JP6368826B2 - Nanofiber manufacturing apparatus and nanofiber manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、ナノファイバ製造装置、及び、ナノファイバ製造方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to a nanofiber manufacturing apparatus and a nanofiber manufacturing method.

ナノ単位の直径を有する繊維物質を製造する装置として、ナノファイバ製造装置が医療分野等の広い分野に用いられている。ナノファイバ製造装置において、エレクトロスピニング技術が用いられている。   2. Description of the Related Art Nanofiber manufacturing apparatuses are used in a wide field such as the medical field as an apparatus for manufacturing a fiber material having a nano-unit diameter. Electrospinning technology is used in nanofiber manufacturing equipment.

エレクトロスピニング技術とは、高分子物質等が溶解した原料液と、ワークと、を帯電させ、原料液及びワークの電位差によって原料液をワークに向かって吐出させる技術である。原料液が電気的に延伸することでナノファイバが製造される。このようなナノファイバ製造装置において、生産性を向上させることが望まれる。   The electrospinning technique is a technique in which a raw material liquid in which a polymer substance or the like is dissolved and a work are charged, and the raw material liquid is discharged toward the work by a potential difference between the raw material liquid and the work. Nanofibers are manufactured by electrically stretching the raw material liquid. In such a nanofiber manufacturing apparatus, it is desired to improve productivity.

特開２００９−２７５３２６号公報JP 2009-275326 A

本発明の実施形態は、より生産性が向上したナノファイバ製造装置及びナノファイバ製造方法を提供する。   Embodiments of the present invention provide a nanofiber manufacturing apparatus and a nanofiber manufacturing method with improved productivity.

本発明の実施形態によれば、吐出部と、電源部と、調整部と、検査部と、を備えたナノファイバ製造装置が提供される。前記吐出部は、第１面と、前記第１面と反対の第２面と、を有する被堆積部の前記第１面に向かって原料液を吐出する。前記電源部は、前記吐出部と、前記第１面と、の間に電位差を発生させる。前記調整部は、前記第２面に対向して設けられる。前記調整部は、前記第２面に電位を発生させる。前記検査部は、前記被堆積部に対して前記第１面の側から欠陥を検査する。
According to an embodiment of the present invention, a nanofiber manufacturing apparatus including a discharge unit, a power supply unit, an adjustment unit, and an inspection unit is provided. The discharge unit discharges the raw material liquid toward the first surface of the deposition target portion having a first surface and a second surface opposite to the first surface. The power supply unit generates a potential difference between the ejection unit and the first surface. The adjustment unit is provided to face the second surface. The adjusting unit generates a potential on the second surface. The inspection unit inspects the defect to be deposited from the first surface side.

第１実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the nanofiber manufacturing apparatus which concerns on 1st Embodiment. ナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す参考図である。It is a reference figure which shows the state by which the nanofiber was deposited by the nanofiber manufacturing apparatus. 第１実施形態に係るナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the nanofiber was deposited by the nanofiber manufacturing apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第２実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the nanofiber manufacturing apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第３実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the nanofiber manufacturing apparatus which concerns on 3rd Embodiment. ナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す参考図である。It is a reference figure which shows the state by which the nanofiber was deposited by the nanofiber manufacturing apparatus. 第３実施形態に係るナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the nanofiber was deposited by the nanofiber manufacturing apparatus which concerns on 3rd Embodiment. ナノファイバ製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a nanofiber manufacturing method.

以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The drawings are schematic or conceptual, and the relationship between the thickness and width of each part, the size ratio between the parts, and the like are not necessarily the same as actual ones. Further, even when the same part is represented, the dimensions and ratios may be represented differently depending on the drawings.
Note that, in the present specification and each drawing, the same elements as those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted as appropriate.

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。
図２は、ナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す参考図である。
図３は、第１実施形態に係るナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す図である。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a nanofiber manufacturing apparatus according to the first embodiment.
FIG. 2 is a reference diagram illustrating a state in which nanofibers are deposited by the nanofiber manufacturing apparatus.
FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which nanofibers are deposited by the nanofiber manufacturing apparatus according to the first embodiment.

図１に表すように、ナノファイバ製造装置１００は、電源部１０と、制御部２０と、検査部２５と、吐出部３０と、調整部４０と、遮蔽部５０と、被堆積部６０と、を備える。図１の矢印の方向は、吐出部３０が原料液を吐出する方向を示している。   As shown in FIG. 1, the nanofiber manufacturing apparatus 100 includes a power supply unit 10, a control unit 20, an inspection unit 25, a discharge unit 30, an adjustment unit 40, a shielding unit 50, a deposition unit 60, Is provided. The direction of the arrow in FIG. 1 indicates the direction in which the discharge unit 30 discharges the raw material liquid.

本実施形態のナノファイバ製造装置１００において、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に電圧を印加すると、表面張力によって吐出部３０の先端部分に留まっている原料液は正（または負）に帯電する。また、原料液は、異極に帯電（アース）している被堆積部６０に向かう電気力線に沿って作用する静電力によって吸引される。なお、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に印加する電圧は、１０〜１００ｋＶ程度である。   In the nanofiber manufacturing apparatus 100 of the present embodiment, when a voltage is applied between the discharge unit 30 and the deposition target portion 60, the raw material liquid remaining at the tip of the discharge unit 30 due to surface tension is positive (or negative). ) Is charged. Further, the raw material liquid is attracted by the electrostatic force acting along the lines of electric force directed to the deposition target portion 60 that is charged (grounded) to a different polarity. In addition, the voltage applied between the discharge part 30 and the to-be-deposited part 60 is about 10-100 kV.

静電力が表面張力より大きくなると、原料液が吐出部３０の先端部分から吐出される。先端部分から吐出された原料液は、被堆積部６０に向かって吐出される。このとき、原料液に含まれる溶媒は揮発し、ポリマーの繊維体が被堆積部６０に到達する。これにより、ナノファイバＮが被堆積部６０の上に堆積される。本実施形態のナノファイバ製造装置１００は、エレクトロスピニング法を用いてナノファイバＮを形成する。   When the electrostatic force becomes larger than the surface tension, the raw material liquid is discharged from the tip portion of the discharge unit 30. The raw material liquid discharged from the tip portion is discharged toward the deposition target portion 60. At this time, the solvent contained in the raw material liquid is volatilized, and the polymer fibrous body reaches the portion 60 to be deposited. As a result, the nanofibers N are deposited on the portion 60 to be deposited. The nanofiber manufacturing apparatus 100 of this embodiment forms the nanofiber N using an electrospinning method.

