JP6411734B2 - Mold for glass optical element blank for polishing, glass optical element blank for polishing, and method for producing optical element - Google Patents

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Description

本発明は、研磨用ガラス光学素子ブランク用成形型、並びに、研磨用ガラス光学素子ブランクおよび光学素子の製造方法に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polishing glass optical element blank mold, and a polishing glass optical element blank and a method for manufacturing an optical element.

近年、光学素子の多様化および広範化に伴い、ガラス製の光学素子の需要が高まってきている。   In recent years, with the diversification and widening of optical elements, the demand for glass optical elements has increased.

光学レンズ等のガラス光学素子の成形方法としては、軟化させたガラスをプレスして成形する、プレス成形法が知られている。このようなプレス成形法を大別すると、ダイレクトプレス成形法、リヒートプレス成形法、および精密プレス成形法（モールドプレス成形法とも呼ばれる）の３つの方法が挙げられる。   As a method for molding a glass optical element such as an optical lens, a press molding method is known in which softened glass is pressed and molded. Such press molding methods are roughly classified into three methods: a direct press molding method, a reheat press molding method, and a precision press molding method (also referred to as a mold press molding method).

これらの成形方法のうちダイレクトプレス成形法とリヒートプレス成形法は、軟化したガラス素材を短時間でプレス成形して、目的とする光学素子形状に近似した光学素子ブランクを形成し、その後、その光学素子ブランクを研削・研磨して光学素子に仕上げる方法である。一方、精密プレス成形法は、精密加工された成形面形状を、非酸化雰囲気中で軟化したガラスに転写することで、目的とする光学素子を形成する方法であり、この方法では成形品の研削・研磨は不要である。   Among these molding methods, the direct press molding method and the reheat press molding method press-mold a softened glass material in a short time to form an optical element blank that approximates the target optical element shape, and then the optical In this method, an element blank is ground and polished to finish an optical element. On the other hand, the precision press molding method is a method of forming a target optical element by transferring a precisely processed molding surface shape to glass softened in a non-oxidizing atmosphere. In this method, grinding of a molded product is performed. -Polishing is unnecessary.

特に、リヒートプレス成形法は、プレス成形を大気雰囲気中で行うことができ、比較的高価な設備を必要としないことから、従来から広く用いられている（特許文献１）。しかし、この方法では、以下のような問題がある。   In particular, the reheat press molding method has been widely used since press molding can be performed in an air atmosphere and a relatively expensive facility is not required (Patent Document 1). However, this method has the following problems.

通常、リヒートプレス成形は、鋳鉄などの金属材料で構成される成形型を用いて、大気雰囲気下で行われる。その際、成形型の成形面は、高温で、大気や軟化したガラス素材と直接接触することになる。そのため、大気中の酸素やガラス素材を構成するガラス成分と、成形面を構成する材料（鋳鉄などの金属材料）とが反応して、成形面が化学的に劣化し易くなる。   Usually, reheat press molding is performed in an air atmosphere using a molding die made of a metal material such as cast iron. At that time, the molding surface of the mold is brought into direct contact with the air or a softened glass material at a high temperature. Therefore, oxygen in the atmosphere and a glass component constituting the glass material react with a material (metal material such as cast iron) constituting the molding surface, and the molding surface is likely to be chemically deteriorated.

また、リヒートプレス成形では、軟化したガラス素材を成形型で押圧することにより、所定の形状を有した成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク）を形成する。その際、軟化したガラスが成形面に融着することがある。特に、リヒートプレス成形を繰り返していくと、成形面の化学的な劣化が進むため、成形面へのガラスの融着が助長される傾向にある。   In reheat press molding, a softened glass material is pressed with a molding die to form a molded body (polishing glass optical element blank) having a predetermined shape. At that time, the softened glass may be fused to the molding surface. In particular, when the reheat press molding is repeated, the chemical degradation of the molding surface proceeds, so that the fusion of the glass to the molding surface tends to be promoted.

このような成形面へのガラスの融着は、離型性の悪化や、成形面の物理的な劣化を招く。すなわち、成形面へのガラスの融着が起こると、プレス成形後の成形体を成形型から分離できなくなる、あるいは、成形体を離型できても、離型後の成形面に融着したガラスが残存して成形面の凹凸の原因となることがある。このような場合には、同じ成形型を継続的に使用できないため、連続的なプレス工程を中断して、頻繁に成形面のメンテナンスや成形型の交換を行う必要がある。   Such fusion of the glass to the molding surface causes deterioration of releasability and physical degradation of the molding surface. In other words, when the glass is fused to the molding surface, the molded product after press molding cannot be separated from the molding die, or even if the molded product can be released, the glass is fused to the molded surface after mold release. May remain and cause unevenness of the molding surface. In such a case, since the same mold cannot be used continuously, it is necessary to interrupt the continuous pressing process and frequently perform maintenance of the molding surface and replacement of the mold.

このように、リヒートプレス成形では、成形型（特に成形面）の寿命が短くなることが問題であった。しかし、近年の光学素子の需要の高まりに伴い、光学素子の生産性の向上や低コスト化が望まれてきており、これらを達成する上で、成形型の長寿命化は必須の課題であった。特に、成形面の耐久性の向上が望まれていた。   Thus, the problem with reheat press molding is that the life of the mold (particularly the molding surface) is shortened. However, along with the recent increase in demand for optical elements, improvement in productivity and cost reduction of optical elements have been desired. In order to achieve these, extending the life of molds is an essential issue. It was. In particular, it has been desired to improve the durability of the molding surface.

例えば、成形面の耐久性を向上させる方法としては、従来から知られている鋳鉄などの金属面の保護方法（例えばＣｒメッキや金属皮膜の形成等）により、成形面を保護する技術が挙げられる。しかし、このような成形面の保護方法は、常温で使用する成形型に対しては好適であるが、高温の大気雰囲気下で使用するリヒートプレス用の成形型に対しては、Ｃｒメッキなどの被膜が劣化し易く、連続的な複数回のプレス成形では十分に成形面を保護できていかなった。   For example, as a method for improving the durability of the molding surface, there is a technique for protecting the molding surface by a conventionally known metal surface protection method such as cast iron (for example, Cr plating or metal film formation). . However, such a method of protecting the molding surface is suitable for a mold used at room temperature, but for a reheat press mold used in a high-temperature air atmosphere, such as Cr plating. The coating was liable to deteriorate, and the molding surface could not be sufficiently protected by continuous multiple press molding.

また、成形面へのガラスの融着を防止する方法としては、プレス成形時に、成形型およびガラス素材の少なくともいずれか一方に、窒化ホウ素等の離型剤を塗布する技術が従来から用いられている。しかし、このような方法では、離型性は向上するものの、窒化ホウ素等の離型剤は比較的流動的である（成形面に固定化されていない）ため、成形面の一部が露出することがあり、成形面へのガラスの融着を十分に防止できていなかった。   In addition, as a method for preventing the fusion of the glass to the molding surface, a technique in which a release agent such as boron nitride is applied to at least one of the molding die and the glass material at the time of press molding has been conventionally used. Yes. However, in such a method, although the mold release property is improved, the mold release agent such as boron nitride is relatively fluid (not fixed to the molding surface), so that a part of the molding surface is exposed. In some cases, the glass could not be sufficiently prevented from being fused to the molding surface.

特開２００１−１９４４６号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-19446

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、大気雰囲気において、軟化したガラス素材をプレス成形して研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いる成形型であって、耐久性に優れた長寿命の成形型を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is a molding die used for manufacturing a glass optical element blank for polishing by press-molding a softened glass material in an air atmosphere, and has a durability. It is to provide a mold having an excellent long life.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意試験研究を重ねた結果、成形型の成形面に対応する基材表面を、所定の厚みを有する酸化物セラミック膜で保護することにより、大気雰囲気下でのリヒートプレス成形に対しても、成形型（特に成形面）の耐久性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies and studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors protected the atmosphere on the substrate surface corresponding to the molding surface of the mold with an oxide ceramic film having a predetermined thickness. It has been found that the durability of the mold (particularly the molding surface) can be improved even for reheat press molding in an atmosphere, and the present invention has been completed.

本発明の要旨は以下の通りである。
［１］ 少なくとも上型および下型を有し、
大気雰囲気において、軟化したガラス素材をプレス成形して研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いる成形型であって、
上記上型および下型の少なくとも一方の成形面は、膜厚が５μｍ以上の酸化物セラミック膜を有する、成形型。 The gist of the present invention is as follows.
[1] having at least an upper mold and a lower mold,
In an air atmosphere, a mold used to produce a polishing glass optical element blank by press-molding a softened glass material,
A molding die in which at least one molding surface of the upper mold and the lower mold has an oxide ceramic film having a thickness of 5 μm or more.

［２］ 上記酸化物セラミック膜は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、およびカルシアからなる群から選択される少なくとも１種を含む、上記［１］に記載の成形型。 [2] The mold according to [1], wherein the oxide ceramic film includes at least one selected from the group consisting of silica, alumina, zirconia, titania, magnesia, and calcia.

［３］ 上記酸化物セラミック膜は、コロイダルシリカを含む、上記［１］または［２］に記載の成形型。 [3] The mold according to [1] or [2], wherein the oxide ceramic film includes colloidal silica.

［４］ 上記酸化物セラミック膜は、５０μｍ以下である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の成形型。 [4] The mold according to any one of [1] to [3], wherein the oxide ceramic film is 50 μm or less.

［５］ 上記［１］〜［４］のいずれかに記載の成形型を用意する工程と、
光学ガラスからなるガラス素材を大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した上記ガラス素材を上記成形型でプレス成形するプレス工程と
を含む研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法。 [5] A step of preparing the mold according to any one of [1] to [4] above;
A method for producing a polishing glass optical element blank, comprising: reheating a glass material made of optical glass in an air atmosphere; and pressing the softened glass material with the molding die.

［６］ 上記［５］に記載の製造方法によって製造された研磨用ガラス光学素子ブランクを研削する工程と、
上記研削工程を経た研磨用ガラス光学素子ブランクを研磨する工程と
を含む光学素子の製造方法。 [6] A step of grinding the polishing glass optical element blank produced by the production method according to [5],
And a step of polishing the glass optical element blank for polishing that has undergone the grinding step.

本発明の成形型によれば、大気雰囲気下で、軟化したガラス素材をプレス成形し、研磨用ガラス光学素子ブランクを製造する場合であっても、成形型（特に成形面）の劣化を防止でき、連続的なプレス成形が可能となり、成形工程の生産性を向上できる。   According to the mold of the present invention, deterioration of the mold (particularly the molding surface) can be prevented even when a glass optical element blank for polishing is produced by press-molding a softened glass material in an air atmosphere. Continuous press molding becomes possible, and productivity of the molding process can be improved.

