JP6421117B2 - 酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤 - Google Patents
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Description
(1)非接触のマーキング方法であるため、任意の形状の基材に高速でマーキングを行うことができる、
(2)インクを使用しない為、マーキングが耐摩耗性に優れ、改ざんが困難であり、また有機溶剤等の揮発がないため低環境負荷である、という大きな特徴がある。
(ただし、0.01≦x≦0.3)
上記式中のxは、酸素欠陥量を表しており、0.01以上で且つ0.3以下、好ましくは0.01以上で且つ0.2以下、より好ましくは0.01以上で且つ0.1以下である。また、xは0.02以上で且つ0.2以下、好ましくは0.03以上で且つ0.1以下、より好ましくは0.04以上で且つ0.1以下であってもよい。
すなわち、上記式(1)中のO1s/Bi4fの範囲が1.35≦O1s/Bi4f≦1.495の場合、酸素欠陥量xの範囲は0.01≦x≦0.3であり、O1s/Bi4fの範囲が1.45≦O1s/Bi4f≦1.495の場合、酸素欠陥量xの範囲は、0.01≦x≦0.1である。
本発明によるレーザーマーキング用添加剤は、紫外可視近赤外反射スペクトルにおける拡散反射率から、上記式(2)によって算出される波長532nmにおける吸収率が20〜80%のものである。
で表される酸素欠陥型酸化ビスマスにおいて、式中の酸素欠陥量xが0.01より小さいと、添加剤自体のレーザー光照射による黒色への発色性が悪く、マーキング特性が良くない。また、式中の酸素欠陥量xが0.3より大きいと、得られた粉体は濃い灰色を呈して基材を着色するためマーキングの視認性が悪くなり、添加剤として実用上使用不可である。
合成例1
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム0.02g投入し、全体をディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.1MPaの減圧下にて、60℃で48時間乾燥させ、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム0.2g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥させ、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム2.0g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥させ、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム2.0g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.1MPaの減圧下にて、200℃で24時間乾燥させ、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム2.0g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.1MPaの減圧下にて、250℃で24時間乾燥させ、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム0.002g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、120℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム1.0g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ヒ゛スマスBi2O3を200g投入し、ディゾルバーにて攪拌しながら金属アルミニウム5.0gを5分間かけてゆっくり投入し、更に3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200g投入し、ディゾルバーにて攪拌しながら金属アルミニウム10.0gを10分間かけてゆっくり投入し、更に3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200g投入し、ディゾルバーにて攪拌しながら金属アルミニウム20.0gを20分間かけてゆっくり投入し、更に3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200g投入し、ディゾルバーにて攪拌しながら金属アルミニウム40.0gを30分間かけてゆっくり投入し、更に3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、150℃で24時間乾燥を行い、粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム0.01g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.04MPaの減圧下にて、60℃で48時間乾燥させ、酸化ビスマス粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200gと金属アルミニウム0.02g投入し、ディゾルバーにて3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、残渣を0.04MPaの減圧下にて、60℃で24時間乾燥させ、酸化ビスマス粉体を得た。
蒸留水1000mLに市販品酸化ビスマスBi2O3を200g投入し、ディゾルバーにて攪拌しながら金属アルミニウム10.0gを10分間かけてゆっくり投入し、更に3時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過した後、0.1MPaの減圧下にて、280℃で72時間乾燥を行い、粉体を得た。
