or less. This is because, as will be described later, if the width of the base material side band 21 is 60 mm or less, the width of the base material side band 21 is sufficiently narrow so that the work of attaching the base material side band 21 becomes easy. Further, if the width dimension of the base material side band 21 is set to 40 mm or more, the overlap width between the base material side band 21 and the film forming substrate f and the overlap width between the end side bands 22 can be sufficiently secured.

端側帯２２は、基材側帯２１とキャンロール本体１の端との間を覆う幅寸法を有することが好ましい。このような寸法の端側帯２２であれば、キャンロール本体１の露出部分の全体を覆うことができ、スパッタ粒子がキャンロール本体１に付着することを確実に防止できるからである。   The end side band 22 preferably has a width dimension that covers the space between the base side band 21 and the end of the can roll body 1. This is because the end side belt 22 having such dimensions can cover the entire exposed portion of the can roll body 1 and reliably prevent the sputtered particles from adhering to the can roll body 1.

基材側帯２１は、被成膜基材ｆの縁が重なる位置に巻回されている。そのため、基材側帯２１のキャンロール本体１中央寄りの縁部分には、その上に被成膜基材ｆの縁が重ねられる。この重ね幅は特に限定されないが、被成膜基材ｆの搬送の振れ幅よりも大きくすることが好ましい。例えば、重ね幅を10mmとすることが好ましい。そうすれば、被成膜基材ｆの搬送の振れによりキャンロール本体１の外周面が露出することを防止できる。   The substrate side band 21 is wound around a position where the edges of the film formation substrate f overlap. Therefore, the edge of the film-forming substrate f is superimposed on the edge portion of the substrate side band 21 near the center of the can roll body 1. Although the overlap width is not particularly limited, it is preferable to make the overlap width larger than the swing width of the film formation substrate f. For example, the overlapping width is preferably 10 mm. If it does so, it can prevent that the outer peripheral surface of the can-roll main body 1 is exposed by the shake of conveyance of the film-forming base material f.

基材側帯２１の素材は特に限定されないが、伸縮性を有する素材が好ましく、中でも被成膜基材ｆと同一素材がより好ましい。基材側帯２１として被成膜基材ｆと同じ樹脂フィルムを用いる場合には、ポリエチレンテレフタレートフィルムのほか、ポリイミドフィルム等の耐熱性樹脂フィルムを用いることができる。耐熱性樹脂フィルムとしては、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルム等が挙げられる。基材側帯２１の厚みは特に限定されないが、25〜75μmが好ましい。   Although the material of the base material side belt | band | zone 21 is not specifically limited, The raw material which has a stretching property is preferable, and the same material as the film-forming base material f is more preferable especially. When using the same resin film as the film formation base material f as the base material side band 21, in addition to a polyethylene terephthalate film, a heat resistant resin film such as a polyimide film can be used. Examples of the heat resistant resin film include polyimide films, polyamide films, polyester films, polytetrafluoroethylene films, polyphenylene sulfide films, polyethylene naphthalate films, liquid crystal polymer films, and the like. Although the thickness of the base material side belt | band | zone 21 is not specifically limited, 25-75 micrometers is preferable.

被成膜基材ｆが重なる基材側帯２１の熱膨張率が、被成膜基材ｆの熱膨張率と異なると成膜品ｍｆに悪影響を及ぼす場合がある。具体的には基材側帯２１の熱膨張率の方が小さい場合には、成膜品ｍｆの膨張の妨げとなり、成膜品ｍｆにシワが生じる可能性がある。また、基材側帯２１の熱膨張率の方が大きい場合には、成膜品ｍｆの物性に影響を与える可能性がある。しかし、基材側帯２１と被成膜基材ｆとを同一素材とすれば、これらの熱膨張率が同じとなるので、成膜品ｍｆへの悪影響を低減できる。   If the thermal expansion coefficient of the base material side band 21 on which the film formation target substrate f overlaps is different from the thermal expansion coefficient of the film formation target substrate f, the film formation product mf may be adversely affected. Specifically, when the coefficient of thermal expansion of the base material side band 21 is smaller, the film-formed product mf may be prevented from expanding, and the film-formed product mf may be wrinkled. Further, when the coefficient of thermal expansion of the base material side band 21 is larger, there is a possibility of affecting the physical properties of the film-formed product mf. However, if the base material side band 21 and the film formation base material f are made of the same material, their thermal expansion coefficients are the same, so that the adverse effect on the film-formed product mf can be reduced.

