JP6401745B2 - Antistatic method for optical film, polarizing plate and display - Google Patents

Antistatic method for optical film, polarizing plate and display Download PDF

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Description

本発明は、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムの帯電防止方法、当該光学フィルムを用いた偏光板の帯電防止方法、及び、当該光学フィルムを用いたディスプレイの帯電防止方法に関する。   The present invention relates to an antistatic method for an optical film in which a hard coat layer is provided on one side of a light-transmitting substrate, an antistatic method for a polarizing plate using the optical film, and a display using the optical film. The present invention relates to an antistatic method.

テレビやパソコンのディスプレイの表示面に静電気がたまると、埃が付着し、視認性が落ちる。それを防ぐため、ディスプレイに使用される透明表面フィルムにある程度の導電性を持たせ、静電気を逃がすという方法がとられている。
導電性を持たせるためには、表面フィルムに塗布するハードコート層内に、金属酸化物の微粒子を添加する方法（電子電導パス作成）、界面活性剤系の帯電防止剤を添加する方法（イオン電導パス作成）、及び表面フィルム自体に、金属や導電ポリマーでメッシュ状の導電パスを設ける方法などの手法がある。 When static electricity accumulates on the display surface of a television or personal computer display, dust adheres and visibility decreases. In order to prevent this, a method has been adopted in which a transparent surface film used in a display has a certain degree of conductivity to release static electricity.
In order to provide conductivity, a method of adding fine particles of metal oxide into the hard coat layer applied to the surface film (creating an electronic conduction path), a method of adding a surfactant-based antistatic agent (ion) There are methods such as a method of creating a conductive path) and a method of providing a mesh-shaped conductive path with metal or conductive polymer on the surface film itself.

しかしこれらの方法には、それぞれ問題点がある。すなわち、表面フィルム自体にメッシュ状の電導パスを設ける方法は、映像の視認性悪化につながる。また、金属酸化物微粒子を添加する方法では、粒子の種類や含有量によって導電性が大きく異なり、加えてその粒子自体による視認性の悪化という問題がある。
この問題を解決する方法として、スパッタリングにより、透明な導電膜を作成する手法もあるが、逐一真空引きが必要となり、製造コストがかかるのが現状である。
また、界面活性剤系の帯電防止剤を添加する方法は、イオンを介して静電気を逃すものであるが、イオンを生成させるには、水（空気中の水分）が必須である。しかし、乾燥した環境下、つまり水分が少ない状況では、イオンが生成しないため、著しく導電性が落ちるという問題がある。
そこで、本出願人は、前記の問題を有しない帯電防止剤として、「イオン液体」を用いた出願を行った（特許文献１参照）。イオン液体は、カチオンとアニオンからなり、常温で液体であり、イオンが常に発生しているという特徴を持つ。したがって、この材料をハードコート層に組み込むことで、常にイオンが発生し、イオンを介した静電気除去が可能となった。 However, each of these methods has problems. That is, the method of providing a mesh-like conductive path on the surface film itself leads to deterioration in the visibility of the image. In addition, the method of adding metal oxide fine particles has a problem that the conductivity varies greatly depending on the type and content of the particles, and in addition, the visibility is deteriorated due to the particles themselves.
As a method for solving this problem, there is a method of creating a transparent conductive film by sputtering. However, vacuuming is required one by one, and the manufacturing cost is high at present.
The method of adding a surfactant-based antistatic agent is to release static electricity through ions, but water (water in the air) is essential to generate ions. However, in a dry environment, that is, in a situation where there is little moisture, there is a problem that the conductivity is remarkably lowered because ions are not generated.
Therefore, the present applicant filed an application using “ionic liquid” as an antistatic agent that does not have the above-mentioned problems (see Patent Document 1). An ionic liquid consists of a cation and an anion, is a liquid at normal temperature, and has the characteristics that ion is always generated. Therefore, by incorporating this material into the hard coat layer, ions are always generated, and static electricity can be removed via the ions.

また、ディスプレイの表示面等に取り扱い時に傷がつかないようにするため、透明表面フィルムは高い硬度（ハードコート性）が要求される。   In addition, the transparent surface film is required to have high hardness (hard coat property) so that the display surface or the like of the display is not damaged during handling.

特開２００８−２７４２６６号公報JP 2008-274266 A

上記特許文献１に開示される組成物は、基材に塗布することで、帯電防止性及びハードコート性を付与することのできるものであり有用である。
しかしながら、イオン液体１８０を、ハードコート層を形成するハードコート液に混ぜ込み、塗布すると、帯電防止性能は示すものの、ハードコート層１７０内のイオン液体１８０は、ハードコート層１７０の表層に集まるように存在することがわかった（図８の左図）。
そのため、こうして製作したハードコート層１７０を溶剤の付着したウェス等で拭いたり、溶剤で膜（ハードコート層１７０）を濡らした後に拭くと、図８に示すように、層１７０表面に浮かび上がり、凝集したイオン液体１８０が除去され、十分な帯電防止性能が得られなくなる（図８の右図）という課題が新たにわかった。 The composition disclosed in Patent Document 1 is useful because it can impart antistatic properties and hard coat properties when applied to a substrate.
However, when the ionic liquid 180 is mixed and applied to the hard coat liquid for forming the hard coat layer, the ionic liquid 180 in the hard coat layer 170 is collected on the surface layer of the hard coat layer 170 although the antistatic performance is exhibited. (The left figure of FIG. 8).
Therefore, when the hard coat layer 170 manufactured in this way is wiped with a waste cloth or the like to which a solvent is attached, or when the film (hard coat layer 170) is wetted with a solvent and then wiped, as shown in FIG. The problem that the aggregated ionic liquid 180 is removed and sufficient antistatic performance cannot be obtained (the right diagram in FIG. 8) has been newly found .

本発明は上記問題を解決するためになされたものであり、下記いずれかの帯電防止方法を提供することを目的とする。
光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムにおいて、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、光学フィルムの帯電防止方法。
光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムの前記光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板において、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、偏光板の帯電防止方法。
光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムを備えるディスプレイにおいて、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、ディスプレイの帯電防止方法。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide one of the following antistatic methods.
In an optical film in which a hard coat layer is provided on one side of a light-transmitting substrate, the hard coat layer is added to the hardness (hard coat property), and the antistatic agent is applied to the cover layer by a solvent or a waste cloth attached to the solvent. An antistatic method for an optical film, which has a property that is difficult to remove from a hard coat layer (hereinafter referred to as solvent wiping resistance) and can maintain antistatic performance for a long period of time.
In a polarizing plate in which a polarizing element is provided on the surface of the optical film having a hard coat layer provided on one side of the light transmissive substrate, the hard coat layer has hardness (hard coat property). In addition, the antistatic agent has the property that it is difficult to be removed from the hard coat layer by the solvent of the cover layer or the waste cloth (hereinafter referred to as solvent wiping resistance), and the antistatic performance is maintained for a long time. An antistatic method for a polarizing plate that can be performed.
In a display provided with an optical film having a hard coat layer provided on one side of a light-transmitting substrate, the hard coat layer has a hardness (hard coat property), and an antistatic agent is attached to the solvent or solvent of the cover layer. An antistatic method for a display, which has a property that is difficult to remove from a hard coat layer by a waste cloth (hereinafter referred to as solvent wiping resistance) and can maintain antistatic performance for a long period of time.

本発明は、以下を要旨とするものである。
１．光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。
２．前記ハードコート層は、メタクリロイル基及び／又はアクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーよりなる群から選ばれる硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層である、上記１に記載の帯電防止方法。
３．前記ピークの半値幅が２５〜５００ｎｍであることを特徴とする、上記１又は２に記載の帯電防止方法。
４．前記カチオンが、第４級アンモニウム系カチオン、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン、ピリジニウム系カチオン及びピロリジニウム系カチオンからなる群より選ばれる１種以上のカチオンであることを特徴とする、上記１乃至３のいずれかに記載の帯電防止方法。
５．前記ハードコート層の表面抵抗値が、１．０×１０１３Ω／□以下であることを特徴とする、上記１乃至４のいずれかに記載の帯電防止方法。
６．前記ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の面に低屈折率層が設けられていることを特徴とする、上記１乃至５のいずれかに記載の帯電防止方法。
７．光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの前記光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板の帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。
８．光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムを備えるディスプレイの帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。 The gist of the present invention is as follows.
1. An antistatic method for an optical film in which a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and a pencil hardness of H or higher is provided on one side of a light-transmitting substrate,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less .
2. The hard coat layer is a hard coat layer made of a cured product of a curable resin composition containing a curable resin selected from the group consisting of monomers, oligomers and prepolymers having a methacryloyl group and / or an acryloyl group, 2. The antistatic method according to 1.
3. 3. The antistatic method according to 1 or 2 above, wherein the peak has a half-value width of 25 to 500 nm.
4). The cation is at least one cation selected from the group consisting of a quaternary ammonium cation, a quaternary phosphonium cation, an imidazolium cation, a pyridinium cation, and a pyrrolidinium cation. The antistatic method according to any one of 1 to 3 .
5). 5. The antistatic method according to any one of 1 to 4 above, wherein the hard coat layer has a surface resistance value of 1.0 × 10 13 Ω / □ or less.
6). 6. The antistatic method according to any one of 1 to 5 , wherein a low refractive index layer is provided on a surface of the hard coat layer opposite to the light transmissive substrate.
7). Charging of a polarizing plate in which a polarizing element is provided on the surface of the light transmissive substrate side of an optical film provided with a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and pencil hardness H or more on one surface side of the light transmissive substrate A prevention method,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less .
8). An antistatic method for a display comprising an optical film provided with a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and a pencil hardness of H or more on one surface side of a light transmissive substrate,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less .

本発明は、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムにおいて、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、光学フィルムの帯電防止方法を提供することができる。
また本発明は、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムの前記光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板において、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、偏光板の帯電防止方法を提供することができる。
また本発明は、光透過性基材の一面側にハードコート層が設けられた光学フィルムを備えるディスプレイにおいて、ハードコート層が硬度（ハードコート性）に加えて、帯電防止剤がカバー層の溶剤や溶剤の付着したウェス等によってハードコート層から除去されにくい性質（以下、耐溶剤拭き取り性という。）を有し、かつ、帯電防止性能を長期間持続することのできる、ディスプレイの帯電防止方法を提供することができる。 In the optical film in which a hard coat layer is provided on one surface side of a light-transmitting substrate, the hard coat layer is not only hard (hard coat property) but also an antistatic agent is attached to the cover layer solvent or solvent. To provide an antistatic method for an optical film that has a property that is difficult to be removed from a hard coat layer by waste cloth or the like (hereinafter referred to as solvent wiping resistance) and can maintain antistatic performance for a long period of time. Can do.
Moreover, the present invention provides a polarizing plate in which a polarizing element is provided on the surface of the light transmissive substrate of the optical film in which the hard coat layer is provided on one surface of the light transmissive substrate. In addition to (hard coat properties), the antistatic agent has a property (hereinafter referred to as solvent wiping resistance) that is difficult to be removed from the hard coat layer by a solvent of the cover layer or a waste cloth attached to the solvent. It is possible to provide a method for preventing polarization of a polarizing plate that can maintain performance for a long period of time.
Further, the present invention provides a display comprising an optical film having a hard coat layer provided on one side of a light-transmitting substrate, wherein the hard coat layer is a solvent for the cover layer in addition to the hardness (hard coat property). An antistatic method for a display that has a property that is difficult to be removed from a hard coat layer by a cloth or a waste cloth (hereinafter referred to as solvent wiping resistance) and that can maintain antistatic performance for a long period of time. Can be provided.

本発明に係る光学フィルムの第一の態様の断面の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the cross section of the 1st aspect of the optical film which concerns on this invention. 本発明に係る光学フィルムの第二の態様の断面の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the cross section of the 2nd aspect of the optical film which concerns on this invention. 本発明に係る光学フィルムの第三の態様の断面の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the cross section of the 3rd aspect of the optical film which concerns on this invention. エクストルージョン型のダイコーターを用いた同時塗布方法の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the simultaneous application | coating method using the extrusion type | mold die-coater. 本発明に係る偏光板一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically an example of the polarizing plate which concerns on this invention. 実施例１〜３のハードコート層における深さ方向の硫黄原子の分布を示したグラフである。It is the graph which showed distribution of the sulfur atom of the depth direction in the hard-coat layer of Examples 1-3. 比較例１〜３のハードコート層における深さ方向の硫黄原子の分布を示したグラフである。It is the graph which showed distribution of the sulfur atom of the depth direction in the hard-coat layer of Comparative Examples 1-3. イオン液体を有する従来のハードコート層表面を溶剤で拭き取ったときの概念図である。It is a conceptual diagram when the conventional hard-coat layer surface which has an ionic liquid is wiped off with the solvent.

以下、まず本発明に係る光学フィルムについて説明し、次いで本発明に係る光学フィルムの製造方法、偏光板、ディスプレイパネル及びディスプレイについて説明する。   Hereinafter, the optical film according to the present invention will be described first, and then the optical film manufacturing method, polarizing plate, display panel and display according to the present invention will be described.

本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味し、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を意味する。
本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
本発明において、微粒子（高屈折率微粒子を含む）の平均粒径とは、組成物における微粒子の場合は、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定したときの平均粒径を意味し、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定することができる。ハードコート層中の微粒子の場合は、ハードコート層の断面のＴＥＭ写真により観察される粒子２０個の平均値を意味する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味し、分子量分布を有する場合には、ＴＨＦ溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィー（ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）及びデータ解析ソフト（東ソー（株）製）を用いて測定した（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量Ｍｗを意味し、Ｎｉ個の分子量Ｍｉの分子（ｉ＝１、２、３、・・・）からなる多分散系について、重量平均分子量Ｍｗは下記式（１）により求められる。 In the present invention, (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate, and (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.
In the present invention, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999).
In the present invention, the average particle diameter of fine particles (including high refractive index fine particles) means the average particle diameter when particles in a solution are measured by a dynamic light scattering method in the case of fine particles in the composition, It can be measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. In the case of fine particles in the hard coat layer, it means an average value of 20 particles observed by a TEM photograph of a cross section of the hard coat layer.
In the present invention, the molecular weight means the molecular weight of the compound itself if it does not have a molecular weight distribution, and if it has a molecular weight distribution, gel permeation chromatography (HLC-8220GPC) in THF solvent and data analysis software ( This means the weight average molecular weight Mw, which is a polystyrene equivalent value measured by (GPC) measured using Tosoh Corp.), and Ni molecules having molecular weight Mi (i = 1, 2, 3,...) The weight average molecular weight Mw is calculated | required by following formula (1) about the polydispersed system which consists of these.

Figure 0006401745
Figure 0006401745

（光学フィルム）
本発明に係る光学フィルムは、光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍのハードコート層が設けられた光学フィルムであって、前記ハードコート層にはカチオンとアニオンからなるイオン液体が含まれ、前記ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在することを特徴とする。
このように帯電防止性を発現するイオン液体がハードコート層表面から５０ｎｍまでの深さの領域に偏在せず、ハードコート層の表面から特定の深さ（５０〜７００ｎｍ）の領域に多く存在することによって、ハードコート層が耐溶剤拭き取り性を有し、結果として長期間にわたって十分な帯電防止性能を持続することができる。
なお、ピークとは、その前後に比べて存在量が多い点（極大点）をいう。
また、本発明においては、上記特定の深さにイオン液体の存在量のピークが存在すれば良く、ハードコート層の表面から深さ５０ｎｍまでの領域に、当該ピークの存在量よりも少ないイオン液体が存在していても良いし、イオン液体が存在していなくても良い。 (Optical film)
The optical film according to the present invention is an optical film in which a hard coat layer having a thickness of 1 to 40 μm is provided on one side of a light-transmitting substrate, and the hard coat layer contains an ionic liquid composed of a cation and an anion. In the film thickness direction of the hard coat layer, the ions present in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light transmissive substrate of the hard coat layer and in a region from the interface to 700 nm. It is characterized by the presence of a peak in the amount of liquid present.
In this way, the ionic liquid that exhibits antistatic properties is not unevenly distributed in a region having a depth of 50 nm from the surface of the hard coat layer, but is present in a region having a specific depth (50 to 700 nm) from the surface of the hard coat layer. As a result, the hard coat layer has solvent wiping resistance, and as a result, sufficient antistatic performance can be maintained over a long period of time.
In addition, a peak means the point (maximum point) with much abundance compared with before and after that.
In the present invention, it is only necessary that a peak of the ionic liquid exists at the specific depth, and the ionic liquid is smaller than the existing amount of the peak in the region from the surface of the hard coat layer to a depth of 50 nm. May be present, or the ionic liquid may not be present.