図１は、本発明の一実施形態に係る成形型の一例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a mold according to an embodiment of the present invention. 図２は、図１に示す成形型の一部である下型を拡大した断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a lower mold that is a part of the mold shown in FIG. 図３は、本発明の一実施形態に係る成形型を用いたプレス工程の一例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing an example of a pressing process using a mold according to an embodiment of the present invention. 図４は、研磨用ガラスレンズブランクから光学レンズを製造する工程を示すフローチャート図である。FIG. 4 is a flowchart showing a process of manufacturing an optical lens from a polishing glass lens blank.

本発明に係る成形型は、少なくとも上型および下型を有し、大気雰囲気において、軟化したガラス素材をプレス成形して研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いる成形型であって、上記上型および下型の少なくとも一方の成形面は、膜厚が５μｍ以上の酸化物セラミック膜を有する。   A molding die according to the present invention is a molding die that has at least an upper die and a lower die, and is used for producing a glass optical element blank for polishing by press-molding a softened glass material in an air atmosphere. At least one molding surface of the upper mold and the lower mold has an oxide ceramic film having a thickness of 5 μm or more.

このような本発明の成形型によれば、大気雰囲気下で、軟化したガラス素材をプレス成形し、研磨用ガラス光学素子ブランクを製造する場合であっても、成形型（特に、上型および／または下型の成形面）の劣化を防止でき、連続的なプレス成形が可能となり、成形工程の生産性を向上できる。   According to such a molding die of the present invention, even in the case of producing a polishing glass optical element blank by press molding a softened glass material in an air atmosphere, the molding die (particularly the upper die and / or Alternatively, deterioration of the molding surface of the lower mold) can be prevented, continuous press molding can be performed, and productivity of the molding process can be improved.

以下、本発明の成形型およびその製造方法、並びに、本発明の成形型を用いたプレス工程（研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法）について詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施できる。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合があるが、発明の趣旨を限定するものではない。   Hereinafter, although the shaping | molding die of this invention, its manufacturing method, and the press process (manufacturing method of the glass optical element blank for grinding | polishing) using the shaping | molding die of this invention are demonstrated in detail, this invention is the following embodiment. However, the present invention is not limited to this, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention. In addition, although description may be abbreviate | omitted suitably about the location where description overlaps, the meaning of invention is not limited.

＜成形型＞
以下、図１に示す成形型を例に、本発明の一形態について説明する。なお、図中同一または相当部分には同一の符号を付してその説明は繰り返さない。 <Molding mold>
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described using the mold shown in FIG. 1 as an example. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

図１は、本発明の一実施形態に係る成形型の一例を示す概略図である。図１に例示される成形型は、成形面を有する上型２１および下型１１と、これらを略同軸状に規制する環状の胴型３０とで構成され、上型２１および下型１１のそれぞれの成形面２７、１７は、膜厚が５μｍ以上の酸化物セラミック膜２５、１５を有する。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a mold according to an embodiment of the present invention. The molding die illustrated in FIG. 1 includes an upper die 21 and a lower die 11 having molding surfaces, and an annular body die 30 that regulates these substantially coaxially, and each of the upper die 21 and the lower die 11. The molding surfaces 27 and 17 have oxide ceramic films 25 and 15 having a film thickness of 5 μm or more.

なお、本実施形態に係る成形型において、胴型３０は任意の構成部材である。すなわち、胴型３０については、他の方法で上型２１および下型１１を略同軸状に規制できる場合には、必ずしも必要ではない。   In the mold according to this embodiment, the body mold 30 is an arbitrary constituent member. That is, the body mold 30 is not necessarily required when the upper mold 21 and the lower mold 11 can be regulated to be substantially coaxial by another method.

また、本実施形態に係る成形型において、酸化物セラミック膜は、下型１１および上型２１の少なくともいずれか一方に形成されていればよく、好ましくは、両方に形成されているのが望ましい。   In the mold according to this embodiment, the oxide ceramic film may be formed on at least one of the lower mold 11 and the upper mold 21, and preferably formed on both.

次に、図２に示す下型を例に、本実施形態に係る成形型について詳しく説明する。図２は、図１に示す成形型の一部である下型１１を拡大した断面図である。なお、上型１２については、説明を省略するが、下型１１の場合と同様とすることができる。   Next, the molding die according to this embodiment will be described in detail by taking the lower die shown in FIG. 2 as an example. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the lower mold 11 which is a part of the mold shown in FIG. The upper mold 12 is not described here, but can be the same as that of the lower mold 11.

図２に示すように、本実施形態に係る成形型の一部である下型１１は、基材１３と、基材表面１３Ａに形成された酸化物セラミック膜１５とで構成され、酸化物セラミック膜１５の表面を成形面１７とする。すなわち、本実施形態に係る成形面１７は、膜厚ｔが５μｍ以上の酸化物セラミック膜１５を有する。   As shown in FIG. 2, the lower mold 11 that is a part of the mold according to the present embodiment includes a base material 13 and an oxide ceramic film 15 formed on the base material surface 13 </ b> A. The surface of the film 15 is a molding surface 17. That is, the molding surface 17 according to the present embodiment includes the oxide ceramic film 15 having a film thickness t of 5 μm or more.

このような下型１１によれば、大気雰囲気下でリヒートプレス成形を繰り返し行っても、基材表面１３Ａが、大気中の酸素や軟化したガラスと直接接触することが防止される。また、このような本実施形態に係る成形面１７では、ガラスが融着して成形面に残存することが少なく、成形面の物理的な劣化を防止できる。このような成形面１７を有する本実施形態に係る下型１１は、連続的なプレス成形に対して高い耐久性を有する。   According to such a lower mold 11, even if reheat press molding is repeatedly performed in an air atmosphere, the base material surface 13A is prevented from coming into direct contact with oxygen in the air or softened glass. Further, in the molding surface 17 according to this embodiment, glass is hardly fused and remains on the molding surface, and physical deterioration of the molding surface can be prevented. The lower mold 11 according to this embodiment having such a molding surface 17 has high durability against continuous press molding.

本実施形態に係る酸化物セラミック膜１５の膜厚ｔは５μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上である。また、酸化物セラミック膜１５の膜厚ｔの好ましい上限は８０μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。酸化物セラミック膜１５の膜厚ｔが薄くなりすぎると、連続的なプレス成形に対する成形面１７の耐久性が低下する傾向にある。また、酸化物セラミック膜１５の膜厚ｔが、必要以上に厚くなるにつれて、剥離し易くなる。   The film thickness t of the oxide ceramic film 15 according to this embodiment is 5 μm or more, preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more. Moreover, the upper limit with preferable film thickness t of the oxide ceramic film | membrane 15 is 80 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less. If the thickness t of the oxide ceramic film 15 becomes too thin, the durability of the molding surface 17 with respect to continuous press molding tends to decrease. Further, as the thickness t of the oxide ceramic film 15 becomes larger than necessary, the oxide ceramic film 15 is easily peeled off.

なお、本発明に係る酸化物セラミック膜の膜厚ｔとは、成形面に形成された酸化物セラミック膜における９ヶ所（例えば、成形面の中心点を通って直交する２線上の任意の９カ所（成形面の中心点と、成形面の半径をｒとした時のｒ／３および２ｒ／３の各４点））以上の平均膜厚を示す。酸化物セラミック膜の膜厚は、例えば、膜の破断面のＳＥＭによる測定や公知の超音波式膜厚測定器、電磁誘導式膜厚計、β線透過式膜厚計などを用いて測定することができる。   In addition, the film thickness t of the oxide ceramic film according to the present invention refers to nine places (for example, any nine places on two lines orthogonal to each other through the center point of the molding surface) in the oxide ceramic film formed on the molding surface. (The center point of the molding surface and four points each of r / 3 and 2r / 3 when the radius of the molding surface is r)) The average film thickness is shown. The film thickness of the oxide ceramic film is measured, for example, by measuring the fracture surface of the film with an SEM, using a known ultrasonic film thickness meter, electromagnetic induction film thickness meter, β-ray transmission film thickness meter, or the like. be able to.

また、本実施形態に係る酸化物セラミック膜１５は、好ましくは、基材表面１３Ａの全面に、万遍なく覆う様に、形成されていることが望ましい。   In addition, the oxide ceramic film 15 according to the present embodiment is preferably formed so as to cover the entire surface of the base material surface 13A evenly.

本実施形態において、酸化物セラミック膜１５は、酸化物セラミックを主成分として構成される。したがって、酸化物セラミック膜１５は、好ましくは酸化物セラミックを６０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、特に好ましくは９５％以上含む。酸化物セラミック膜１５は、酸化物セラミックを主成分とすることで、高温の酸化性雰囲気で用いた場合であっても、被膜の劣化を防止でき、ひいては成形面が化学的および物理的に劣化するのを防止できる。   In the present embodiment, the oxide ceramic film 15 is composed mainly of an oxide ceramic. Accordingly, the oxide ceramic film 15 preferably contains 60% by mass or more of oxide ceramic, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% or more. Since the oxide ceramic film 15 is mainly composed of an oxide ceramic, even when used in a high-temperature oxidizing atmosphere, the coating film can be prevented from being deteriorated, and the molding surface is chemically and physically deteriorated. Can be prevented.

また、このような酸化物セラミックとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、およびカルシアからなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。特に、被膜の耐久性の観点でシリカが好ましい。なお、酸化物セラミック膜１５は、上記酸化物セラミックの単体または混合物のいずれで構成されていてもよいが、好ましくはシリカの単体で構成されるのが望ましい。   Examples of such an oxide ceramic include at least one selected from the group consisting of silica, alumina, zirconia, titania, magnesia, and calcia. In particular, silica is preferable from the viewpoint of the durability of the coating. The oxide ceramic film 15 may be composed of any one of the above oxide ceramics or a mixture thereof, but is preferably composed of silica alone.

また、酸化物セラミック膜１５は、上記酸化物セラミック以外の成分として、例えば、窒化ホウ素（ＢＮ）、炭化珪素（ＳｉＣ）、窒化アルミ（ＡｌＮ）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、リン酸アルミニウム（ＡｌＰＯ４）等の成分を含んでいてもよい。これらの成分は意図的に含有させてもよいし、不可避的（不純物程度に）に含まれてもよい。なお、酸化物セラミック膜１５がこれらの成分を含む場合には、その含有量の合計が、４０質量％以下であることが好ましい。これらの成分が多すぎると、酸化物セラミック膜１５が脆くなる傾向にあり、連続的なプレス成形により成形面が劣化する傾向にある。 The oxide ceramic film 15 includes, as components other than the oxide ceramic, for example, boron nitride (BN), silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN), iron oxide (Fe 2 O 3 ), chromium oxide ( Components such as Cr 2 O 3 ) and aluminum phosphate (AlPO 4 ) may be included. These components may be included intentionally or may be included unavoidably (to the extent of impurities). In addition, when the oxide ceramic film 15 contains these components, it is preferable that the sum total of the content is 40 mass% or less. When these components are too much, the oxide ceramic film 15 tends to be brittle, and the molding surface tends to deteriorate due to continuous press molding.