端側帯２２は、そのキャンロール本体１中央寄りの縁部分が、端側帯２２のキャンロール本体１端寄りの縁部分の上に重なるように、キャンロール本体１の外周面に巻回されている。そのため、基材側帯２１はキャンロール本体１との間に他の帯２２が挟まることなく、キャンロール本体１の外周面に直接巻回されている。端側帯２２のキャンロール本体１中央寄りの縁は、被成膜基材ｆの縁から、搬送の振れ幅よりも大きく離れた位置とすることが好ましい。すなわち、被成膜基材ｆの縁が、基材側帯２１にのみ重なり、端側帯２２には重ならないように設定される。   The end-side band 22 is wound around the outer peripheral surface of the can-roll body 1 so that the edge portion near the center of the can-roll body 1 overlaps the edge portion of the end-side band 22 near the end of the can-roll body 1. . Therefore, the base material side band 21 is directly wound around the outer peripheral surface of the can roll main body 1 without the other band 22 being sandwiched between the base material side band 21 and the can roll main body 1. It is preferable that the edge of the end side band 22 near the center of the can roll body 1 is located farther from the edge of the film formation substrate f than the swing width of the conveyance. That is, the edge of the film formation substrate f is set so as to overlap only the substrate side band 21 and not the end side band 22.

端側帯２２の素材は特に限定されないが、基材側帯２１と同様に伸縮性を有する素材が好ましく、中でも被成膜基材ｆと同一素材がより好ましい。なお、基材側帯２１と端側帯２２とは必ずしも同一素材とする必要はない。端側帯２２として安価な素材を用いることで、運転コストを低減できる。   Although the material of the end side belt | band | zone 22 is not specifically limited, The material which has a stretching property like the base material side belt | band | zone 21 is preferable, and the same material as the film-forming base material f is more preferable especially. The base material side band 21 and the end side band 22 are not necessarily made of the same material. The operation cost can be reduced by using an inexpensive material for the end side belt 22.

＜取り付け作業＞
つぎに、養生帯２の取り付け作業を説明する。
図２（Ａ）に示すように、まず、キャンロール本体１の外周面における被成膜基材ｆの縁が重なる位置に、基材側帯２１の一端を貼り付ける。そして、基材側帯２１をキャンロール本体１の外周面に少なくとも一周巻回させて、他端を貼り付ける。この際、基材側帯２１の他端を手で引っ張りながら巻き付ける。基材側帯２１を樹脂フィルム等の伸縮性を有する素材で形成すれば、基材側帯２１を長尺方向に引き伸ばすことができる。基材側帯２１の端部を手で引っ張り、長尺方向に引き伸ばすようにして巻き付けることで、基材側帯２１をキャンロール本体１の外周面にシワなく密着させることができる。 <Installation work>
Next, the attaching operation of the curing band 2 will be described.
As shown in FIG. 2A, first, one end of the base material side band 21 is attached to the position where the edge of the film formation base material f overlaps on the outer peripheral surface of the can roll body 1. And the base material side belt | band | zone 21 is wound at least once around the outer peripheral surface of the can-roll main body 1, and the other end is affixed. At this time, the other end of the base material side band 21 is wound while being pulled by hand. If the base material side belt | band | zone 21 is formed with the raw material which has elasticity, such as a resin film, the base material side belt | band | zone 21 can be extended in a elongate direction. By pulling the end of the base material side band 21 by hand and winding it so as to extend in the longitudinal direction, the base material side band 21 can be closely attached to the outer peripheral surface of the can roll main body 1.

基材側帯２１は幅狭であるので、基材側帯２１をキャンロール本体１の外周面にシワが生じることなく密着させて巻き付けることが容易である。特に、基材側帯２１の幅寸法を60mm以下とすれば、十分に幅狭であるので、その端部を手で持って引き伸ばす際に、均等に力を加えることができる。そのため、基材側帯２１をキャンロール本体１の外周面にシワが生じることなく密着させて巻き付けることがより容易となる。このように、基材側帯２１の巻き付け作業が容易であるので、作業員の技能によらず、基材側帯２１をシワなく貼り付けることができる。   Since the base material side belt | band | zone 21 is narrow, it is easy to make the base material side belt | band | zone 21 closely_contact | adhere to the outer peripheral surface of the can-roll main body 1, and to wind. In particular, if the width of the base material side band 21 is set to 60 mm or less, the width is sufficiently narrow. Therefore, when the end portion is held and stretched by hand, a force can be applied evenly. Therefore, it becomes easier to wind the base material side band 21 in close contact with the outer peripheral surface of the can roll body 1 without causing wrinkles. Thus, since the winding work of the base material side belt | band | zone 21 is easy, the base material side belt | band | zone 21 can be affixed without a wrinkle irrespective of a worker's skill.