市販の酸化ビスマスBi2O3粉体(平均粒子径:3μm)を用意した。
市販の三酸化アンチモン粉体を用意した。
市販のアンチモンをドープした二酸化錫(一次粒子径:20nm)粉体を用意した。
合成例1〜11、比較合成例1〜6で得られた各粉体について、下記の方法で、紫外可視近赤外反射スペクトルにおける波長1064nmにおける吸収率α1、波長532nmにおける吸収率α2、およびX線光電子分光法によるO1s/Bi4f、酸素欠陥量xを求めた。得られた値を表1に示す。
レスポンス:Fast
バンド幅:2.0nm
測定波長範囲:200nm〜2500nm
走査速度:400nm/min
得られた結果から、式:吸収率=100−拡散反射率(%)に従って、波長1064nmにおける吸収率および波長532nmにおける吸収率を算出した。
粉体自体の発色性の評価
合成例1〜11、比較合成例1〜6で得られた各粉体について、下記の方法で、粉体自身の発色性の評価を行った。評価結果を表1に示す。
実施例1
合成例1で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体を添加剤として高密度ポリエチレン樹脂に0.025PHR(樹脂100重量部に対する添加剤の重量部数)添加し、ペイントシェーカーにより10分間分散させた。得られた組成物を70℃で3時間乾燥させた後、射出成形機(日本製鋼所社製「JSW、J505A11」)を使用し、成形温度200℃で厚み3mmの板状成形物を作製した。
合成例2〜11で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体を添加剤として使用した以外、実施例1と同様の方法で板状成形物を作製した。
比較合成例1〜6の各粉体を添加剤として使用した以外、実施例1と同様の方法で板状成形物を作製した。
実施例1〜11、比較例1〜6で得られた板状成形物について、下記の方法で、樹脂への着色性およびレーザーマーキング特性を評価した。得られた結果を表2にまとめて示す。
板状成形物における樹脂への着色性を下記基準で目視にて評価した。
△:薄い灰色、
○:ほとんど着色なし。
板状成形板にYAGレーザー(日本電気社製「SL475K」)を照射し、同成形板を黒色に変色させて印字した。レーザー照射条件は、入力電流20A、送り速度500mm/秒、Q―sw周波数5kHzであった。
×:ほぼ印字不可(実施例1の黒度100に対して20未満)、
△:黒度不良(実施例1の黒度100に対して20以上80未満)、
○:黒度良(実施例1の黒度100に対して80以上90未満)、
◎:黒度非常に良(実施例1の黒度100に対して90以上)。
アクリル樹脂に、合成例1で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例1) 5部
酸化チタン 5部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターで塗布し、厚み5μmのアクリル系塗工層を形成した。
合成例2〜5で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体を添加剤として使用してアクリル系塗料組成物を得た以外、実施例12と同様の方法でアクリル系塗工層を形成した。
アクリル樹脂に、合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例2) 0.5部
酸化チタン 0.5部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターにて展色し、室温で乾燥させた。この操作を5回繰り返し、厚み750μmのアクリル系塗工層を形成した。
アクリル樹脂に、合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例2) 1.0部
酸化チタン 1.0部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターにて塗布し、室温で乾燥させた。この操作を3回繰り返し、厚み450μmのアクリル系塗工層を形成した。
アクリル樹脂に、合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例2) 10部
酸化チタン 10部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターにて塗布し、室温で乾燥させ、厚み5μmのアクリル系塗工層を形成した。
アクリル樹脂に、合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例2) 40部
酸化チタン 40部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターにて塗布し、室温で乾燥させ、厚み5μmのアクリル系塗工層を形成した。
アクリル樹脂に、合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマス粉体および酸化チタンを以下の割合で添加し、ガラスビーズを入れて全体をペイントシェーカーにより120分間分散させ、アクリル系塗料組成物を得た。
酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(合成例2) 90部
酸化チタン 10部
この塗料組成物をアート紙上にアプリケーターにて塗布し、室温で乾燥させ、厚み5μmのアクリル系塗工層を形成した。
実施例13にて調製したアクリル系塗料組成物を使用し、表3に記載する基材上に、実施例12と同様の方法でアクリル系塗工層を形成した。
比較合成例2の酸素欠陥型酸化ビスマス粉体(酸素欠陥量x:0.01未満)を添加剤として使用した以外、実施例12と同様の方法でアクリル系塗工層を形成した。
比較合成例4の酸化ビスマス粉体を添加剤として使用した以外、実施例12と同様の方法でアクリル系塗工層を形成した。