また、酸化物セラミック膜１５は、上記成分の他に、製造上排除できない各種酸化物成分や金属成分等を不可避成分として含んでいてもよい。   The oxide ceramic film 15 may include various oxide components, metal components, and the like that cannot be excluded in production in addition to the above components as inevitable components.

本実施形態において、基材１３は、成形面１７に対応する表面１３Ａを有する。このような表面１３Ａの形状は、成形するガラス成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク）の形状に沿うように形成されている。例えば、凸曲面状、凹曲面状、平面状等が挙げられる。   In the present embodiment, the base material 13 has a surface 13 </ b> A corresponding to the molding surface 17. The shape of such a surface 13A is formed so as to follow the shape of the glass molded body (glass optical element blank for polishing) to be molded. For example, a convex curved surface shape, a concave curved surface shape, a planar shape, etc. are mentioned.

また、基材１３の材質は、成形するガラスの硬さやガラス転移温度Ｔｇ等に応じて適宜選択でき、例えば、ステンレス、鋳鉄等が挙げられる。ステンレスは鋳鉄に比べて高価であるが、耐熱性が高く長期間の使用に耐えるため、ガラス転移温度が比較的高い硝材に好適である。また、鋳鉄は安価で加工性が良い。したがって、基材１３の材質は、成形するガラスの特性に応じて適宜選択できる。なお、基材１３と酸化物セラミック膜１５の密着性を高める観点から、両者の熱膨張係数を近づけることが好ましい。   Moreover, the material of the base material 13 can be suitably selected according to the hardness of the glass to shape | mold, glass transition temperature Tg, etc., For example, stainless steel, cast iron, etc. are mentioned. Stainless steel is more expensive than cast iron, but is suitable for glass materials having a relatively high glass transition temperature because it has high heat resistance and can withstand long-term use. Cast iron is inexpensive and has good workability. Therefore, the material of the base material 13 can be appropriately selected according to the characteristics of the glass to be molded. Note that, from the viewpoint of improving the adhesion between the base material 13 and the oxide ceramic film 15, it is preferable to make the thermal expansion coefficients of both closer.

＜成形型の製造方法＞
次に、図１に示す成形型の製造方法について一例を説明する。
本実施形態に係る成形型の製造方法は、上型および下型に対応する基材を準備する工程と、前記上型および下型の少なくとも一方の基材表面に、酸化物セラミック膜を形成する工程を有する。 <Method for manufacturing mold>
Next, an example of the manufacturing method of the shaping | molding die shown in FIG. 1 is demonstrated.
The manufacturing method of the shaping | molding die concerning this embodiment forms the oxide ceramic film | membrane in the process of preparing the base material corresponding to an upper mold | type and a lower mold | type, and the at least one base material surface of the said upper mold | type and a lower mold | type. Process.

以下、図２の下型１１の基材表面１３Ａに、酸化物セラミック膜１５を形成する方法を説明する。なお、上型２１については説明を省略するが、下型１１の場合と同様とすることができる。   Hereinafter, a method of forming the oxide ceramic film 15 on the base material surface 13A of the lower mold 11 of FIG. 2 will be described. Although the description of the upper die 21 is omitted, it can be the same as that of the lower die 11.

本実施形態では、まず、コーティング溶液を準備する。本実施形態では、コーティング溶液から酸化物セラミック膜１５を形成する。コーティング溶液は、少なくとも酸化物セラミックと溶媒とを含んでなる。   In this embodiment, first, a coating solution is prepared. In this embodiment, the oxide ceramic film 15 is formed from a coating solution. The coating solution comprises at least an oxide ceramic and a solvent.

酸化物セラミックとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、およびカルシアからなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。特に、耐久性の観点でシリカが好ましい。なお、酸化物セラミックは、１種類のみで用いてもよいし、２種類以上組み合わせて用いてもよい。   Examples of the oxide ceramic include at least one selected from the group consisting of silica, alumina, zirconia, titania, magnesia, and calcia. In particular, silica is preferable from the viewpoint of durability. The oxide ceramic may be used alone or in combination of two or more.

また、酸化物セラミックとしては、好ましくは平均粒子径が５μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の粉末を用いることができる。   As the oxide ceramic, a powder having an average particle size of preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less can be used.

また、溶媒としては、水や有機溶媒を用いることができる。   Moreover, water or an organic solvent can be used as a solvent.

本実施形態に係るコーティング溶液は、少なくとも酸化物セラミックと溶媒とを混合してなる。混合方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。また、酸化物セラミックと溶媒との混合比率も、特に限定されず、一般的な塗料と同様に、塗布方法に応じた所望の粘度になるように、適宜調節できる。   The coating solution according to the present embodiment is formed by mixing at least an oxide ceramic and a solvent. The mixing method is not particularly limited, and a known method can be used. Further, the mixing ratio of the oxide ceramic and the solvent is not particularly limited, and can be appropriately adjusted so as to obtain a desired viscosity according to the coating method, as in a general paint.

また、コーティング溶液には、上記酸化物セラミック以外の固形成分として、上記以外のセラミックや酸化物等が含有されてもよい。ただし、これらの成分の総含有量は、固形成分全体（酸化物セラミックを含む）の４０質量％以下とすることが好ましい。   In addition, the coating solution may contain ceramics, oxides, and the like other than the above as solid components other than the oxide ceramics. However, the total content of these components is preferably 40% by mass or less of the entire solid components (including oxide ceramics).

さらに、コーティング溶液には、必要に応じて各種分散剤、結合材、可塑剤などの添加物が含有されてもよい。これら添加物の総含有量は、コーティング溶液全体の１０質量％以下とすることが望ましい。   Furthermore, the coating solution may contain additives such as various dispersants, binders, and plasticizers as necessary. The total content of these additives is desirably 10% by mass or less of the entire coating solution.

また、本実施形態に係るコーティング溶液は、好ましくは結合剤としてコロイダルシリカを含有することが好ましい。コロイダルシリカは、焼成後にシリカとして酸化物セラミック膜を構成するため、強固な膜を形成することができる。   Further, the coating solution according to the present embodiment preferably contains colloidal silica as a binder. Since colloidal silica forms an oxide ceramic film as silica after firing, a strong film can be formed.

次に、下型に対応する基材１３を準備する。基材１３の材質は、プレス成形を行うガラスの材質（特性）やプレス温度等に応じて適宜選択すればよい。また、基材１３の形状は、プレス装置や目的とするガラス成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク）の形状に応じて適宜選択できる。   Next, the base material 13 corresponding to the lower mold is prepared. What is necessary is just to select the material of the base material 13 suitably according to the material (characteristic) of the glass which performs press molding, press temperature, etc. FIG. Moreover, the shape of the base material 13 can be suitably selected according to the shape of a press apparatus and the target glass molded object (glass optical element blank for grinding | polishing).

特に、基材表面１３Ａの形状は、成形面１７の形状に対応する。すなわち、表面１３Ａの形状は、成形するガラス成形体の形状に沿うように形成されており、ガラス成形体が目的とする形状に応じて適宜設定される。例えば、凸曲面状、凹曲面状、平面状等にすることができる。   In particular, the shape of the substrate surface 13 </ b> A corresponds to the shape of the molding surface 17. That is, the shape of the surface 13A is formed so as to follow the shape of the glass molded body to be molded, and is appropriately set according to the target shape of the glass molded body. For example, it can be a convex curved surface, a concave curved surface, a flat surface, or the like.

なお、基材表面１３Ａについては、必要に応じてブラスト加工等の前処理を施してもよい。また、基材表面１３Ａは、油脂や研削屑等のごみを除去しておくことが望ましい。これらの処理を施すことにより、基材表面１３Ａと酸化物セラミック膜１５の密着性を高めることができる。   In addition, about the base material surface 13A, you may give pretreatments, such as blasting, as needed. Further, it is desirable that the base material surface 13A removes dust such as fats and oils and grinding scraps. By performing these treatments, the adhesion between the substrate surface 13A and the oxide ceramic film 15 can be enhanced.

次に、基材表面１３Ａに、コーティング溶液を塗布する〔塗布工程〕。塗布方法は、特に限定されず、公知の方法により行うことができる。例えば、スプレーコート法、刷毛塗り法、浸漬法等の方法が挙げられる。   Next, a coating solution is applied to the substrate surface 13A [application step]. The application method is not particularly limited, and can be performed by a known method. Examples thereof include a spray coating method, a brush coating method, and a dipping method.

塗布量については、形成しようとする酸化物セラミック膜１５の膜厚ｔ等に応じて、適宜調整できるが、膜厚ｔを厚くする場合には、数回に分けて重ね塗りするのが好ましい。一度に多量のコーティング溶液を塗布すると、乾燥後の酸化物セラミック膜にひび割れが生じることがある。また、基材の形状によっては、乾燥後の酸化物セラミック膜の膜厚にばらつきが生じることがある。   The coating amount can be adjusted as appropriate according to the film thickness t of the oxide ceramic film 15 to be formed. However, when the film thickness t is increased, it is preferable to apply the coating in several times. If a large amount of coating solution is applied at once, cracks may occur in the oxide ceramic film after drying. Further, depending on the shape of the base material, the thickness of the oxide ceramic film after drying may vary.

例えば、図２に示すように、成形面１７は、基材表面１３Ａの形状に追従していることが望ましい。しかし、基材１３のように、表面１３Ａが凹面である場合、表面１３Ａにコーティング溶液を多量に塗布すると、コーティング溶液中に分散した酸化物セラミックが表面１３Ａ上の凹部に凝集して沈殿し易くなる。その結果、乾燥後の酸化物セラミック膜の膜厚が、外周に比べて中心部分で厚くなり、成形面１７と表面１３Ａとで曲率に違いを生じることがある。このような成形面１７でプレス成形を行うと、成形体において形状不良を生じることがある。   For example, as shown in FIG. 2, it is desirable that the molding surface 17 follows the shape of the base material surface 13A. However, when the surface 13A is concave like the base material 13, if a large amount of coating solution is applied to the surface 13A, the oxide ceramic dispersed in the coating solution is likely to aggregate and precipitate in the recesses on the surface 13A. Become. As a result, the thickness of the oxide ceramic film after drying becomes thicker at the center than at the outer periphery, and the curvature may differ between the molding surface 17 and the surface 13A. When press molding is performed on such a molding surface 17, shape defects may occur in the molded body.

なお、重ね塗りする場合には、塗布面が適度に乾燥されていることが望ましく、例えば塗布面を指触して適度に乾燥していることを確認した後に、塗り重ねるのが好ましい。   In addition, in the case of overcoating, it is desirable that the coated surface is appropriately dried. For example, it is preferable that the coated surface is coated after confirming that the coated surface is properly dried by touching the coated surface.

