JP6403469B2 - Continuous heating furnace and temperature measurement method - Google Patents
Continuous heating furnace and temperature measurement method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6403469B2 JP6403469B2 JP2014143447A JP2014143447A JP6403469B2 JP 6403469 B2 JP6403469 B2 JP 6403469B2 JP 2014143447 A JP2014143447 A JP 2014143447A JP 2014143447 A JP2014143447 A JP 2014143447A JP 6403469 B2 JP6403469 B2 JP 6403469B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- receiving surface
- furnace chamber
- radiation thermometer
- light receiving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Radiation Pyrometers (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Description
この発明は、加熱炉内にそれぞれの間に間隔を設けて搬入及び搬出される複数の処理物を所定の温度に加熱する連続式加熱炉及び連続式加熱炉における温度測定方法に関し、特に加熱処理中の処理物の温度を正確に測定できる連続式加熱炉及び連続式加熱炉における温度測定方法に関する。 The present invention relates to a continuous heating furnace and a temperature measurement method in a continuous heating furnace that heats a plurality of workpieces that are carried in and out to the heating furnace to a predetermined temperature with a space between them. The present invention relates to a continuous heating furnace capable of accurately measuring the temperature of a processed material therein and a temperature measurement method in the continuous heating furnace.
連続式加熱炉は、例えばウォーキングビーム方式の搬送手段を備え、未処理の処理物を搬入口から炉内に搬入して所定の温度に加熱処理した後の処理物を搬出口から外部に搬出する工程を繰り返し行う。連続式加熱炉では、炉内に配置されたヒータの駆動を制御して処理物を所定の温度まで加熱するために、炉内の温度及び処理物の搬入出のタクトタイムを制御する必要がある。このため、処理物に熱電対を装着し、炉の搬入口から搬出口まで処理物を搬送する間の温度プロファイルを測定している。 The continuous heating furnace includes, for example, a walking beam type conveying means, and carries an unprocessed processed material into the furnace from the carry-in port and heat-processes it to a predetermined temperature, and carries the processed product to the outside from the carry-out port. Repeat the process. In a continuous heating furnace, it is necessary to control the temperature in the furnace and the tact time of loading / unloading the processed material in order to heat the processed material to a predetermined temperature by controlling the driving of the heater disposed in the furnace. . For this reason, a thermocouple is attached to the processing object, and a temperature profile is measured while the processing object is conveyed from the furnace inlet to the outlet.
ところが、太陽電池に用いられるシリコンウェハ等の軽量の処理物は昇温速度が早く、熱電対を装着するための治具の質量が温度の測定結果に影響を与え、処理物の温度を正確に測定することができない。 However, lightweight processing objects such as silicon wafers used in solar cells have a high rate of temperature increase, and the mass of the jig for mounting the thermocouple affects the temperature measurement results, so that the temperature of the processing object can be accurately determined. It cannot be measured.
そこで、放射温度計を用いて炉内の処理物の温度を測定することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。炉内における処理物の搬送経路の一部に向けて放射温度計を設置することで、固定された測定位置で処理物の温度を測定でき、熱電対及び治具を必要とすることがなく、処理物の温度を正確に測定できるとされている。 Then, measuring the temperature of the processed material in a furnace using a radiation thermometer is proposed (for example, refer patent document 1). By installing a radiation thermometer toward a part of the conveyance path of the processed material in the furnace, the temperature of the processed material can be measured at a fixed measurement position, without the need for a thermocouple and jig, It is said that the temperature of the processed material can be accurately measured.
しかし、連続式加熱炉における処理物の温度測定に放射温度計を適用した場合、処理物の温度を正確に測定できない問題がある。つまり、測定位置を固定した状態で炉内に設置された放射温度計は、処理済の処理物が測定位置を通過した後、未処理の処理物が測定位置に達するまでの間に、炉内の壁面の温度を測定することになる。一般的に、炉内の壁面に使用される断熱材やセラミックボードの放射率は処理物の放射率よりも高い。このため、処理物の温度と壁面の温度とが近接している場合、放射温度計による搬出直前の処理物からの測定温度と壁面からの測定温度との差が明確にならず、処理物のピーク温度を正確に確定できない。 However, when a radiation thermometer is applied to the temperature measurement of the processed material in the continuous heating furnace, there is a problem that the temperature of the processed material cannot be measured accurately. In other words, the radiation thermometer installed in the furnace in a state where the measurement position is fixed is the same as that in the furnace after the processed material passes through the measurement position and the untreated material reaches the measurement position. The temperature of the wall surface will be measured. Generally, the emissivity of the heat insulating material and ceramic board used for the wall surface in the furnace is higher than the emissivity of the processed material. For this reason, when the temperature of the processed object and the temperature of the wall surface are close to each other, the difference between the measured temperature from the processed object immediately before being taken out by the radiation thermometer and the measured temperature from the wall surface is not clear, and the processed object The peak temperature cannot be determined accurately.