実施例12〜24、比較例7〜8で得られたアクリル系塗工層について、下記に示す方法にて、樹脂着色性およびレーザーマーキング特性を評価した。得られた評価結果を、使用したビスマス化合物の重量部、着色顔料の重量部、基材の種類と共に表3にまとめて示す。
アクリル系塗工層を作製した時のアクリル樹脂への着色度合い(基準を白色とした)を下記基準で目視にて評価した。
△:濃く着色された白色、
○:薄く着色された白色、
◎:ほぼ白色
(2)レーザーマーキング特性
アクリル系塗工層にYAGレーザー(日本電気社製「SL475K」)を照射し、アクリル系塗工層を変色させた。レーザー照射条件は、入力電流10A、送り速度1000mm/秒、Q―sw周波数5kHzであった。評価基準は下記の通りである。
合成例1で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 16.5部
ウレタン系ワニス 33.0部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例1) 20.0部
酸化チタン 10.0部
得られたウレタン系インクをアート紙上にアプリケーターにて展色し、50℃で乾燥し、厚み4μmのインク皮膜層を形成した。
合成例2〜5で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、実施例25と同様にして厚み4μmのインク皮膜層を作製した。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 20.9部
ウレタン系ワニス 41.8部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 0.5部
酸化チタン 0.3部
得られたウレタン系インクを、アート紙上にアプリケーターにて展色し、50℃で乾燥した。この操作を4回繰り返し、厚み750μmのインク皮膜層を得た。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 21.4部
ウレタン系ワニス 42.8部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 1.0部
酸化チタン 0.5部
得られたウレタン系インクを、アート紙上にアプリケーターにて展色し、50℃で乾燥した。この操作を3回繰り返し、厚み550μmのインク皮膜層を得た。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 18.5部
ウレタン系ワニス 37.1部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 10.0部
酸化チタン 5.0部
得られたウレタン系インクを、アート紙上にアプリケーターにて展色し、50℃で乾燥し、厚み150μmのインク皮膜層を得た。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 7.4部
ウレタン系ワニス 24.7部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 40.0部
酸化チタン 20.0部
その後、実施例25と同様の方法で厚み4μmのインク皮膜層を作製した。
合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 4.1部
ウレタン系ワニス 16.4部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例2) 59.8部
酸化チタン 12.0部
その後、実施例25と同様の方法で厚み4μmのインク皮膜層を作製した。
合成例2で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 1.6部
ウレタン系ワニス 8.2部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例2) 80.0部
酸化チタン 8.0部
その後、実施例25と同様の方法で厚み4μmのインク皮膜層を作製した。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合しガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
メチルエチルケトン 18.2部
アクリル系ワニス 33.4部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 18.0部
酸化チタン 9.0部
その後、実施例25と同様の方法で厚み4μmのインク皮膜層を作製した。
実施例27にて調製したインクを使用し、表4に記載する基材上に、実施例25と同様にインク皮膜層を作製した。
インク皮膜層の評価試験
実施例25〜39で得られたインク皮膜層に、YAGレーザーを照射し、インク皮膜層を変色させた。レーザー照射条件は、入力電流10A、レーザー出力10%、送り速度1000mm/秒、Q―sw周波数5kHzであった。
△:印字かすれ、
○:印字良、
◎:鮮明な印字
実施例40
実施例27にて作製したインク皮膜層上面に、平版インク用ワニス(昭和ワニス社製「SOV322」)をバーコータ(R.D.Sラボラトリー・コーティング・ロッド、ROD No.3)にて塗布し、100℃で乾燥させ、インク皮膜層上面に保護層を形成した。このようにして、インク皮膜層と保護層からなる多層体を作製し、実施例25と同様の評価基準で多層体のレーザーマーキング特性を評価した。レーザー照射条件は、入力電流11A、送り速度1000mm/秒、Q―sw周波数7kHzであった。評価結果を表4に示す。