基材側帯２１は、その一部が被成膜基材ｆに重ねられるので、シワが生じていると被成膜基材ｆの冷却が不均一となり、成膜された導電膜が不均一となる等、成膜品ｍｆに悪影響を及ぼす。しかし、上記のように基材側帯２１をキャンロール本体１の外周面にシワが生じることなく巻き付けることが容易であるので、被成膜基材ｆを均一に冷却でき、均一な導電膜ｍを成膜できる。このように、成膜品ｍｆへの悪影響を低減できる。   Since a part of the base material side band 21 is overlapped with the film formation base material f, if the wrinkles are generated, the cooling of the film formation base material f becomes non-uniform and the formed conductive film becomes non-uniform. This adversely affects the film-formed product mf. However, since it is easy to wind the base material side band 21 around the outer peripheral surface of the can roll body 1 as described above without causing wrinkles, the film forming base material f can be cooled uniformly, and the uniform conductive film m can be formed. A film can be formed. In this way, adverse effects on the film-formed product mf can be reduced.

図２（Ｂ）に示すように、基材側帯２１は、キャンロール本体１端寄りの縁がテープ３１でキャンロール本体１に貼り付けられる。テープ３１の種類は特に限定されないが、基材側帯２１と同一素材のテープ、例えばポリイミドテープを用いることが好ましい。テープ３１の貼り付け方は特に限定されないが、例えば、キャンロール本体１の直径が800mmである場合、長さが約50mmのテープ３１を複数用意し、それらをキャンロール本体１の周方向に沿って貼り付け、それらの間隔をキャンロール本体１の周方向に150〜200mm間隔とすればよい。   As shown in FIG. 2 (B), the base material side band 21 is attached to the can roll main body 1 with a tape 31 at the edge near the end of the can roll main body 1. Although the kind of tape 31 is not specifically limited, It is preferable to use the tape of the same material as the base material side belt | band | zone 21, for example, a polyimide tape. The method of attaching the tape 31 is not particularly limited. For example, when the diameter of the can roll main body 1 is 800 mm, a plurality of tapes 31 having a length of about 50 mm are prepared, and these are arranged along the circumferential direction of the can roll main body 1. The intervals between them may be 150 to 200 mm in the circumferential direction of the can roll body 1.

つぎに、図３（Ｃ）に示すように、基材側帯２１に一部が重なるように、端側帯２２の一端を貼り付ける。そして、端側帯２２をキャンロール本体１の外周面に少なくとも一周巻回させて、他端を貼り付ける。端側帯２２には被成膜基材ｆが重ならないので、シワが生じていたとしても成膜品ｍｆに悪影響を及ぼさない。そのため、端側帯２２はスパッタリング装置Ａの運転中に剥離しない程度に貼り付けられていればよい。   Next, as shown in FIG. 3C, one end of the end-side band 22 is pasted so that a part of the base-side band 21 overlaps. And the end side belt | band | zone 22 is wound at least once around the outer peripheral surface of the can-roll main body 1, and the other end is affixed. Since the film-forming substrate f does not overlap the end-side belt 22, even if wrinkles are generated, the film-formed product mf is not adversely affected. Therefore, the end side belt | band | zone 22 should just be affixed to such an extent that it does not peel during the driving | operation of sputtering apparatus A.