ナノファイバ製造装置１００によって、平滑表面、多孔表面、ビーズ状、芯鞘状、中空状、極細ファイバー等の形状を有するナノファイバＮが被堆積部６０の上に堆積される。例えば、ナノファイバ製造装置１００によって、電池の電極上にセパレータが形成される。   The nanofiber N having a shape such as a smooth surface, a porous surface, a bead shape, a core-sheath shape, a hollow shape, and an ultrafine fiber is deposited on the deposition target portion 60 by the nanofiber manufacturing apparatus 100. For example, the separator is formed on the electrode of the battery by the nanofiber manufacturing apparatus 100.

電源部１０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に高電圧を印加する電源装置である。電源部１０は、直流電源を用いた電源装置である。例えば、電源部１０の一方の端子は、吐出部３０に電気的に接続され、電源部１０の他方の端子は、接地されている。また、被堆積部６０の一端は、接地されている。このような接続によって、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に電位差を発生させることができる。   The power supply unit 10 is a power supply device that applies a high voltage between the ejection unit 30 and the deposition target part 60. The power supply unit 10 is a power supply device using a DC power supply. For example, one terminal of the power supply unit 10 is electrically connected to the discharge unit 30, and the other terminal of the power supply unit 10 is grounded. In addition, one end of the deposition target portion 60 is grounded. With such connection, a potential difference can be generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60.

制御部２０は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）及びメモリー等を備えたコンピュータである。制御部２０は、電源部１０及び吐出部３０の動作を制御する。制御部２０は、電源部１０及び吐出部３０に電気的に接続されている。制御部２０は、吐出液に印加される電圧値を決定するように電源部１０を制御する。制御部２０は、吐出液の量を決定するように吐出部３０を制御する。   The control unit 20 is, for example, a computer that includes a CPU (Central Processing Unit) and a memory. The control unit 20 controls operations of the power supply unit 10 and the discharge unit 30. The control unit 20 is electrically connected to the power supply unit 10 and the discharge unit 30. The control unit 20 controls the power supply unit 10 so as to determine a voltage value applied to the discharge liquid. The control unit 20 controls the discharge unit 30 so as to determine the amount of discharge liquid.

検査部２５は、ナノファイバＮが堆積された被堆積部６０の第１面６０ａの欠陥を検査する。例えば、表面欠陥を検査する方法として、検査対象である第１面６０ａの外観をカメラ等で撮像し、ディスプレイに表示させた画像を観察する方法がある。また、表面欠陥を検査する別の方法として、第１面６０ａの外観をカメラ等で撮像し、画像データと、検査用のマスターデータと、を比較して表面欠陥を特定する方法がある。また、第１面６０ａに検査体を接触させて表面欠陥を検査しても良い。第１面６０ａの欠陥を検査する検査装置を別に設けても良い。   The inspection unit 25 inspects defects on the first surface 60a of the deposition target portion 60 on which the nanofibers N are deposited. For example, as a method for inspecting a surface defect, there is a method in which the appearance of the first surface 60a to be inspected is imaged with a camera or the like and an image displayed on a display is observed. As another method for inspecting surface defects, there is a method in which the appearance of the first surface 60a is imaged with a camera or the like, and image data is compared with inspection master data to identify surface defects. Further, the surface defect may be inspected by bringing an inspection body into contact with the first surface 60a. A separate inspection device for inspecting the first surface 60a for defects may be provided.

検査部２５は、第１面６０ａの欠陥に関する情報を欠陥信号を介して制御部２０に送る。制御部２０は、検査部２５からの欠陥信号によるデータに基づいて、電源部１０、吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０を制御する。例えば、制御部２０は、検出された被堆積部６０上の欠陥に基づいて、吐出部３０の被堆積部６０に対する位置、調整部４０の被堆積部６０に対する位置、及び、遮蔽部５０の被堆積部６０に対する位置を決定する。   The inspection unit 25 sends information related to the defect of the first surface 60a to the control unit 20 via the defect signal. The control unit 20 controls the power supply unit 10, the discharge unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50 based on data based on the defect signal from the inspection unit 25. For example, the control unit 20 determines the position of the ejection unit 30 relative to the deposition target 60, the position of the adjustment unit 40 relative to the deposition target 60, and the coverage of the shielding unit 50 based on the detected defect on the deposition target 60. The position with respect to the deposition part 60 is determined.

吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０の位置が決まった後、制御部２０は、ナノファイバＮが欠陥部分に形成するように、電源部１０及び吐出部３０を制御する。例えば、制御部２０は、欠陥部分にナノファイバＮを形成させるために、電源部１０により印加する電圧値、及び、吐出部３０から吐出する原料液の量を決定する。これにより、被堆積部６０上の欠陥は修復される。   After the positions of the ejection unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50 are determined, the control unit 20 controls the power supply unit 10 and the ejection unit 30 so that the nanofibers N are formed in the defective portion. For example, the control unit 20 determines the voltage value applied by the power supply unit 10 and the amount of the raw material liquid discharged from the discharge unit 30 in order to form the nanofiber N in the defective portion. Thereby, the defect on the deposition target portion 60 is repaired.

吐出部３０は、例えば、ナノファイバＮを形成する材料である原料液を吐出するノズルである。吐出部３０は、先端部分と、本体部分と、を有する。例えば、原料液は、吐出部３０とは別に設けられたタンク等に蓄えられ、タンクからパイプを介して吐出部３０の本体部分に供給される。本体部分に蓄えられた原料液は、先端部分から吐出される。   The discharge unit 30 is, for example, a nozzle that discharges a raw material liquid that is a material for forming the nanofibers N. The discharge part 30 has a front-end | tip part and a main-body part. For example, the raw material liquid is stored in a tank or the like provided separately from the discharge unit 30 and is supplied from the tank to the main body portion of the discharge unit 30 through a pipe. The raw material liquid stored in the main body portion is discharged from the tip portion.

原料液は、ナノファイバＮの基材となる溶質を溶媒中に分散または溶解させた液体である。また、原料液は、ナノファイバＮの材質やナノファイバＮの性質等により適宜調整される液体である。例えば、原料液に分散または溶解する溶質として樹脂がある。また、原料液に使用される溶媒としては、揮発性のある有機溶剤がある。原料液に無機質固体材料を添加しても良い。   The raw material liquid is a liquid in which a solute serving as a base material of the nanofiber N is dispersed or dissolved in a solvent. The raw material liquid is a liquid that is appropriately adjusted depending on the material of the nanofiber N, the nature of the nanofiber N, and the like. For example, a resin is a solute that is dispersed or dissolved in a raw material liquid. Moreover, as a solvent used for the raw material liquid, there is a volatile organic solvent. An inorganic solid material may be added to the raw material liquid.