次に、コーティング溶液が塗布された成形型を、乾燥する〔乾燥工程〕。乾燥温度は、常温〜２００℃とすることができる。また、乾燥時間は、溶媒の種類や塗布量に応じて適宜調節できるが、１時間〜６時間程度とすることができる。   Next, the mold on which the coating solution is applied is dried [drying step]. The drying temperature can be from room temperature to 200 ° C. Moreover, although drying time can be suitably adjusted according to the kind and application amount of a solvent, it can be set as about 1 to 6 hours.

その後、塗布面を十分に乾燥させた成形型を、焼成して、コーティング材料を硬化する〔焼成工程〕。焼成条件は、酸化物セラミックの種類や膜厚等に応じて適宜調節できるが、例えば、焼成温度は９０〜１５０℃とすることができ、焼成時間は１０分〜１時間程度とすることができる。   Thereafter, the mold with the coated surface sufficiently dried is fired to cure the coating material [firing step]. The firing conditions can be adjusted as appropriate according to the type and thickness of the oxide ceramic. For example, the firing temperature can be 90 to 150 ° C., and the firing time can be about 10 minutes to 1 hour. .

なお、上記焼成工程は任意の工程である。すなわち、後述するプレス工程で成形型を所定の温度に制御する必要があるため、その際の加熱により、上記焼成工程における成形型の焼成（コーティング材料の硬化）を兼ねることもできる。   In addition, the said baking process is arbitrary processes. That is, since it is necessary to control the mold at a predetermined temperature in a press process described later, the mold can be fired (curing of the coating material) in the firing process by heating at that time.

このような方法により、本実施形態に係る成形型の一部である下型１１について、膜厚ｔが５μｍ以上の酸化物セラミック膜１５を有する成形面１７を形成することができる。ここで、酸化物セラミック膜１５は、基材表面１３Ａ上に密着しており、大気中で加熱され、加圧されても基材１３から剥離することはない。   By such a method, the molding surface 17 having the oxide ceramic film 15 having a film thickness t of 5 μm or more can be formed for the lower mold 11 which is a part of the molding die according to the present embodiment. Here, the oxide ceramic film 15 is in close contact with the substrate surface 13A, and is not peeled off from the substrate 13 even when heated and pressurized in the atmosphere.

また、このような本実施形態に係る成形面１７は、適度な凹凸を有することが好ましい。すなわち、コーティング材料が基材表面１３Ａ上で硬化することにより、酸化物セラミック膜１５となるが、この時、成形面１７の表面粗さＲｚが１０μｍを超えることが好ましい。このような成形面１７には、押圧前の軟化したガラス素材を保温する効果や、押圧後のガラス素材の急冷効果が期待される。   Moreover, it is preferable that the molding surface 17 which concerns on this embodiment has moderate unevenness | corrugation. That is, the coating material is cured on the substrate surface 13A to form the oxide ceramic film 15. At this time, it is preferable that the surface roughness Rz of the molding surface 17 exceeds 10 μm. Such a molding surface 17 is expected to have an effect of keeping the softened glass material before pressing and a rapid cooling effect of the glass material after pressing.

＜研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法＞
本実施形態に係る研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法は、
本実施形態に係る成形型を用意する工程と、
光学ガラスからなるガラス素材を、大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した前記ガラス素材を前記成形型でプレス成形するプレス工程と、を含む。 <Method for Manufacturing Glass Optical Element Blank for Polishing>
The method for producing a polishing glass optical element blank according to this embodiment is as follows.
Preparing a mold according to the present embodiment;
And a pressing step of press-molding the softened glass material with the mold after reheating the glass material made of optical glass in an air atmosphere.

以下、研磨用ガラスレンズブランクを例に、研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法の一実施形態について説明する。具体的には、図３を参照しながら、図１に示す本実施形態に係る成形型を用いたプレス工程の一例について説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施できる。   Hereinafter, an embodiment of a method for producing a polishing glass optical element blank will be described using a polishing glass lens blank as an example. Specifically, an example of a pressing process using the mold according to the present embodiment shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. Note that the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention.

まず、成形型として、図１に示す成形型を準備する。すなわち、成形面１７に膜厚５μｍ以上の酸化物セラミック膜１５を有する下型１１と、成形面２７に膜厚５μｍ以上の酸化物セラミック膜２５を有する上型２１と、胴型３１とを準備する。さらに、成形型は、予め加熱しておく。成形型の加熱温度は、成形するガラス素材によって適宜調整することが好ましいが、成形型の温度は、成形しようとするガラス素材の屈伏点（Ｔｓ）付近の温度となるように加熱しておくことが望ましい。   First, a mold shown in FIG. 1 is prepared as a mold. That is, a lower die 11 having an oxide ceramic film 15 having a thickness of 5 μm or more on the molding surface 17, an upper die 21 having an oxide ceramic film 25 having a thickness of 5 μm or more on the molding surface 27, and a body die 31 are prepared. To do. Further, the mold is heated in advance. The heating temperature of the mold is preferably adjusted as appropriate depending on the glass material to be molded, but the temperature of the mold should be heated so that it is close to the yield point (Ts) of the glass material to be molded. Is desirable.

一方で、所定形状（例えば、多面体形状、円盤形状、回転楕円形状など）、所定重量（目的とする光学素子以上の重量）に加工されたガラス素材４０ａを必要数量用意する。ガラス素材４０ａの材質としては、特に限定されず、（１）ガラス成分として少なくともＰ、ＯおよびＦを含むフツリン酸塩系ガラス、（２）ガラス成分中に、Ｂ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３が比較的多く含まれているホウ酸ランタン系ガラス、（３）ガラス成分中に、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２が、比較的多く含まれているＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラス、（４）Ｐ２Ｏ５を主成分としてＮｂ、Ｔｉ、Ｂｉ、およびＷからなる易還元成分を含有するリン酸ニオブ系光学ガラスなどが例示される。 On the other hand, a required quantity of glass material 40a processed into a predetermined shape (for example, polyhedron shape, disk shape, spheroid shape, etc.) and a predetermined weight (weight more than the target optical element) is prepared. The material of the glass material 40a, is not particularly limited, (1) at least P as a glass component, O and fluorophosphate salt glass containing F, (2) the glass component, B 2 O 3, La 2 O 3 Lanthanum borate glass containing a relatively large amount, (3) SiO 2 —TiO 2 glass containing a relatively large amount of SiO 2 and TiO 2 in the glass component, (4) P 2 O Examples thereof include niobium phosphate optical glass containing 5 as a main component and an easily reducing component composed of Nb, Ti, Bi, and W.

ガラス素材４０ａの成形方法は特に限定されない。例えば、板状に成形されたガラス板を切断して得られる略六面体形状のガラス片や、円柱状のガラス素材を等間隔に切断して得られる円盤形状のガラス片や、ノズルから流下する熔融ガラスを受け型で受けて回転楕円形状に成形し冷却して得られるガラス片などが例示される。   The method for forming the glass material 40a is not particularly limited. For example, a substantially hexahedral glass piece obtained by cutting a plate-shaped glass plate, a disk-shaped glass piece obtained by cutting a cylindrical glass material at equal intervals, or a melt flowing down from a nozzle Examples thereof include glass pieces obtained by receiving glass with a receiving mold, forming it into a spheroid shape, and cooling it.

次に、予め加熱して軟化させておいたガラス素材４０ａを、下型１１に供給する。その後、胴型３０に上型２１を挿入する。図２（Ａ）では、上型２１による荷重がガラス素材４０ａにかかっていないので、軟化したガラス素材４０ａの形状を保っている。   Next, the glass material 40 a that has been softened by heating in advance is supplied to the lower mold 11. Thereafter, the upper mold 21 is inserted into the trunk mold 30. In FIG. 2 (A), since the load by the upper mold | type 21 has not applied to the glass raw material 40a, the shape of the softened glass raw material 40a is maintained.

また、ガラス素材４０ａおよび成形面１７、２７の少なくともいずれか一方には、ガラスの融着を防ぐために離型剤が塗布されていることが好ましい。離型剤としては、例えば、窒化ホウ素、アルミナ、酸化珪素、酸化マグネシウム等の粉末状離型剤が用いられる。なお、本実施形態に係る成形型は、成形面１７、２７に酸化物セラミック膜１５、２５を有するため、成形体を離型した後も成形面１７、２７に離型剤が残留し易い。   Moreover, it is preferable that a mold release agent is applied to at least one of the glass material 40a and the molding surfaces 17 and 27 in order to prevent glass fusion. As the release agent, for example, a powder release agent such as boron nitride, alumina, silicon oxide, magnesium oxide is used. In addition, since the shaping | molding die concerning this embodiment has the oxide ceramic films | membranes 15 and 25 in the molding surfaces 17 and 27, after releasing a molded object, a mold release agent remains easily on the molding surfaces 17 and 27. FIG.

次いで、図２（Ｂ）に示すように、上型２１を降下させてガラス素材４０ａを押圧し、ガラス素材４０ａを上下型の成形面形状に倣った形状にプレス成形して、研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂを得る。   Next, as shown in FIG. 2 (B), the upper mold 21 is lowered to press the glass material 40a, and the glass material 40a is press-molded into a shape that follows the molding surface shape of the upper and lower molds. An element blank 40b is obtained.

プレス成形時のガラス素材４０ａは、好ましくは１０４〜１０６ｄＰａ・ｓの粘度に保たれている。また、プレス成形は、大気中で行われる。 The glass material 40a at the time of press molding is preferably kept at a viscosity of 10 4 to 10 6 dPa · s. Moreover, press molding is performed in air | atmosphere.

また、研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂの形状は、図３（Ｂ）に示すような凸面と凹面を有する形状の他、両凸形状、凸面と平面を有する形状、凹面と平面を有する形状、両凹形状など目的とするガラス光学素子の形状に近似する形状であれば、特に限定されない。   In addition to the shape having a convex surface and a concave surface as shown in FIG. 3 (B), the shape of the polishing glass optical element blank 40b is a biconvex shape, a shape having a convex surface and a plane, a shape having a concave surface and a plane, both There is no particular limitation as long as the shape approximates the shape of the target glass optical element, such as a concave shape.

成形された研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂは、成形型から取り出され、必要に応じて歪を抜くための熱処理（アニール処理）が施される。   The molded glass optical element blank 40b for polishing is taken out of the mold and subjected to heat treatment (annealing treatment) for removing strain as necessary.