この発明の目的は、炉内で放射温度計の受光面が対向する壁面を放射率が低い材料で構成することにより、放射温度計の測定温度から処理物のピーク温度を正確に確定することができる連続式加熱炉及び温度測定方法を提供することである。 The object of the present invention is to accurately determine the peak temperature of the processed material from the measured temperature of the radiation thermometer by configuring the wall surface facing the light receiving surface of the radiation thermometer in the furnace with a material having a low emissivity. It is to provide a continuous heating furnace and a temperature measurement method that can be used.
この発明の連続式加熱炉は、炉室、ヒータ、搬送機構、放射温度計を備えている。炉室は、壁面で包囲された空間であり、処理物の搬入口及び搬出口を備えている。搬送機構は、搬入口及び搬出口を経由する搬送経路に沿って、未処理の処理物を炉室内に搬入し、所定時間が経過した後に処理済の処理物を炉室外に搬出する工程を繰り返し実行する。ヒータは、炉室内を加熱する。放射温度計は、受光面が炉室内における搬送経路の一部である測定位置に対向するように固定的に配置される。壁面の少なくとも受光面に対向する対向部分は、処理物よりも放射率が恒常的に低い低放射率材料、例えば鏡面処理されたシリコンで構成されている。 The continuous heating furnace of the present invention includes a furnace chamber, a heater, a transport mechanism, and a radiation thermometer. The furnace chamber is a space surrounded by wall surfaces, and includes a carry-in port and a carry-out port for processed objects. The transport mechanism repeats the process of transporting unprocessed processed material into the furnace chamber along the transport path that passes through the transport inlet and outlet, and transporting the processed processed material out of the furnace chamber after a predetermined time has elapsed. Run. The heater heats the furnace chamber. The radiation thermometer is fixedly arranged so that the light receiving surface faces a measurement position that is a part of the conveyance path in the furnace chamber. At least a portion of the wall facing the light receiving surface is made of a low emissivity material whose emissivity is constantly lower than that of the processed material, for example, mirror-treated silicon.
放射温度計は、処理物の加熱処理中であって炉室内に処理物が搬入されている状態では処理物の表面温度を測定し、処理物の加熱処理が終了して炉室内から処理物が搬出された状態では壁面の温度を測定する。放射温度計は、測定対象から放射される赤外線量に応じて測定対象の温度を測定するため、同一温度であっても放射率の低い物体の測定温度は放射率の高い物体の測定温度よりも低くなる。加熱処理の開始から終了までの放射温度計の測定温度は、受光面が処理物に対向している間に処理物の温度上昇に伴って上昇し、処理物がピーク温度となった後に処理物の後端が測定位置を通過して受光面が壁面に対向した時に急激に低下する。したがって、放射温度計の測定温度プロファイルが急激に低下する直前の測定温度が、処理物のピーク温度となる。 The radiation thermometer measures the surface temperature of the processed material when the processed material is being heated and is being carried into the furnace chamber. The wall temperature is measured in the unloaded state. The radiation thermometer measures the temperature of the measurement object according to the amount of infrared rays emitted from the measurement object, so the measurement temperature of an object with low emissivity is higher than the measurement temperature of an object with high emissivity even at the same temperature. Lower. The measurement temperature of the radiation thermometer from the start to the end of the heat treatment rises with the temperature rise of the treatment object while the light receiving surface faces the treatment object, and the treatment object reaches the peak temperature. When the rear end passes through the measurement position and the light receiving surface faces the wall surface, it rapidly decreases. Therefore, the measured temperature immediately before the measured temperature profile of the radiation thermometer rapidly decreases becomes the peak temperature of the processed object.