本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、前記ピークの半値幅が２５〜５００ｎｍとすることも可能である。
半値幅が上記範囲内であることにより、ハードコート層の表面（光透過性基材とは反対側の界面）から特定の深さ（５０〜７００ｎｍ）の領域に前記イオン液体が偏在することになり、高い帯電防止性能と耐溶剤拭き取り性とを併せ持つ。 In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the full width at half maximum of the peak may be 25 to 500 nm.
When the half width is within the above range, the ionic liquid is unevenly distributed in a region having a specific depth (50 to 700 nm) from the surface of the hard coat layer (interface opposite to the light transmissive substrate). It has both high antistatic performance and solvent wiping resistance.

本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合を、５０％以下とすることも可能である。また、より好適な実施態様では、前記界面から６００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合を、５０％以下とすることも可能である。さらには、好適な実施態様では、当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合を、３０％以下とすることも可能である。
これにより、効率良くハードコート層の帯電防止性能を高めることができる。
なお、上記特定領域に存在するイオン液体の存在量の割合は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）（ＫＲＡＴＯＳ社製の商品名ＥＳＣＡ−３４００）を用いて以下のように測定することができる。
なお、ＸＰＳは固体試料の表面にＸ線を照射し、光電効果により発生する光電子の運動エネルギーを測定する分析手法であり、光電子ピークの観測強度を計測することにより、試料表面を構成する元素の種類、濃度を測定することができる。本発明ではＸ線源としてＭｇアノードを使用した。
具体的には、試料（ハードコート層）をイオンスパッタ（Ａｒ＋を照射、スパッタ用イオン銃は「高速イオン銃（Ｋａｕｆｍａｎ型イオン銃）」を使用。）することによりエッチングして特定深さの部分を露出させ、その特定深さの露出部分におけるＸＰＳ測定を行う。そして、その特定深さの露出部分において観察された各元素特有のピーク（Ｂｉｎｄｉｎｇ Ｅｎｅｒｇｙ（Ｂ．Ｅ．）単位［ｅＶ］）からＣ（２６５〜３０５）、Ｎ（３８０〜４２０）、Ｏ（５１０〜５５０）、Ｓ（１４５〜１８５）、Ｆ（６６５〜７０５）のピークを選び、各々のピーク面積より当該５元素の存在量を算出し、算出された当該５元素の存在量の合計を１００％とする。上記ＸＰＳ測定をハードコート層の界面から測定対象の領域（７００ｎｍ）まで行う。そして、当該５元素のうち、測定対象のイオン液体のみに含まれる特定の元素に着目し、当該界面から測定対象の領域（７００ｎｍ）までの当該特定元素の含有量の合計量Ｓ１と、当該界面から５０ｎｍまでの領域の当該特定元素の合計量Ｓ２から、Ｓ１に対するＳ２の割合を求めることによって、当該界面から所定領域（７００ｎｍ）に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在するイオン液体の存在量の割合が分かる。
この他に、フィルム断面の任意部位をＥＤＸ（元素分析）にかける手法もある。 In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the ratio of the abundance of the ionic liquid present in the region from the interface to 50 nm to the abundance of the ionic liquid present in the region from the interface to 700 nm, It is also possible to make it 50% or less. In a more preferred embodiment, the ratio of the abundance of the ionic liquid existing in the region from the interface to 50 nm to the abundance of the ionic liquid existing in the region from the interface to 600 nm is 50% or less. It is also possible to do. Furthermore, in a preferred embodiment, the ratio of the amount of the ionic liquid existing in the region from the interface to 50 nm can be 30% or less.
Thereby, the antistatic performance of a hard-coat layer can be improved efficiently.
In addition, the ratio of the abundance of the ionic liquid existing in the specific region can be measured as follows using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) (trade name ESCA-3400 manufactured by KRATOS).
XPS is an analytical method for irradiating the surface of a solid sample with X-rays and measuring the kinetic energy of photoelectrons generated by the photoelectric effect. By measuring the observation intensity of the photoelectron peak, the elements of the sample surface are measured. The type and concentration can be measured. In the present invention, an Mg anode was used as the X-ray source.
Specifically, a sample (hard coat layer) is etched by ion sputtering (irradiated with Ar +, and a high-speed ion gun (Kaufman type ion gun) is used as a sputtering ion gun). The part is exposed, and XPS measurement is performed on the exposed part at the specific depth. Then, peaks (Binding Energy (BE) unit [eV]) peculiar to each element observed in the exposed portion of the specific depth, C (265-305), N (380-420), O (510 ~ 550), S (145-185), F (665-705) peaks are selected, the abundance of the five elements is calculated from the respective peak areas, and the total of the calculated abundances of the five elements is 100. %. The XPS measurement is performed from the interface of the hard coat layer to the region to be measured (700 nm). Then, paying attention to a specific element included in only the ionic liquid to be measured among the five elements, the total amount S1 of the content of the specific element from the interface to the region to be measured (700 nm), and the interface From the total amount S2 of the specific element in the region up to 50 nm to obtain the ratio of S2 to S1, the region from the interface to the existing amount of the ionic liquid existing in the predetermined region (700 nm) from the interface to 50 nm The ratio of the abundance of the ionic liquid present in is found.
In addition to this, there is a technique in which an arbitrary part of the film cross section is subjected to EDX (elemental analysis).

ハードコート層において、イオン液体の存在量のピークが存在するのは、ハードコート層表面から５０〜７００ｎｍの領域であるが、耐溶剤拭き取り性と帯電防止性能の観点から、ハードコート層表面から８０〜７００ｎｍであることが好ましく、１００〜６００ｎｍであることがより好ましい。   In the hard coat layer, the peak of the ionic liquid is present in the region of 50 to 700 nm from the surface of the hard coat layer. From the viewpoint of solvent wiping resistance and antistatic performance, the peak is 80 from the surface of the hard coat layer. It is preferably ˜700 nm, more preferably 100 to 600 nm.

図１は、本発明に係る光学フィルムの第一の態様の断面の一例を示した模式図である。
図１の光学フィルム１では、光透過性基材１０の一面側に、膜厚１〜２０μｍのハードコート層２０が設けられている。ハードコート層２０にはイオン液体３０が含まれており、ハードコート層２０の膜厚方向（以下、「深さ方向」ともいう。）において、ハードコート層２０の光透過性基材１０とは反対側の界面４０（以下、単に「ハードコート層の表面」ともいう。）から５０〜７００ｎｍの領域に、界面４０から７００ｎｍまでの領域に存在するイオン液体３０の存在量のピークが存在する。すなわち、界面４０から５０ｎｍまでの領域に存在するイオン液体３０よりも、界面４０から５０〜７００ｎｍの領域に存在するイオン液体３０の方が多い。
本発明に係る光学フィルムの第一の態様では、帯電防止性を発現するイオン液体３０が界面４０から５０ｎｍまでの領域に偏在せず、ハードコート層２０の界面４０から特定の深さの領域に多く存在することによって、ハードコート層２０が耐溶剤拭き取り性を有し、長期間にわたって十分な帯電防止性能を持続することができる。
なお、図１以下の模式図では、説明の便宜上、縦横の寸法比及び各層間の寸法比は適宜、実寸とは変えて誇張して図示してある。 FIG. 1 is a schematic view showing an example of a cross section of the first embodiment of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 1, a hard coat layer 20 having a thickness of 1 to 20 μm is provided on one surface side of the light transmissive substrate 10. The hard coat layer 20 contains an ionic liquid 30, and in the film thickness direction of the hard coat layer 20 (hereinafter also referred to as “depth direction”), what is the light transmissive substrate 10 of the hard coat layer 20? A peak of the abundance of the ionic liquid 30 existing in the region from the interface 40 to 700 nm is present in the region from 50 to 700 nm from the opposite interface 40 (hereinafter also simply referred to as “the surface of the hard coat layer”). That is, there are more ionic liquids 30 existing in the region of 50 to 700 nm from the interface 40 than ionic liquids 30 existing in the region from the interface 40 to 50 nm.
In the first aspect of the optical film according to the present invention, the ionic liquid 30 that exhibits antistatic properties is not unevenly distributed in the region from the interface 40 to 50 nm, and is in a region of a specific depth from the interface 40 of the hard coat layer 20. By being present in large numbers, the hard coat layer 20 has a solvent wiping resistance and can maintain sufficient antistatic performance over a long period of time.
In the schematic diagrams of FIG. 1 and subsequent figures, for convenience of explanation, the vertical and horizontal dimension ratios and the dimension ratios between the layers are exaggerated as appropriate instead of the actual dimensions.

以下、本発明に係る光学フィルムの必須の構成要素である光透過性基材及びハードコート層並びに必要に応じて設けることができる低屈折率層について説明する。   Hereinafter, the light transmissive substrate and the hard coat layer, which are essential components of the optical film according to the present invention, and the low refractive index layer that can be provided as necessary will be described.

（光透過性基材）
本発明の光学フィルムに使用される光透過性基材は、種々の機能層の積層対象や支持体となるものである。
したがって、光透過性基材は、可視光に対して透明性を有し、種々の機能層が積層可能であれば、その種類は特に限定されるものではない。
具体的には光透過性基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：屈折率１．５７５）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ポリカーボネート；ポリメタクリレート等のアクリル樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ：屈折率１．４７５）、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂；ナイロンー６、ナイロンー６・６等のポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ポリエーテルサルホン、もしくはポリエーテルケトン等の樹脂からなるフィルムを挙げることができる。 (Light transmissive substrate)
The light-transmitting substrate used in the optical film of the present invention serves as a laminate or support for various functional layers.
Therefore, the kind of the light-transmitting substrate is not particularly limited as long as it has transparency to visible light and various functional layers can be laminated.
Specifically, as the light-transmitting substrate, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET: refractive index 1.575) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as cyclic polyolefin, polyethylene, polypropylene, and polystyrene; polychlorinated Vinyl resins such as vinyl and polyvinylidene chloride; polycarbonate; acrylic resins such as polymethacrylate; cellulose resins such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC: refractive index 1.475), cellulose acetate; nylon-6, nylon-6 Examples thereof include polyamide resins such as 6; polyimide resins; films made of resins such as polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, polyether sulfone, or polyether ketone.

その他、光透過性基材として、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製の「ゼオネックス」や「ゼオノア」（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製「スミライトＦＳ−１７００」、ＪＳＲ（株）製「アートン」（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製「アペル」（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の「Ｔｏｐａｓ」（環状オレフィン共重合体）、日立化成工業（株）製「オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ」（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、ＴＡＣの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。   In addition, an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure can also be used as a light-transmitting substrate. This is a base material on which a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin, etc. are used. For example, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. "Zeonex" and "Zeonoa" (norbornene resin), "Sumilite FS-1700" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. ("Cyclic olefin copolymer"), "Topas" (cyclic olefin copolymer) manufactured by Ticona, "Optrez OZ-1000 series" (alicyclic acrylic resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and the like. . Moreover, the FV series (low birefringence, low photoelastic modulus film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation is also preferable as an alternative base material for TAC.

光透過性基材は、上記の材料からなるものを単独で、又は同種もしくは異種のものを積層して用いることができる。
光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。 As the light-transmitting substrate, those made of the above materials can be used alone, or the same kind or different kinds can be laminated.
When forming a hard coat layer on the light-transmitting substrate, in order to improve adhesion, in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment, a coating called an anchor agent or primer is applied. It may be performed in advance.

光透過性基材の透明性としては、光透過性基材が単層の場合、可視領域の光線透過率が８０％以上であることが好ましい。また、透明性を有するとは、無色透明であることが好ましいが、必ずしも無色透明であることに限ることはなく、本発明の目的を妨げない程度であれば、着色された着色透明であってもよい。可視領域の光線透過率は、出来る限り高いことが好ましいが、最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから、最低２枚を積層する場合を考慮しても、それぞれの光透過性基材としては光線透過率が８０％であれば、目的に適う。もちろん、光線透過率が高ければ高いほど、光透過性基材を複数枚積層出来るため、光透過性基材の単層の光線透過率は、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。また、光線透過率を向上させるには、厚みを薄くするのも有効な手段である。   As the transparency of the light transmissive substrate, when the light transmissive substrate is a single layer, the light transmittance in the visible region is preferably 80% or more. Further, having transparency is preferably colorless and transparent, but is not necessarily limited to being colorless and transparent, and is colored and transparent as long as it does not interfere with the object of the present invention. Also good. The light transmittance in the visible region is preferably as high as possible, but the final product requires a light transmittance of 50% or more. If the light transmittance is 80% as a conductive substrate, it is suitable for the purpose. Of course, as the light transmittance is higher, a plurality of light transmissive substrates can be laminated. Therefore, the light transmittance of a single layer of the light transmissive substrate is more preferably 85% or more, and particularly preferably 90%. % Or more. In order to improve the light transmittance, reducing the thickness is also an effective means.

光透過性基材の厚みは、透明性を満足すれば特に制限されないが、加工性の面からは、１２〜３００μｍ程度の範囲であることが好ましい。厚みが１２μｍ以上であると、製造工程において取り扱いやすいという利点がある。一方、厚みが３００μｍ以下であると、フィルムとしての可撓性が十分得られ、各工程での連続巻き取りを可能とし、光透過性基材どうしを複数枚積層する際の加工性が良好である。
なお、必要に応じて上記光透過性基材として、公知の添加物、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。 The thickness of the light transmissive substrate is not particularly limited as long as the transparency is satisfied, but is preferably in the range of about 12 to 300 μm from the viewpoint of workability. There exists an advantage that it is easy to handle in a manufacturing process as thickness is 12 micrometers or more. On the other hand, if the thickness is 300 μm or less, sufficient flexibility as a film is obtained, enabling continuous winding in each step, and good workability when laminating a plurality of light-transmitting substrates. is there.
If necessary, known additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a plasticizer, a lubricant, a colorant, an antioxidant, a flame retardant, etc. are added as the light transmissive substrate. However, it can also be used with functions added.

（ハードコート層）
本発明に係る光学フィルムのハードコート層は、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、１〜４０μｍの厚さのハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在する。
本発明においてハードコート層は、通常、少なくとも硬化性樹脂及びイオン液体を含むハードコート層用硬化性樹脂組成物（以下、単に「ＨＣ層用組成物」ともいう。）の硬化物からなる。本発明に係る光学フィルムのハードコート層は、硬化性樹脂とイオン液体を含むＨＣ層用組成物の硬化物からなるため、高い帯電防止性能及び硬度を有する。さらに、ハードコート層の深さ方向において上記特定のイオン液体の分布を有するため、耐溶剤拭き取り性を有し、長期間にわたって十分な帯電防止性能を持続することができる。
以下、ＨＣ層用組成物の必須成分である硬化性樹脂、イオン液体と、必要に応じて含まれていても良い溶剤等のその他の成分を順に説明する。 (Hard coat layer)
The hard coat layer of the optical film according to the present invention contains an ionic liquid composed of a cation and an anion, and in the film thickness direction of the hard coat layer having a thickness of 1 to 40 μm, Has a peak of the abundance of the ionic liquid present in the region from 50 to 700 nm from the opposite interface.
In the present invention, the hard coat layer is usually composed of a cured product of a curable resin composition for a hard coat layer containing at least a curable resin and an ionic liquid (hereinafter also simply referred to as “HC layer composition”). Since the hard coat layer of the optical film according to the present invention is made of a cured product of the HC layer composition containing a curable resin and an ionic liquid, it has high antistatic performance and hardness. Furthermore, since it has the distribution of the specific ionic liquid in the depth direction of the hard coat layer, it has solvent wiping resistance and can maintain sufficient antistatic performance over a long period of time.
Hereinafter, the curable resin, the ionic liquid, which are essential components of the composition for the HC layer, and other components such as a solvent which may be included as necessary will be described in order.