調整部４０は、導電性の部材である。例えば、調整部４０は、電極である。調整部４０は、所定の電圧を印加する電源装置を有しても良い。調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂ側に電位を発生させる。   The adjustment unit 40 is a conductive member. For example, the adjustment unit 40 is an electrode. The adjustment unit 40 may include a power supply device that applies a predetermined voltage. The adjustment unit 40 generates a potential on the second surface 60 b side of the deposition target portion 60.

調整部４０は、被堆積部６０の近傍に配置されている。例えば、調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂに対向する。例えば、調整部４０の第２面６０ｂに対向する端部は、尖っている。調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂに近づくにつれて、調整部４０から被堆積部６０に向かう方向に垂直な方向の幅が小さくなる形状を有する。   The adjustment unit 40 is disposed in the vicinity of the deposition target portion 60. For example, the adjustment unit 40 faces the second surface 60 b of the deposition target portion 60. For example, the end of the adjustment unit 40 that faces the second surface 60b is sharp. The adjustment unit 40 has a shape in which the width in the direction perpendicular to the direction from the adjustment unit 40 toward the deposition target portion 60 decreases as the second surface 60b of the deposition target portion 60 approaches.

調整部４０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させ、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態を均一にする。例えば、調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂ側に、吐出部３０によって発生する電位（例えば、正電位）と反対の電位（例えば、負電位）を発生させる。第２面６０ｂ側に逆電位が発生することで、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界が変化する。つまり、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する第１電界は、調整部４０から発生する第２電界によって影響を受けて変化する。これにより、ナノファイバＮが堆積する範囲を制御することができる。   The adjustment unit 40 changes the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60, and makes the deposition state of the nanofibers N uniform on the first surface 60 a of the deposition target portion 60. For example, the adjustment unit 40 generates a potential (for example, a negative potential) opposite to the potential (for example, a positive potential) generated by the ejection unit 30 on the second surface 60 b side of the deposition target portion 60. By generating a reverse potential on the second surface 60b side, the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60 changes. That is, the first electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target part 60 is affected and changed by the second electric field generated from the adjustment unit 40. Thereby, the range in which the nanofibers N are deposited can be controlled.

また、調整部４０の第２面６０ｂに対向する部分が尖っている場合、ナノファイバＮが堆積する範囲を狭くすることができる。吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する第１電界は、調整部４０の先端形状に基づいて発生する第２電界によって変化する。例えば、ナノファイバＮが堆積された領域にピンホール等の開口が発生している場合、ナノファイバＮの進行経路は、調整部４０の先端形状に基づいて発生する第２電界によって制御できる。これにより、小さな開口であってもナノファイバＮを導くことができる。ナノファイバＮの膜厚の均一性も向上させることができる。   Moreover, when the part which opposes the 2nd surface 60b of the adjustment part 40 is sharp, the range which the nanofiber N accumulates can be narrowed. The first electric field generated between the discharge unit 30 and the portion 60 to be deposited is changed by the second electric field generated based on the tip shape of the adjustment unit 40. For example, when an opening such as a pinhole is generated in a region where the nanofiber N is deposited, the traveling path of the nanofiber N can be controlled by the second electric field generated based on the tip shape of the adjustment unit 40. Thereby, even if it is a small opening, the nanofiber N can be guide | induced. The uniformity of the film thickness of the nanofiber N can also be improved.

遮蔽部５０は、金属等の導電性の部材である。遮蔽部５０は、所定の電圧を印加する電源装置を有しても良い。例えば、所定の電位が遮蔽部５０に発生する。   The shielding part 50 is a conductive member such as metal. The shielding unit 50 may include a power supply device that applies a predetermined voltage. For example, a predetermined potential is generated in the shielding unit 50.

遮蔽部５０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に配置されている。また、遮蔽部５０は、３つの環状体を有する。遮蔽部５０が有する環状体の数は、１つ又は２つでも良く、４つ以上でも良い。このような環状体によって、吐出部３０から発生したナノファイバＮが堆積する範囲が制御される。   The shielding part 50 is disposed between the discharge part 30 and the deposition target part 60. Moreover, the shielding part 50 has three annular bodies. The number of annular bodies included in the shielding unit 50 may be one or two, or four or more. By such an annular body, the range in which the nanofibers N generated from the discharge unit 30 are deposited is controlled.

遮蔽部５０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させ、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態を均一にする。例えば、遮蔽部５０に、吐出部３０によって発生する電位（例えば、正電位）と同一の電位が発生する。遮蔽部５０に同電位が発生することで、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界が変化する。つまり、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する第１電界は、遮蔽部５０に発生する第３電界によって影響を受けて変化する。これにより、ナノファイバＮが堆積する範囲を制御することができる。   The shielding unit 50 changes the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60, and makes the deposition state of the nanofibers N uniform on the first surface 60 a of the deposition target portion 60. For example, the same potential as the potential (for example, positive potential) generated by the discharge unit 30 is generated in the shielding unit 50. When the same potential is generated in the shielding unit 50, the electric field generated between the discharge unit 30 and the deposition target portion 60 changes. That is, the first electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target part 60 is affected and changed by the third electric field generated in the shielding unit 50. Thereby, the range in which the nanofibers N are deposited can be controlled.

ナノファイバＮの進行経路は、遮蔽部５０から発生する電界によって制御される。例えば、ナノファイバＮの進行経路が調整部４０から発生する電界によって制御される場合、遮蔽部５０は、調整部４０におけるナノファイバＮの進行経路の制御と共に、ナノファイバＮの進行経路を制御できる。これにより、小さな開口であってもナノファイバＮを導くことができる。ナノファイバＮの膜厚の均一性も向上させることができる。   The traveling path of the nanofiber N is controlled by an electric field generated from the shielding unit 50. For example, when the traveling path of the nanofiber N is controlled by the electric field generated from the adjusting unit 40, the shielding unit 50 can control the traveling path of the nanofiber N together with the control of the traveling path of the nanofiber N in the adjusting unit 40. . Thereby, even if it is a small opening, the nanofiber N can be guide | induced. The uniformity of the film thickness of the nanofiber N can also be improved.