実施例37〜39にて作製したインク皮膜層上面に、平版インク用ワニスをバーコータにて塗布し、100℃で乾燥させ、インク皮膜層上面に保護層を形成した。このようにして、インク皮膜層と保護層からなる多層体を作製し、実施例25と同様の評価基準で多層体のレーザーマーキング特性を評価した。レーザー照射条件は、入力電流11A、送り速度1000mm/秒、Q―sw周波数7kHzであった。評価結果を表4に示す。
比較合成例2の酸素欠陥型酸化ビスマス(酸素欠陥量x:0.01未満)を添加剤として使用した以外、実施例25と同様の方法で、インク皮膜層の作製およびレーザーマーキング特性の評価を行った。評価結果を表4に示す。
比較合成例4の酸化ビスマスを添加剤として使用した以外、実施例25と同様の方法で、インク皮膜層の作製およびレーザーマーキング特性の評価を行った。評価結果を表4に示す。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記成分を配合し、ガラスビーズを入れてペイントコンディショナーで120分かけて各成分を分散させ、ウレタン系インクを調製した。
酢酸エチル 20.0部
ウレタン系ワニス 30.0部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 20.0部
酸化チタン 10.0部
紫外線吸収剤(TINUVIN 111FDL) 2.0部
得られた印刷インクを用いて、版深35μmのグラビアプレートを備えた簡易グラビア印刷機により、両表面コロナ処理した延伸ポリプロピレンフィルム(OPPフィルム)の片面に、乾燥後の厚みが3μmになるように、グラビア印刷を施して、インクを50℃で乾燥し、グラビア印刷フィルムを得た。
△:印字かすれ、
○:印字良、
◎:鮮明な印字
実施例45
実施例44にて作製したグラビア印刷フィルムの印刷面上に、2液型ポリウレタン系接着剤をその厚みが3μmになるように塗布し、この塗布面に市販のラミネーターにより60μmのポリエチレンフィルムを重ね合わせ、ラミネートフィルムを作製した。
合成例3で得られた酸素欠陥型酸化ビスマスを添加剤として用いて、下記の配合成分を三本ロールで三回パスすることで、ロジン変性フェノール樹脂系印刷インクを調製した。
ロジン変性フェノール系ワニス 46.0部
顔料分散剤(DiSPERBYK−180) 1.0部
酸素欠陥型酸化ビスマス(合成例3) 20.0部
酸化チタン 30.0部
ナフテン酸コバルト 0.50部
ナフテン酸マンガン 0.50部
紫外線吸収剤(TINUVIN 111FDL) 2.0部
得られた印刷インク30ccを、版銅、ブランケットおよび圧銅からなる簡易なオフセット印刷機(RIテスター)のブランケット部に載せ、アート紙上に、乾燥後の厚みが5μmになるよう、オフセット印刷を施して、インクを100℃で5分間乾燥し、オフセット印刷物を得た。
実施例46にて作製したオフセット印刷物上に、水性ニスを厚みが3μmになるようにロールコータで塗布し、実施例44と同様の評価基準でレーザーマーキング特性を評価した。
Claims (10)
- 一般式 Bi2O(3−x)
(ただし、xは0.01以上で且つ0.3以下である)
で表される酸素欠陥型酸化ビスマスからなることを特徴とするレーザーマーキング用添加剤。
[上記一般式中、xは、X線光電子分光法により得られるビスマスの4f電子に帰属されるピークの面積に対する、ビスマスと結合している酸素の1s電子に帰属されるピークの面積の比(O1s/Bi4f)から、下記式(1)
x=3−O1s/Bi4f×2・・・・・(1)
に従って算出される酸素欠陥量を示す。] - 紫外可視近赤外反射スペクトルにおける拡散反射率から下記式(2)によって算出される波長1064nmにおける吸収率α1が20〜80%である、請求項1に記載のレーザーマーキング用添加剤。
吸収率 =100−拡散反射率(%)・・・・・(2) - 紫外可視近赤外反射スペクトルにおける拡散反射率から下記式(2)によって算出される波長532nmにおける吸収率α2が20〜80%である、請求項1に記載のレーザーマーキング用添加剤。
吸収率 =100−拡散反射率(%)・・・・・(2) - 酸化ビスマス、あるいは熱を加えることにより酸化物となるビスマス化合物と、金属アルミニウムとを前者に対する後者の割合0.001〜20重量%で乾式または湿式で混合する工程と、得られた混合物を大気圧より0.05MPa以上低い減圧下にて60〜400℃で加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーマーキング用添加剤の製造方法。
- 酸化ビスマス、あるいは熱を加えることにより酸化物となるビスマス化合物に対する金属アルミニウムの割合が0.1〜5重量%であることを特徴とする請求項4に記載のレーザーマーキング用添加剤の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーマーキング用添加剤を0.01〜30重量%含有することを特徴とするレーザーマーキング用成形物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーマーキング用添加剤を0.1〜90重量%含有することを特徴とするレーザーマーキング用インク。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーマーキング用添加剤が、雲母薄片、金属酸化物で被覆された雲母薄片、SiO2フレークおよびガラスフィラーからなる群から選ばれた基質に被覆されているか、または該添加剤と該基質の混合物形態を成すことを特徴とする請求項7に記載のレーザーマーキング用インク。
- 請求項7または8に記載のレーザーマーキング用インクからなる層で、基材の少なくとも片面が被覆されて成ることを特徴とするレーザーマーキング用インク皮膜層。
- 基材上に設けられた請求項7または8に記載のレーザーマーキング用インクからなるインク皮膜層と、該インク皮膜層の上に設けられた透明な表面保護層とからなることを特徴とするレーザーマーキング用多層体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013106232 | 2013-05-20 | ||