（硬化性樹脂）
本発明においては、前記硬化性樹脂として、熱及び／又は電離放射線により硬化可能な１又は２以上の官能基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーを用いることができる。
官能基の例としては、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基、グリシジル基、又はイソシアネート基等で例示される縮合性基及び反応性基が挙げられる。また、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の炭素数２〜６のアルキニル基；ビニリデン等の炭素数２〜６のアルケニリデン基、又は（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基又はアクリロイル基を意味する）などの重合性基が例示される。これらの官能基のうち、重合性基が特に好ましい。
硬化性樹脂１分子中の官能基の数は、硬化性樹脂間での架橋によりハードコート層の硬度を高める観点から２以上が好ましい。 (Curable resin)
In the present invention, monomers, oligomers and prepolymers having one or more functional groups that can be cured by heat and / or ionizing radiation can be used as the curable resin.
Examples of functional groups include condensable groups and reactive groups exemplified by hydroxyl groups, acid anhydride groups, carboxyl groups, amino groups, imino groups, epoxy groups, glycidyl groups, or isocyanate groups. In addition, alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group and allyl group; alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as ethynyl group, propynyl group and butynyl group; vinylidene and the like Examples thereof include a polymerizable group such as an alkenylidene group having 2 to 6 carbon atoms or a (meth) acryloyl group (meaning a methacryloyl group or an acryloyl group). Of these functional groups, a polymerizable group is particularly preferable.
The number of functional groups in one molecule of the curable resin is preferably 2 or more from the viewpoint of increasing the hardness of the hard coat layer by crosslinking between the curable resins.

前記重合性基を有する硬化性樹脂としては、ラジカル重合性基を有する化合物が挙げられる。
ラジカル重合性基を有する化合物としては、例えば、比較的低分子量（例えば、分子量８０〜２０００）の（メタ）アクリレートモノマー、ポリエステルモノマー、ポリエーテルモノマー、エポキシモノマー、ウレタンモノマー、アルキッドモノマー、スピロアセタールモノマー、ポリブタジエンモノマー、ポリチオールポリエンモノマー、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
この他、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能又は多官能モノマー、あるいはビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等のモノマー等を用いても良い。 Examples of the curable resin having a polymerizable group include a compound having a radical polymerizable group.
Examples of the compound having a radical polymerizable group include (meth) acrylate monomers, polyester monomers, polyether monomers, epoxy monomers, urethane monomers, alkyd monomers, spiroacetal monomers having a relatively low molecular weight (for example, molecular weight of 80 to 2000). (Meth) acrylic acid esters of polyfunctional compounds such as polybutadiene monomer, polythiol polyene monomer, polyhydric alcohol, and the like.
Specific examples of (meth) acrylate monomers include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like.
In addition, monofunctional or polyfunctional monomers such as styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone, or monomers such as bisphenol type epoxy compounds, novolac type epoxy compounds, aromatic vinyl ethers, and aliphatic vinyl ethers may be used.

また、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジシクロヘキサンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能モノマーや、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ系オリゴマー、脂肪酸系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル等のビニルエーテル系オリゴマー等の環状エーテル結合含有オリゴマーを用いても良い。   In addition, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dicyclohexanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane Polyfunctional monomers such as tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, and epoxy such as bisphenol type epoxy resin and novolac type epoxy compound Cyclic ether bond-containing oligomers such as vinyl ether oligomers such as aliphatic oligomers, fatty acid vinyl ethers and aromatic vinyl ethers may be used.

熱硬化性樹脂としては、熱硬化性基を持つモノマー又はオリゴマーを用いることができる。熱硬化性基は、例えば、アルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアナート基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、ビニル基、シアノ基、メチロール基又は活性メチレン基等が挙げられる。
なお、熱硬化性基は、ブロックイソシアナート基のように、反応性を有する官能基にブロック剤が結合しており、加熱されるとブロック剤の分解反応が進行して重合性及び架橋性を示す官能基でも良い。 As the thermosetting resin, a monomer or oligomer having a thermosetting group can be used. The thermosetting group is, for example, an alkoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an isocyanate group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a vinyl group, a cyano group, a methylol group, or An active methylene group etc. are mentioned.
In addition, the thermosetting group has a blocking agent bonded to a reactive functional group such as a block isocyanate group, and when heated, the decomposition reaction of the blocking agent proceeds to increase the polymerizability and crosslinkability. The functional group shown may be sufficient.

また、熱硬化性樹脂としては、通常カップリング剤として用いられる有機ケイ素化合物（ケイ素のアルコキシド又はシランカップリング剤）、有機チタン化合物（チタネートカップリング剤）又は有機アルミニウム化合物等の有機金属化合物を用いても良い。
ここで、有機ケイ素化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。これらの有機ケイ素化合物のうち反応性基を有する有機ケイ素化合物は、他のモノマーやオリゴマーと硬化反応して強固に結合し易いので、得られるハードコート層の硬度が向上する。
有機チタン化合物としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等を挙げることができる。 In addition, as the thermosetting resin, an organometallic compound such as an organosilicon compound (silicon alkoxide or silane coupling agent), an organotitanium compound (titanate coupling agent), or an organoaluminum compound that is usually used as a coupling agent is used. May be.
Here, examples of the organosilicon compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-aminopropyltrimethoxysilane. Among these organosilicon compounds, the organosilicon compound having a reactive group is easily cured and strongly bonded to another monomer or oligomer, so that the hardness of the resulting hard coat layer is improved.
Examples of the organic titanium compound include tetramethoxy titanium and tetraethoxy titanium.

さらに、必要に応じて、主鎖や側鎖に（メタ）アクリレート基を有する重量平均分子量が２万以上の反応性ポリマー等も好ましく使用することができる。これらの反応性ポリマーは、例えば東亞合成（株）製の「マクロモノマー」等の市販品として購入することが可能である。また、例えば、（メタ）アクリル酸メチルとグリシジルメタクリレートとの共重合体をあらかじめ準備しておき、後から共重合体のグリシジル基と（メタ）アクリル酸のカルボキシル基を縮合させることで、（メタ）アクリレート基を有する反応性ポリマーを得ることもできる。
これら重量平均分子量が２万以上と大きい成分を硬化性樹脂の全質量に対して、１０〜８０質量％含むことで、複雑な形状に対する成膜性の向上や硬化時の体積収縮による光学フィルムのカールや反りの低減が可能となる。 Furthermore, if necessary, a reactive polymer having a (meth) acrylate group in the main chain or side chain and having a weight average molecular weight of 20,000 or more can be preferably used. These reactive polymers can be purchased as commercial products such as “macromonomer” manufactured by Toagosei Co., Ltd., for example. In addition, for example, a copolymer of methyl (meth) acrylate and glycidyl methacrylate is prepared in advance, and then the glycidyl group of the copolymer and the carboxyl group of (meth) acrylic acid are condensed (meta It is also possible to obtain reactive polymers having acrylate groups.
By containing 10 to 80% by mass of these components having a large weight average molecular weight of 20,000 or more based on the total mass of the curable resin, the optical film can be improved in film formability for complex shapes or by volume shrinkage during curing. Curling and warping can be reduced.

後述する浸透性溶剤を用いる場合、硬化性樹脂をＴＡＣ基材に浸透させやすくする観点から、硬化性樹脂の分子量は１０００以下であることが好ましい。
このような硬化性樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 When using the permeable solvent mentioned later, it is preferable that the molecular weight of curable resin is 1000 or less from a viewpoint of making curable resin permeate | transmit TAC base material easily.
Examples of such curable resins include pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

硬化性樹脂は、上述したものを１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ＨＣ層用組成物における硬化性樹脂の含有量は、必要に応じて適宜調節すれば良いが、ハードコート層として十分な硬度を付与することができるとともに、十分な量のイオン液体を含有させることができ、帯電防止性能と硬度を両立させる観点から、溶剤を除くＨＣ層用組成物の全質量に対して、５０〜９９質量％の範囲が好ましく、７０〜９７質量％の範囲がより好ましい。 As the curable resin, those described above can be used alone or in combination of two or more.
The content of the curable resin in the composition for the HC layer may be adjusted as necessary, but it can provide sufficient hardness as a hard coat layer and contain a sufficient amount of ionic liquid. From the viewpoint of achieving both antistatic performance and hardness, the range of 50 to 99 mass% is preferable and the range of 70 to 97 mass% is more preferable with respect to the total mass of the HC layer composition excluding the solvent.

（帯電防止性を有するイオン液体）
本発明において、イオン液体とは、カチオンとアニオンからなり、常温（２３〜２５℃）において液体状態となるものを意味する。本発明に使用するイオン液体は、帯電防止性を有すれば良く、この他、要求される性能に応じて、イオン伝導性が高いもの、熱安定性が高いもの、粘性が適度なもの、蒸気圧が低いもの、引火性及び可燃性がないもの、液体温度範囲が広いもの等を適宜選択して用いれば良い。
なお、後述する同時塗布法を用いる場合は、硬化してハードコート層の下層側となる第一のＨＣ層用組成物にのみイオン液体が含まれていれば、ＨＣ層用組成物にイオン液体が含まれているものとし、第二のＨＣ層用組成物にはイオン液体が含まれていなくても良い。 (Ionic liquid with antistatic properties)
In this invention, an ionic liquid means what consists of a cation and an anion and will be in a liquid state in normal temperature (23-25 degreeC). The ionic liquid used in the present invention only needs to have antistatic properties. In addition, depending on the required performance, the ionic liquid has high ionic conductivity, high thermal stability, moderate viscosity, vapor Those having a low pressure, those having no flammability and flammability, those having a wide liquid temperature range, and the like may be appropriately selected and used.
In the case of using the simultaneous coating method described later, if the ionic liquid is contained only in the first HC layer composition that is hardened and becomes the lower layer side of the hard coat layer, the HC liquid composition contains the ionic liquid. And the second HC layer composition does not have to contain an ionic liquid.

本発明に係る光学フィルムでは、前記カチオンが、第４級アンモニウム系カチオン、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン、ピリジニウム系カチオン及びピロリジニウム系カチオンからなる群より選ばれる１種以上のカチオンであることが、溶解性および帯電防止性の観点から好ましい。さらに、前記カチオンは、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン及びピリジニウム系カチオンが、溶解性および帯電防止性の観点からより好ましい。なかでも、熱安定性及び耐光性、透明性が良好であることから、第４級ホスホニウム系カチオンが好ましい。   In the optical film according to the present invention, the cation is at least one cation selected from the group consisting of a quaternary ammonium cation, a quaternary phosphonium cation, an imidazolium cation, a pyridinium cation, and a pyrrolidinium cation. It is preferable from the viewpoint of solubility and antistatic properties. Furthermore, the cation is more preferably a quaternary phosphonium cation, an imidazolium cation or a pyridinium cation from the viewpoints of solubility and antistatic properties. Of these, quaternary phosphonium cations are preferred because of their good thermal stability, light resistance, and transparency.

前記カチオンとしては、例えば、以下に示す第４級アンモニウム系カチオン（下記式（Ｉ））、第４級ホスホニウム系カチオン（下記式（ＩＩ））、イミダゾリウム系カチオン（下記式（ＩＩＩ））、ピリジニウム系カチオン（下記式（ＩＶ））、ピロリジニウム系カチオン（下記式（Ｖ））等が挙げられる。   Examples of the cation include a quaternary ammonium cation (the following formula (I)), a quaternary phosphonium cation (the following formula (II)), an imidazolium cation (the following formula (III)), Pyridinium cation (following formula (IV)), pyrrolidinium cation (following formula (V)) and the like can be mentioned.

Figure 0006401745
（上記式中、Ｒ１〜Ｒ１１は、同一であっても異なっても良く、それぞれ飽和脂肪族基を表すか、あるいは、Ｒ３及びＲ４は、結合する窒素原子と一緒になって脂肪族へテロ環を形成しても良い。ただし、Ｒ１〜Ｒ４及びＲ５〜Ｒ８のそれぞれの炭素数の和は６以上、Ｒ９とＲ１０の炭素数の和は３以上、Ｒ１１の炭素数は２以上である。Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の飽和脂肪族基である。）
Figure 0006401745
 (In the above formula, R 1 to R 11 may be the same or different and each represents a saturated aliphatic group, or R 3 and R 4 together with the nitrogen atom to be bonded are A hetero ring may be formed, provided that the sum of the carbon numbers of R 1 to R 4 and R 5 to R 8 is 6 or more, the sum of the carbon numbers of R 9 and R 10 is 3 or more, R 11 has 2 or more carbon atoms, and R 12 and R 13 are each independently a saturated aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms.)

Ｒ１〜Ｒ１３で表される飽和脂肪族基は、直鎖状でも良いし、分岐状でも良い。例として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。さらに、当該例示した基に、−Ｓ−、−Ｏ−で示される結合により、Ｓ、Ｏ等のヘテロ原子が含まれている基等も挙げられる（ただし、Ｒ１１は、これらのうち炭素数が２以上のものである）。飽和脂肪族基として好ましくは、炭素数１〜８のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。 The saturated aliphatic group represented by R 1 to R 13 may be linear or branched. Examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, hexyl, octyl, decyl and the like. Further, examples of the group include a group containing a heteroatom such as S or O due to a bond represented by -S- or -O- (wherein R 11 is the number of carbon atoms among them). Is 2 or more). The saturated aliphatic group is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Ｒ３及びＲ４が、結合する窒素原子と一緒になって形成する脂肪族へテロ環の例としては、ピロリジン環、ピペリジン環、ジアゼピン環、ピペラジン環、モルホリン環等が挙げられ、５〜６員の脂肪族へテロ環が好ましい。 Examples of the aliphatic hetero ring formed by R 3 and R 4 together with the nitrogen atom to which they are bonded include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a diazepine ring, a piperazine ring, a morpholine ring, and the like. A membered aliphatic heterocycle is preferred.

式（Ｉ）で表される第４級アンモニウム系カチオンは、Ｒ１及びＲ２がメチル基又はエチル基、Ｒ３が炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ４が炭素数１〜８のアルキル基であるカチオンが好ましい。そして、式（Ｉ）で表される第４級アンモニウム系カチオンは、Ｒ１〜Ｒ３がメチル基、Ｒ４がプロピル基であるカチオン（ＴＭＰＡ）；Ｒ１及びＲ２がメチル基、Ｒ３がイソプロピル基、Ｒ４がヘキシル基であるカチオン；Ｒ１がメチル基、Ｒ２及びＲ３がエチル基、Ｒ４が２−メトキシエチル基であるカチオンが特に好ましい。
また、式（Ｉ）で表される第４級アンモニウム系カチオンは、Ｒ３及びＲ４が、結合する窒素原子と一緒になって脂肪族へテロ環を形成する場合には、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がエチル基、Ｒ３及びＲ４が結合する窒素原子と一緒になってピロリジン環を形成するカチオンや、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がブチル基、Ｒ３及びＲ４が結合する窒素原子と一緒になってピロリジン環を形成するカチオン（ＢＭＰ）が好ましい。 In the quaternary ammonium cation represented by the formula (I), R 1 and R 2 are a methyl group or an ethyl group, R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 is an alkyl having 1 to 8 carbon atoms. The group cation is preferred. The quaternary ammonium cation represented by the formula (I) is a cation (TMPA) in which R 1 to R 3 are methyl groups and R 4 is a propyl group; R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 Is particularly preferably a cation in which R 4 is an isopropyl group and R 4 is a hexyl group; R 1 is a methyl group, R 2 and R 3 are ethyl groups, and R 4 is a 2-methoxyethyl group.
Further, the quaternary ammonium cation represented by the formula (I) is such that when R 3 and R 4 together with the nitrogen atom to be bonded form an aliphatic heterocycle, R 1 is methyl. group, R 2 is an ethyl group, a cation or R 3 and R 4 form a pyrrolidine ring together with the nitrogen atom attached, R 1 is methyl, R 2 is butyl, R 3 and R 4 bond A cation (BMP) that forms a pyrrolidine ring together with the nitrogen atom to be formed is preferred.

式（ＩＩ）で表される第４級ホスホニウム系カチオンは、Ｒ５およびＲ６が、それぞれ独立してメチル基又はエチル基、Ｒ７が炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ８が炭素数１〜８のアルキル基であるカチオンが好ましい。 In the quaternary phosphonium cation represented by the formula (II), R 5 and R 6 are each independently a methyl group or an ethyl group, R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 8 is a carbon number. Cations which are 1-8 alkyl groups are preferred.

式（ＩＩＩ）で表されるイミダゾリウム系カチオンは、Ｒ９及びＲ１０が、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基であるカチオンが好ましい。そして、Ｒ９がメチル基、Ｒ１０がエチル基であるカチオン（ＥＭＩ）や、Ｒ９がメチル基、Ｒ１０がブチル基であるカチオン（ＢＭＩ）が特に好ましい。 The imidazolium-based cation represented by the formula (III) is preferably a cation in which R 9 and R 10 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. And, R 9 is a methyl group, the cation (EMI) and R 10 is an ethyl group, R 9 is a methyl group, the cation R 10 is butyl group (BMI) is particularly preferred.