本実施形態に係る成形型によれば、上型２１および下型１１の成形面１７、２７が酸化物セラミック膜１５、２５を有しているため、成形された研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂを容易に取り出すことができ、研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂを取り除いた後の成形面１７、２７においても融着によるガラスの残存が発生しにくく、成形面の物理的な劣化は極めて少ない。   According to the mold according to the present embodiment, since the molding surfaces 17 and 27 of the upper mold 21 and the lower mold 11 have the oxide ceramic films 15 and 25, the molded glass optical element blank 40b for polishing is formed. The glass can be easily taken out, and the glass remains hardly caused by fusion on the molding surfaces 17 and 27 after the polishing glass optical element blank 40b is removed, and the physical degradation of the molding surface is extremely small.

そのため、成形型（特に、下型１１および上型２１）の連続使用（例えば、ショット回数が５００回以上、より好ましくは７００回以上）が可能となり、連続的に上記プレス工程を複数回繰り返すことができる。   Therefore, it is possible to continuously use the mold (particularly the lower mold 11 and the upper mold 21) (for example, the number of shots is 500 times or more, more preferably 700 times or more), and the above pressing process is continuously repeated a plurality of times. Can do.

一般に、成形型の連続使用を妨げる大きな要因の一つとしては、成形面へのガラスの融着である。このような成形面へのガラスの融着を防止するために、通常、成形面およびガラス素材の少なくともいずれか一方に、離型剤を塗布するのが一般的である。しかし、このような離型剤を使用した場合であっても、離型剤が成形面およびガラス素材を十分に覆っていない場合や、プレス成形時の押圧により軟化したガラスが離型剤の隙間から染み出す場合等、成形面とガラスとが直接接触する箇所が生じるため、ガラスの融着は起こり得る。   In general, one of the major factors that hinders the continuous use of a mold is the fusion of glass to the molding surface. In order to prevent such fusion of the glass to the molding surface, it is usual to apply a release agent to at least one of the molding surface and the glass material. However, even when such a release agent is used, when the release agent does not sufficiently cover the molding surface and the glass material, or when the glass softened by pressing during press molding is a gap between the release agents Since a part where the molding surface and the glass are in direct contact with each other, such as when exuding from the glass, fusion of the glass may occur.

従来の成形型では、成形面は成形型の基材表面（図２では、１３Ａや２３Ａに相当する部分）であった。そのため、成形面へのガラスの融着が生じた場合には、融着したガラスが、基材表面に直に接していた。基材表面にガラスが直接融着した場合、成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂ）を取り除いても、成形面（基材表面）に融着したガラスが残存し易い。成形面に融着したガラスが残存した成形型は、使用継続が困難となるため、成形面のメンテナンスや成形型自体の交換が必要であった。   In the conventional mold, the molding surface is the surface of the mold base (the portion corresponding to 13A and 23A in FIG. 2). For this reason, when the glass is fused to the molding surface, the fused glass is in direct contact with the substrate surface. When glass is directly fused to the substrate surface, the fused glass tends to remain on the molding surface (substrate surface) even if the molded body (glass optical element blank for polishing 40b) is removed. Since it is difficult to continue using the mold in which the glass fused on the molding surface remains, it is necessary to maintain the molding surface or replace the molding die itself.

これに対し、本実施形態に係る成形型では、下型１１および上型２１の成形面１７、２７は、酸化物セラミック膜１５、２５を有しているため、プレス成形時の押圧等によりガラスが酸化物セラミック膜１５、２５に圧接しても、ガラスは成形面１７、２７から容易に離型する。これは、酸化物セラミック膜１５、２５が適度な脆さを有するため、成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク４０ｂ）を取り出す際に、酸化物セラミック膜１５、２５が摩耗して離型作用をもたらすからである。そのため、成形体４０ｂを離型した後の成形面１７、２７には、融着しにくく、成形型の連続使用が可能となる。   On the other hand, in the molding die according to the present embodiment, the molding surfaces 17 and 27 of the lower die 11 and the upper die 21 have the oxide ceramic films 15 and 25. Even when pressed against the oxide ceramic films 15 and 25, the glass is easily released from the molding surfaces 17 and 27. This is because the oxide ceramic films 15 and 25 have moderate brittleness, and when the molded body (polishing glass optical element blank 40b) is taken out, the oxide ceramic films 15 and 25 are worn and have a releasing action. Because it brings. Therefore, it is difficult to fuse the molding surfaces 17 and 27 after the molded body 40b is released, and the molding die can be used continuously.

なお、融着したガラスとともに酸化物セラミック膜が剥離された場合、離型された成形体４０ｂの表面には、酸化物セラミック膜１５、２５の一部が付着することになるが、該成形体４０ｂは後工程において研削・研磨されることが前提であるため、問題はない。   When the oxide ceramic film is peeled off together with the fused glass, a part of the oxide ceramic films 15 and 25 adheres to the surface of the released molded body 40b. Since 40b is premised on being ground and polished in a subsequent process, there is no problem.

また、このようなガラスの融着と酸化物セラミック膜の剥離を繰り返すと、成形面に形成された酸化物セラミック膜の厚みが徐々に薄くなる傾向がある。そのため、酸化物セラミック膜の膜厚が薄すぎる場合には、成形面から酸化物セラミック膜が除去され、基材表面が露出する可能性がある。このような基材表面が露出した箇所では、ガラスが融着することがあるため、成形体を取り除いた後も、成形面に融着したガラスが残存する問題を招来する。すなわち、連続的なプレス成形を可能とし、かつ基材表面を十分に保護する観点から、酸化物セラミック膜は適度な膜厚が必要である。   In addition, when such fusion of glass and peeling of the oxide ceramic film are repeated, the thickness of the oxide ceramic film formed on the molding surface tends to be gradually reduced. Therefore, when the thickness of the oxide ceramic film is too thin, the oxide ceramic film may be removed from the molding surface, and the substrate surface may be exposed. Since the glass may be fused at such a portion where the surface of the base material is exposed, there is a problem that the fused glass remains on the molding surface even after the molded body is removed. That is, the oxide ceramic film needs to have an appropriate thickness from the viewpoint of enabling continuous press molding and sufficiently protecting the surface of the base material.

本実施形態に係る成形型では、上型および下型の少なくとも一方の成形面は、膜厚が５μｍ以上の酸化物セラミック膜を有する。このような成形型によれば、連続的にリヒートプレス成形を繰り返しても、基材表面の露出を防止でき、基材表面を十分に保護できる。さらに、基材表面を十分に保護し、成形型の連続使用回数を向上させる観点から、酸化物セラミック膜の膜厚は大きいほど好ましく、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上である。   In the molding die according to this embodiment, at least one molding surface of the upper die and the lower die has an oxide ceramic film having a thickness of 5 μm or more. According to such a mold, even if reheat press molding is continuously repeated, exposure of the substrate surface can be prevented and the substrate surface can be sufficiently protected. Furthermore, from the viewpoint of sufficiently protecting the substrate surface and improving the number of continuous uses of the mold, the oxide ceramic film is preferably as thick as possible, preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more.

また、酸化物セラミック膜は、膜厚が厚くなるにつれ、成形体に塊で付着して、剥離され易くなる傾向にある。そのため、酸化物セラミック膜の膜厚として、好ましい上限は８０μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。   Further, as the thickness of the oxide ceramic film increases, the oxide ceramic film tends to adhere to the molded body in a lump and easily peel off. Therefore, a preferable upper limit of the thickness of the oxide ceramic film is 80 μm or less, and more preferably 50 μm or less.

また、上述のように本実施形態に係る成形型では、上型および下型の少なくとも一方の成形面が、膜厚５μｍ以上の酸化物セラミック膜を有しているため、上型および下型に対応する基材表面が、大気中の酸素や軟化したガラスと直接接触することを防止でき、成形面に対応する基材表面の劣化を防止できる。その結果、基材（特に、成形面に対応する基材表面）の寿命を向上できる。   Further, as described above, in the molding die according to this embodiment, since the molding surface of at least one of the upper die and the lower die has the oxide ceramic film having a film thickness of 5 μm or more, the upper die and the lower die are formed. The corresponding base material surface can be prevented from coming into direct contact with atmospheric oxygen or softened glass, and deterioration of the base material surface corresponding to the molding surface can be prevented. As a result, the lifetime of the substrate (particularly the substrate surface corresponding to the molding surface) can be improved.

さらに、本実施形態に係る成形型によれば、上型および下型に対応する基材の再利用も容易である。すなわち、本実施形態に係る成形型では、仮に、成形面に融着したガラスが残留した場合であっても、成形面に対応する基材表面は、酸化物セラミック膜により保護されているため、影響を受けない。そのため、成形面のメンテナンスが必要となっても、融着したガラスを酸化物セラミック膜とともに除去すればよく、容易に元の基材表面に回復できる。さらに、このような基材に対して、再度、酸化物セラミック膜を形成すれば、本実施形態に係る成形型として再利用することも可能である。   Furthermore, according to the mold according to the present embodiment, it is easy to reuse the base material corresponding to the upper mold and the lower mold. That is, in the mold according to this embodiment, even if the glass fused to the molding surface remains, the substrate surface corresponding to the molding surface is protected by the oxide ceramic film, Not affected. Therefore, even if maintenance of the molding surface is required, the fused glass may be removed together with the oxide ceramic film, and the original substrate surface can be easily recovered. Furthermore, if an oxide ceramic film is formed again on such a substrate, it can be reused as the mold according to this embodiment.

さらに、本実施形態に係る成形型によれば、成形型の温度制御を厳密に行わなくても、成形体における良品率を向上させる効果が期待できる。   Furthermore, according to the mold according to the present embodiment, the effect of improving the yield rate in the molded body can be expected without strictly controlling the temperature of the mold.

通常、リヒートプレス成形では、ガラス素材を加熱して軟化させ、軟化したガラスをプレス成形して、目的とする光学素子の形状に近似した研磨用ガラス光学素子ブランクを成形する。良好なプレス成形を行うためには、成形されるガラスが押圧時に適切な粘度（好ましくは１０４〜１０６ｄＰａ・ｓ）に保たれていることが望ましい。 Normally, in reheat press molding, a glass material is heated and softened, and the softened glass is press-molded to form a polishing glass optical element blank that approximates the shape of the target optical element. In order to perform good press molding, it is desirable that the glass to be molded is maintained at an appropriate viscosity (preferably 10 4 to 10 6 dPa · s) at the time of pressing.

しかし、軟化したガラスが成形型に投入された際、成形型の温度が低いと、ガラス素材の温度が急速に低下し、プレス成形時には粘度が高くなる（すなわち、ガラスが硬くなる）。このようなガラス素材を押圧すると、成形体（研磨用ガラス光学素子ブランク）に、成形不良（カン・ワレやノビ不良）を生じることがある。そのため、成形型は、十分に加熱されていることが望ましい。   However, when the softened glass is put into the mold, if the temperature of the mold is low, the temperature of the glass material rapidly decreases, and the viscosity increases during press molding (that is, the glass becomes hard). When such a glass material is pressed, a molding defect (can crack / nozzle defect) may occur in the molded body (glass optical element blank for polishing). For this reason, it is desirable that the mold is sufficiently heated.