この構成において、放射温度計の受光面に、外部から壁面を貫通して炉室内の測定位置に対向する部分に達する遮光筒を備えることが好ましい。放射温度計を炉室外に配置することができる。 In this configuration, it is preferable that the light receiving surface of the radiation thermometer is provided with a light shielding cylinder that penetrates the wall surface from the outside and reaches a portion facing the measurement position in the furnace chamber. A radiation thermometer can be placed outside the furnace chamber.
この発明の温度測定方法は、連続式加熱炉の炉室を構成する壁面において、少なくとも処理物を挟んで放射温度計と反対側における放射温度計の受光面に対向する部分を、処理物よりも放射率が恒常的に低い材料で構成し、処理物の加熱処理の開始から終了までの間における放射温度計の測定温度プロファイルにおいて急激に低下する直前の温度を処理物のピーク温度とする。 In the temperature measurement method of the present invention, at least the portion of the wall surface constituting the furnace chamber of the continuous heating furnace that faces the light receiving surface of the radiation thermometer on the side opposite to the radiation thermometer across the treatment object is more than the treatment object. The temperature immediately before a rapid decrease in the measured temperature profile of the radiation thermometer from the start to the end of the heat treatment of the processed material is defined as the peak temperature of the processed material.
本発明によれば、放射温度計の測定温度から処理物のピーク温度を正確に確定することができる。 According to the present invention, the peak temperature of the processed product can be accurately determined from the measured temperature of the radiation thermometer.
以下に、この発明の実施形態に係る連続式加熱炉及び温度測定方法について、図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, a continuous heating furnace and a temperature measuring method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1(A)及び(B)に示すように、この発明の実施形態に係る連続式加熱炉10は、6面を壁面11〜16で包囲された炉室1を備えている。壁面11〜16は、セラミックボード等の断熱材料を素材とする。前側の壁面11には搬入口2が形成されており、後側の壁面12には搬出口3が形成されている。搬入口2及び搬出口3は、互いに対向している。
As shown to FIG. 1 (A) and (B), the
搬入口2から炉室1内を経由して搬出口3に至る処理物100の搬送経路に沿って、ウォーキングビーム4が配置されている。ウォーキングビーム4は、矩形平板形状を呈する処理物100における搬送方向に平行な2つの側端部近傍のそれぞれに裏面側から当接するように2列に配置され、処理物100をその主面を水平にして搬送する。ウォーキングビーム4は、この発明の搬送機構に相当するが、これに限るものではなく、処理物100を搬送経路に沿って搬送できることを条件に、ローラハース等の他の構成とすることもできる。
A
炉室1の上部には、一例として5本のランプヒータ5が配置されている。また、炉室1の下面を構成する壁面16の上部にはボトムヒータ6及び底板17が設置されている。ランプヒータ5及びボトムヒータ6は、この発明のヒータに相当し、炉室1内に搬入された処理物100を加熱する。なお、ヒータは、ランプヒータ5とボトムヒータ6との組み合わせに限るものではない。
As an example, five
炉室1の上面を構成する上側の壁面15には、遮光筒7が垂直に貫通している。遮光筒7は、例えばセラミックチューブで構成されており、周面において少なくとも赤外線を遮蔽する。壁面15の上面には、放射温度計8が取り付けられている。放射温度計8は、受光面8Aが遮光筒7の真上に位置するように固定されている。遮光筒7は、上下の開放端を受光面8Aと後述する測定位置P1との間に位置させ、長手方向を鉛直方向に沿って配置されている。放射温度計8の受光面8Aは、遮光筒7の内部を経由して炉室1内において鉛直下方に位置する部材の表面から照射された赤外線を受光する。放射温度計8は、受光面における赤外線の受光量(赤外線量)に基づいて温度を測定する。
The