式（ＩＶ）で表されるピリジニウム系カチオンは、Ｒ１１が炭素数２〜８のアルキル基であるカチオンが好ましく、Ｒ１１がブチル基であるカチオン（ＢＰ）が特に好ましい。 Pyridinium cation represented by formula (IV), the cation preferably R 11 is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, the cation R 11 is a butyl group (BP) is particularly preferred.

式（Ｖ）で表されるピロリジニウム系カチオンは、Ｒ１２及びＲ１３が炭素数１〜８のアルキル基であるカチオンが好ましく、Ｒ１２がブチル基であるカチオンが特に好ましい。 The pyrrolidinium cation represented by the formula (V) is preferably a cation in which R 12 and R 13 are alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, and a cation in which R 12 is a butyl group is particularly preferable.

第４級アンモニウム系カチオンとしては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム等の対称アンモニウム類が挙げられ、エチルトリメチルアンモニウム、ビニルトリメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリエチルプロピルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリブチルエチルアンモニウム、トリエチルイソプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルピロリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルピロリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピロリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルピロリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルピペリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピペリジニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルピペリジニウム、トリエチルメトキシメチルアンモニウム、ジメチルエチルメトキシエチルアンモニウム、ジメチルエチルメトキシメチルアンモニウム、ジエチルメチルメトキシエチルアンモニウム、ジエチルメチルメトキシメチルアンモニウム等の、最短の置換基の炭素数が最長の置換基の炭素数の５０％以上１００％未満であるものが好ましい（以下擬対称ともいう）。また、この他、第４級アンモニウム系カチオンとして、トリメチルプロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、ブチルトリメチルアンモニウム、アリルトリメチルアンモニウム、ヘキシルトリメチルアンモニウム、オクチルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、トリエチルメトキシエトキシメチルアンモニウム、ジメチルジプロピルアンモニウム等の非対称アンモニウム等もあげられる。   Quaternary ammonium-based cations include symmetrical ammoniums such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, etc., and ethyltrimethylammonium, vinyltrimethylammonium, triethylmethylammonium, triethylpropylammonium, diethyldimethylammonium, tributylethyl. Ammonium, triethylisopropylammonium, N, N-dimethylpyrrolidinium, N-methyl-N-ethylpyrrolidinium, N-methyl-N-propylpyrrolidinium, N-methyl-N-butylpyrrolidinium, N- Methyl-N-ethylpiperidinium, N-methyl-N-propylpiperidinium, N-methyl-N-butylpiperidinium, triethylmethoxymethylammonium , Dimethylethylmethoxyethylammonium, dimethylethylmethoxymethylammonium, diethylmethylmethoxyethylammonium, diethylmethylmethoxymethylammonium, etc., the carbon number of the shortest substituent is 50% or more and less than 100% of the carbon number of the longest substituent Some are preferred (hereinafter also referred to as pseudo-symmetry). Other quaternary ammonium cations include trimethylpropylammonium, trimethylisopropylammonium, butyltrimethylammonium, allyltrimethylammonium, hexyltrimethylammonium, octyltrimethylammonium, dodecyltrimethylammonium, triethylmethoxyethoxymethylammonium, dimethyldipropyl. Asymmetric ammonium such as ammonium is also included.

第４級ホスホニウム系カチオンとアニオンからなるイオン液体としては、４級ホスホニウム塩が好ましく、具体的には、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・トリフロオロメタンスルホネート、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・チオシアネート、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ジアルキルリン酸、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・トリフロオロメタンスルホネート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・チオシアネート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ジアルキルリン酸、ジエチルメチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ジエチルメチル（メトキシメチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、ジエチルメチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ジシアナミド、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリ−ｎ−プロピル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−プロピル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ブチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ブチル（メトキシメチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリ−ｎ−ブチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリ−ｎ−ブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリ−ｎ−ブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリ−ｎ−ペンチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ペンチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ヘキシル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ヘキシル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドなどが挙げられるが、この中でトリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・テトラフルオロボレート、トリエチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ジシアナミド、トリ−ｎ−ブチル（メトキシメチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリ−ｎ−ブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド等が低粘性、耐塩基性および耐熱性の観点から好ましい。   As the ionic liquid composed of a quaternary phosphonium cation and an anion, a quaternary phosphonium salt is preferable. Specifically, triethyl (methoxymethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, triethyl (methoxymethyl) phosphonium. Tetrafluoroborate, triethyl (methoxymethyl) phosphonium hexafluorophosphate, triethyl (methoxymethyl) phosphonium trifluoromethanesulfonate, triethyl (methoxymethyl) phosphonium bis (fluorosulfonyl) imide, triethyl (methoxymethyl) phosphonium thiocyanate, Triethyl (methoxymethyl) phosphonium dicyanamide, triethyl (methoxymethyl) phosphonium dialkyl phosphate, triethyl ( -Methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, triethyl (methoxymethyl) phosphonium tetrafluoroborate, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium tetrafluoroborate, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium hexafluoro Phosphate, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium trifluoromethanesulfonate, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (fluorosulfonyl) imide, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium thiocyanate, triethyl (2-methoxyethyl) Phosphonium dicyanamide, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium dialkyl phosphate, diethylmethyl (methoxymethyl) phospho Honium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, diethylmethyl (methoxymethyl) phosphonium tetrafluoroborate, diethylmethyl (methoxymethyl) phosphonium dicyanamide, diethylmethyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) Imido, diethylmethyl (2-methoxyethyl) phosphonium tetrafluoroborate, diethylmethyl (2-methoxyethyl) phosphonium dicyanamide, tri-n-propyl (methoxymethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, tri- n-propyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, tri-n-butyl (methoxymethyl) phosphonium bis (tri Fluoromethylsulfonyl) imide, tri-n-butyl (methoxymethyl) phosphonium tetrafluoroborate, tri-n-butyl (methoxymethyl) phosphonium dicyanamide, tri-n-butyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (tri Fluoromethylsulfonyl) imide, tri-n-butyl (2-methoxyethyl) phosphonium tetrafluoroborate, tri-n-butyl (2-methoxyethyl) phosphonium dicyanamide, tri-n-pentyl (methoxymethyl) phosphonium bis (Trifluoromethylsulfonyl) imide, tri-n-pentyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, tri-n-hexyl (methoxymethyl) phosphonium bis (trifluoro Tilsulfonyl) imide, tri-n-hexyl (2-methoxyethyl) phosphonium • bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, and the like, among which triethyl (methoxymethyl) phosphonium • bis (trifluoromethylsulfonyl) imide , Triethyl (methoxymethyl) phosphonium tetrafluoroborate, triethyl (methoxymethyl) phosphonium dicyanamide, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium tetrafluoro Borate, triethyl (2-methoxyethyl) phosphonium dicyanamide, tri-n-butyl (methoxymethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imi , Tri -n- butyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide low viscosity, from the viewpoint of base resistance and heat resistance.

イミダゾリウム系カチオンとアニオンからなるイオン液体の具体例としては、１，３−ジメチルイミダゾリウム・クロライド、１，３−ジメチルイミダゾリウム・ジメチルホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・クロライド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ブロマイド、１−エチル−メチルイミダゾリウム・イオダイド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・トリフルオロメタンスルフォネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ｐ−トルエンスルフォネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・エチルサルフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・２−メチル（２―メトキシエトキシ）エチルサルフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ジシンアンアミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・テトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメタンスフォニル）イミド、１−メチル−３−プロピルイミダゾリウム・イオダイド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・クロライド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・ブロマイド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・イオダイド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・トリフルオロメタンスルフォネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・テトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・ヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメタンスフォニル）イミド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム・テトラクロロフェレート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム・クロライド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム・ヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム・テトラフルオロボレート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム・クロライド、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム・テトラフルオロボレート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム・ヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。これらのうち、高いイオン伝導性を示すことから、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・トリフルオロメタンスルフォネートが好ましい。   Specific examples of the ionic liquid composed of an imidazolium cation and an anion include 1,3-dimethylimidazolium chloride, 1,3-dimethylimidazolium dimethyl phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride, 1 -Ethyl-3-methylimidazolium bromide, 1-ethyl-methylimidazolium iodide, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium p-toluene Sulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium ethyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium 2-methyl (2-methoxyethoxy) ethyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium dicine Amamide, 1-eth -3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-3 -Propylimidazolium iodide, 1-butyl-3-methylimidazolium chloride, 1-butyl-3-methylimidazolium bromide, 1-butyl-3-methylimidazolium iodide, 1-butyl-3-methyl Imidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium bis (trifluoro) Lomethane Phonyl) imide, 1-butyl-3-methylimidazolium tetrachloroferrate, 1-hexyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-3 -Methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium chloride, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium -Hexafluorophosphate is mentioned. Of these, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate is preferred because it exhibits high ionic conductivity.

ピリジニウム系カチオンとアニオンからなるイオン液体の具体例としては、１−エチルピリジニウム・クロライド、１−エチルピリジニウム・ブロマイド、１−ブチルピリジニウム・クロライド、１−ブチルピリジニウム・ブロマイド、１−ブチルピリジニウム・ヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−４−メチルピリジニウム・ブロマイド、１−ブチル−４−メチルピリジニウム・ヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチルピリジニウム・エチルサルフェート、１−エチル−３−（ヒドロキシメチル）ピリジニウム・エチルサルフェート等が挙げられる。これらのうち、高いイオン伝導性を示すことから、１−エチル−３−（ヒドロキシメチル）ピリジニウム・エチルサルフェートが好ましい。   Specific examples of ionic liquids composed of pyridinium cations and anions include 1-ethylpyridinium chloride, 1-ethylpyridinium bromide, 1-butylpyridinium chloride, 1-butylpyridinium bromide, 1-butylpyridinium hexafluoro Phosphate, 1-butyl-4-methylpyridinium bromide, 1-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate, 1-ethyl-3-methylpyridinium ethylsulfate, 1-ethyl-3- (hydroxymethyl) pyridinium Examples thereof include ethyl sulfate. Of these, 1-ethyl-3- (hydroxymethyl) pyridinium ethyl sulfate is preferable because it exhibits high ionic conductivity.

ピロリジニウム系カチオンとアニオンからなるイオン液体の具体例としては、１−ブチル−１−メチルピロリジニウム・ビス（トリフルオロメタンスフォニル）イミド等が挙げられる。   Specific examples of the ionic liquid composed of a pyrrolidinium cation and an anion include 1-butyl-1-methylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

イオン液体のアニオンとしては、ハロゲン、トリフラート、テトラフルオロボラート及びヘキサフルオロホスファート等が挙げられる。   Examples of the anion of the ionic liquid include halogen, triflate, tetrafluoroborate and hexafluorophosphate.

イオン液体の含有量は、ハードコート層に十分な帯電防止性を付与する観点から、溶剤を除くＨＣ層用組成物の全質量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることが好ましい。また、イオン液体の含有量は、上記硬化性樹脂の含有量を高め、ハードコート層の十分な硬度を得る観点から、溶剤を除くＨＣ層用組成物全量に対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。   The content of the ionic liquid is preferably 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, based on the total mass of the HC layer composition excluding the solvent, from the viewpoint of imparting sufficient antistatic properties to the hard coat layer. It is preferable that In addition, the content of the ionic liquid is 50% by mass or less based on the total amount of the composition for the HC layer excluding the solvent from the viewpoint of increasing the content of the curable resin and obtaining sufficient hardness of the hard coat layer. Is preferable, and it is more preferable that it is 30 mass% or less.

ハードコート層の膜厚は１〜４０μｍであるが、好ましくは１〜２０μｍである。
ハードコート層の表面抵抗値は、１．０×１０１３Ω／□以下であることが好ましく、１．０×１０１１Ω／□以下であることがより好ましい。 The film thickness of the hard coat layer is 1 to 40 μm, preferably 1 to 20 μm.
The surface resistance value of the hard coat layer is preferably 1.0 × 10 13 Ω / □ or less, and more preferably 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.

（その他の成分）
本発明において、ＨＣ層用組成物には、必須成分である上記硬化性樹脂及びイオン液体の他に、必要に応じて、溶剤、光開始剤、光増感剤、光重合促進剤及び微粒子等のその他の成分が含まれていても良い。 (Other ingredients)
In the present invention, the composition for the HC layer includes, in addition to the curable resin and ionic liquid, which are essential components, a solvent, a photoinitiator, a photosensitizer, a photopolymerization accelerator, fine particles, and the like as necessary. Other components may be included.

（溶剤）
溶剤としては、少なくとも硬化性樹脂やイオン液体等の溶剤以外の成分を均一に溶解ないし分散できる溶剤であれば特に限定されず、従来公知の溶剤を用いることができる。
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；エチルセロソルブ、エチルカルビトール等のグリコールエーテル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等が挙げられる。これらのうち、沸点や上記硬化性樹脂の溶解性ないし分散性の観点から、ケトン類やエステル類が好適に用いられる。 (solvent)
The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that can uniformly dissolve or disperse at least components other than the solvent such as curable resin and ionic liquid, and conventionally known solvents can be used.
Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK) and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; Ethers such as dioxane, tetrahydrofuran and diisopropyl ether; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; aliphatic hydrocarbons such as hexane; glycol ethers such as ethyl cellosolve and ethyl carbitol; halogenated hydrocarbons; Aromatic hydrocarbons such as xylene; Amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and the like. Of these, ketones and esters are preferably used from the viewpoints of boiling point and solubility or dispersibility of the curable resin.

光透過性基材がＴＡＣ基材の場合、ＴＡＣ基材とハードコート層の界面における屈折率差による干渉縞の発生を抑制するために、ＴＡＣ基材への浸透性を有する溶剤（以下、「浸透性溶剤」という。）を用いることが好ましい。このように干渉縞の発生が抑制されるのは、浸透性溶剤がＴＡＣ基材を溶解ないし膨潤し、上記硬化性樹脂がＴＡＣ基材に浸透しやすくなり、ＴＡＣ基材とハードコート層との界面が不明確になり、ＴＡＣ基材とハードコート層との界面における屈折率差が低減されるためと推測される。
浸透性溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン等のケトン類が好ましい。 When the light transmissive substrate is a TAC substrate, in order to suppress the occurrence of interference fringes due to the difference in refractive index at the interface between the TAC substrate and the hard coat layer, a solvent having permeability to the TAC substrate (hereinafter, “ It is preferable to use a “permeable solvent”. In this way, the generation of interference fringes is suppressed because the permeable solvent dissolves or swells the TAC substrate, and the curable resin easily penetrates into the TAC substrate. This is presumably because the interface becomes unclear and the difference in refractive index at the interface between the TAC substrate and the hard coat layer is reduced.
As the permeable solvent, for example, ketones such as methyl ethyl ketone are preferable.

溶剤は、上述したものを１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
ＨＣ層用組成物中の溶剤の含有量は、溶剤以外の各成分を均一に溶解ないし分散することができるように適宜調節すれば良い。
溶剤の含有量は、例えば、ＨＣ層用組成物の分散安定性及び長期保存性の観点から、ＨＣ層用組成物の全質量に対して、２０〜９９．５質量％とすることが好ましく、３０〜７０質量％とすることが好ましい。 As the solvent, those described above may be used alone or in combination of two or more.
What is necessary is just to adjust suitably content of the solvent in the composition for HC layers so that each component other than a solvent can melt | dissolve or disperse | distribute uniformly.
The content of the solvent is preferably 20 to 99.5% by mass with respect to the total mass of the HC layer composition, for example, from the viewpoint of dispersion stability and long-term storage stability of the HC layer composition. It is preferable to set it as 30-70 mass%.

（光開始剤）
上記硬化性樹脂として電離放射線により硬化可能な樹脂を使用する場合には、重合を開始させるために光開始剤を用いることが望ましい。
前記光開始剤は、特に限定されないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類等が挙げられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドテシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。
これらのなかでも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、及び２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始ないし促進するので、本発明において好ましく用いられる。 (Photoinitiator)
When a resin curable by ionizing radiation is used as the curable resin, it is desirable to use a photoinitiator in order to initiate polymerization.
The photoinitiator is not particularly limited, and examples thereof include acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, disulfide compounds, thiuram compounds, and fluoroamine compounds. More specifically, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethylketone, 1- (4-dodo Tesylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Examples include propan-1-one and benzophenone.
Among these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one are polymerized by irradiation with ionizing radiation even in a small amount. Is preferably used in the present invention.