JP2013106232 | 2013-05-20 | ||
PCT/JP2014/060897 WO2014188828A1 (ja) | 2013-05-20 | 2014-04-17 | 酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014188828A1 JPWO2014188828A1 (ja) | 2017-02-23 |
JP6421117B2 true JP6421117B2 (ja) | 2018-11-07 |
Family
ID=51933392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015518159A Active JP6421117B2 (ja) | 2013-05-20 | 2014-04-17 | 酸化ビスマス系レーザーマーキング用添加剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9637651B2 (ja) |
EP (1) | EP3000553B1 (ja) |
JP (1) | JP6421117B2 (ja) |
CN (1) | CN105246638B (ja) |
WO (1) | WO2014188828A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013016932A1 (de) * | 2013-10-11 | 2015-04-30 | Merck Patent Gmbh | Pigmente |
DE102014000359A1 (de) * | 2014-01-16 | 2015-07-30 | Merck Patent Gmbh | Pigmente |
JP6698274B2 (ja) * | 2014-12-25 | 2020-05-27 | 大日本印刷株式会社 | レーザ印字用多層フィルム |
JPWO2018101123A1 (ja) * | 2016-12-01 | 2018-11-29 | Dicグラフィックス株式会社 | レーザーマーキング用インキ組成物 |
EP3363649A1 (en) * | 2017-02-20 | 2018-08-22 | Clariant Plastics & Coatings Ltd | Antimony free composition for laser marking thermoplastic compounds |
JP6292429B1 (ja) * | 2017-08-21 | 2018-03-14 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 粘着剤および粘着シート |
JP6966907B2 (ja) * | 2017-09-15 | 2021-11-17 | リンテック株式会社 | 粘着フィルム |
CN108864806A (zh) * | 2018-07-13 | 2018-11-23 | 新东方油墨有限公司 | 一种液态感光阻焊激光标记油墨及其制造和使用方法 |
CN110947107A (zh) * | 2018-09-26 | 2020-04-03 | 西安大医集团有限公司 | 验证模体及验证方法 |
CN109868008A (zh) * | 2019-03-25 | 2019-06-11 | 刘应良 | 一种激光标记油墨 |
KR20220041783A (ko) * | 2019-07-31 | 2022-04-01 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 레이저 발색성 다층 필름, 당해 다층 필름을 구비한 플라스틱 카드용 적층체, 및, 전자 패스포트용 적층체, 당해 다층 필름을 구비한 패스포트 등, 및, 당해 다층 필름을 패스포트 등으로서 이용하는 방법 |
CN114502480B (zh) | 2019-10-25 | 2024-04-30 | 东洋纺株式会社 | 能够激光印字的膜及使用了该膜的包装体 |
CN114846059B (zh) * | 2019-12-20 | 2024-04-26 | 东洋纺株式会社 | 能够激光印字的膜及使用了该膜的包装体 |
WO2021215348A1 (ja) | 2020-04-24 | 2021-10-28 | 東洋紡株式会社 | レーザー印字された表示材料およびそれを用いた包装体 |
EP3904112A1 (en) | 2020-04-29 | 2021-11-03 | Fa-Tech Diagnostics Italia S.R.L. | Process for the inscription of glass microscope slides and glass microscope slides obtained thereby |
CN111822886B (zh) * | 2020-06-11 | 2022-11-22 | 华东师范大学重庆研究院 | 一种微流控芯片微通道的多焦点超快激光制备装置及方法 |
EP4227928A1 (en) | 2020-10-12 | 2023-08-16 | Toyobo Co., Ltd. | Laser-printed display body and packaging |
WO2022196397A1 (ja) | 2021-03-17 | 2022-09-22 | 東洋紡株式会社 | レーザー印字された積層表示体 |
CN114058176B (zh) * | 2021-08-24 | 2023-05-02 | 广东思汗新材料有限公司 | 一种激光打标耐老化尼龙玻纤增强阻燃复合材料 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5080718A (en) * | 1989-02-23 | 1992-01-14 | Engelhard Corporation | Inorganic pigments of the empirical formula Ax By Cz |