一方で、成形型の温度が高すぎると、ガラスが成形面に融着し易くなる。融着したガラスが成形面に残存したまま、次のプレス成形を行うと、成形体の表面に残存したガラスの形状が転写され、成形体の不良の要因となる。また、このような成形型は使用継続が困難であるため、成形面のメンテナンスや成形型自体の交換が必要となる。そのため、成形型を過剰に加熱するのは望ましくない。   On the other hand, if the temperature of the mold is too high, the glass tends to be fused to the molding surface. When the next press molding is performed with the fused glass remaining on the molding surface, the shape of the glass remaining on the surface of the molded body is transferred, which causes a defect in the molded body. In addition, since it is difficult to continue using such a mold, maintenance of the molding surface and replacement of the mold itself are required. Therefore, it is not desirable to heat the mold excessively.

このように、成形型の温度制御は、成形体の良品率を向上させる上で重要となる。したがって、従来の成形型では、良品率や生産効率を向上させるにあたり、適切な温度範囲（成形不良を防止でき、かつ、ガラスの融着も抑制できる温度）に成形型を厳密にコントロールする必要があった。   As described above, the temperature control of the mold is important in improving the yield rate of the molded product. Therefore, with conventional molds, it is necessary to strictly control the mold within an appropriate temperature range (temperature at which molding defects can be prevented and glass fusion can be suppressed) in order to improve the yield rate and production efficiency. there were.

しかし、本実施形態に係る成形型では、成形型の温度制御を厳密に行わなくても、成形体における良品率を向上できる。成形体の良品率を向上できる理由として、本発明者らは以下のように推察している。   However, in the mold according to the present embodiment, the yield rate in the molded body can be improved without strictly controlling the temperature of the mold. As a reason why the yield rate of the molded product can be improved, the present inventors speculate as follows.

本実施形態に係る成形型では、成形面１７、２７は酸化物セラミック膜１５、２５を有している。そのため、下型１１に投入されたガラス素材４０ａは、下型１１の基材表面１３Ａに直接接することはなく、酸化物セラミック膜１５の表面１７と接触することになる。この場合、下型１１の基材表面１３Ａに直接ガラス素材４０ａが接する場合に比べて、ガラス素材４０ａの温度が急速に低下することなく、熱の移動が緩やかになると考えられる。その結果、仮に下型１１の温度が適切な温度範囲よりも低い場合であっても、ガラス素材４０ａは保温され、押圧時まで適切な粘度を保つことができると考えられる。また、ガラス素材と成形型との温度差による急激な熱衝撃も抑制できると考えられる。   In the mold according to this embodiment, the molding surfaces 17 and 27 have oxide ceramic films 15 and 25. Therefore, the glass material 40 a put into the lower mold 11 does not directly contact the base material surface 13 </ b> A of the lower mold 11, but comes into contact with the surface 17 of the oxide ceramic film 15. In this case, compared with the case where the glass material 40a is in direct contact with the base material surface 13A of the lower mold 11, the temperature of the glass material 40a is not rapidly decreased, and the heat transfer is considered to be gentle. As a result, even if the temperature of the lower mold 11 is lower than an appropriate temperature range, it is considered that the glass material 40a is kept warm and can maintain an appropriate viscosity until pressing. Moreover, it is thought that the rapid thermal shock by the temperature difference between a glass raw material and a shaping | molding die can also be suppressed.

さらに、仮に、成形型の温度が適切な温度範囲よりも高かった場合であっても、上述のように、本実施形態に係る成形型によれば、成形体４０ｂを離型した後の成形面１７、２７には、融着したガラスが残存しにくい。   Furthermore, even if the temperature of the mold is higher than the appropriate temperature range, as described above, according to the mold according to the present embodiment, the molding surface after the molded body 40b is released. 17 and 27 are less likely to retain fused glass.

このように、本実施形態に係る成形型によれば、成形型の温度制御を厳密に行わなくても、優れた良品率で成形体を製造することができる。   Thus, according to the shaping | molding die concerning this embodiment, even if it does not strictly control the temperature of a shaping | molding die, a molded object can be manufactured with the outstanding yield rate.

また、このような本実施形態に係る成形型によって製造された研磨用ガラス光学素子ブランクは、成形不良が発生しにくく、形状精度にも優れている。そのため、後の研削および研磨工程で、加工量や加工時間を低減でき、生産性に優れている。   In addition, the glass optical element blank for polishing produced by such a mold according to the present embodiment is less prone to molding defects and has excellent shape accuracy. Therefore, in the subsequent grinding and polishing steps, the processing amount and processing time can be reduced, and the productivity is excellent.

＜光学素子の製造方法＞
本実施形態に係る光学素子の製造方法は、
本実施形態に係る研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法により作製された研磨用ガラス光学素子ブランクを研削する工程と、
前記研削工程を経た研磨用光学素子ブランクを研磨する工程と、を含む。 <Optical element manufacturing method>
The manufacturing method of the optical element according to this embodiment is as follows:
Grinding the polishing glass optical element blank produced by the method for manufacturing a polishing glass optical element blank according to the present embodiment;
Polishing the polishing optical element blank that has undergone the grinding step.

このような方法により得られる光学素子としては、例えば、球面レンズ、非球面レンズ、マクロレンズ、レンズアレイなどの各種レンズ、プリズム、回折格子などを例示することができる。   Examples of the optical element obtained by such a method include spherical lenses, aspherical lenses, macro lenses, various lenses such as a lens array, prisms, diffraction gratings, and the like.

以下、光学レンズを例に、光学素子の製造方法の一実施形態について説明する。具体的には、図４を参照しながら、図３に示す研磨用ガラスレンズブランク４０ｂ（以下、単に「レンズブランク」ということがある。）の研削および研磨工程について説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施できる。   Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an optical element will be described using an optical lens as an example. Specifically, with reference to FIG. 4, the grinding and polishing process of the glass lens blank for polishing 40b shown in FIG. 3 (hereinafter sometimes simply referred to as “lens blank”) will be described. Note that the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention.

研削工程は、ダイヤモンド砥石などの研削用砥石を用いて、ガラス光学素子ブランク４０ｂの両面を所定の曲率半径に研削するプロセスである。また、研磨工程は、研磨皿を用いて、酸化セリウム等の遊離砥粒を研磨剤として、研削加工された光学素子ブランクの両面を研磨するプロセスである。   The grinding process is a process of grinding both surfaces of the glass optical element blank 40b to a predetermined radius of curvature using a grinding wheel such as a diamond grinding wheel. The polishing step is a process of polishing both surfaces of the ground optical element blank using a polishing dish and using free abrasive grains such as cerium oxide as an abrasive.

図４に示すステップＳ１０では、まず、レンズブランク４０ｂの主表面の球面研削工程（ＣＧ加工）が行われる。ＣＧ加工に用いられるカーブジェネレータとしては、特に限定されず、ダイヤモンド砥石などの公知のものが用いられる。このＣＧ加工では、レンズブランクの表面を数十μｍ〜数百μｍの加工代で粗研削加工して、最終レンズ形状の曲率に近づけるように両面を研削する。また、ＣＧ加工は、例えば、ダイヤモンド粒子からなる砥粒の粒径が２０〜６０μｍ（粒度表示で＃８００〜＃４００）の砥石を用いて、研削液を供給しながら研削する。なお、砥粒の粒径が小さいほど粒度表示の数値は大きくなる。   In step S10 shown in FIG. 4, first, a spherical grinding process (CG processing) of the main surface of the lens blank 40b is performed. The curve generator used for CG processing is not particularly limited, and a known one such as a diamond grindstone is used. In this CG processing, the surface of the lens blank is roughly ground with a machining allowance of several tens of μm to several hundreds of μm, and both surfaces are ground so as to approximate the curvature of the final lens shape. In the CG processing, for example, grinding is performed using a grindstone having a grain size of 20 to 60 μm (# 800 to # 400 in terms of grain size) while supplying a grinding fluid. In addition, the numerical value of a particle size display becomes so large that the particle size of an abrasive grain is small.

次のステップＳ１１では、精研削工程によるスムージング加工（ＳＭ加工）が行われる。ＳＭ加工は一段階の加工でもよいが、多段階の加工でもよい。ＳＭ加工に用いる砥石としては、金属ボンドの砥石と樹脂ボンド砥石を併用したり、樹脂ボンド砥石のみを用いたりすることができる。なお、本実施形態では、これらのＳＭ加工においては、金属ボンドの砥石を用いることなく樹脂ボンド砥石のみを用いる加工を行うことが好ましい。また樹脂ボンド砥石は、砥粒の粒径が８〜２０μｍ（粒度表示で＃２５００〜＃１２００）の砥石を用いることが好ましい。   In the next step S11, smoothing processing (SM processing) is performed by a fine grinding process. The SM processing may be one-step processing, but may be multi-step processing. As a grindstone used for SM processing, a metal bond grindstone and a resin bond grindstone can be used in combination, or only a resin bond grindstone can be used. In the present embodiment, in these SM processing, it is preferable to perform processing using only a resin bond grindstone without using a metal bond grindstone. The resin bond grindstone is preferably a grindstone having a grain size of 8 to 20 μm (# 2500 to # 1200 in terms of grain size).

次に、ステップＳ１２では、研磨加工が行われる。研磨工程では、５μｍ以下の粒径の研磨砥粒（例えば、酸化セリウムの遊離砥粒）を含む研磨液で表面を研磨して、数μｍ〜十数μｍを研磨する。この研磨工程により、光学レンズ本体の光学レンズ面が形成される。   Next, in step S12, polishing is performed. In the polishing step, the surface is polished with a polishing liquid containing polishing abrasive grains having a particle diameter of 5 μm or less (for example, free abrasive grains of cerium oxide) to polish several μm to several tens of μm. By this polishing step, the optical lens surface of the optical lens body is formed.

最後に、ステップＳ１３にて芯取り工程が行われるが、場合によっては芯取り工程は省略することもできる。芯取り工程では、例えば光学レンズ本体を一対のレンズホルダで挟持して心出しを行い、その中心線周りにレンズ本体を回転させながら、レンズ本体の側周面をダイヤモンド砥石等で真円に研削する加工である。   Finally, although a centering process is performed in step S13, the centering process may be omitted depending on circumstances. In the centering process, for example, the optical lens body is sandwiched between a pair of lens holders and centered, and while rotating the lens body around its center line, the side peripheral surface of the lens body is ground to a perfect circle with a diamond grindstone or the like. It is processing to do.

このようにして両凸レンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、凹メニスカスレンズなどの種々の光学レンズを得ることができる。   In this way, various optical lenses such as a biconvex lens, a biconcave lens, a planoconvex lens, a planoconcave lens, a convex meniscus lens, and a concave meniscus lens can be obtained.