光開始剤は、上記いずれか一つを単独で、又は、複数を組み合わせて用いることができる。
光開始剤の市販品としては、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンは、イルガキュア１８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）の商品名でチバ・ジャパン（株）から入手できる。
これらの光開始剤の含有量は、通常、ＨＣ層用組成物中の重合性基を有する硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜２０質量部程度である。 Any one of the above photoinitiators can be used alone or in combination.
As a commercially available photoinitiator, for example, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone can be obtained from Ciba Japan Co., Ltd. under the trade name of Irgacure 184.
Content of these photoinitiators is about 0.1-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of curable resin which has a polymeric group in the composition for HC layers.

（光増感剤及び光重合促進剤）
また、ＨＣ層用組成物には必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤が含まれていても良い。
前記光増感剤及び光重合促進剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン系化合物；アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；ベンジル；ジアセチル；アセトフェノン、ベンゾフェノン等のフェニルケトン化合物；ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド等のスルフィド化合物；α−クロルメチルナフタリン；アントラセン及びヘキサクロロブタジエン、ペンタクロロブタジエン等のハロゲン化炭化水素、チオキサントン、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等がある。
これらの中でも、アセトフェノン系光重合開始剤に対し、ベンゾフェノン又はチオキサントン光増感剤を用いることが好ましい。
光増感剤や光重合促進剤を用いる場合、その含有量は、適宜調節すれば良いが、例えば、光開始剤の質量に対して、１０〜３００質量％とすれば良い。 (Photosensitizer and photopolymerization accelerator)
The HC layer composition may contain a photosensitizer and a photopolymerization accelerator as necessary.
Examples of the photosensitizer and photopolymerization accelerator include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, α-methylbenzoin, α-phenylbenzoin; anthraquinone, methylanthraquinone, and the like. Anthraquinone compounds; benzyl; diacetyl; phenyl ketone compounds such as acetophenone and benzophenone; sulfide compounds such as diphenyl disulfide and tetramethylthiuram sulfide; α-chloromethylnaphthalene; halogenated hydrocarbons such as anthracene and hexachlorobutadiene and pentachlorobutadiene; Examples include thioxanthone, n-butylamine, triethylamine, and tri-n-butylphosphine.
Among these, it is preferable to use a benzophenone or a thioxanthone photosensitizer for the acetophenone photopolymerization initiator.
In the case of using a photosensitizer or a photopolymerization accelerator, the content thereof may be appropriately adjusted. For example, the content may be 10 to 300% by mass with respect to the mass of the photoinitiator.

（微粒子）
本発明に係る光学フィルムでは、ハードコート層の硬度を高めるために、従来公知のハードコート層に用いられているシリカ微粒子等の微粒子を用いても良い。さらに、シリカ微粒子の表面に、上記硬化性樹脂の官能基と重合ないし架橋可能な重合性基等の官能基を有する反応性シリカ微粒子であることが、ハードコート層の硬度を高める観点から好ましい。
このような反応性シリカ微粒子としては、従来公知のものを用いても良く、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報に記載の反応性シリカ微粒子を用いることができる。
上記微粒子の平均粒径は、分散性の観点から、１ｎｍ以上であることが好ましい。また、微粒子の平均粒径は、ハードコート層の透明性を確保する観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましい。これらの観点から、微粒子の平均粒径は、１０〜５０ｎｍであることがより好ましい。
上記微粒子の形状は特に限定はなく、球状及び針状等が挙げられる。
上記微粒子を用いる場合、その含有量は、適宜調節すれば良いが、例えば、溶剤を除くＨＣ層用組成物の全質量に対して、１０〜６０質量％とすれば良い。 (Fine particles)
In the optical film according to the present invention, fine particles such as silica fine particles used in conventionally known hard coat layers may be used in order to increase the hardness of the hard coat layer. Furthermore, reactive silica fine particles having a functional group such as a polymerizable group capable of being polymerized or cross-linked with the functional group of the curable resin on the surface of the silica fine particles are preferable from the viewpoint of increasing the hardness of the hard coat layer.
As such reactive silica fine particles, conventionally known fine particles may be used. For example, reactive silica fine particles described in JP 2008-165040 A can be used.
The average particle diameter of the fine particles is preferably 1 nm or more from the viewpoint of dispersibility. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of microparticles | fine-particles is 100 nm or less from a viewpoint of ensuring the transparency of a hard-coat layer. From these viewpoints, the average particle size of the fine particles is more preferably 10 to 50 nm.
The shape of the fine particles is not particularly limited, and examples thereof include spherical shapes and needle shapes.
When the fine particles are used, the content thereof may be appropriately adjusted. For example, the content may be 10 to 60% by mass with respect to the total mass of the HC layer composition excluding the solvent.

（分散剤）
ＨＣ層用組成物に微粒子を含有させる場合、微粒子の分散性を高めるために公知の分散剤を用いても良い。分散剤として、例えば、微粒子との親和性が良いことから、カルボキシル基、リン酸基及び水酸基等のアニオン性の極性基を有する分散剤が好ましい。
アニオン性の極性基を有する分散剤としては、例えば、ビッグケミー・ジャパン（株）製の商品名Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１４０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０及びＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２等が挙げられる。なかでも、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３は分散性が良好で特に好ましい。
分散剤を用いる場合、その含有量は、適宜調節すれば良いが、例えば、微粒子の質量に対して、１〜３００質量％とすれば良い。 (Dispersant)
When the HC layer composition contains fine particles, a known dispersant may be used in order to improve the dispersibility of the fine particles. As the dispersant, for example, a dispersant having an anionic polar group such as a carboxyl group, a phosphate group and a hydroxyl group is preferable because of its good affinity with fine particles.
Examples of the dispersant having an anionic polar group include, for example, trade names Disperbyk-110, Disperbyk-111, Disperbyk-116, Disperbyk-140, Disperbyk-161, Disperbyk-162, Disperbyk- manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. 163, Disperbyk-164, Disperbyk-170, Disperbyk-171, Disperbyk-174, Disperbyk-180, Disperbyk-182 and the like. Among these, Disperbyk-163 is particularly preferable because of good dispersibility.
In the case of using a dispersant, the content thereof may be adjusted as appropriate. For example, the content may be 1 to 300% by mass with respect to the mass of the fine particles.

ＨＣ層用組成物のその他の成分としては、上述した成分以外に、必要に応じて、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、レベリング剤、流動性調整剤、硬度調整剤、防眩剤、屈折率調整剤及び高硬度化剤からなる群から選択される１種又は２種以上の成分を用いても良い。   As other components of the composition for the HC layer, in addition to the components described above, if necessary, a stain-proofing agent, a water-repellent agent, an oil-repellent agent, an anti-fingerprint agent, a leveling agent, a fluidity-adjusting agent, and a hardness-adjusting agent. In addition, one or more components selected from the group consisting of an antiglare agent, a refractive index adjusting agent, and a hardening agent may be used.

（光学フィルムのその他の実施態様）
図２は、本発明に係る光学フィルムの第二の態様の一例を模式的に示した断面図である。
図２の光学フィルム１では、トリアセチルセルロース基材１１の一面側に、トリアセチルセルロース基材１１側から、膜厚１〜４０μｍの屈折率傾斜ハードコート層２１及び低屈折率層５０が設けられている。
屈折率傾斜ハードコート層２１では、高屈折率微粒子６０が、界面４０側に近いほど多く、トリアセチルセルロース基材１１側に近いほど少なくなるように存在している。
なお、図２及び後述する図３の屈折率傾斜ハードコート層には、図１と同様にイオン液体がハードコート層の表面から特定の深さの領域に多く存在するが、図示の簡略化のためにイオン液体を省略している。 (Other Embodiments of Optical Film)
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the second embodiment of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 2, the refractive index gradient hard coat layer 21 and the low refractive index layer 50 having a film thickness of 1 to 40 μm are provided on one side of the triacetyl cellulose substrate 11 from the triacetyl cellulose substrate 11 side. ing.
In the refractive index gradient hard coat layer 21, the high refractive index fine particles 60 are present so as to be closer to the interface 40 side and to be smaller as the surface is closer to the triacetylcellulose substrate 11 side.
In the refractive index gradient hard coat layer of FIG. 2 and FIG. 3 to be described later, a large amount of ionic liquid is present in a specific depth region from the surface of the hard coat layer as in FIG. Therefore, the ionic liquid is omitted.

屈折率傾斜ハードコート層の屈折率は、屈折率傾斜ハードコート層の基材とは反対側の界面の屈折率を意味する。
屈折率傾斜ハードコート層において屈折率が傾斜していることは、次の方法によって確かめることができる。屈折率傾斜ハードコート層をアルゴン・スパッタリングすることによりエッチングして屈折率傾斜ハードコート層の特定深さの部分を露出させ、その露出部分における高屈折率微粒子の含有量をＸ線光電子分光装置（ＸＰＳ）を用いて測定する。この方法によって屈折率傾斜ハードコート層の深さ方向の高屈折率微粒子の存在量分布が特定される。屈折率傾斜ハードコート層の各深さ地点における屈折率は、高屈折率微粒子の存在量と相関するので、屈折率傾斜ハードコート層の深さ方向の高屈折率微粒子の存在量分布が傾斜していることを確認することによって、屈折率が傾斜していることも確認できる。
また、光学フィルムを熱硬化性樹脂を用いて包埋し、その包埋した光学フィルムからＬＥＩＣＡ社製ウルトラミクロトームを用いて８０ｎｍ厚みの超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察することにより測定することも出来る。
高屈折率微粒子とは、屈折率が１．５０〜２．８０の微粒子を意味する。
なお、基材とは反対側のハードコート層表面の屈折率は、分光光度計（（株）島津製作所製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの絶対反射率を測定し、得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて求めることができる。 The refractive index of the refractive index gradient hard coat layer means the refractive index of the interface on the side opposite to the base material of the refractive index gradient hard coat layer.
It can be confirmed by the following method that the refractive index is inclined in the refractive index gradient hard coat layer. The refractive index gradient hard coat layer is etched by argon sputtering to expose a specific depth portion of the refractive index gradient hard coat layer, and the content of high refractive index fine particles in the exposed portion is determined by an X-ray photoelectron spectrometer ( XPS). By this method, the abundance distribution of the high refractive index fine particles in the depth direction of the refractive index gradient hard coat layer is specified. The refractive index at each depth point of the gradient refractive index hard coat layer correlates with the abundance of high refractive index fine particles, so the abundance distribution of high refractive index fine particles in the depth direction of the gradient refractive index hard coat layer is inclined. By confirming that the refractive index is confirmed, it can be confirmed that the refractive index is inclined.
In addition, an optical film was embedded using a thermosetting resin, and an ultrathin section having a thickness of 80 nm was prepared from the embedded optical film using a LEICA ultramicrotome and observed with a transmission electron microscope (TEM). Can also be measured.
High refractive index fine particles mean fine particles having a refractive index of 1.50 to 2.80.
In addition, the refractive index of the hard coat layer surface opposite to the substrate was obtained by measuring the absolute reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation). It can obtain | require using a simulation from the obtained reflectance curve.

本発明に係る光学フィルムの第二の態様では、高屈折率微粒子６０が上述した分布をとっていることにより、屈折率傾斜ハードコート層２１上に設けられた低屈折率層５０と屈折率傾斜ハードコート層２１の界面４０近傍との屈折率差が大きくなり、高い反射防止性能を有する。さらに、高屈折率微粒子６０が層内において均一に分布したハードコート層をトリアセチルセルロース基材上に有する場合に比べて、屈折率が比較的高い高屈折率微粒子６０と屈折率が比較的低いトリアセチルセルロース基材１１が接する領域が少なくなるため、ハードコート層２１のトリアセチルセルロース基材１１側の領域とトリアセチルセルロース基材１１との界面７０付近の屈折率差が小さくなり、界面７０における干渉縞の発生を抑制することができる。
また、第二の態様の光学フィルムも第一の態様の光学フィルムと同様のイオン液体の分布を有しているため、高い帯電防止性能と耐溶剤拭き取り性を有する。 In the second aspect of the optical film according to the present invention, since the high refractive index fine particles 60 have the above-described distribution, the low refractive index layer 50 provided on the refractive index gradient hard coat layer 21 and the refractive index gradient are provided. The difference in refractive index from the vicinity of the interface 40 of the hard coat layer 21 is increased, and the antireflection performance is high. Furthermore, the high refractive index fine particles 60 having a relatively high refractive index and the refractive index are relatively low as compared with the case where the hard coat layer in which the high refractive index fine particles 60 are uniformly distributed in the layer is provided on the triacetyl cellulose substrate. Since the region in contact with the triacetylcellulose substrate 11 is reduced, the difference in refractive index near the interface 70 between the region on the triacetylcellulose substrate 11 side of the hard coat layer 21 and the triacetylcellulose substrate 11 is reduced. The generation of interference fringes can be suppressed.
Moreover, since the optical film of the second aspect also has the same ionic liquid distribution as the optical film of the first aspect, it has high antistatic performance and solvent wiping resistance.

図３は、本発明に係る光学フィルムの第三の態様の一例を模式的に示した断面図である。
図３の光学フィルム１では、ポリエチレンテレフタレート基材１２の一面側に、膜厚１〜４０μｍの屈折率傾斜ハードコート層２２が設けられている。
屈折率傾斜ハードコート層２２では、高屈折率微粒子６０が、界面７０側に近いほど多く、界面４０側に近いほど少なくなるように存在している。 FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the third aspect of the optical film according to the present invention.
In the optical film 1 of FIG. 3, a refractive index gradient hard coat layer 22 having a film thickness of 1 to 40 μm is provided on one surface side of the polyethylene terephthalate substrate 12.
In the refractive index gradient hard coat layer 22, the high refractive index fine particles 60 are present so as to be closer to the interface 70 side and to be smaller as it is closer to the interface 40 side.

本発明に係る光学フィルムの第三の態様では、高屈折率微粒子６０が上述した分布をとっていることにより、ハードコート層２２のポリエチレンテレフタレート基材１２側の領域とポリエチレンテレフタレート基材１２との界面７０付近の屈折率差が小さくなり、界面７０における干渉縞の発生を抑制することができる。この理由は以下のように推測される。すなわち、ハードコート層に高屈折率微粒子６０が均一に分布すると、比較的屈折率の高いポリエチレンテレフタレート基材１２に対して、比較的屈折率の低い樹脂が存在する割合が増える。これに対して、高屈折率微粒子６０がポリエチレンテレフタレート基材１２側に近いほど多く存在する分布になると、比較的屈折率の高い高屈折率微粒子６０が存在する割合が増える。ポリエチレンテレフタレート基材１２と樹脂の屈折率差よりも、ポリエチレンテレフタレート基材１２と高屈折率微粒子６０の屈折率差の方が小さいため、ハードコート層２２のポリエチレンテレフタレート基材１２側の領域とポリエチレンテレフタレート基材１２との界面７０付近の屈折率差が小さくなり、界面７０における干渉縞の発生を抑制することができると推測される。
また、第三の態様の光学フィルムも第一の態様の光学フィルムと同様のイオン液体の分布を有しているため、高い帯電防止性能と耐溶剤拭き取り性を有する。 In the third aspect of the optical film according to the present invention, the high refractive index fine particles 60 have the distribution described above, so that the region of the hard coat layer 22 on the polyethylene terephthalate substrate 12 side and the polyethylene terephthalate substrate 12 The difference in refractive index near the interface 70 is reduced, and the generation of interference fringes at the interface 70 can be suppressed. The reason is presumed as follows. That is, when the high refractive index fine particles 60 are uniformly distributed in the hard coat layer, the ratio of the resin having a relatively low refractive index to the polyethylene terephthalate substrate 12 having a relatively high refractive index increases. In contrast, when the distribution is such that the higher the refractive index fine particles 60 are, the closer to the polyethylene terephthalate substrate 12 side, the higher the refractive index fine particles 60 having a relatively high refractive index increases. Since the difference in refractive index between the polyethylene terephthalate substrate 12 and the high refractive index fine particles 60 is smaller than the difference in refractive index between the polyethylene terephthalate substrate 12 and the resin, the region on the polyethylene terephthalate substrate 12 side of the hard coat layer 22 and polyethylene It is presumed that the refractive index difference in the vicinity of the interface 70 with the terephthalate substrate 12 becomes small, and the generation of interference fringes at the interface 70 can be suppressed.
Moreover, since the optical film of the third aspect also has the same ionic liquid distribution as the optical film of the first aspect, it has high antistatic performance and solvent wiping resistance.