底板17の上面において放射温度計8の受光面8Aに対向する部分には、対向部材9が配置されている。したがって、放射温度計8の受光面8Aは、搬送経路の一部である測定位置P1を経て対向部材9の上面における対向位置P2に対向する。放射温度計8は、測定位置P1にある処理物100の表面から放射された赤外線、又は対向部材9の上面における対向位置P2から放射された赤外線を受光し、赤外線量に基づいて温度を測定する。
On the upper surface of the
対向部材9は、例えばシリコンの鏡面加工品で構成されている。鏡面加工されたシリコンの赤外線放射率は、処理物100の表面の赤外線放射率よりも十分に低い。また、シリコンは、酸化し難い。このため、対向位置P2は、処理物100の表面よりも十分に低い赤外線放射率を恒常的に維持する。
The facing
なお、底板17をシリコンの鏡面加工品で構成し、底板17の全体を対向部材9としてもよい。
The
図2(A)に示すように、連続式加熱炉10における処理物100の加熱処理時には、ランプヒータ5及びボトムヒータ6を駆動して炉室1内を所定温度に昇温した状態で、放射温度計8による温度測定を開始する。このとき、測定位置P1に処理物100が存在しないため、放射温度計8は対向部材9上の対向位置P2の温度を測定することになる。
As shown in FIG. 2 (A), during the heat treatment of the
炉室1の内部に処理物100の搬送路を挟んで上下にランプヒータ5及びボトムヒータ6を配置しているため、特にボトムヒータ6によって処理物100の下側の温度を一定にでき、加熱不足を解消できる。
Since the
図2(B)に示すように、第1の処理物100が炉室1内に搬入され、処理物100の前端が測定位置P1に達すると、放射温度計8は処理物100の温度測定を開始することになる。処理物100の温度は、炉室1内に搬入された直後には炉室1内の温度よりも低いが、図2(C)に示すように、炉室1内の搬送経路を搬出口3に向かって搬送されていく間に徐々に上昇する。
As shown in FIG. 2B, when the first processed
図2(D)に示すように、第1の処理物100の後端が測定位置P1に達すると、次の処理物100の前端が測定位置P1に達するまで、放射温度計8は対向部材9の対向位置P2の温度を測定する。
As shown in FIG. 2D, when the rear end of the first processed
図3中に破線で示すように、対向部材9のない従来の連続式加熱炉では、時間T1から時間T2までを除く間には、放射温度計8は断熱部材の底板17から放射される赤外線量を測定する。底板17の赤外線放射率は、処理物100の赤外線放射率よりも高い。このため、処理物100の温度と底板17の温度とが等しい状態では、底板17の赤外線放射量は処理物100の赤外線の放射量より多く、放射温度計8による底板17の測定温度は処理物100の測定温度よりも高くなる。この結果、放射温度計8の測定温度が、時間T2以後に処理物100のピーク温度よりも高くなり、処理物100のピーク温度を正確に測定できない。
As shown by a broken line in FIG. 3, in a conventional continuous heating furnace without the facing
これに対して、図3中に実線で示すように、連続式加熱炉10では、放射温度計8の測定温度プロファイルは、時間T1で処理物100の前端が測定位置P1に達した時に、対向部材9上の対向位置P2の温度から十分に加熱されていない処理物100の温度まで低下する。この後、時間T2で処理物100の後端が測定位置P1を通過するまで、処理物100の温度上昇に伴って放射温度計8の測定温度プロファイルも上昇する。時間T2で処理物100の後端が測定位置P1を通過すると、放射温度計8の測定温度プロファイルは急激に低下する。
On the other hand, as shown by a solid line in FIG. 3, in the
時間T1から時間T2までを除く間には、放射温度計8は対向部材9から放射される赤外線量を測定する。対向部材9の赤外線放射率は、処理物100の赤外線放射率よりも十分に小さい。このため、処理物100の温度と対向部材9の温度とが等しい状態では、対向部材9の赤外線放射量は処理物100の赤外線の放射量より少なく、放射温度計8による対向部材9の測定温度は処理物100の測定温度よりも低くなる。この結果、処理物100のピーク温度を正確に測定することができる。
While excluding from time T1 to time T2, the
なお、対向部材9は必須ではない。放射温度計8の受光面8Aが対向する壁面の一部に、処理物100の表面よりも十分に低い赤外線放射率を恒常的に維持する部材を配置することもできる。また、上記の実施形態では、鉛直方向を測定方向とする放射温度計8を前提としたが、水平方向を測定方向とする放射温度計を用いる場合にもこの発明を同様に適用することができる。この場合には、炉室1の側面を構成する壁面13又は14の一方の外側に放射温度計8を配置し、受光面8Aが対向する壁面14又は13の内側に対向部材9を配置するか、又は受光面8Aが対向する壁面14又は13の内側の全面を対向部材9とする。さらに、測定方向が鉛直方向又は水平方向から傾斜した放射温度計8を用いる場合であっても、処理物の搬送炉を挟んで受光面8Aに対向する位置に対向部材9を配置することで、この発明を同様に適用できる。
The opposing
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The above description of the embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.