図３（Ｄ）に示すように、端側帯２２は、その両縁がテープ３２、３３で固定される。端側帯２２のキャンロール本体１中央寄りの縁がテープ３２で基材側帯２１に貼り付けられる。また、端側帯２２のキャンロール本体１端寄りの縁がテープ３３でキャンロール本体１の側面に貼り付けられる。テープ３２、３３の種類は特に限定されないが、基材側帯２１と同一素材のテープ、例えばポリイミドテープを用いることが好ましい。テープ３２、３３の貼り付け方は特に限定されない。例えば、キャンロール本体１の直径が800mmである場合、長さが約50mmのテープ３２を複数用意し、それらをキャンロール本体１の周方向に沿って貼り付け、それらの間隔をキャンロール本体１の周方向に150〜200mm間隔とすればよい。また、長さが約50mmのテープ３３を複数用意し、それらをキャンロール本体１の軸方向に沿って貼り付け、それらの間隔をキャンロール本体１の周方向に150〜200mm間隔とすればよい。なお、図１においてはテープ３１〜３３を省略している。   As shown in FIG. 3D, both ends of the end side band 22 are fixed with tapes 32 and 33. The edge of the end side band 22 near the center of the can roll body 1 is attached to the base side band 21 with the tape 32. Further, the edge of the end side band 22 near the end of the can roll main body 1 is attached to the side surface of the can roll main body 1 with the tape 33. The type of the tapes 32 and 33 is not particularly limited, but it is preferable to use a tape made of the same material as the base material side band 21, for example, a polyimide tape. The method for attaching the tapes 32 and 33 is not particularly limited. For example, when the diameter of the can roll main body 1 is 800 mm, a plurality of tapes 32 having a length of about 50 mm are prepared and pasted along the circumferential direction of the can roll main body 1, and the interval between them is set to the can roll main body 1. The interval may be 150 to 200 mm in the circumferential direction. Further, a plurality of tapes 33 having a length of about 50 mm are prepared, and they are pasted along the axial direction of the can roll main body 1 so that the interval between them is 150 to 200 mm in the circumferential direction of the can roll main body 1. . In FIG. 1, the tapes 31 to 33 are omitted.

上記のキャンロールＣを備えるスパッタリング装置Ａを用いてスパッタリング処理を行うと、スパッタリングカソード５１〜５４のターゲットから叩き出されたスパッタ粒子は、被成膜基材ｆの表面上に堆積する。また、被成膜基材ｆから外れて飛散したスパッタ粒子は、養生帯２に付着する。そのため、スパッタ粒子がキャンロール本体１に付着することを防止できる。   When the sputtering process is performed using the sputtering apparatus A including the above-described can roll C, the sputtered particles knocked out from the targets of the sputtering cathodes 51 to 54 are deposited on the surface of the deposition target substrate f. Further, the sputtered particles scattered off the deposition target substrate f adhere to the curing zone 2. Therefore, it is possible to prevent the sputtered particles from adhering to the can roll body 1.

成膜物質Ｍが付着した養生帯２を交換することで、成膜物質Ｍの除去を行うことができるのでメンテナンス作業が容易となる。しかも、剥離した成膜物質Ｍによる汚染のない高品質な成膜品ｍｆを製造できる。   Since the film forming material M can be removed by exchanging the curing zone 2 to which the film forming material M is adhered, the maintenance work is facilitated. Moreover, it is possible to manufacture a high-quality film-formed product mf that is free from contamination by the film-forming material M that has been peeled off.

なお、本実施形態では、基材側帯２１の上に端側帯２２が重なる配置としたが、端側帯２２の上に基材側帯２１が重なる配置としてもよい。しかし、基材側帯２１の上に端側帯２２が重なる配置とした方が、基材側帯２１がキャンロール本体１に直接固定されるため、スパッタリング装置Ａの運転中に基材側帯２１がズレにくく、成膜品ｍｆへの悪影響を低減できる。また、基材側帯２１とキャンロール本体１との間に他の帯が挟まらないので、基材側帯２１は平坦な状態であり、シワが生じにくい。   In the present embodiment, the end side band 22 overlaps the base material side band 21, but the base material side band 21 may overlap the end side band 22. However, since the base side band 21 is directly fixed to the can roll body 1 when the end side band 22 overlaps the base side band 21, the base side band 21 is less likely to be displaced during the operation of the sputtering apparatus A. The adverse effect on the film-formed product mf can be reduced. Further, since no other band is sandwiched between the base material side band 21 and the can roll main body 1, the base material side band 21 is in a flat state and is not easily wrinkled.

また、本実施形態では養生帯２は２つの帯２１、２２からなる構成としたが、３つ以上の帯からなる構成としてもよい。   Further, in the present embodiment, the curing band 2 is configured by the two bands 21 and 22, but may be configured by three or more bands.

（実施例１）
上記実施形態に係るスパッタリング装置Ａを用いて操業を行った。被成膜基材ｆから外れて飛散したスパッタ粒子は養生帯２に付着し、キャンロール本体１には付着しなかった。養生帯２を張り替えるメンテナンス作業の頻度は２回／月であった。また、キャンロール本体１を研磨する必要がないので、キャンロール本体１の消耗を抑えることができた。 Example 1
Operation was performed using the sputtering apparatus A according to the above embodiment. The sputtered particles scattered off the deposition target substrate f adhered to the curing zone 2 and did not adhere to the can roll body 1. The frequency of maintenance work to replace the curing zone 2 was 2 times / month. Moreover, since it is not necessary to grind the can roll main body 1, consumption of the can roll main body 1 could be suppressed.