また、得られたレンズの光学機能面には使用目的に応じて、反射防止膜、全反射膜などをコーティングしてもよい。   Further, the optical functional surface of the obtained lens may be coated with an antireflection film, a total reflection film or the like according to the purpose of use.

このような本実施形態の光学レンズの製造方法では、本実施形態に係る研磨用ガラス光学素子ブランクが用いられるため、上記研削工程および研磨工程における加工量および加工時間を大幅に短縮することができ、生産性を向上できる。   In such a manufacturing method of the optical lens of the present embodiment, the polishing glass optical element blank according to the present embodiment is used, so that the processing amount and processing time in the grinding step and the polishing step can be significantly reduced. , Improve productivity.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.

例えば、上述した本実施形態に係る成形型では、下型と上型の成形面にのみ酸化物セラミック膜を形成した例を示したが、円滑なプレス成形が行える限り、胴型についても酸化物セラミック膜を形成してもよい。   For example, in the molding die according to this embodiment described above, an example in which the oxide ceramic film is formed only on the molding surfaces of the lower die and the upper die is shown. However, as long as smooth press molding can be performed, the oxide is also applied to the barrel die. A ceramic film may be formed.

また、上述した実施形態の図１では、研磨用ガラスレンズブランクを作製するために用いられる成形型を例に説明してきたが、本発明はこのような成形型に限定されることはない。すなわち、本発明に係る成形型は、さまざまな種類の研磨用ガラス光学素子ブランクの作製に用いられる成形型として好適である。   Moreover, although FIG. 1 of embodiment mentioned above demonstrated as an example the shaping | molding die used in order to produce the glass lens blank for grinding | polishing, this invention is not limited to such a shaping | molding die. That is, the shaping | molding die concerning this invention is suitable as a shaping | molding die used for preparation of various kinds of glass optical element blanks for grinding | polishing.

１．成形型の準備
＜成形型Ｉ＞
まず、シリカを主成分とし、コロイダルシリカを結合剤とするコーティング材料に、溶媒としての水を加え、十分に攪拌して、所望の粘度のコーティング溶液を得た。 1. Mold preparation <Mold I>
First, water as a solvent was added to a coating material containing silica as a main component and colloidal silica as a binder, and stirred sufficiently to obtain a coating solution having a desired viscosity.

次に、成形型の基材として、ステンレス製の上型、下型および胴型を準備した。   Next, an upper mold, a lower mold, and a body mold made of stainless steel were prepared as base materials for the mold.

予め適度な粘度に調節しておいたコーティング溶液をエアブラシに充填し、上型および下型の表面のうち、成形面に対応する面の全面に、コーティング溶液をミスト化して均一にスプレーコートした。   The airbrush was filled with a coating solution that had been adjusted to an appropriate viscosity in advance, and the coating solution was misted and spray-coated uniformly over the entire surface corresponding to the molding surface of the upper and lower mold surfaces.

コーティング溶液を塗布した面を常温で乾燥させた後、スプレーコートを２回繰り返した。その後、コーティング材を成膜した成形型を加熱炉中に投入し、大気雰囲気下、１５０℃で１時間焼成した。   After the surface on which the coating solution was applied was dried at room temperature, spray coating was repeated twice. Thereafter, the mold having the coating material formed thereon was put into a heating furnace and baked at 150 ° C. for 1 hour in an air atmosphere.

このようにして得られた成形型Ｉは、成形面に、約２０μｍの酸化物セラミック膜を有していた。なお、酸化物セラミック膜の膜厚の測定は、フィッシャー社製膜厚計ＤＵＡＬＳＣＯＰＥを使用して行った。以下、同じである。   The mold I thus obtained had an oxide ceramic film of about 20 μm on the molding surface. The film thickness of the oxide ceramic film was measured using a Fischer film thickness meter DUALSCOPE. The same applies hereinafter.

＜成形型II＞
成形型IIは、酸化物セラミック膜の膜厚を５μｍとした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die II>
Mold II was produced in the same manner as Mold I except that the oxide ceramic film thickness was 5 μm.

＜成形型III＞
成形型IIIは、コーティング材料の主成分をアルミナとし、酸化物セラミック膜の膜厚を３０μｍとした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die III>
Mold III was produced in the same manner as Mold I except that the main component of the coating material was alumina and the thickness of the oxide ceramic film was 30 μm.

＜成形型IV＞
成形型IVは、コーティング材料の主成分をジルコニアとし、酸化物セラミック膜の膜厚を５０μｍとした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die IV>
Mold IV was produced by the same method as Mold I except that the main component of the coating material was zirconia and the oxide ceramic film thickness was 50 μm.

＜成形型Ｖ＞
成形型Ｖは、酸化物セラミック膜の膜厚を８０μｍとした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die V>
The mold V was produced by the same method as the mold I except that the thickness of the oxide ceramic film was 80 μm.

＜成形型VI＞
成形型VIは、酸化物セラミック膜に換えて、スパッタリング装置を用いて窒化珪素を成膜し、膜厚を３０μｍとした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die VI>
The forming die VI was produced in the same manner as the forming die I except that silicon nitride was formed using a sputtering apparatus instead of the oxide ceramic film and the film thickness was changed to 30 μm.

＜成形型VII＞
成形型VIIは、酸化物セラミック膜を形成せず、基材表面をそのまま成形面とした以外は、成形型Ｉと同様の方法で作製された。 <Molding die VII>
Mold VII was produced in the same manner as Mold I except that the oxide ceramic film was not formed and the surface of the substrate was used as the molding surface.

２．レンズブランクの作成
次に、上記成形型Ｉ〜VIIを用いてレンズブランクを作製した。いずれの成形型を用いた場合も、下記のレンズブランクＡおよびＢの作製手順で行った。 2. Creating lens blank were then prepared lens blank using the mold I to VII. Whichever mold was used, the following lens blanks A and B were prepared.

＜レンズブランクＡ＞
まず、フツリン酸塩系のガラス素材（回転楕円形状、質量１６ｇ、Ｔｇ＝４０４℃、Ｔｓ＝４４４℃）を準備した。次に、ガラス素材の表面に粉末状の離型剤（窒化ホウ素）を塗布した。また、再加熱用装置の軟化用受け皿にも、離型剤を塗布した。 <Lens blank A>
First, a fluorophosphate-based glass material (spheroid shape, mass 16 g, Tg = 404 ° C., Ts = 444 ° C.) was prepared. Next, a powder release agent (boron nitride) was applied to the surface of the glass material. The release agent was also applied to the softening tray of the reheating apparatus.

離型剤が塗布されたガラス素材を、受け皿に供給し、４５０〜７００℃に設定された加熱炉に投入し、大気雰囲気下で再加熱した。再加熱されたプレス成形用光学ガラス素材は約１０５ｄＰａ・ｓの粘度に軟化した。 The glass material coated with the release agent was supplied to a tray, put into a heating furnace set at 450 to 700 ° C., and reheated in an air atmosphere. The reheated optical glass material for press molding softened to a viscosity of about 10 5 dPa · s.

次いで、再加熱により軟化したガラス素材を、成形型を用いて大気雰囲気下においてプレス成形して、片面凸形状、直径４０ｍｍ、高さ５ｍｍのレンズブランクＡを作製した。なお、成形型の成形面には予め離型剤を塗布しておき、成形型は屈伏点（Ｔｓ）近傍の温度になるように予め加熱しておいた。   Next, the glass material softened by reheating was press-molded in an air atmosphere using a molding die to produce a lens blank A having a single-sided convex shape, a diameter of 40 mm, and a height of 5 mm. A mold release agent was applied in advance to the molding surface of the mold, and the mold was preheated to a temperature in the vicinity of the yield point (Ts).

＜レンズブランクＢ＞
まず、ホウ酸ランタン系のガラス素材（回転楕円形状、質量２１ｇ、Ｔｇ＝６５５℃、Ｔｓ＝６９０℃）を準備した。次に、ガラス素材の表面に粉末状の離型剤（窒化ホウ素）を塗布した。また、再加熱用装置の軟化用受け皿にも、離型剤を塗布した。 <Lens Blank B>
First, a lanthanum borate glass material (spheroid shape, mass 21 g, Tg = 655 ° C., Ts = 690 ° C.) was prepared. Next, a powder release agent (boron nitride) was applied to the surface of the glass material. The release agent was also applied to the softening tray of the reheating apparatus.

離型剤が塗布されたガラス素材を、受け皿に供給し、７００〜９００℃に設定された加熱炉に投入し、大気雰囲気下で再加熱した。再加熱されたプレス成形用光学ガラス素材は約１０５ｄＰａ・ｓの粘度に軟化した。 The glass material to which the release agent was applied was supplied to a tray, put into a heating furnace set at 700 to 900 ° C., and reheated in an air atmosphere. The reheated optical glass material for press molding softened to a viscosity of about 10 5 dPa · s.

次いで、再加熱により軟化したガラス素材を、成形型を用いて大気雰囲気下においてプレス成形して、片面凸形状、直径３０ｍｍ、高さ４ｍｍのレンズブランクＢを作製した。なお、成形型の成形面には予め離型剤を塗布しておき、成形型は屈伏点（Ｔｓ）近傍℃の温度になるように予め加熱しておいた。   Next, the glass material softened by reheating was press-molded in an air atmosphere using a molding die to produce a lens blank B having a single-sided convex shape, a diameter of 30 mm, and a height of 4 mm. Note that a mold release agent was applied in advance to the molding surface of the mold, and the mold was preheated to a temperature in the vicinity of the yield point (Ts).

３．評価（１）
成形型Ｉ〜VIIについて、成形型の耐久性を評価した。具体的には、成形型を交換せずに、継続的に作製できたレンズブランクの数（ショット回数）を評価した。なお、１０００ショットを超えて連続プレスできた成形型については、１０００回使用してプレス成形を打ち切った。また、成形面の劣化（融着したガラスが成形面に残存）により、成形型の連続使用が困難となった場合にはプレス成形を中止した。結果を表１に示す。 3. Evaluation (1)
For the molds I to VII, the durability of the molds was evaluated. Specifically, the number of lens blanks (number of shots) that could be continuously produced without changing the mold was evaluated. In addition, about the shaping | molding die which was able to press continuously over 1000 shots, it used 1000 times and the press molding was discontinued. In addition, press molding was stopped when continuous use of the mold became difficult due to deterioration of the molding surface (fused glass remained on the molding surface). The results are shown in Table 1.

Figure 0006411734
Figure 0006411734

表１に示すように、成形型の基材表面がそのまま成形面となる成形型VIIは、十数回プレス成形を繰り返しただけで、融着したガラスが成形面（基材表面）に残存し、成形型の継続使用ができなくなった。   As shown in Table 1, in the mold VII in which the base material surface of the mold is directly used as the molding surface, the fused glass remains on the molding surface (base material surface) only by repeating the press molding ten or more times. The continuous use of the mold became impossible.