上記高屈折率微粒子としては、従来公知の反射防止フィルム等に用いられているものを用いて良く、例えば、金属酸化物微粒子が挙げられる。このような金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物等が挙げられる。
高屈折率微粒子として、ＰＴＯ：燐錫化合物（例えば、商品名ＥＰ ＳＰ−２：三菱マテリアル（株）製）等の金属酸化物導電性微粒子を用いた場合には、透明性に優れるので、好ましい。
また、高屈折率微粒子として、ＡＴＯ：アンチモン錫酸化物（例えば、商品名ＳＮ−１００Ｐ：石原産業（株）製）やＩＴＯ：インジウム錫酸化物（例えば、商品名ＳＵＦＰ：住友金属鉱山（株）製）等の金属酸化物導電性微粒子を用いた場合は、埃付着防止性を付与することができるので、好ましい。 As said high refractive index microparticles | fine-particles, what is used for a conventionally well-known antireflection film etc. may be used, for example, metal oxide microparticles | fine-particles are mentioned. Examples of such metal oxide fine particles include titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.71), zirconium oxide (ZrO 2 , refractive index: 2.10), cerium oxide (CeO 2 , refractive index: 2). .20), tin oxide (SnO 2, refractive index: 2.00), antimony tin oxide (ATO, refractive index: 1.75 to 1.85), indium tin oxide (ITO, the refractive index: 1.95 To 2.00), phosphorus tin compound (PTO, refractive index: 1.75 to 1.85), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc An oxide etc. are mentioned.
When metal oxide conductive fine particles such as PTO: Phosphorus tin compound (for example, trade name EP SP-2: manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) are used as the high refractive index fine particles, it is preferable because it is excellent in transparency. .
Further, as high refractive index fine particles, ATO: antimony tin oxide (for example, trade name SN-100P: manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) or ITO: indium tin oxide (for example, trade name SUFP: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) In the case of using metal oxide conductive fine particles such as (manufactured) or the like, dust adhesion preventing property can be imparted, which is preferable.

高屈折率微粒子の平均粒径は、第一の態様の微粒子と同様に、分散性及び屈折率傾斜ハードコート層の透明性の観点から、１〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましい。高屈折率微粒子の形状は特に限定はなく、球状及び針状等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、材質、形状、平均粒径を適宜選択して１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。 The average particle diameter of the high refractive index fine particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 10 to 50 nm from the viewpoint of dispersibility and the transparency of the gradient refractive index hard coat layer, as in the case of the fine particles of the first aspect. preferable. The shape of the high refractive index fine particle is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape and a needle shape.
The high refractive index fine particles may be used singly or may be used in combination of two or more kinds by appropriately selecting the material, shape and average particle diameter.

本発明に係る光学フィルムの第二の態様及び第三の態様では、屈折率傾斜ハードコート層内における高屈折率微粒子の分布を制御し、屈折率傾斜ハードコート層と光透過性基材との界面における屈折率差を低減し、その界面における干渉縞の発生を抑制する効果が得られる。
この他、光透過性基材の屈折率、硬化性樹脂の屈折率等を考慮して、高屈折率微粒子以外に、シリカ微粒子や金属フッ化物等の屈折率の低い微粒子を用いて、当該屈折率の低い微粒子の分布を図２又は図３の高屈折率微粒子のように制御して、ハードコート層と光透過性基材との界面における屈折率差を低減し、その界面における干渉縞の発生を抑制する態様であっても良い。
本発明においては、ハードコート層（第一の態様のハードコート層に加えて、第二及び第三の態様の屈折率傾斜ハードコート層を含む）と光透過性基材との界面における干渉縞の発生を抑制する観点から、ハードコート層と光透過性基材との屈折率差は絶対値で０．０３以内であることが好ましい。
なお、ハードコート層の屈折率は、分光光度計（（株）島津製作所製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの絶対反射率を測定し、得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて求めた屈折率の値をいう。 In the second and third aspects of the optical film according to the present invention, the distribution of the high refractive index fine particles in the refractive index gradient hard coat layer is controlled, and the refractive index gradient hard coat layer and the light transmissive substrate The effect of reducing the refractive index difference at the interface and suppressing the generation of interference fringes at the interface can be obtained.
In addition, considering the refractive index of the light-transmitting substrate and the refractive index of the curable resin, in addition to the high refractive index fine particles, fine particles having a low refractive index, such as silica fine particles and metal fluorides, are used. The distribution of fine particles having a low refractive index is controlled like the high refractive index fine particles in FIG. 2 or FIG. 3 to reduce the refractive index difference at the interface between the hard coat layer and the light-transmitting substrate, It is also possible to suppress the occurrence.
In the present invention, interference fringes at the interface between the hard coat layer (including the refractive index gradient hard coat layer of the second and third embodiments in addition to the hard coat layer of the first embodiment) and the light-transmitting substrate. From the viewpoint of suppressing the occurrence of this, the difference in refractive index between the hard coat layer and the light-transmitting substrate is preferably 0.03 or less in absolute value.
In addition, the refractive index of a hard-coat layer measured the absolute reflectance of wavelength 380-780nm using a spectrophotometer (Shimadzu Corporation UV-3100PC), and it simulated from the obtained reflectance curve. The value of the refractive index obtained using.

（低屈折率層）
本発明に係る光学フィルムの第二の態様では、図２に示したように、屈折率傾斜ハードコート層２１の界面４０上に低屈折率層５０が設けられる。
屈折率傾斜ハードコート層２１は、界面４０側に近いほど高屈折率微粒子６０が多く存在しており、屈折率傾斜ハードコート層２１と低屈折率層５０との屈折率差を大きくすることができる。そのため、第二の態様の光学フィルムは高い反射防止性能を有する。 (Low refractive index layer)
In the second embodiment of the optical film according to the present invention, as shown in FIG. 2, a low refractive index layer 50 is provided on the interface 40 of the refractive index gradient hard coat layer 21.
In the gradient refractive hard coat layer 21, the closer to the interface 40 side, the more high refractive index fine particles 60 exist, and the refractive index difference between the gradient refractive index hard coat layer 21 and the low refractive index layer 50 can be increased. it can. Therefore, the optical film of the second aspect has high antireflection performance.

低屈折率層は、従来公知の低屈折率層とすることができる。例えば、特開２００８−１６５０４０号公報に記載のシリカ微粒子やフッ化マグネシウム、フッ素系樹脂を含む低屈折率層とすることができる。   The low refractive index layer can be a conventionally known low refractive index layer. For example, it can be a low refractive index layer containing silica fine particles, magnesium fluoride, and fluorine-based resin described in JP-A-2008-165040.

（光学フィルムの製造方法）
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、ハードコート層の表面から特定の深さ方向において上述したイオン液体の分布を有するようにハードコート層を形成できる方法であれば良く、特に限定されない。
本発明においては、上述したイオン液体の分布を有するハードコート層を容易に形成できる観点から、以下の方法であることが好ましい。すなわち、本発明に係る光学フィルムの製造方法は、（ｉ）光透過性基材を準備する工程、（ｉｉ）カチオンとアニオンからなるイオン液体、第一の硬化性樹脂及び第一の溶剤を含む第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物、及び、第二の硬化性樹脂及び第二の溶剤を含む第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、（ｉｉｉ）前記光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から少なくとも前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接させて同時塗布し、塗膜とする工程、（ｉｖ）前記（ｉｉｉ）工程で得られた塗膜を乾燥させ、硬化させる工程、を含むことを特徴とする。 (Optical film manufacturing method)
The method for producing an optical film according to the present invention is not particularly limited as long as the hard coat layer can be formed so as to have the above-described ionic liquid distribution in a specific depth direction from the surface of the hard coat layer.
In the present invention, the following method is preferable from the viewpoint of easily forming the hard coat layer having the above-described ionic liquid distribution. That is, the method for producing an optical film according to the present invention includes (i) a step of preparing a light-transmitting substrate, (ii) an ionic liquid composed of a cation and an anion, a first curable resin, and a first solvent. Preparing a first curable resin composition for a hard coat layer and a second curable resin composition for a hard coat layer containing a second curable resin and a second solvent, (iii) the light Simultaneous application of the first curable resin composition for the hard coat layer and the second curable resin composition for the second hard coat layer adjacent to one side of the transmissive substrate from the light transmissive substrate side. And (iv) a step of drying and curing the coating film obtained in the step (iii).

上記本発明に係る光学フィルムの製造方法では、イオン液体を含む第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物（以下、「第一のＨＣ層用組成物」という。）を第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物（以下、「第二のＨＣ層用組成物」という。）よりも光透過性基材側に位置するように、光透過性基材側から第一のＨＣ層用組成物及び第二のＨＣ層用組成物を隣接して光透過性基材の一面側に同時塗布することにより、イオン液体がハードコート層の表層にブリードアウトしにくくなり、上述したイオン液体の分布を有するハードコート層を容易に形成することができる。そのため、得られる光学フィルムは、硬度と耐溶剤拭き取り性を併せ持つ。   In the method for producing an optical film according to the present invention, a first hard coat layer curable resin composition containing an ionic liquid (hereinafter referred to as “first HC layer composition”) is used as a second hard coat. For the first HC layer from the light-transmitting substrate side so as to be positioned on the light-transmitting substrate side from the curable resin composition for the layer (hereinafter referred to as “second HC layer composition”). By simultaneously applying the composition and the second HC layer composition adjacent to one side of the light-transmitting substrate, the ionic liquid is less likely to bleed out to the surface of the hard coat layer. A hard coat layer having a distribution can be easily formed. Therefore, the obtained optical film has both hardness and solvent wiping resistance.

図４は、エクストルージョン型のダイコーターを用いた同時塗布方法の一例を示した模式図である。
光透過性基材１０上にダイコーターヘッド８０のスリット９１及び９２からそれぞれ、第一のＨＣ層用組成物１００及び第二のＨＣ層用組成物１１０を、第一のＨＣ層用組成物１００が第二のＨＣ層用組成物１１０よりも光透過性基材１０側に位置するように隣接して同時塗布し、第一のＨＣ層用組成物の塗膜１０１及び第二のＨＣ層用組成物の塗膜１１１とする。なお、図４において、第一のＨＣ層用組成物１００と第二のＨＣ層用組成物１１０は本来一体となって一つのハードコート層を形成するが、説明の便宜のため当該二種の組成物やその塗膜を色分けして記載してある。 FIG. 4 is a schematic view showing an example of a simultaneous coating method using an extrusion type die coater.
The first HC layer composition 100 and the second HC layer composition 110 are respectively formed on the light transmissive substrate 10 from the slits 91 and 92 of the die coater head 80. Are simultaneously applied adjacent to each other so as to be positioned closer to the light transmissive substrate 10 than the second HC layer composition 110, and the first HC layer composition coating 101 and the second HC layer composition It is set as the coating film 111 of a composition. In FIG. 4, the first HC layer composition 100 and the second HC layer composition 110 are integrally integrated to form one hard coat layer. The composition and the coating film are color-coded.

以下、同時塗布方法を用いる本発明に係る光学フィルムの製造方法の各工程を説明する。   Hereinafter, each process of the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention using the simultaneous coating method is demonstrated.

（ｉ）光透過性基材を準備する工程では、上記光学フィルムで説明した光透過性基材を準備する。   (I) In the step of preparing a light transmissive substrate, the light transmissive substrate described in the optical film is prepared.

（ｉｉ）の２種のＨＣ層用組成物を準備する工程では、それぞれの組成物を準備する。
光透過性基材側に位置する第一のＨＣ層用組成物は、イオン液体、第一の硬化性樹脂及び第一の溶剤を含む。第一のＨＣ層用組成物上に位置する第二のＨＣ層用組成物は、第二の硬化性樹脂及び第二の溶剤を含む。各成分は上記光学フィルムで説明したものを用いれば良い。 In the step (ii) of preparing the two HC layer compositions, the respective compositions are prepared.
The first HC layer composition located on the light transmissive substrate side contains an ionic liquid, a first curable resin, and a first solvent. The second HC layer composition located on the first HC layer composition includes a second curable resin and a second solvent. What was demonstrated by the said optical film should just be used for each component.

本発明に係る光学フィルムの製造方法において、第二のＨＣ層用組成物の粘度が、第一のＨＣ層用組成物の粘度よりも大きいことが、上述したイオン液体の分布を有するハードコート層を形成しやすい。
第一及び第二のＨＣ層用組成物の粘度の調整方法は特に限定されないが、通常、溶剤の含有量によって粘度を調節する。この他、硬化性樹脂の種類や分子量等によって粘度を調節しても良い。
第一のＨＣ層用組成物及び第二のＨＣ層用組成物の粘度は、例えば、Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製のＭＣＲ３０１を用いて、測定治具はＰＰ５０とし、測定温度は２５℃、せん断速度は１００００［１／ｓ］の条件にて測定対象の組成物を適量、ステージに滴下し測定することができる。 In the method for producing an optical film according to the present invention, the hard coat layer having the distribution of the ionic liquid described above that the viscosity of the second HC layer composition is larger than the viscosity of the first HC layer composition. Easy to form.
Although the adjustment method of the viscosity of the 1st and 2nd composition for HC layers is not specifically limited, Usually, a viscosity is adjusted with content of a solvent. In addition, the viscosity may be adjusted according to the type and molecular weight of the curable resin.
The viscosity of the first HC layer composition and the second HC layer composition is, for example, MCR301 manufactured by Anton Paar, the measurement jig is PP50, the measurement temperature is 25 ° C., and the shear rate is 10,000. An appropriate amount of the composition to be measured can be dropped on the stage under the condition of [1 / s] and measured.

第一のＨＣ層用組成物と第二のＨＣ層用組成物では、硬化性樹脂の種類、分子量、官能基数は同じであっても良いし、異なっていても良い。
第一のＨＣ層用組成物と第二のＨＣ層用組成物では、溶剤の種類は同じであっても良いし、異なっていても良い。
第一のＨＣ層用組成物と第二のＨＣ層用組成物に光開始剤等のその他の成分が含まれる場合は、その他の成分も当該２種の組成物で種類が同じであっても良いし、異なっていても良い。
第一のＨＣ層用組成物と第二のＨＣ層用組成物でイオン液体以外の組成が同じであれば、層内に界面がないハードコート層が得られやすい。 In the first HC layer composition and the second HC layer composition, the type, molecular weight, and number of functional groups of the curable resin may be the same or different.
In the first HC layer composition and the second HC layer composition, the types of solvents may be the same or different.
When the first HC layer composition and the second HC layer composition contain other components such as a photoinitiator, the other components may be the same in the two types of compositions. Good or different.
If the composition for the first HC layer and the composition for the second HC layer are the same except for the ionic liquid, it is easy to obtain a hard coat layer having no interface in the layer.

本発明に係る光学フィルムの製造方法において、第一のＨＣ層用組成物に含まれるイオン液体では、カチオンが、第４級アンモニウム系カチオン、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン、ピリジニウム系カチオン及びピロリジニウム系カチオンからなる群より選ばれる１種以上のカチオンであることが、溶解性および帯電防止性の観点から好ましい。
なかでも、熱安定性及び耐光性、透明性が良好であることから、第４級ホスホニウム系カチオンが好ましい。 In the method for producing an optical film according to the present invention, in the ionic liquid contained in the first HC layer composition, the cation is a quaternary ammonium cation, a quaternary phosphonium cation, an imidazolium cation, or a pyridinium cation. One or more cations selected from the group consisting of a cation and a pyrrolidinium cation are preferable from the viewpoints of solubility and antistatic properties.
Of these, quaternary phosphonium cations are preferred because of their good thermal stability, light resistance, and transparency.

図２に示したようなハードコート層２１の界面４０側に高屈折率微粒子６０が多く分布する第二の態様の光学フィルムを形成する場合、第一のＨＣ層用組成物には高屈折率微粒子６０を含有させずに、第二のＨＣ層用組成物にのみ高屈折率微粒子６０を含有させて同時塗布を行えば良い。この場合、第二のＨＣ層用組成物における高屈折率微粒子の含有量は、溶剤を除く第二のＨＣ層用組成物の全質量に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは、６５〜９０質量％である。   When the optical film of the second embodiment in which a large amount of the high refractive index fine particles 60 are distributed on the interface 40 side of the hard coat layer 21 as shown in FIG. 2 is formed, the first HC layer composition has a high refractive index. The simultaneous application may be performed by containing the high refractive index fine particles 60 only in the second HC layer composition without containing the fine particles 60. In this case, the content of the high refractive index fine particles in the second HC layer composition is preferably 50 to 90% by mass with respect to the total mass of the second HC layer composition excluding the solvent, more preferably, It is 65-90 mass%.