DE3917294A1 (de) | 1989-05-27 | 1990-11-29 | Huels Chemische Werke Ag | Mit laserlicht beschriftbare hochpolymere materialien |
JP2873249B2 (ja) | 1990-11-28 | 1999-03-24 | 日本ペルノックス株式会社 | レーザー光線の照射で黒色にマーキング可能な樹脂組成物 |
DE4415802A1 (de) | 1994-05-05 | 1995-11-09 | Merck Patent Gmbh | Lasermarkierbare Kunststoffe |
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JP4582387B2 (ja) | 2003-08-29 | 2010-11-17 | 東罐マテリアル・テクノロジー株式会社 | レーザーマーキング用材料 |
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JP2006150155A (ja) | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置 |
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US8530785B2 (en) * | 2005-08-02 | 2013-09-10 | Merck Patent Gmbh | Method for laser-marking and an article marked by such method |
JP2009083152A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Spinet Inc | 光記録媒体 |
EP2050720A1 (de) * | 2007-10-16 | 2009-04-22 | Mondi Business Paper Services AG | Laser- und thermisch beschreibbare Oberflächenbeschichtung für Materialien |
JP5028213B2 (ja) | 2007-10-24 | 2012-09-19 | 東罐マテリアル・テクノロジー株式会社 | レーザーマーキング用添加剤 |
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JP5233565B2 (ja) | 2008-10-08 | 2013-07-10 | 株式会社ニコン | 光学ガラス部材のマーキング形成方法及びマーキング付光学ガラス部材 |
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CN102356131B (zh) | 2009-03-18 | 2014-12-10 | 默克专利股份有限公司 | 用于激光标记的颜料 |
CN101565204B (zh) * | 2009-05-27 | 2010-10-27 | 北京科技大学 | 一种高比表面积多孔氧化铋粉体的制备方法 |
JP5500403B2 (ja) | 2009-10-29 | 2014-05-21 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | レーザーマーキング用添加剤 |
JP2012131885A (ja) | 2010-12-21 | 2012-07-12 | Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd | レーザー記録用インキ組成物、記録用積層体および記録体 |
-
2014
- 2014-04-17 CN CN201480029134.4A patent/CN105246638B/zh active Active
- 2014-04-17 WO PCT/JP2014/060897 patent/WO2014188828A1/ja active Application Filing
- 2014-04-17 JP JP2015518159A patent/JP6421117B2/ja active Active
- 2014-04-17 EP EP14801793.2A patent/EP3000553B1/en active Active
- 2014-04-17 US US14/892,577 patent/US9637651B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3000553A4 (en) | 2017-02-01 |
US9637651B2 (en) | 2017-05-02 |
EP3000553B1 (en) | 2019-10-02 |
CN105246638B (zh) | 2017-01-25 |
EP3000553A1 (en) | 2016-03-30 |
CN105246638A (zh) | 2016-01-13 |
WO2014188828A1 (ja) | 2014-11-27 |
US20160168399A1 (en) | 2016-06-16 |
JPWO2014188828A1 (ja) | 2017-02-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20170310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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