（比較例１）
養生帯２を用いずにスパッタリング装置の操業を行った。被成膜基材ｆから外れて飛散したスパッタ粒子はキャンロール本体１に付着した。メンテナンス作業ではキャンロール本体１に付着したスパッタ粒子をラッピングフィルムで研摩処理した。メンテナンス作業の頻度は２〜３回／日であった。 (Comparative Example 1)
The sputtering apparatus was operated without using the curing zone 2. The sputtered particles scattered off the deposition target substrate f adhered to the can roll body 1. In the maintenance work, the sputtered particles adhering to the can roll body 1 were polished with a wrapping film. The frequency of maintenance work was 2-3 times / day.

以上より、実施例１は比較例１に比べてメンテナンス作業の頻度を大幅に低減できることが確認できた。これより、実施例１によれば、作業員の労力を低減できるとともに、操業効率を向上できることが分かった。   From the above, it was confirmed that Example 1 can significantly reduce the frequency of maintenance work as compared with Comparative Example 1. From this, according to Example 1, it turned out that a worker's labor can be reduced and operation efficiency can be improved.

Ａ スパッタリング装置
Ｃ キャンロール
１ キャンロール本体
２ 養生帯
２１ 基材側帯
２２ 端側帯
３１〜３３ テープ
１０ 真空チャンバー
４１ 巻出ロール
４２ フリーロール
４３ 張力センサロール
４４ フィードロール
４５ フィードロール
４６ 張力センサロール
４７ フリーロール
４８ 巻取ロール
５１〜５４ スパッタリングカソード A Sputtering apparatus C Can roll 1 Can roll body 2 Curing band 21 Base material side band 22 End side band 31 to 33 Tape 10 Vacuum chamber 41 Unwinding roll 42 Free roll 43 Tension sensor roll 44 Feed roll 45 Feed roll 46 Tension sensor roll 47 Free Roll 48 Winding roll 51-54 Sputtering cathode

Claims (5)

スパッタリング法により帯状の被成膜基材に成膜するスパッタリング装置に設けられるキャンロールであって、
キャンロール本体と、
前記キャンロール本体の外周面であって、前記被成膜基材からはみ出る露出部分に巻回された養生帯と、を備え、
前記養生帯は前記キャンロール本体の軸方向に分割された複数の帯からなり、
前記複数の帯のうち前記被成膜基材側に配置される基材側帯は、その上に前記被成膜基材の縁が重なる位置に巻回されており、前記キャンロール本体の外周面に直接巻回されており、
前記複数の帯のうち前記基材側帯に隣接する端側帯は、その縁が前記基材側帯の上に重ねられており、その縁が前記被成膜基材の縁から離れた位置に配置されている
ことを特徴とするキャンロール。 A can roll provided in a sputtering apparatus for forming a film on a belt-shaped film-forming substrate by a sputtering method,
The can roll body,
A curing zone wound around the exposed portion of the outer surface of the can roll body that protrudes from the film-forming substrate;
The curing band is composed of a plurality of bands divided in the axial direction of the can roll body,
Of the plurality of bands, the substrate-side band disposed on the film-forming substrate side is wound around a position where the edge of the film-forming substrate overlaps, and the outer peripheral surface of the can roll body Is wound directly on the
Of the plurality of bands, an end side band adjacent to the base material side band has an edge superimposed on the base material side band, and the edge is disposed at a position away from the edge of the film formation substrate. and has <br/> it can roll, characterized in. 前記基材側帯の幅寸法は、60mm以下である
ことを特徴とする請求項１記載のキャンロール。 Width of the base material side band, can roll as claimed in claim 1, wherein a is 60mm or less. 前記基材側帯は、伸縮性を有する
ことを特徴とする請求項１または２記載のキャンロール。 The can roll according to claim 1 or 2 , wherein the base material side belt has elasticity. 前記基材側帯は、前記被成膜基材と同一素材で形成されている
ことを特徴とする請求項１、２または３記載のキャンロール。 The can roll according to claim 1, 2 or 3, wherein the base material side band is formed of the same material as the film formation base material. 請求項１、２、３または４記載のキャンロールを備える
ことを特徴とするスパッタリング装置。 A sputtering apparatus comprising the can roll according to claim 1, 2, 3 or 4 .
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