被堆積部６０は、吐出部３０との間に形成された空間に吐出されたナノファイバＮを堆積させて収集する。被堆積部６０は、第１面６０ａ及び第２面６０ｂを有する。第１面６０ａは、第２面６０ｂの反対側の面である。ナノファイバＮは、被堆積部６０の第１面６０ａに堆積される。   The deposited portion 60 deposits and collects the nanofibers N that are ejected in a space formed between the ejection portions 30. The portion 60 to be deposited has a first surface 60a and a second surface 60b. The first surface 60a is a surface opposite to the second surface 60b. The nanofiber N is deposited on the first surface 60 a of the deposition target portion 60.

被堆積部６０は、例えば、基板である。被堆積部６０は、シート状の部材でも良い。被堆積部６０がシート状の部材である場合、被堆積部６０がロール等に巻きつけられた状態でナノファイバを堆積させて収集しても良い。   The deposited portion 60 is, for example, a substrate. The deposited portion 60 may be a sheet-like member. When the deposition target 60 is a sheet-like member, the nanofibers may be deposited and collected in a state where the deposition target 60 is wound around a roll or the like.

被堆積部６０は可動しても良い。例えば、被堆積部６０は、回転ドラム、ベルトコンベア等の搬送装置でも良い。ベルトコンベアは、ベルトを長尺化できるためナノファイバＮの量産に向いている。   The portion 60 to be deposited may be movable. For example, the portion 60 to be deposited may be a transfer device such as a rotating drum or a belt conveyor. The belt conveyor is suitable for mass production of nanofibers N because the belt can be elongated.

ナノファイバ製造装置１００に、吐出部３０に原料液を供給する供給部が設けられても良い。また、吐出部３０は、複数設けられても良い。複数の吐出部３０は、任意の方向に沿って直線状に並んで配置され、原料液が供給部から複数の吐出部３０の各々に供給されることができる。   The nanofiber manufacturing apparatus 100 may be provided with a supply unit that supplies the raw material liquid to the discharge unit 30. A plurality of ejection units 30 may be provided. The plurality of ejection units 30 are arranged in a straight line along an arbitrary direction, and the raw material liquid can be supplied from the supply unit to each of the plurality of ejection units 30.

ここで、図２に表すように、リチウムイオン二次電池のセパレータを形成する場合、ナノファイバ製造装置を用いて電極６４上にナノファイバＮを直接塗布することもできる。多孔質状の高分子膜シートとしてセパレータが電極６４上に形成される。   Here, as shown in FIG. 2, when forming a separator of a lithium ion secondary battery, the nanofiber N can be directly coated on the electrode 64 using a nanofiber manufacturing apparatus. A separator is formed on the electrode 64 as a porous polymer film sheet.

電極６４は、正電極又は負電極である。電極６４が集電体６５の両面に設けられている。集電体６５として、アルミニウム（Ａｌ）等の金属を含む箔が用いられる。電極体６６は、電極６４及び集電体６５を有する。例えば、被堆積部６０の第１面６０ａ上に電極体６６を載せ、ナノファイバＮが電極６４上に形成される。このような電極体６６を複数積層することでリチウムイオン二次電池が形成される。電極体６６を複数積層する場合、ナノファイバＮが電極６４上に設けられることで電極間の接触（例えば、正電極と負電極との接触）が抑制される。   The electrode 64 is a positive electrode or a negative electrode. Electrodes 64 are provided on both sides of the current collector 65. As the current collector 65, a foil containing a metal such as aluminum (Al) is used. The electrode body 66 includes an electrode 64 and a current collector 65. For example, the electrode body 66 is placed on the first surface 60 a of the deposition target portion 60, and the nanofiber N is formed on the electrode 64. By stacking a plurality of such electrode bodies 66, a lithium ion secondary battery is formed. When a plurality of electrode bodies 66 are stacked, contact between the electrodes (for example, contact between the positive electrode and the negative electrode) is suppressed by providing the nanofiber N on the electrode 64.

しかし、ナノファイバＮが堆積された領域には、ピンホール等の開口６４ｏが発生し易い。開口６４ｏが電極６４上に形成されると、正電極と負電極とが接触する虞がある。正電極と、負電極と、が開口を介して接触すると、リチウムイオン二次電池に短絡等の不具合が生じる可能性がある。   However, an opening 64o such as a pinhole is easily generated in the region where the nanofibers N are deposited. If the opening 64o is formed on the electrode 64, the positive electrode and the negative electrode may come into contact with each other. When the positive electrode and the negative electrode come into contact with each other through the opening, there is a possibility that a defect such as a short circuit may occur in the lithium ion secondary battery.

本実施形態のナノファイバ製造装置１００において、調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂに対向して配置され、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させている。このような調整部４０を設けると、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態は、均一化できる。これにより、歩留りが向上する。   In the nanofiber manufacturing apparatus 100 of the present embodiment, the adjustment unit 40 is disposed to face the second surface 60b of the deposition target 60, and generates an electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target 60. It is changing. When such an adjustment unit 40 is provided, the deposition state of the nanofibers N on the first surface 60a of the deposition target portion 60 can be made uniform. Thereby, a yield improves.

例えば、図３に表すように、ナノファイバＮの堆積面と反対の面に対向して調整部４０を設けると、電極６４上に形成された開口６４ｏをナノファイバＮによって埋めることができる。   For example, as shown in FIG. 3, when the adjustment unit 40 is provided to face the surface opposite to the deposition surface of the nanofiber N, the opening 64 o formed on the electrode 64 can be filled with the nanofiber N.

本実施形態によれば、より生産性が向上したナノファイバ製造装置が提供できる。   According to this embodiment, a nanofiber manufacturing apparatus with improved productivity can be provided.

（第２実施形態）
図４は、第２実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。
図４に表すように、ナノファイバ製造装置１１０は、電源部１０と、制御部２０と、検査部２５と、複数の吐出部３０ａと、供給部３５と、調整部４０と、遮蔽部５０と、被堆積部６０と、を備える。 (Second Embodiment)
FIG. 4 is a schematic diagram showing a nanofiber manufacturing apparatus according to the second embodiment.
As illustrated in FIG. 4, the nanofiber manufacturing apparatus 110 includes a power supply unit 10, a control unit 20, an inspection unit 25, a plurality of ejection units 30 a, a supply unit 35, an adjustment unit 40, and a shielding unit 50. And a portion 60 to be deposited.