また、酸化物セラミック以外の材料である窒化珪素を用いて、セラミック膜を形成した成形型VIは、成形型VIIに比べて耐久性の向上が確認された。しかし、本実施例でプレス成形は、高温の大気雰囲気中で行われているため、プレス成形を繰り返すうちに、窒化珪素が酸化し、成形面のセラミック膜が脆弱化（膜が劣化）していった。その結果、ショット回数が２００回に満たないうちに、成形面が膜剥がれを起こし、成形型の基材表面が露出した。その後、露出した基材表面に、ガラスが融着して残存し、成形型の継続使用ができなくなった。   Further, it was confirmed that the molding die VI in which the ceramic film is formed using silicon nitride which is a material other than the oxide ceramic has improved durability as compared with the molding die VII. However, since press molding is performed in a high-temperature air atmosphere in this example, silicon nitride is oxidized and the ceramic film on the molding surface becomes brittle (film deteriorates) during repeated press molding. It was. As a result, the molding surface peeled off before the number of shots was less than 200, and the substrate surface of the molding die was exposed. Thereafter, the glass remained fused on the exposed substrate surface, and the mold could not be used continuously.

これに対し、本発明に係る成形型Ｉ〜Ｖでは、成形面が膜厚５μｍ以上の酸化物セラミックを有していることにより、成形型の基材表面を十分に保護でき、さらに融着したガラスが成形面に残存することも防止でき、成形するガラス素材の組成や、成形体の形状によらず、５００回以上の連続成形が可能であることが確認された。   On the other hand, in the forming dies I to V according to the present invention, the surface of the forming die has an oxide ceramic having a film thickness of 5 μm or more, so that the surface of the forming die can be sufficiently protected and further fused. It was also possible to prevent the glass from remaining on the molding surface, and it was confirmed that continuous molding of 500 times or more is possible regardless of the composition of the glass material to be molded and the shape of the molded body.

４．評価（２）
成形型ＩおよびVIIについて、成形型の総合評価を行った。具体的には、上記と同様の方法でレンズブランクＡを一定数（成形型Ｉでは１５００個、成形型VIIでは１００個）それぞれ作製し、成形型の交換回数と、得られたレンズブランクの不良品の発生率を評価した。特に、不良品の発生率については、不良品の内訳も評価した。なお、成形型の交換は、成形面の劣化（融着したガラスが成形面に残存）や、成形面以外の成形型の劣化等により、型の連続使用が困難と判断した場合に行った。結果を表２に示す。 4). Evaluation (2)
For molds I and VII, a comprehensive evaluation of the molds was performed. Specifically, a predetermined number of lens blanks A (1500 for mold I and 100 for mold VII) are respectively produced in the same manner as described above, and the number of times the mold is exchanged and the obtained lens blanks are indeterminate. The incidence of non-defective products was evaluated. In particular, regarding the incidence of defective products, the breakdown of defective products was also evaluated. The mold was replaced when it was determined that continuous use of the mold was difficult due to deterioration of the molding surface (the fused glass remained on the molding surface), deterioration of the molding die other than the molding surface, or the like. The results are shown in Table 2.

Figure 0006411734
Figure 0006411734

表２に示すように、本発明の比較例に相当する成形型VIIでは、十数回プレス成形を繰り返しただけで、融着したガラスが成形面（基材表面）に残存し、成形型を交換する必要があり、１００個のレンズブランクを作製するまでの６回の成形型の交換が必要であった。さらに、成形型VIIにより作製されたレンズブランクでは、ノビ不良やカン・ワレが多発し、２２％もの不良品が発生した。   As shown in Table 2, in the molding die VII corresponding to the comparative example of the present invention, the fused glass remains on the molding surface (base material surface) only by repeating the press molding a dozen times, and the molding die is It was necessary to replace the mold, and it was necessary to replace the mold six times until 100 lens blanks were produced. Furthermore, in the lens blank produced with the mold VII, nodding defects and cracks occurred frequently, resulting in 22% defective products.

これに対し、本発明に係る成形型Ｉでは、１５００個ものレンズブランクを作成しても成形型の交換回数は１回であった。この１回の型交換は、レンズブランクを１０００個程作製した際に起こったもので、成形面に融着したガラスが残存したことに起因するものではなく、成形型の他の部品が劣化したことが原因であった。また、ノビ不良やカン・ワレによる不良品の発生も極めて少なく、不良品率は０．５％であった。   On the other hand, in the mold I according to the present invention, even when 1500 lens blanks were produced, the mold was exchanged once. This one-time mold change occurred when about 1000 lens blanks were produced, and was not caused by the fact that the fused glass remained on the molding surface, and other parts of the molding mold deteriorated. Was the cause. In addition, there was very little occurrence of defective products due to nobby defects and cracks, and the defective product rate was 0.5%.

５．評価（３）
次に、成形型Ｉ、成形型IIおよび成形型VIIを用いて、得られるレンズブランクについて、成形不良と成形型の温度との関係を評価した。 5). Evaluation (3)
Next, using the mold I, the mold II, and the mold VII, the relationship between the molding defect and the temperature of the mold was evaluated for the obtained lens blank.

具体的には、成形型を加熱する際の温度制御を厳密に行い、表３に示す所定の温度（ブランクＡは３８０〜４４０℃、ブランクＢは６８０〜７４０℃）にそれぞれの成形型の温度を調整した以外は、上述のレンズブランクＡおよびＢと同様の方法によりレンズブランクを作製した。   Specifically, temperature control when heating the mold is strictly performed, and the temperature of each mold is set to a predetermined temperature shown in Table 3 (blank A is 380 to 440 ° C., blank B is 680 to 740 ° C.). A lens blank was produced by the same method as the lens blanks A and B described above, except that was adjusted.

得られたレンズブランクにおいてカン・ワレやノビ不良が生じた場合には、成形不良とした。評価結果を表３に示す。なお、表３において、×は成形不良、○は成形良好を意味する。   In the obtained lens blank, when a crack or a crack failure occurred, it was determined as a molding failure. The evaluation results are shown in Table 3. In Table 3, “x” means poor molding, and “◯” means good molding.

Figure 0006411734
Figure 0006411734

表３に示されるように、本発明の比較例に相当する成形型VIIでは、成形型の温度が低温側にわずかに移行しただけで、成形不良を生じることが確認された。   As shown in Table 3, it was confirmed that in the mold VII corresponding to the comparative example of the present invention, a molding defect was caused only by a slight shift of the mold temperature to the low temperature side.

成形型VIIのように低温側の領域で成形不良を抑止する場合、成形型の温度を高める必要があるが、成形型の温度が高いとガラスと成形型との融着が生じ易くなるとともに、成形後の形状ばらつきが大きくなる。したがって、成形型VIIを用いてレンズブランクを作製することは生産性と品質の低下を招くことがわかった。   When molding defects are suppressed in the low temperature region as in the mold VII, it is necessary to increase the temperature of the mold, but if the temperature of the mold is high, the glass and the mold are likely to be fused, Variation in shape after molding increases. Therefore, it was found that producing a lens blank using the mold VII causes a decrease in productivity and quality.

これに対し、本発明の成形型ＩおよびIIでは、成形型の温度が低温側に多少移行しても、良好な成形が可能であることが確認された。   On the other hand, in the molds I and II of the present invention, it was confirmed that good molding is possible even when the temperature of the mold slightly shifts to the low temperature side.

このように、プレス成形可能な温度範囲が広くなったことで、成形型の温度管理を精緻に行う必要がなくなり、生産性が向上し、さらに、比較的低温側の領域でプレス成形しても成形不良が生じないため、成形後の形状ばらつきが小さくなり品質が安定することがわかった。   Thus, the wider temperature range for press molding eliminates the need for precise temperature control of the mold, improving productivity, and even press molding in a relatively low temperature region. Since molding defects do not occur, it has been found that the shape variation after molding is reduced and the quality is stabilized.

１１… 下型
２１… 上型
１３，２３… 基材
１３Ａ，２３Ａ… 基材表面
１５，２５… 酸化物セラミック膜
１７，２７… 成形面（酸化物セラミック膜表面）
３０… 胴型
４０ａ… 軟化したガラス素材
４０ｂ… 研磨用ガラス光学素子ブランク 11 ... Lower mold 21 ... Upper mold 13, 23 ... Base material 13A, 23A ... Base material surface 15, 25 ... Oxide ceramic film 17, 27 ... Molded surface (oxide ceramic film surface)
30 ... Body 40a ... Softened glass material 40b ... Glass optical element blank for polishing

Claims (6)

少なくとも上型および下型を有し、
大気雰囲気において、軟化したガラス素材をプレス成形して研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いるリヒートプレス成形用の成形型であって、
前記上型および下型の少なくとも一方の成形面は、膜厚が５μｍ以上の酸化物セラミック膜を有し、
当該成形型の成形面の表面粗さＲｚが１０μｍを超える、リヒートプレス成形用の成形型。 Having at least an upper mold and a lower mold,
In an air atmosphere, a mold for reheat press molding used to produce a glass optical element blank for polishing by press-molding a softened glass material,
At least one of the molding surfaces of the upper and lower molds has a thickness have a more oxide ceramic film 5 [mu] m,
A mold for reheat press molding in which the surface roughness Rz of the molding surface of the mold exceeds 10 μm . 前記酸化物セラミック膜は、シリカを８０質量％以上含む、請求項１に記載の成形型。 The mold according to claim 1, wherein the oxide ceramic film includes 80% by mass or more of silica. 前記酸化物セラミック膜は、コロイダルシリカを結合材として含有する焼成膜である、請求項１または２に記載の成形型。 The mold according to claim 1 or 2, wherein the oxide ceramic film is a fired film containing colloidal silica as a binder . 前記酸化物セラミック膜は、５０μｍ以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の成形型。   The mold according to claim 1, wherein the oxide ceramic film is 50 μm or less. 請求項１〜４のいずれかに記載の成形型を用意する工程と、
光学ガラスからなるガラス素材を大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した前記ガラス素材を前記成形型でプレス成形するプレス工程と
を含む研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法。 Preparing the mold according to any one of claims 1 to 4,
The manufacturing method of the glass optical element blank for grinding | polishing including the press process of press-molding the said glass material softened with the said shaping | molding die, after reheating the glass raw material which consists of optical glass in air | atmosphere atmosphere. 請求項５に記載の製造方法によって製造された研磨用ガラス光学素子ブランクを研削する工程と、
前記研削工程を経た研磨用ガラス光学素子ブランクを研磨する工程と
を含む光学素子の製造方法。 Grinding the glass optical element blank for polishing produced by the production method according to claim 5;
And a step of polishing the glass optical element blank for polishing that has undergone the grinding step.
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