1−炉室
2−搬入口
3−搬出口
4−ウォーキングビーム(搬送機構)
5−ランプヒータ
6−ボトムヒータ
7−遮光筒
8−放射温度計
9−対向部材
10−連続式加熱炉
11〜16−壁面
1-furnace room 2-carry-in entrance 3-carry-out exit 4-walking beam (conveyance mechanism)
5-lamp heater 6-bottom heater 7-light-shielding cylinder 8-radiation thermometer 9-opposing member 10-continuous heating furnace 11-16-wall surface
Claims (6)
前記搬入口及び前記搬出口を経由する搬送経路に沿って、未処理の処理物を前記炉室内に搬入し、所定時間が経過した後に処理済の処理物を前記炉室外に搬出する工程を繰り返し実行する搬送機構と、
前記炉室内を加熱するヒータと、
受光面が前記炉室内における前記搬送経路の一部である測定位置に対向するように固定的に配置され、前記受光面における赤外線受光量に応じた温度を測定する放射温度計と、を備え、
前記壁面の少なくとも受光面に対向する対向部分を、処理物よりも赤外線放射率が恒常的に低い低放射率材料で構成し、
前記処理物は、前記搬送機構によって搬送されつつ前記放射温度計により前記測定位置にて温度が測定されるとき、前記受光面と前記対向部分との間に配置される、連続式加熱炉。 A furnace chamber that is a space surrounded by a wall surface and has an inlet and an outlet for a processed material;
Repeating the process of carrying in an untreated processed material into the furnace chamber along a conveying path passing through the carrying-in port and the carrying-out port, and carrying out the treated material out of the furnace chamber after a predetermined time has elapsed. A transport mechanism to perform;
A heater for heating the furnace chamber;
A radiation thermometer that is fixedly disposed so as to face a measurement position that is a part of the transport path in the furnace chamber, and that measures a temperature according to the amount of infrared rays received on the light receiving surface;
The opposite part of the wall facing the light receiving surface is made of a low emissivity material whose infrared emissivity is constantly lower than that of the processed material ,
The treated product, when the temperature is measured at the measurement position by the radiation thermometer while being conveyed by the conveying mechanism, wherein arranged between the receiving surface and the opposing portion, a continuous heating furnace.
前記ヒータは、前記炉室内において前記処理物に対する前記受光面側に配置された第1ヒータを含む、請求項1に記載の連続式加熱炉。 The continuous heater according to claim 1, wherein the heater includes a first heater disposed on the light receiving surface side with respect to the processing object in the furnace chamber.
前記炉室内において前記処理物に対する前記受光面側に配置された第1ヒータと、 A first heater disposed on the light receiving surface side with respect to the processing object in the furnace chamber;
前記炉室内において前記処理物に対する前記受光面と反対側に配置された第2ヒータと、 A second heater disposed on the opposite side of the light receiving surface with respect to the processing object in the furnace chamber;
を含む、請求項1または2に記載の連続式加熱炉。The continuous heating furnace of Claim 1 or 2 containing these.
前記処理物を搬送しつつ、前記放射温度計により前記測定位置にて前記処理物の温度を測定するとき、前記処理物を前記受光面と前記対向する部分との間に配置し、
処理物の加熱処理の開始から終了までの間における放射温度計の測定温度プロファイルにおいて急激に低下する直前の温度を処理物のピーク温度とする、
連続式加熱炉の温度測定方法。 A radiation thermometer is fixedly disposed so that the light receiving surface faces the measurement position of the processed material in the furnace chamber, and the portion of the wall surface constituting the furnace chamber that faces the light receiving surface across the measurement position, Arrange a member whose infrared emissivity is constantly lower than the processed material,
When measuring the temperature of the processing object at the measurement position by the radiation thermometer while conveying the processing object, the processing object is disposed between the light receiving surface and the facing part,
The temperature immediately before the sudden decrease in the measured temperature profile of the radiation thermometer between the start and end of the heat treatment of the treatment is the peak temperature of the treatment.