被堆積部６０は、ローラ６１と、回動体６２と、シート６３と、を備える。シート６３は、第１面６３ａ及び第２面６３ｂを有する。第１面６３ａは、第２面６３ｂの反対側の面である。図２の矢印の方向は、複数の吐出部３０ａが原料液を吐出する方向を示し、ナノファイバＮ（図示せず）は、シート６３の第１面６３ａに堆積される。   The deposited portion 60 includes a roller 61, a rotating body 62, and a sheet 63. The sheet 63 has a first surface 63a and a second surface 63b. The first surface 63a is a surface opposite to the second surface 63b. The direction of the arrow in FIG. 2 indicates the direction in which the plurality of ejection units 30 a eject the raw material liquid, and the nanofibers N (not shown) are deposited on the first surface 63 a of the sheet 63.

電源部１０は、基板１１に電圧を印加する。基板１１は、複数の吐出部３０ａを保持する。基板１１は、複数の吐出部３０ａの各々に電気的に接続されている。複数の吐出部３０ａは、少なくとも周面の一部が基板１１に接触した状態で基板１１に固定されている。電源部１０、基板１１、及び複数の吐出部３０ａによって、電源部１０から供給される電圧は、複数の吐出部３０ａに印加される。   The power supply unit 10 applies a voltage to the substrate 11. The substrate 11 holds a plurality of ejection units 30a. The substrate 11 is electrically connected to each of the plurality of ejection units 30a. The plurality of ejection units 30 a are fixed to the substrate 11 with at least part of the peripheral surface in contact with the substrate 11. The voltage supplied from the power supply unit 10 is applied to the plurality of ejection units 30a by the power source unit 10, the substrate 11, and the plurality of ejection units 30a.

複数の吐出部３０ａは、シート６３の長手方向に沿って直線状に並んで配置されている。供給部３５は、複数の吐出部３０ａの各々に原料液を供給する。例えば、制御部２０は、複数の吐出部３０ａの各々から吐出される原料液の量、又は、供給部３５から複数の吐出部３０ａの各々に供給される原料液の量を決定するように、供給部３５を制御する。   The plurality of ejection units 30 a are arranged in a straight line along the longitudinal direction of the sheet 63. The supply unit 35 supplies the raw material liquid to each of the plurality of discharge units 30a. For example, the control unit 20 determines the amount of the raw material liquid discharged from each of the plurality of discharge units 30a or the amount of the raw material liquid supplied from the supply unit 35 to each of the plurality of discharge units 30a. The supply unit 35 is controlled.

調整部４０は、シート６３の第２面６３ｂに対向し、第２面６３ｂ側に所定の電位を発生させる。遮蔽部５０は、吐出部３０ａとシート６３との間に配置され、遮蔽部５０に所定の電位を発生させる。このような調整部４０及び遮蔽部５０を設けることによって、吐出部３０ａと、シート６３と、の間に発生する電界は変化する。電界の変化によって、ナノファイバＮの堆積領域上に発生した開口が埋まり、ナノファイバＮの堆積状態は均一になる。   The adjustment unit 40 faces the second surface 63b of the sheet 63 and generates a predetermined potential on the second surface 63b side. The shielding unit 50 is disposed between the discharge unit 30a and the sheet 63, and generates a predetermined potential in the shielding unit 50. By providing the adjusting unit 40 and the shielding unit 50, the electric field generated between the discharge unit 30a and the sheet 63 changes. Due to the change of the electric field, the opening generated on the deposition region of the nanofiber N is filled, and the deposition state of the nanofiber N becomes uniform.

調整部４０は、複数設けられても良い。例えば、調整部４０は、複数の吐出部３０ａの各々に対応するように設けられても良い。遮蔽部５０は、複数設けられても良い。例えば、遮蔽部５０は、複数の吐出部３０の各々に対応するように設けられても良い。   A plurality of adjustment units 40 may be provided. For example, the adjustment unit 40 may be provided so as to correspond to each of the plurality of ejection units 30a. A plurality of shielding parts 50 may be provided. For example, the shielding unit 50 may be provided so as to correspond to each of the plurality of ejection units 30.

被堆積部６０は、ナノファイバＮを堆積させて搬送する。シート６３は、ローラ６１に巻かれている。ローラ６１は、回動体６２により駆動されることによって、シート６３を巻くように回転する。ローラ６１の駆動によって、シート６３上に堆積されたナノファイバＮは、吐出部３０が原料液を吐出する方向（矢印の方向）に垂直な方向に搬送される。   The deposition target 60 deposits and transports the nanofibers N. The sheet 63 is wound around the roller 61. The roller 61 is rotated by the rotating body 62 so as to wind the sheet 63. By driving the roller 61, the nanofibers N deposited on the sheet 63 are conveyed in a direction perpendicular to the direction in which the discharge unit 30 discharges the raw material liquid (the direction of the arrow).

本実施形態のナノファイバ製造装置１１０において、調整部４０は、シート６３の第２面６３ｂに対向して配置され、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させている。このような調整部４０を設けると、シート６３の第１面６３ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態は、均一化できる。これにより、歩留りが向上する。   In the nanofiber manufacturing apparatus 110 of the present embodiment, the adjustment unit 40 is disposed to face the second surface 63b of the sheet 63, and changes the electric field generated between the discharge unit 30 and the deposition target portion 60. ing. When such an adjustment unit 40 is provided, the deposition state of the nanofibers N on the first surface 63a of the sheet 63 can be made uniform. Thereby, a yield improves.

本実施形態によれば、より生産性が向上したナノファイバ製造装置が提供できる。   According to this embodiment, a nanofiber manufacturing apparatus with improved productivity can be provided.

（第３実施形態）
図５は、第３実施形態に係るナノファイバ製造装置を示す模式図である。
図６は、ナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す参考図である。
図７は、第３実施形態に係るナノファイバ製造装置によってナノファイバが堆積された状態を示す図である。 (Third embodiment)
FIG. 5 is a schematic view showing a nanofiber manufacturing apparatus according to the third embodiment.
FIG. 6 is a reference diagram illustrating a state in which nanofibers are deposited by the nanofiber manufacturing apparatus.
FIG. 7 is a diagram illustrating a state in which nanofibers are deposited by the nanofiber manufacturing apparatus according to the third embodiment.

図５に表すように、ナノファイバ製造装置１２０は、電源部１０と、制御部２０と、検査部２５と、吐出部３０と、調整部４０と、遮蔽部５０と、被堆積部６０と、を備える。被堆積部６０は、第１面６０ａ及び第２面６０ｂを有する。第１面６０ａは、第２面６０ｂの反対側の面である。図５の矢印の方向は、吐出部３０が原料液を吐出する方向を示し、ナノファイバＮは、被堆積部６０の第１面６０ａに堆積される。   As shown in FIG. 5, the nanofiber manufacturing apparatus 120 includes a power supply unit 10, a control unit 20, an inspection unit 25, a discharge unit 30, an adjustment unit 40, a shielding unit 50, a deposited portion 60, Is provided. The portion 60 to be deposited has a first surface 60a and a second surface 60b. The first surface 60a is a surface opposite to the second surface 60b. The direction of the arrow in FIG. 5 indicates the direction in which the discharge unit 30 discharges the raw material liquid, and the nanofibers N are deposited on the first surface 60 a of the deposition target portion 60.

調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂ側に所定の電位を発生する。調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂに対向する。調整部４０は、直方体である。調整部４０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させ、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態を均一にする。   The adjustment unit 40 generates a predetermined potential on the second surface 60 b side of the deposition target portion 60. The adjustment unit 40 faces the second surface 60 b of the deposition target portion 60. The adjustment unit 40 is a rectangular parallelepiped. The adjustment unit 40 changes the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60, and makes the deposition state of the nanofibers N uniform on the first surface 60 a of the deposition target portion 60.

例えば、調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂ側に、吐出部３０によって発生する電位（例えば、正電位）と反対の電位（例えば、負電位）を発生させる。第２面６０ｂ側に逆電位が発生することで、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界が変化する。つまり、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する第１電界は、調整部４０から発生する第２電界によって影響を受けて変化する。これにより、ナノファイバＮが堆積する範囲を制御することができる。   For example, the adjustment unit 40 generates a potential (for example, a negative potential) opposite to the potential (for example, a positive potential) generated by the ejection unit 30 on the second surface 60 b side of the deposition target portion 60. By generating a reverse potential on the second surface 60b side, the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60 changes. That is, the first electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target part 60 is affected and changed by the second electric field generated from the adjustment unit 40. Thereby, the range in which the nanofibers N are deposited can be controlled.

ナノファイバＮの堆積状態が均一でなく、膜厚が不足している部分が生じている場合、ナノファイバＮの進行経路は、調整部４０の形状に基づいて発生する電界によって制御できる。これにより、堆積領域内の膜厚が不足している部分がナノファイバＮによって埋めることができる。ナノファイバＮの膜厚の均一性が向上する。   When the deposition state of the nanofibers N is not uniform and there is a portion where the film thickness is insufficient, the traveling path of the nanofibers N can be controlled by an electric field generated based on the shape of the adjustment unit 40. Thereby, the portion where the film thickness in the deposition region is insufficient can be filled with the nanofibers N. The uniformity of the film thickness of the nanofiber N is improved.

遮蔽部５０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に配置されている。所定の電位が遮蔽部５０に発生する。遮蔽部５０は、２つの直方体形状を有し、互いに対向させて２つ設けられている。調整部４０の幅４０Ｗは、遮蔽部５０間の幅５０Ｗと略同じ、若しくは、幅５０Ｗより小さい。遮蔽部５０が有する直方体の数は、１つでも良く、３つ以上でも良い。   The shielding part 50 is disposed between the discharge part 30 and the deposition target part 60. A predetermined potential is generated in the shielding unit 50. The shielding part 50 has two rectangular parallelepiped shapes, and two shielding parts 50 are provided to face each other. The width 40W of the adjustment unit 40 is substantially the same as the width 50W between the shielding units 50 or smaller than the width 50W. The number of rectangular parallelepipeds included in the shielding unit 50 may be one, or three or more.

遮蔽部５０は、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させ、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態を均一にする。例えば、遮蔽部５０に、吐出部３０によって発生する電位（例えば、正電位）と同一の電位が発生する。遮蔽部５０に同電位が発生することで、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界が変化する。つまり、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する第１電界は、遮蔽部５０に発生する第３電界によって影響を受けて変化する。これにより、ナノファイバＮが堆積する範囲を制御することができる。   The shielding unit 50 changes the electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target portion 60, and makes the deposition state of the nanofibers N uniform on the first surface 60 a of the deposition target portion 60. For example, the same potential as the potential (for example, positive potential) generated by the discharge unit 30 is generated in the shielding unit 50. When the same potential is generated in the shielding unit 50, the electric field generated between the discharge unit 30 and the deposition target portion 60 changes. That is, the first electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target part 60 is affected and changed by the third electric field generated in the shielding unit 50. Thereby, the range in which the nanofibers N are deposited can be controlled.

ナノファイバＮの堆積状態が均一でなく、膜厚が不足している部分が生じている場合、ナノファイバＮの進行経路は、遮蔽部５０から発生する電界によって制御できる。ナノファイバＮの進行経路が調整部４０から発生する電界によって制御される場合、遮蔽部５０は、調整部４０におけるナノファイバＮの進行経路の制御と共に、ナノファイバＮの進行経路を制御できる。これにより、堆積領域内の膜厚が不足している部分がナノファイバＮによって埋めることができる。ナノファイバＮの膜厚の均一性が向上する。   When the deposition state of the nanofibers N is not uniform and there is a portion where the film thickness is insufficient, the traveling path of the nanofibers N can be controlled by the electric field generated from the shielding unit 50. When the traveling path of the nanofiber N is controlled by the electric field generated from the adjusting unit 40, the shielding unit 50 can control the traveling path of the nanofiber N together with the control of the traveling path of the nanofiber N in the adjusting unit 40. Thereby, the portion where the film thickness in the deposition region is insufficient can be filled with the nanofibers N. The uniformity of the film thickness of the nanofiber N is improved.

ここで、図６に表すように、リチウムイオン二次電池のセパレータを形成する場合、電極６４から突出している集電体６５の近傍にセパレータは形成されない。また、ナノファイバＮは塗り分けられ、電極６４の端部に回り込んで塗布される。これにより、電極６４の端部近傍にナノファイバＮの膜厚が不足している部分が発生し易い。つまり、膜厚不足部６４ｄは、電極６４の端部の近傍に発生し易い。   Here, as shown in FIG. 6, when the separator of the lithium ion secondary battery is formed, the separator is not formed in the vicinity of the current collector 65 protruding from the electrode 64. Further, the nanofibers N are separately applied and applied around the end of the electrode 64. Thereby, a portion where the film thickness of the nanofiber N is insufficient is likely to occur near the end of the electrode 64. That is, the insufficient film thickness portion 64 d is likely to occur near the end of the electrode 64.

膜厚不足部６４ｄが電極６４上に形成されると、正電極と負電極とが接触する虞がある。正電極と、負電極と、が膜厚不足部６４ｄを介して接触すると、リチウムイオン二次電池に短絡等の不具合が生じる可能性がある。   If the film thickness deficient portion 64d is formed on the electrode 64, the positive electrode and the negative electrode may come into contact with each other. When the positive electrode and the negative electrode are in contact with each other through the film thickness deficient portion 64d, there is a possibility that a defect such as a short circuit may occur in the lithium ion secondary battery.

本実施形態のナノファイバ製造装置１２０において、調整部４０は、被堆積部６０の第２面６０ｂに対向して配置され、吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界を変化させている。このような調整部４０を設けると、被堆積部６０の第１面６０ａ上におけるナノファイバＮの堆積状態は、均一化できる。これにより、歩留りが向上する。   In the nanofiber manufacturing apparatus 120 of the present embodiment, the adjustment unit 40 is disposed to face the second surface 60b of the deposition target 60, and generates an electric field generated between the ejection unit 30 and the deposition target 60. It is changing. When such an adjustment unit 40 is provided, the deposition state of the nanofibers N on the first surface 60a of the deposition target portion 60 can be made uniform. Thereby, a yield improves.

例えば、図７に表すように、ナノファイバＮの堆積面と反対の面に対向して調整部４０を設けると、電極６４上に形成された膜厚不足部６４ｄはナノファイバＮによって埋められる。   For example, as illustrated in FIG. 7, when the adjustment unit 40 is provided so as to face the surface opposite to the deposition surface of the nanofiber N, the insufficient film thickness portion 64 d formed on the electrode 64 is filled with the nanofiber N.

本実施形態によれば、より生産性が向上したナノファイバ製造装置が提供できる。   According to this embodiment, a nanofiber manufacturing apparatus with improved productivity can be provided.

図８は、ナノファイバ製造方法を示すフローチャートである。
図８に表したように、ナノファイバＮが堆積された被堆積部６０の表面欠陥を検査する（ステップＳ１１０）。検査部２５は、被堆積部６０の第１面６０ａの欠陥を検査する。表面欠陥は、ピンホール等の開口や、ナノファイバＮの膜厚が不足している部分等である。以下のステップにおいて、ナノファイバＮが堆積された被堆積部６０に表面欠陥が存在する場合を述べる。 FIG. 8 is a flowchart showing a nanofiber manufacturing method.
As shown in FIG. 8, the surface defect of the portion 60 to be deposited with the nanofibers N is inspected (step S110). The inspection unit 25 inspects the first surface 60 a of the deposition target portion 60 for defects. The surface defect is an opening such as a pinhole or a portion where the film thickness of the nanofiber N is insufficient. In the following steps, a case will be described in which a surface defect exists in the deposition target portion 60 where the nanofibers N are deposited.

制御部２０は、被堆積部６０上の欠陥の位置及び種類に基づいて、吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０の位置を決定する（ステップＳ１２０）。制御部２０は、被堆積部６０上の欠陥に基づいて、吐出部３０の被堆積部６０に対する位置、調整部４０の被堆積部６０に対する位置、及び、遮蔽部５０の被堆積部６０に対する位置を決定する。位置の決定後、駆動機構等によって、吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０は、座標軸方向に移動することができる。   The control unit 20 determines the positions of the ejection unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50 based on the position and type of the defect on the deposition target portion 60 (Step S120). Based on the defect on the deposition target 60, the controller 20 determines the position of the ejection unit 30 with respect to the deposition target 60, the position of the adjustment unit 40 with respect to the deposition target 60, and the position of the shielding unit 50 with respect to the deposition target 60. To decide. After the position is determined, the ejection unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50 can be moved in the coordinate axis direction by a drive mechanism or the like.

制御部２０は、吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０の少なくともいずれかの位置を決定しても良い。位置の決定後、駆動機構等によって、吐出部３０、調整部４０及び遮蔽部５０の少なくともいずれかは、座標軸方向に移動することができる。   The control unit 20 may determine the position of at least one of the discharge unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50. After the position is determined, at least one of the discharge unit 30, the adjustment unit 40, and the shielding unit 50 can be moved in the coordinate axis direction by a drive mechanism or the like.

吐出部３０と、被堆積部６０と、の間に発生する電界は、調整部４０及び遮蔽部５０から発生する電界によって変化する。ナノファイバＮの進行経路は、調整部４０及び遮蔽部５０から発生する電界によって制御される。   The electric field generated between the discharge unit 30 and the portion 60 to be deposited changes depending on the electric field generated from the adjustment unit 40 and the shielding unit 50. The traveling path of the nanofiber N is controlled by an electric field generated from the adjusting unit 40 and the shielding unit 50.

制御部２０は、ナノファイバＮが欠陥部分に形成するように、電源部１０及び吐出部３０を制御し、吐出量を決定する（ステップＳ１３０）。制御部２０は、欠陥部分にナノファイバＮを形成するために、電源部１０から印加する電圧値、及び、吐出部３０から吐出する原料液の量を決定する。供給部３５がナノファイバ製造装置１００に設けられている場合、制御部２０は、供給部３５を制御して吐出部３０から吐出する原料液の量を決定しても良い。   The control unit 20 controls the power supply unit 10 and the discharge unit 30 so as to form the nanofiber N in the defective portion, and determines the discharge amount (step S130). The control unit 20 determines the voltage value applied from the power supply unit 10 and the amount of the raw material liquid discharged from the discharge unit 30 in order to form the nanofiber N in the defective portion. When the supply unit 35 is provided in the nanofiber manufacturing apparatus 100, the control unit 20 may control the supply unit 35 to determine the amount of the raw material liquid to be discharged from the discharge unit 30.

原料液が吐出部３０から吐出され、欠陥部分がナノファイバＮによって埋められる（ステップＳ１４０）。これにより、被堆積部６０上の表面欠陥は修復される。   The raw material liquid is discharged from the discharge unit 30, and the defective portion is filled with the nanofiber N (step S140). Thereby, the surface defect on the deposition target portion 60 is repaired.

本実施形態によれば、より生産性が向上したナノファイバ製造方法が提供できる。   According to this embodiment, a nanofiber manufacturing method with improved productivity can be provided.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

１０…電源部、 １１…基板、 ２０…制御部、 ２５…検査部、 ３０、３０ａ…吐出部、 ３５…供給部、 ４０…調整部、 ４０Ｗ、５０Ｗ…幅、 ５０…遮蔽部、 ６０…被堆積部、 ６０ａ、６３ａ…第１面、 ６０ｂ、６３ｂ…第２面、 ６１…ローラ、 ６２…回動体、 ６３…シート、 ６４…電極、 ６４ｄ…膜厚不足部、 ６４ｏ…開口、 ６５…集電体、 ６６…電極体、 １００、１１０、１２０…ナノファイバ製造装置、 Ｎ…ナノファイバ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Power supply part 11 ... Board | substrate 20 ... Control part 25 ... Inspection | inspection part 30, 30a ... Discharge part 35 ... Supply part 40 ... Adjustment part 40W, 50W ... Width, 50 ... Shielding part, 60 ... Covered Deposition section, 60a, 63a ... first surface, 60b, 63b ... second surface, 61 ... roller, 62 ... rotating body, 63 ... sheet, 64 ... electrode, 64d ... insufficient film thickness portion, 64o ... opening, 65 ... collection Electric body, 66 ... Electrode body, 100, 110, 120 ... Nanofiber manufacturing apparatus, N ... Nanofiber

Claims (12)

第１面と、前記第１面と反対の第２面と、を有する被堆積部の前記第１面に向かって原料液を吐出する吐出部と、
前記吐出部と、前記第１面と、の間に電位差を発生させる電源部と、
前記第２面に対向して設けられ、前記第２面に電位を発生させる調整部と、
前記被堆積部に対して前記第１面の側から欠陥を検査する検査部と、
を備えたナノファイバ製造装置。 A discharge portion that discharges the raw material liquid toward the first surface of the portion to be deposited having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A power supply unit that generates a potential difference between the ejection unit and the first surface;
An adjustment unit provided opposite to the second surface and generating a potential on the second surface;
An inspection unit for inspecting a defect from the first surface side with respect to the deposited portion;
A nanofiber manufacturing apparatus. 前記欠陥は第１面の上に堆積した堆積物の欠陥である請求項１記載のナノファイバ製造装置。 The defect nanofiber production apparatus according to claim 1, wherein a defect of sediments deposited on the first surface. 前記調整部を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記検査部から送られる欠陥信号に基づいて、前記調整部の前記被堆積部に対する位置を決定する請求項１または２に記載のナノファイバ製造装置。 A control unit for controlling the adjustment unit;
The said control part is a nanofiber manufacturing apparatus of Claim 1 or 2 which determines the position with respect to the said to-be-deposited part of the said adjustment part based on the defect signal sent from the said test | inspection part. 前記制御部は、前記吐出部及び前記電源部を制御し、
前記制御部は、前記検査部から送られる欠陥信号に基づいて、前記電源部から印加する電圧値、及び、前記吐出部から吐出する前記原料液の量を決定する請求項３記載のナノファイバ製造装置。 The control unit controls the discharge unit and the power supply unit,
The said control part determines the voltage value applied from the said power supply part, and the quantity of the said raw material liquid discharged from the said discharge part based on the defect signal sent from the said test | inspection part, The nanofiber manufacture of Claim 3 apparatus. 前記第２面に発生する電位は、前記吐出部に発生する電位と極性が逆の電位である請求項１〜４のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置。 The nanofiber manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the potential generated on the second surface is a potential having a polarity opposite to that of the potential generated in the ejection unit. 前記調整部は、前記第２面に近づくにつれて幅が小さくなる形状を有する請求項１〜５のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置。 The said adjustment part is a nanofiber manufacturing apparatus as described in any one of Claims 1-5 which has a shape where a width | variety becomes small as it approaches the said 2nd surface. 前記調整部の前記第２面に対向する端部は尖っている請求項１〜６のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置。 The nanofiber manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 6 , wherein an end portion of the adjustment unit facing the second surface is pointed. 前記吐出部と、前記第１面と、の間に設けられた遮蔽部をさらに備え、
前記遮蔽部に発生する電位は、前記吐出部に発生する電位と極性が同じ電位である請求項１〜７のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置。 A shielding part provided between the discharge part and the first surface;
The nanofiber manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7 , wherein the potential generated in the shielding portion has the same polarity as the potential generated in the ejection portion. 前記遮蔽部は、電場制御部を有し、
前記調整部の大きさは、前記遮蔽部間の幅と略同じ、若しくは小さい請求項８記載のナノファイバ製造装置。 The shielding portion has a conductive field control unit,
The nanofiber manufacturing apparatus according to claim 8 , wherein a size of the adjustment portion is substantially the same as or smaller than a width between the shielding portions. 前記遮蔽部は、互いに対向して設けられた一対の直方体形状を有し、
前記調整部の幅は、前記直方体間の幅と略同じ、若しくは、前記直方体間の幅より小さい請求項８または９記載のナノファイバ製造装置。 The shielding portion has a pair of rectangular parallelepiped shape provided so as to face the each other physician,
The nanofiber manufacturing apparatus according to claim 8 or 9 , wherein a width of the adjusting portion is substantially the same as a width between the rectangular parallelepipeds or smaller than a width between the rectangular parallelepipeds. 前記吐出部は、複数のノズルを有し、
前記複数のノズルの各々に前記原料液を供給する供給部をさらに備えた請求項１〜１０のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置。 The discharge unit has a plurality of nozzles,
The nanofiber manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 10 , further comprising a supply unit that supplies the raw material liquid to each of the plurality of nozzles. 請求項１〜１１のいずれか１つに記載のナノファイバ製造装置を用いたナノファイバ製造方法であって、
前記第１面の上に堆積した堆積物の欠陥を検査する工程と、
前記欠陥の位置に基づいて、前記吐出部の前記被堆積部に対する位置、及び、前記調整部の前記被堆積部に対する位置の少なくともいずれかを決定する工程と、
前記電源部から印加する電圧値、及び、前記吐出部から吐出する前記原料液の量を決定する工程と、
前記欠陥にナノファイバを堆積する工程と、
を備えたナノファイバ製造方法。 A nanofiber manufacturing method using the nanofiber manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 11 ,
Inspecting for deposit defects deposited on the first surface;
Determining, based on the position of the defect, at least one of a position of the discharge unit relative to the deposition target part and a position of the adjustment unit relative to the deposition target part;
Determining a voltage value applied from the power supply unit, and an amount of the raw material liquid discharged from the discharge unit;
Depositing nanofibers on the defects;
A method for producing a nanofiber comprising:
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