一方、図３に示したようなハードコート層２２の界面７０側に高屈折率微粒子６０が多く分布する第三の態様の光学フィルムを形成する場合、第二のＨＣ層用組成物には高屈折率微粒子６０を含有させずに、第一のＨＣ層用組成物にのみ高屈折率微粒子６０を含有させて同時塗布を行えば良い。この場合、第一のＨＣ層用組成物における高屈折率微粒子の含有量は、溶剤を除く第一のＨＣ層用組成物の全質量に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは、６５〜９０質量％である。   On the other hand, when the optical film of the third embodiment in which a large amount of the high refractive index fine particles 60 are distributed on the interface 70 side of the hard coat layer 22 as shown in FIG. The simultaneous application may be performed by containing the high refractive index fine particles 60 only in the first HC layer composition without containing the refractive index fine particles 60. In this case, the content of the high refractive index fine particles in the first HC layer composition is preferably 50 to 90% by mass, more preferably, based on the total mass of the first HC layer composition excluding the solvent. It is 65-90 mass%.

（ｉｉｉ）の２種のＨＣ層用組成物を同時塗布し、塗膜とする工程において、第一のＨＣ層用組成物を第二のＨＣ層用組成物よりも光透過性基材側に位置するように、光透過性基材側から第一のＨＣ層用組成物及び第二のＨＣ層用組成物を隣接して同時塗布することができる方法であれば、同時塗布方法は特に限定されない。このような同時塗布方法としては、例えば、２以上のスリット（吐出口）を有するダイコーティング及びスライドコーティング等が挙げられる。同時塗布に用いる装置は、２以上のスリットが単一のヘッドに設けられているものであっても良いし、２以上のスリットが２以上のヘッドに設けられたものであっても良い。   In the step of simultaneously applying the two HC layer compositions of (iii) to form a coating film, the first HC layer composition is placed closer to the light-transmitting substrate than the second HC layer composition. As long as it is a method capable of simultaneously coating the first HC layer composition and the second HC layer composition adjacent to each other from the light-transmitting substrate side, the simultaneous coating method is particularly limited. Not. Examples of such a simultaneous application method include die coating and slide coating having two or more slits (discharge ports). The apparatus used for simultaneous application may be one in which two or more slits are provided in a single head, or one in which two or more slits are provided in two or more heads.

同時塗布における２種のＨＣ層用組成物の塗布量は、所望のハードコート層の膜厚、イオン液体の分布等に応じて適宜調節すれば良い。例えば、第一のＨＣ層用組成物は、ウェット膜厚０．０５〜１００μｍ（乾燥膜厚換算０．０５〜２０μｍ）程度で塗布すれば良い。また、第二のＨＣ層用組成物は、例えば、ウェット膜厚０．０５〜１００μｍ（乾燥膜厚換算０．０５〜２０μｍ）程度で塗布すれば良い。ここでウェット膜厚とは、塗布直後の組成物中の溶剤が揮発する前の状態の塗膜の厚さであり、（光透過性基材上に塗布された組成物の体積／塗布面積）から求められる。   The coating amount of the two types of HC layer compositions in the simultaneous coating may be appropriately adjusted according to the desired hard coat layer thickness, ionic liquid distribution, and the like. For example, the first HC layer composition may be applied with a wet film thickness of 0.05 to 100 μm (in terms of dry film thickness 0.05 to 20 μm). Moreover, what is necessary is just to apply | coat the 2nd composition for HC layers, for example with a wet film thickness of 0.05-100 micrometers (0.05-20 micrometers of dry film thickness conversion) grade. Here, the wet film thickness is the thickness of the coating film in a state before the solvent in the composition immediately after application is volatilized, and (volume of the composition applied on the light-transmitting substrate / application area). It is requested from.

（偏光板）
本発明に係る偏光板は、上記光学フィルムの前記光透過性基材側の面に、偏光子が設けられていることを特徴とする。
図５は、本発明に係る偏光板の層構成の一例を示す模式図である。図５に示す偏光板２は、光透過性基材１０の一面側にイオン液体３０を含むハードコート層２０が設けられた光学フィルム１並びに保護フィルム１３０及び偏光層１４０が積層された偏光子１５０とを有しており、光学フィルム１の光透過性基材１０側の面に偏光子１５０が設けられている。
なお、光学フィルムの光透過性基材側の面に偏光子が配置されているとは、光学フィルムと偏光子とが別に形成されている場合だけでなく、光学フィルムを構成する部材が偏光子を構成する部材を兼ねている場合をも含むものである。
なお、光学フィルムについては、上述した光学フィルムを用いればよいので、ここでの説明は省略する。以下、本発明に係る偏光板における他の構成について説明する。 (Polarizer)
The polarizing plate according to the present invention is characterized in that a polarizer is provided on a surface of the optical film on the light-transmitting substrate side.
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of the layer structure of the polarizing plate according to the present invention. The polarizing plate 2 shown in FIG. 5 includes a polarizer 150 in which the optical film 1 provided with the hard coat layer 20 including the ionic liquid 30 on one surface side of the light-transmitting substrate 10 and the protective film 130 and the polarizing layer 140 are laminated. The polarizer 150 is provided on the surface of the optical film 1 on the light transmissive substrate 10 side.
Note that the polarizer is disposed on the surface of the optical film on the light transmissive substrate side, not only when the optical film and the polarizer are separately formed, but also when the members constituting the optical film are the polarizer. It also includes the case where it serves also as the member which comprises.
In addition, about an optical film, since the optical film mentioned above should just be used, description here is abbreviate | omitted. Hereinafter, another configuration of the polarizing plate according to the present invention will be described.

（偏光子）
本発明の偏光板に用いられる偏光子としては、所定の偏光特性を備えるものであれば特に限定されるものではなく、一般的に液晶表示装置に用いられる偏光子を用いることができる。
偏光子は、所定の偏光特性を長期間保持できる形態であれば特に限定されるものではなく、例えば、偏光層のみから構成されていてもよく、保護フィルムと偏光層とが貼り合わされたものであっても良い。保護フィルムと偏光層とが貼り合わされている場合、偏光層の片面のみに保護フィルムが形成されていてもよく、偏光層の両面に保護フィルムが形成されていても良い。 (Polarizer)
The polarizer used in the polarizing plate of the present invention is not particularly limited as long as it has predetermined polarization characteristics, and a polarizer generally used in a liquid crystal display device can be used.
The polarizer is not particularly limited as long as it can maintain predetermined polarization characteristics for a long period of time. For example, the polarizer may be composed of only a polarizing layer, and a protective film and a polarizing layer are bonded together. There may be. When the protective film and the polarizing layer are bonded together, the protective film may be formed only on one side of the polarizing layer, or the protective film may be formed on both sides of the polarizing layer.

偏光層としては、通常、ポリビニルアルコールからなるフィルムにヨウ素を含浸させ、これを一軸延伸することによってポリビニルアルコールとヨウ素との錯体を形成させたものが用いられる。   As the polarizing layer, usually, a film made of polyvinyl alcohol is impregnated with iodine and uniaxially stretched to form a complex of polyvinyl alcohol and iodine.

また、保護フィルムとしては、上記偏光層を保護することができ、かつ所望の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではない。
保護フィルムの光透過性としては、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
なお、上記保護フィルムの透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。 The protective film is not particularly limited as long as it can protect the polarizing layer and has a desired light transmittance.
As the light transmittance of the protective film, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
In addition, the transmittance | permeability of the said protective film can be measured by JISK7361-1 (The test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

保護フィルムを構成する樹脂としては、例えば、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等を挙げることができる。中でも、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。   Examples of the resin constituting the protective film include cellulose derivatives, cycloolefin resins, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, and polyethylene terephthalate. Among these, it is preferable to use a cellulose derivative or a cycloolefin resin.

（ディスプレイパネル）
本発明に係る第一のディスプレイパネルは、上記光学フィルムを含むことを特徴とする。
本発明に係る第二のディスプレイパネルは、上記偏光板を備えることを特徴とする。
一般にディスプレイパネルは、ディスプレイの視聴者側部材である。液晶ディスプレイを例に説明すると、ディスプレイパネルとは、液晶材を閉じ込めた２枚のガラス板（例えば、カラーフィルタ基板とアレイ基板）と偏光板及び本発明に係る光学フィルム等からなる部材である。
したがって、本発明に係るディスプレイパネルは、ディスプレイの視聴者側部材に上記光学フィルム又は上記偏光板を備えるものである。 (Display panel)
A first display panel according to the present invention includes the above optical film.
A second display panel according to the present invention includes the polarizing plate.
Generally, the display panel is a viewer side member of the display. Taking a liquid crystal display as an example, the display panel is a member composed of two glass plates (for example, a color filter substrate and an array substrate) confined with a liquid crystal material, a polarizing plate, and an optical film according to the present invention.
Therefore, the display panel which concerns on this invention equips the viewer side member of a display with the said optical film or the said polarizing plate.

（ディスプレイ）
本発明に係る第一のディスプレイは、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。
本発明に係る第二のディスプレイは、上記ディスプレイパネルを備えることを特徴とする。
ディスプレイとしては、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等が挙げられる。
ディスプレイは、ディスプレイの視聴者側部材のディスプレイパネルと、駆動部を含む背面側部材からなる。背面側部材とは、液晶ディスプレイを例に説明すると、バックライトと呼ばれる光源や、ＬＣＤを制御する駆動回路、光源を制御する回路及びシャーシ等からなる部材である。この場合の液晶ディスプレイの層構成の一例としては、導光板や拡散フィルム等を含むバックライト部があり、その視聴者側に偏光板、アレイ基板、液晶層、カラーフィルタ基板、偏光板、光学フィルムの順に積層されてなるものである。 (display)
The 1st display which concerns on this invention is equipped with the said optical film, It is characterized by the above-mentioned.
A second display according to the present invention includes the display panel.
Examples of the display include LCD, PDP, ELD (organic EL, inorganic EL), and CRT.
The display includes a display panel as a viewer side member of the display and a back side member including a driving unit. The back side member is a member made up of a light source called a backlight, a driving circuit for controlling the LCD, a circuit for controlling the light source, a chassis, and the like. As an example of the layer structure of the liquid crystal display in this case, there is a backlight portion including a light guide plate, a diffusion film, etc., and the viewer side has a polarizing plate, an array substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, a polarizing plate, an optical film. Are stacked in this order.

上記ディスプレイの他の一例であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記ディスプレイがＰＤＰの場合、表面ガラス基板の表面又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上記光学フィルムを備えていても良い。   A PDP, which is another example of the display, includes a front glass substrate and a rear glass substrate disposed so as to be opposed to the front glass substrate with a discharge gas sealed therebetween. When the display is a PDP, the optical film may be provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).

上記ディスプレイは、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置又は電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどのディスプレイであっても良い。この場合、ＥＬＤ装置又はＣＲＴの最表面又はその前面板の表面に上記光学フィルムを備えていても良い。   In the above display, a light emitter such as zinc sulfide or a diamine substance that emits light when a voltage is applied is vapor-deposited on a glass substrate, and an ELD device that performs display by controlling the voltage applied to the substrate or an electric signal is converted into light. It may be a display such as a CRT that generates a visible image. In this case, the optical film may be provided on the outermost surface of the ELD device or CRT or the surface of the front plate.

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.

各化合物の略語はそれぞれ、以下のものを表す。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＴＡＣ：トリアセチルセルロース The abbreviation of each compound represents the following, respectively.
DPHA: Dipentaerythritol hexaacrylate MIBK: Methyl isobutyl ketone TAC: Triacetyl cellulose

以下に示す組成を有する第一のＨＣ層用組成物１及び第二のＨＣ層用組成物１〜２をそれぞれ、調製した。   First HC layer composition 1 and second HC layer compositions 1-2 having the following compositions were prepared, respectively.

（第一のＨＣ層用組成物１）
イオン液体（トリブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、東京化成工業（株）製）：５質量部
第一の硬化性樹脂（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）：５０質量部
第一の硬化性樹脂（荒川化学工業（株）製の商品名ビームセットＤＫ１（重量平均分子量２００００、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤）：固形分換算５０質量部
レベリング剤（ＤＩＣ（株）製の商品名ＭＣＦ−３５０）：固形分換算３質量部
光開始剤（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：４質量部
溶剤（ＭＩＢＫ）：１００質量部 (First HC layer composition 1)
Ionic liquid (tributyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 5 parts by mass First curable resin (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 50 Mass parts First curable resin (trade name beam set DK1 (weight average molecular weight 20000, solid content 75%, MIBK solvent) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.): 50 mass parts in terms of solid content Leveling agent (DIC Corporation) Product name MCF-350): 3 parts by mass in terms of solid content Photoinitiator (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.): 4 parts by mass Solvent (MIBK): 100 parts by mass

（第二のＨＣ層用組成物１）
第二の硬化性樹脂（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）：５０質量部
第二の硬化性樹脂（荒川化学工業（株）製の商品名ビームセットＤＫ１（重量平均分子量２００００、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤）：固形分換算５０質量部
レベリング剤（ＤＩＣ（株）製の商品名ＭＣＦ−３５０）：固形分換算３質量部
光開始剤（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：４質量部
溶剤（ＭＩＢＫ）：１００質量部 (Second HC layer composition 1)
Second curable resin (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 50 parts by mass Second curable resin (trade name beam set DK1 manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. (weight average molecular weight 20000, solid content 75) %, MIBK solvent): 50 parts by mass in terms of solid content Leveling agent (trade name MCF-350, manufactured by DIC Corporation): 3 parts by mass in terms of solid content Photoinitiator (trade name, Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) ): 4 parts by mass Solvent (MIBK): 100 parts by mass

（第二のＨＣ層用組成物２）
第二の硬化性樹脂（荒川化学工業（株）製の商品名ビームセットＤＫ１（重量平均分子量２００００、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤）：固形分換算１００質量部
レベリング剤（ＤＩＣ（株）製の商品名ＭＣＦ−３５０）：固形分換算３質量部
光開始剤（チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４）：４質量部 (Second HC layer composition 2)
Second curable resin (trade name beam set DK1 manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. (weight average molecular weight 20000, solid content 75%, MIBK solvent): 100 parts by mass in terms of solid content Leveling agent (manufactured by DIC Corporation) Product name MCF-350): 3 parts by mass in terms of solid content Photoinitiator (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.): 4 parts by mass

（実施例１）
厚み４０μｍのＴＡＣ基材上に、第一のＨＣ層用組成物１が第二のＨＣ層用組成物１よりもＴＡＣ基材側に位置するように、第一のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚１５μｍ（乾燥膜厚換算約８μｍ）、第二のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚１μｍ（乾燥膜厚換算約０．５μｍ）となるように同時塗布し、オーブンでの乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量約９５ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、乾燥膜厚約８μｍのハードコート層を形成し、ＴＡＣ基材／ハードコート層からなる光学フィルムを作製した。 Example 1
On the TAC substrate having a thickness of 40 μm, the first HC layer composition 1 is placed so that the first HC layer composition 1 is located closer to the TAC substrate than the second HC layer composition 1 is. By simultaneously applying the wet film thickness 15 μm (approximately 8 μm in terms of dry film thickness) and the second HC layer composition 1 to a wet film thickness 1 μm (approximately 0.5 μm in terms of dry film thickness), and drying in an oven. After removing the solvent, UV irradiation is performed at an irradiation dose of about 95 mJ / cm 2 using an UV irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb), the coating film is cured, and the dry film thickness An optical film composed of a TAC substrate / hard coat layer was prepared by forming a hard coat layer of about 8 μm.

（実施例２）
実施例１において、第二のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚０．５μｍ（乾燥膜厚換算約０．３μｍ）となるように同時塗布した以外は実施例１と同様に乾燥膜厚約８μｍのハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。 (Example 2)
In Example 1, the dry HC layer composition 1 was applied in the same manner as in Example 1 except that the second HC layer composition 1 was simultaneously applied so as to have a wet film thickness of 0.5 μm (approximately 0.3 μm in terms of dry film thickness). An 8 μm hard coat layer was formed to produce an optical film.

（実施例３）
以下に示すように、逐次塗工法によりハードコート層を形成した。
厚み４０μｍのＴＡＣ基材上に、第一のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚１５μｍ（乾燥膜厚換算約８μｍ）となるように塗布し、オーブンでの乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量約３６ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、下層側のハードコート層を形成した。
次いで、当該下層側のハードコート層上へ、第二のＨＣ層用組成物２をウェット膜厚２μｍ（乾燥膜厚換算約１μｍ）となるように塗布し、オーブンでの乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて、照射線量約９５ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、上下層の合計乾燥膜厚が約９μｍのハードコート層を形成し、ＴＡＣ基材／ハードコート層からなる光学フィルムを作製した。 (Example 3)
As shown below, a hard coat layer was formed by a sequential coating method.
The first HC layer composition 1 is applied onto a TAC substrate having a thickness of 40 μm so as to have a wet film thickness of 15 μm (approximately 8 μm in terms of dry film thickness), and after removing the solvent by drying in an oven, ultraviolet rays are applied. Using an irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb), ultraviolet rays were irradiated at an irradiation dose of about 36 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming a lower hard coat layer.
Next, the second HC layer composition 2 was applied onto the lower hard coat layer so that the wet film thickness was 2 μm (approximately 1 μm in terms of dry film thickness), and the solvent was removed by drying in an oven. After that, using an ultraviolet irradiation device, ultraviolet irradiation is performed at an irradiation dose of about 95 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a hard coat layer having a total dry film thickness of upper and lower layers of about 9 μm. / An optical film composed of a hard coat layer was produced.

（比較例１）
実施例３において、第二のＨＣ層用組成物２に代えて第二のＨＣ層用組成物１を用い、下層側のハードコート層上へ、第二のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚１μｍ（乾燥膜厚換算約０．５μｍ）となるように塗布し、上下層の合計膜厚が約８μｍのハードコート層を形成した以外は実施例３と同様に光学フィルムを作製した。 (Comparative Example 1)
In Example 3, the second HC layer composition 1 was used in place of the second HC layer composition 2, and the second HC layer composition 1 was wet-coated onto the lower hard coat layer. An optical film was produced in the same manner as in Example 3 except that the coating was applied to a thickness of 1 μm (approximately 0.5 μm in terms of dry film thickness), and a hard coat layer having a total film thickness of the upper and lower layers of about 8 μm was formed.

（比較例２）
比較例１において、下層のハードコート層上へ、第二のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚０．５μｍ（乾燥膜厚換算約０．３μｍ）となるように塗布し、上下層の合計膜厚が約８μｍのハードコート層を形成した以外は比較例１と同様に光学フィルムを作製した。 (Comparative Example 2)
In Comparative Example 1, the second HC layer composition 1 was applied onto the lower hard coat layer so as to have a wet film thickness of 0.5 μm (approximately 0.3 μm in terms of dry film thickness), and the total of the upper and lower layers An optical film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that a hard coat layer having a thickness of about 8 μm was formed.

（比較例３）
厚み４０μｍのＴＡＣ基材上に、第一のＨＣ層用組成物１をウェット膜厚１５μｍ（乾燥膜厚換算約８μｍ）となるように塗布し、オーブンでの乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量約９５ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、乾燥膜厚約８μｍのハードコート層を形成し、ＴＡＣ基材／ハードコート層からなる光学フィルムを作製した。 (Comparative Example 3)
The first HC layer composition 1 is applied onto a TAC substrate having a thickness of 40 μm so as to have a wet film thickness of 15 μm (approximately 8 μm in terms of dry film thickness), and after removing the solvent by drying in an oven, ultraviolet rays are applied. Using an irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb), UV irradiation was performed at an irradiation dose of about 95 mJ / cm 2 , the coating film was cured, and a hard coat layer having a dry film thickness of about 8 μm was formed. Then, an optical film composed of a TAC substrate / hard coat layer was produced.

上記実施例及び比較例の各組成物のウェット膜厚及び塗布方法をまとめたものを表１に示す。   Table 1 shows a summary of wet film thicknesses and coating methods for the compositions of the above Examples and Comparative Examples.

Figure 0006401745
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上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、以下に示すようにイオン液体の分布、表面抵抗値、硬度、ヘイズ、全光線透過率及び密着性を測定、評価した。   About each optical film produced by the said Example and comparative example, as shown below, distribution, surface resistance value, hardness, haze, total light transmittance, and adhesiveness of an ionic liquid were measured and evaluated.

（イオン液体の分布測定）
ＸＰＳ装置（ＥＳＣＡ−３４００、ＫＲＡＴＯＳ社製）を用いて、ハードコート層表面（界面４０）からの膜厚（深さ）方向におけるイオン液体（トリブチル（２−メトキシエチル）ホスホニウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）に含まれる硫黄原子の濃度を測定することによって、イオン液体の分布を求めた。
まず、サンプル台を覆う程度に光学フィルムをカットし、サンプル台に粘着シートを介して光学フィルムを貼り付けることで分析サンプルを作成した。
ＸＰＳ測定は、光学フィルムのハードコート層表面からイオンスパッタ（Ａｒ＋を照射、スパッタ用イオン銃は「高速イオン銃（Ｋａｕｆｍａｎ型イオン銃）」を使用。）することによりエッチングしながら、ハードコート層表面から特定深さの部分を露出させつつ、その露出させる深さを徐々に深くして行った。
上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムの測定結果を表２に示す。また、実施例の光学フィルムの測定結果をグラフにしたものを図６に、比較例の光学フィルムの測定結果をグラフにしたものを図７にそれぞれ、示す。 (Ion liquid distribution measurement)
Using an XPS apparatus (ESCA-3400, manufactured by KRATOS), an ionic liquid (tributyl (2-methoxyethyl) phosphonium bis (trifluoromethanesulfonyl) in the film thickness (depth) direction from the hard coat layer surface (interface 40) The distribution of the ionic liquid was determined by measuring the concentration of sulfur atoms contained in the) imide).
First, the optical film was cut so as to cover the sample table, and an analysis sample was prepared by attaching the optical film to the sample table via an adhesive sheet.
In XPS measurement, the hard coat layer is etched while being ion-sputtered from the hard coat layer surface of the optical film (Ar + is irradiated, and a high-speed ion gun (Kaufman type ion gun) is used as the sputter ion gun). While exposing a specific depth from the surface, the exposed depth was gradually increased.
Table 2 shows the measurement results of the optical films prepared in the above examples and comparative examples. Moreover, what plotted the measurement result of the optical film of the Example in FIG. 6 is shown in FIG. 6, and what graphed the measurement result of the optical film of the comparative example is shown in FIG.

Figure 0006401745
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（耐溶剤拭き取り性の評価）
上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、耐溶剤拭き取り性を以下のように評価した。
まず、溶剤で拭き取る前の初期状態におけるハードコート層表面の表面抵抗値を、三菱化学（株）製の商品名ハイレスタ（測定限界１．００×１０１３Ω）を用いて測定した。
次いで、水、エタノール及びＭＩＢＫそれぞれを同量染み込ませたウェス（旭化成（株）製の商品名ベンコット・リントフリー）を用いて、ハードコート層表面の同一箇所を１０回拭き、その後、乾燥したウェスで１０回拭いた。その後、上記と同様に表面抵抗値を測定した。測定結果を表３に示す。 (Evaluation of solvent wiping resistance)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the solvent wiping-off property was evaluated as follows.
First, the surface resistance value of the hard coat layer surface in the initial state before wiping with a solvent was measured using a trade name Hiresta (measurement limit 1.00 × 10 13 Ω) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
Next, the same part on the surface of the hard coat layer was wiped 10 times using a waste cloth (trade name Bencot Lint Free, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) soaked with the same amount of water, ethanol and MIBK, and then dried waste cloth. And wiped 10 times. Thereafter, the surface resistance value was measured in the same manner as described above. Table 3 shows the measurement results.

（鉛筆硬度の測定）
上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムのハードコート層表面に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）を行い、傷が付かなかった最も高い硬度を測定した。測定結果を表３に示す。 (Measurement of pencil hardness)
The pencil hardness test (4.9N load) prescribed in JIS K5600-5-4 (1999) is performed on the hard coat layer surface of each optical film produced in the above examples and comparative examples, and no scratch is attached. The highest hardness was measured. Table 3 shows the measurement results.

（ヘイズ及び全光線透過率の測定）
上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いてヘイズ及び全光線透過率を測定した。測定結果を表３に示す。 (Measurement of haze and total light transmittance)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, haze and a total light transmittance were measured using the turbidimeter NDH2000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). Table 3 shows the measurement results.

（密着性の評価）
上記実施例及び比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準拠して、付着テープとしてニチバン（株）製の工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて、クロスカット法による付着性試験を行い、密着性を評価した。測定結果を表３に示す。 (Evaluation of adhesion)
About each optical film produced by the said Example and the comparative example, based on JISK5600-5-6, the cross cut method was used using Nichiban Co., Ltd. industrial 24mm cello tape (trademark) as an adhesive tape. An adhesion test was conducted to evaluate the adhesion. Table 3 shows the measurement results.

Figure 0006401745
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（結果のまとめ）
表２及び図６より、実施例１では、ハードコート層表面（界面４０）からの深さが３００ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがあるのに対し、比較例１では、深さ３３．３ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがある。なお、実施例１のピークの半値幅は、８３ｎｍであった。
同様に、実施例２では、深さ１３３．３ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがあるのに対し、比較例２では、深さ０ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがある。なお、実施例２のピークの半値幅は、９０ｎｍであった。
同様に、実施例３では、深さ６６６．７ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがあるのに対し、比較例３では、深さ０ｎｍに硫黄原子の濃度のピークがある。なお、実施例３のピークの半値幅は、６０ｎｍであった。
このことから、本発明に係る光学フィルムでは、ハードコート層の界面４０から５０ｎｍよりも深い位置にイオン液体の存在量のピークが存在することが分かる。 (Summary of results)
From Table 2 and FIG. 6, in Example 1, the depth from the hard coat layer surface (interface 40) has a peak of sulfur atom concentration at 300 nm, whereas in Comparative Example 1, the depth is 33.3 nm. There is a peak of sulfur atom concentration. In addition, the half value width of the peak of Example 1 was 83 nm.
Similarly, Example 2 has a sulfur atom concentration peak at a depth of 133.3 nm, while Comparative Example 2 has a sulfur atom concentration peak at a depth of 0 nm. In addition, the half width of the peak of Example 2 was 90 nm.
Similarly, Example 3 has a sulfur atom concentration peak at a depth of 666.7 nm, while Comparative Example 3 has a sulfur atom concentration peak at a depth of 0 nm. In addition, the half width of the peak of Example 3 was 60 nm.
From this, it can be seen that in the optical film according to the present invention, the peak of the ionic liquid is present at a position deeper than 50 nm from the interface 40 of the hard coat layer.

表３より、実施例で得られた光学フィルムでは、溶剤拭き取り後でも初期状態と同様の表面抵抗値を有していた。特に、エタノールとＭＩＢＫの有機溶剤に対する拭き取り性が優れていた。
しかし、比較例１で得られた光学フィルムでは、水での拭き取り後の表面抵抗値が２桁上昇してしまっていた。さらに有機溶剤に対する耐拭き取り性がなかった。
比較例２及び３で得られた光学フィルムは、水、エタノール及びＭＩＢＫの全てについて耐溶剤拭き取り性がなかった。 From Table 3, the optical films obtained in the examples had the same surface resistance value as in the initial state even after wiping off the solvent. In particular, the wiping property with respect to the organic solvent of ethanol and MIBK was excellent.
However, in the optical film obtained in Comparative Example 1, the surface resistance value after wiping with water increased by two digits. Further, there was no wiping resistance against organic solvents.
The optical films obtained in Comparative Examples 2 and 3 did not have solvent wiping resistance for all of water, ethanol and MIBK.

本発明の光学フィルムは、帯電防止性が要求される製品にそのまま使用することができる。本発明の光学フィルムの一態様によれば、帯電防止性、及びハードコート性を同時に実現できる光学フィルムを提供することができる。より好ましい態様においては、帯電防止性、ハードコート性、低反射化、及び干渉縞のない光学フィルムを提供することができる。そのため、埃付着防止性建材（化粧シート等）や光学ディスク表面のオーバーコート等に利用することができる。   The optical film of the present invention can be used as it is for products requiring antistatic properties. According to one aspect of the optical film of the present invention, an optical film that can simultaneously achieve antistatic properties and hard coat properties can be provided. In a more preferred embodiment, an optical film having antistatic properties, hard coat properties, low reflection, and no interference fringes can be provided. For this reason, it can be used for a dust adhesion-preventing building material (such as a decorative sheet) or an overcoat on the optical disk surface.

１ 光学フィルム
２ 偏光板
１０ 光透過性基材
１１ トリアセチルセルロース基材
１２ ポリエチレンテレフタレート基材
２０ ハードコート層
２１、２２ 屈折率傾斜ハードコート層
３０ イオン液体
４０ 界面
５０ 低屈折率層
６０ 高屈折率微粒子
７０ 界面
８０ ダイヘッド
９１、９２ スリット
１００ 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物
１０１ 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜
１１０ 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物
１１１ 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜
１２０ 光透過性基材の搬送方向
１３０ 保護フィルム
１４０ 偏光層
１５０ 偏光子
１６０ 基材
１７０ 従来のハードコート層
１８０ イオン液体
１９０ カバー層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 2 Polarizing plate 10 Light transmissive base material 11 Triacetyl cellulose base material 12 Polyethylene terephthalate base material 20 Hard coat layers 21, 22 Refractive index gradient hard coat layer 30 Ionic liquid 40 Interface 50 Low refractive index layer 60 High refractive index Fine particle 70 Interface 80 Die head 91, 92 Slit 100 First curable resin composition for hard coat layer 101 Coating film 110 of first curable resin composition for hard coat layer Second curable resin composition for hard coat layer Product 111 Coating film 120 of second curable resin composition for hard coat layer 120 Transport direction 130 of transparent substrate 140 Protective film 140 Polarizing layer 150 Polarizer 160 Base material 170 Conventional hard coat layer 180 Ionic liquid 190 Cover layer

Claims (8)

光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。 An antistatic method for an optical film in which a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and a pencil hardness of H or higher is provided on one side of a light-transmitting substrate,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less . 前記ハードコート層は、メタクリロイル基及び／又はアクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーよりなる群から選ばれる硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層である、請求項１に記載の帯電防止方法。   The hard coat layer is a hard coat layer made of a cured product of a curable resin composition containing a curable resin selected from the group consisting of monomers, oligomers and prepolymers having a methacryloyl group and / or an acryloyl group. Item 2. The antistatic method according to Item 1. 前記ピークの半値幅が２５〜５００ｎｍであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の帯電防止方法。   The antistatic method according to claim 1, wherein the peak has a half-value width of 25 to 500 nm. 前記カチオンが、第４級アンモニウム系カチオン、第４級ホスホニウム系カチオン、イミダゾリウム系カチオン、ピリジニウム系カチオン及びピロリジニウム系カチオンからなる群より選ばれる１種以上のカチオンであることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 The cation is at least one cation selected from the group consisting of a quaternary ammonium cation, a quaternary phosphonium cation, an imidazolium cation, a pyridinium cation, and a pyrrolidinium cation. Item 4. The antistatic method according to any one of Items 1 to 3 . 前記ハードコート層の表面抵抗値が、１．０×１０１３Ω／□以下であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 The surface resistance of the hard coat layer, characterized in that it is 1.0 × 10 13 Ω / □ or less, the antistatic method according to any one of claims 1 to 4. 前記ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の面に低屈折率層が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の帯電防止方法。 Wherein the low refractive index layer on the surface opposite to the light transmitting substrate of the hard coat layer is provided, antistatic method according to any one of claims 1 to 5. 光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムの前記光透過性基材側の面に偏光素子が設けられた偏光板の帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。 Charging of a polarizing plate in which a polarizing element is provided on the surface of the light transmissive substrate side of an optical film provided with a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and pencil hardness H or more on one surface side of the light transmissive substrate A prevention method,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less . 光透過性基材の一面側に膜厚１〜４０μｍ、鉛筆硬度Ｈ以上のハードコート層が設けられた光学フィルムを備えるディスプレイの帯電防止方法であって、
前記ハードコート層として、カチオンとアニオンからなるイオン液体を含み、当該ハードコート層の膜厚方向において、当該ハードコート層の前記光透過性基材とは反対側の界面から５０〜７００ｎｍの領域に、当該界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量のピークが存在し、かつ、前記界面から７００ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量に対する当該界面から５０ｎｍまでの領域に存在する前記イオン液体の存在量の割合が、５０％以下であるハードコート層を設けることを特徴とする、帯電防止方法。 An antistatic method for a display comprising an optical film provided with a hard coat layer having a film thickness of 1 to 40 μm and a pencil hardness of H or more on one surface side of a light transmissive substrate,
As the hard coat layer, an ionic liquid composed of a cation and an anion is included, and in the film thickness direction of the hard coat layer, the hard coat layer is in a region of 50 to 700 nm from the interface opposite to the light-transmitting substrate. A peak of the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm and a region from the interface to 50 nm with respect to the abundance of the ionic liquid existing in a region from the interface to 700 nm. An antistatic method, comprising providing a hard coat layer in which the ratio of the ionic liquid present is 50% or less .
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