Temperature measurement method for continuous heating furnace.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014143447A JP6403469B2 (en) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | Continuous heating furnace and temperature measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014143447A JP6403469B2 (en) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | Continuous heating furnace and temperature measurement method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016020810A JP2016020810A (en) | 2016-02-04 |
JP6403469B2 true JP6403469B2 (en) | 2018-10-10 |
Family
ID=55265732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014143447A Active JP6403469B2 (en) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | Continuous heating furnace and temperature measurement method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6403469B2 (en) |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4826188A (en) * | 1971-08-09 | 1973-04-05 | ||
JPS5151383A (en) * | 1974-10-30 | 1976-05-06 | Nippon Steel Corp | HABAHOKOONDOSOKUTE ISOCHI |
JPS5876127U (en) * | 1981-11-19 | 1983-05-23 | 株式会社チノ− | Temperature measuring device for objects inside the heating furnace |
JPS5912853U (en) * | 1982-07-14 | 1984-01-26 | 川崎製鉄株式会社 | Cylindrical shield for measuring the surface temperature of steel materials in a heating furnace |
JPS6038655Y2 (en) * | 1982-07-14 | 1985-11-19 | 川崎製鉄株式会社 | Surface temperature measuring device for steel materials in a horizontally moving continuous heating furnace |
JPS6082286U (en) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | 川崎製鉄株式会社 | Low temperature material detection device |
JPH04218736A (en) * | 1990-12-19 | 1992-08-10 | Hitachi Ltd | Means for measuring radiation rate of substrate of substrate treatment device |
JPH0820191B2 (en) * | 1991-02-14 | 1996-03-04 | 日本碍子株式会社 | Temperature measurement method in continuous furnace |
DE102004049789A1 (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-13 | BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. KG | Device for non-contact measurement of the temperature in a melting furnace |
JP5293022B2 (en) * | 2008-09-11 | 2013-09-18 | 新日鐵住金株式会社 | Temperature control method in continuous annealing furnace and continuous annealing furnace |
EP2365307B1 (en) * | 2009-05-12 | 2012-07-18 | LayTec Aktiengesellschaft | Method for calibrating a pyrometer, method for determining the temperature of a semiconducting wafer and system for determining the temperature of a semiconducting wafer |
JP5540767B2 (en) * | 2010-02-25 | 2014-07-02 | Jfeスチール株式会社 | Method and apparatus for measuring length of hot long material |
-
2014
- 2014-07-11 JP JP2014143447A patent/JP6403469B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016020810A (en) | 2016-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8521013B2 (en) | Temperature sensing device and heating device | |
KR101380138B1 (en) | Chamber type drying apparatus for glass using ir steel heater | |
WO1992021147A1 (en) | Pyrometer temperature measurement of plural wafers stacked in a processing chamber | |
KR101983326B1 (en) | Substrate treatment method and substrate treatment apparatus | |
TW201735107A (en) | Substrate processing apparatus and adjustment method of substrate processing apparatus | |
JP4024764B2 (en) | Light irradiation heat treatment method and light irradiation heat treatment apparatus | |
JP6548895B2 (en) | Heater unit and carburizing furnace | |
JP6403469B2 (en) | Continuous heating furnace and temperature measurement method | |
KR101708481B1 (en) | Infrared ray drying apparatus | |
EP2253012A2 (en) | Optical cavity furnace for semiconductor wafer processing | |
KR102247259B1 (en) | Gas removal method, gas removal chamber and semiconductor processing equipment | |
TW201930801A (en) | Heat treatment furnace | |
JP6584254B2 (en) | Drying method and drying apparatus | |
JP5447221B2 (en) | Heat treatment apparatus and heat treatment method | |
JP4271614B2 (en) | Baking apparatus and article baking method | |
JP4397546B2 (en) | Continuous heat treatment furnace and workpiece heat treatment temperature control method in continuous heat treatment furnace | |
JP2009092301A (en) | Heat treatment furnace | |
TW202032077A (en) | Walking beam continuous furnace and method for operating a walking beam continuous furnace | |
JP2012233649A (en) | Continuous heat treatment furnace | |
WO2014109241A1 (en) | Heating device for hot stamping | |
JP2016176627A (en) | Heating device | |
JP6348663B2 (en) | Baking method of coated printing plate | |
JP2014020762A (en) | Heat treatment apparatus | |
JP6824772B2 (en) | Drying device and manufacturing method of dried body | |
JP2015068635A (en) | Thermal treatment equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180425 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180911 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6403469 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |