JP6344948B2 - 殺菌成分除去装置、除菌装置、除菌環境維持システム及び殺菌成分除去方法 - Google Patents
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Description
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る殺菌成分除去装置は、排出口を有し、殺菌成分が噴霧された作業室内の前記殺菌成分を除去する殺菌成分除去装置であって、前記殺菌成分とは異なる霧状の液体を前記作業室内に供給する第1噴霧器を備える。
[1.除菌環境維持システムの概要]
まず、実施の形態1に係る除菌環境維持システムの概要について、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施の形態に係る除菌環境維持システム10を示す構成図である。図2は、実施の形態1に係る除菌環境維持システム10における作業室の一例を示す外観図である。
作業室200は、排出口201と、吸気口202とを有する筐体である。例えば、作業室200は、細胞、微生物などの培養物の培養を行う培養室である。具体的には、作業室200は、図2に示すようなグローブボックスであり、外気と遮断された状況下で作業が可能となるように、内部に手だけが入れられるように設計された容器である。例えば、作業室200の内圧は、大気圧より少し高い圧力に保たれている。
排出装置300は、排出口201を介して作業室200内の気体を排出する装置である。具体的には、排出装置300は、作業室200内に気化した殺菌成分などを含む気体を、排出口201を介して作業室200の外部へ排出する。例えば、排出装置300は、ファンなどの空気を送る送風機である。
供給装置310は、吸気口202を介して作業室200内に気体を供給する装置である。具体的には、供給装置310は、作業室200の外部の空気を、吸気口202を介して作業室200内に供給する。例えば、供給装置310は、ファンなどの空気を送る送風機である。
除菌装置100は、殺菌成分を用いて作業室200内を除菌し、除菌に用いた殺菌成分を除去する装置である。図1に示すように、除菌装置100は、殺菌成分除去装置110と、殺菌成分源140とを備える。
殺菌成分除去装置110は、殺菌成分が噴霧された作業室200内の殺菌成分を除去する装置である。殺菌成分除去装置110は、噴霧器120と、液体源130と、配管部150とを備える。
噴霧器120は、殺菌成分とは異なる霧状の液体を作業室200内に供給する第1噴霧器の一例である。例えば、噴霧器120は、スプレーノズルを備え、数ミクロンから数十ミクロン程度に細かい霧状の液体を作業室200内に噴霧(ミスト散布)する。
液体源130は、液体を噴霧器120に供給する。液体源130は、例えば、液体を貯めるタンクなどの箱状体である。図1に示すように、液体源130は、作業室200の外部に配置されている。なお、液体源130は、作業室200内に配置されてもよい。液体源130と噴霧器120とは、配管部150によって接続されている。
配管部150は、例えば、パイプ、チューブ又はホースなどの管状の部材から構成される。また、配管部150は、三叉に分岐しており、噴霧器120、液体源130及び殺菌成分源140のそれぞれに接続されている。つまり、配管部150は、液体源130に貯められた液体、及び、殺菌成分源140に貯められた殺菌成分を噴霧器120に供給するための経路を構成している。
殺菌成分源140は、殺菌成分を噴霧器120に供給する。殺菌成分源140は、例えば、殺菌成分を貯めるタンクなどの箱状体である。図1に示すように、殺菌成分源140は、作業室200の外部に配置されている。なお、殺菌成分源140は、作業室200内に配置されてもよい。殺菌成分源140と噴霧器120とは、配管部150によって接続されている。
続いて、本実施の形態に係る液体及び殺菌成分の揮発時間について、図3を用いて説明する。図3は、本実施の形態に係る水及び過酸化水素水の揮発時間の比較結果を示す図である。
続いて、本実施の形態に係る除菌環境維持システム10の動作について、図4〜図6Dを用いて説明する。まず、除菌環境維持システム10の全体の動作について、図4を用いて説明する。図4は、本実施の形態に係る除菌環境維持システム10の動作の一例を示すフローチャートである。
まず、本実施の形態に係る殺菌成分除去方法の第1モードについて、図5A及び図6Aを用いて説明する。第1モードでは、最初に気体の排出を行った後、気体の排出を行いながら霧状の液体の供給(すなわち、殺菌成分の気化の促進)を行う。
次に、本実施の形態に係る殺菌成分除去方法の第2モードについて、図5B及び図6Bを用いて説明する。第2モードでは、最初から気体の排出と霧状の液体の供給とを同時に行う。
次に、本実施の形態に係る殺菌成分除去方法の第3モードについて、図5C及び図6Cを用いて説明する。第3モードでは、気体の排出を行っている間に、間欠的に霧状の液体を供給する。
次に、本実施の形態に係る殺菌成分除去方法の第4モードについて、図5D及び図6Dを用いて説明する。第4モードでは、殺菌成分を噴霧するときの気流の条件と、霧状の液体を噴霧するときの気流の条件とを同じにする。
続いて、本実施の形態に係る殺菌成分除去装置110による効果について、図7A及び図7Bを用いて説明する。図7A及び図7Bは、本実施の形態に係る過酸化水素濃度の時間変化を示す図、及び、その一部拡大図である。具体的には、図7Bは、図7Aにおいて過酸化水素濃度が0〜10ppmの範囲を示している。
[1.除菌環境維持システムの概要]
まず、実施の形態2に係る除菌環境維持システムの概要について、図8を用いて説明する。図8は、本実施の形態に係る除菌環境維持システム20を示す構成図である。なお、以下では、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
配管部450は、例えば、パイプ、チューブ又はホースなどの管状の部材から構成される。配管部450は、プラズマ発生器460と液体源130とを接続する。このとき、配管部450は、液体源130に貯められる液体を循環させる循環経路を構成する。プラズマ発生器460は、この循環経路上に設けられている。
プラズマ発生器460は、配管部450を介して供給される液体中にプラズマを発生させる。プラズマ発生器460は、液体中にプラズマを発生させることで、液体に活性種を供給する。なお、プラズマ発生器460は、液体源130に貯められる液体に直接プラズマを発生させてもよい。つまり、殺菌成分除去装置410は、配管部450を備えていなくてもよい。
ここで、本実施の形態に係るプラズマ処理水による殺菌成分(過酸化水素)の低減効果について、図9を用いて説明する。図9は、本実施の形態に係るプラズマによる過酸化水素の低減効果を示す図である。具体的には、図9は、4mlの純水又はプラズマ処理水に約280ppmの過酸化水素を供給して、数分放置した後の過酸化水素濃度を測定した結果を示している。
続いて、本実施の形態に係る殺菌成分除去装置410による効果について、図10A及び図10Bを用いて説明する。図10A及び図10Bは、本実施の形態に係る過酸化水素濃度の時間変化を示す図、及び、その一部拡大図である。具体的には、図10Bは、図10Aにおいて過酸化水素濃度が0〜10ppmの範囲を示している。
なお、プラズマの発生を促進するために、プラズマ発生器460に気体供給器が設けられていてもよい。気体供給器は、例えば、ポンプなどであり、空気などの気体を液体中に供給することで、液体中に気泡を生成する。気体供給器は、空気ではなく、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガス又は酸素ガスなどを供給してもよい。
[1.除菌環境維持システムの概要]
まず、実施の形態3に係る除菌環境維持システムの概要について、図13A及び図13Bを用いて説明する。図13A及び図13Bはそれぞれ、本実施の形態に係る除菌環境維持システム30及び31を示す構成図である。
噴霧器620は、殺菌成分とは異なる霧状の液体を作業室200内に供給する第1噴霧器の一例である。噴霧器620は、噴霧器120と異なり、殺菌成分を噴霧せずに、霧状の液体のみを噴霧する。
配管部650及び651は、例えば、パイプ、チューブ又はホースなどの管状の部材から構成される。配管部650は、噴霧器620と液体源130とを接続する。配管部651は、噴霧器621と殺菌成分源140とを接続する。
以上のように、本実施の形態に係る除菌装置600又は601では、殺菌成分除去装置610と、霧状の殺菌成分を作業室200内に供給する噴霧器621とを備える。
以下では、上記の実施の形態に係る除菌環境維持システムの変形例について、図14A及び図14Bを用いて説明する。図14A及び図14Bはそれぞれ、本変形例に係る除菌環境維持システム40及び41を示す構成図である。
以上、1つ又は複数の態様に係る殺菌成分除去装置、除菌装置、除菌環境維持システム及び殺菌成分除去方法について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本発明の主旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したもの、及び、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本発明の範囲内に含まれる。
100、400、600、601 除菌装置
110、410、610、611 殺菌成分除去装置
120、620、621 噴霧器
130 液体源
140 殺菌成分源
150、450、650、651 配管部
200 作業室
201 排出口
202 吸気口
300 排出装置
310 供給装置
460 プラズマ発生器
470 気体供給器
500 電源
510、510a 第1電極部
520 第2電極部
511、511a 金属電極部
512、512a 金属ネジ部
513 絶縁体
514 保持ブロック
515、515a 貫通孔
516 空間
517、519 ネジ部
518 開口部
Claims (13)
- 排出口を有し、殺菌成分が噴霧された作業室内の前記殺菌成分を除去する殺菌成分除去装置であって、
噴霧された前記殺菌成分が前記作業室内に液化して残った状態で、前記殺菌成分とは異なる霧状の液体を前記作業室内に噴霧する第1噴霧器を備える
殺菌成分除去装置。 - 前記第1噴霧器は、液化した前記殺菌成分の気化を促進する物質を含む前記霧状の液体を前記作業室内に噴霧する
請求項1に記載の殺菌成分除去装置。 - 前記第1噴霧器は、前記殺菌成分を分解する活性種を含む前記霧状の液体を前記作業室内に噴霧する
請求項1又は2に記載の殺菌成分除去装置。 - 前記殺菌成分除去装置は、さらに、
前記液体を前記第1噴霧器に供給する液体源と、
プラズマを発生することで、前記液体源に貯められた前記液体内に前記活性種を生成させるプラズマ発生器とを備える
請求項3に記載の殺菌成分除去装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の殺菌成分除去装置を備え、
前記第1噴霧器は、さらに、霧状の前記殺菌成分を前記作業室内に噴霧する
除菌装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の殺菌成分除去装置と、
霧状の前記殺菌成分を前記作業室内に噴霧する第2噴霧器とを備える
除菌装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の殺菌成分除去装置、又は、請求項5若しくは6に記載の除菌装置と、
前記作業室と、
前記排出口を介して前記作業室内の気体を排出する排出装置とを備える
除菌環境維持システム。 - 前記除菌環境維持システムは、さらに、前記作業室内に気体を供給する供給装置を備える
請求項7に記載の除菌環境維持システム。 - 排出口を有し、殺菌成分が噴霧された作業室内の前記殺菌成分を除去する殺菌成分除去方法であって、
噴霧された前記殺菌成分が前記作業室内に液化して残った状態で、前記殺菌成分とは異なる霧状の液体を前記作業室内に噴霧する液体噴霧ステップを含む
殺菌成分除去方法。 - 前記液体噴霧ステップでは、前記作業室内の気体を前記排出口から排出しながら、前記霧状の液体を前記作業室内に噴霧する
請求項9に記載の殺菌成分除去方法。 - 前記殺菌成分除去方法は、さらに、
前記液体噴霧ステップの前に、前記霧状の液体を前記作業室内に噴霧することなく、前
記作業室内の気体を前記排出口から排出する気体排出ステップを含む
請求項10に記載の殺菌成分除去方法。 - 前記気体排出ステップと、前記液体噴霧ステップとを繰り返す
請求項11に記載の殺菌成分除去方法。 - 前記液体噴霧ステップでは、前記作業室内の気体の流れが、前記殺菌成分が前記作業室内に噴霧されたときの気体の流れと同じ状況下で、前記霧状の液体を前記作業室内に噴霧する
請求項9に記載の殺菌成分除去方法。
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