JP6341329B1 - プラズマ発生用のアンテナ及びそれを備えるプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
特に本発明によれば、第1の電極及び第2の電極の間の空間を液体の誘電体で満たしているので、容量素子を構成する電極及び誘電体の間に生じる隙間を無くすことができる。その結果、電極及び誘電体の間の隙間に発生しうるアーク放電を無くし、アーク放電に起因する容量素子の破損を無くすことができる。また、隙間を考慮することなく、第1の電極及び第2の電極の距離、対向面積及び液体の誘電体の比誘電率からキャパシタンス値を精度良く設定することができる。さらに、隙間を埋めるための電極及び誘電体を押圧する構造も不要にすることができ、当該押圧構造によるアンテナ周辺の構造の複雑化及びそれにより生じるプラズマの均一性の悪化を防ぐことができる。
冷却液を誘電体とすることで、冷却液とは別に誘電体を準備する必要が無く、また、第1の電極及び第2の電極を冷却することができる。通常、冷却液は温調機構により一定温度に調整されており、この冷却液を誘電体として用いることによって、温度変化による比誘電率の変化を抑えて、キャパシタンス値の変化を抑えることができる。さらに、冷却液として水を用いた場合には、水の比誘電率は約80(20℃)であり樹脂製の誘電体シートよりも大きいため、高電圧に耐えうる容量素子を構成することができる。
この構成であれば、フランジ部により導体要素との接触面積を大きくしつつ、延出部により電極間の対向面積を設定することができる。
この構成であれば、電極間の対向面積を大きくしつつ、導体要素に流れる高周波電流の分布を周方向において均一にして、均一性の良いプラズマを発生させることができる。
この構成であれば、絶縁要素の凹部にフランジ部を嵌合させることによって、各電極の延出部の相対位置を決めることができ、その組み立てを容易にすることができる。
このプラズマ処理装置によれば、上述したアンテナにより均一性の良いプラズマを効率良く発生させることができるので、基板処理の均一性及び効率を高めることができる。
この構成であれば、共通の冷却液によりアンテナ及び接続導体の両方を冷却することができる。また、1本の流路によって複数のアンテナを冷却することができるので、冷却液を循環させる循環流路の構成を簡略化することができる。なお、アンテナの流路及び接続導体の流路が長くなると冷却液の上昇により、下流側での誘電率の低下が生じる可能性がある。このため、接続導体によって接続されるアンテナの本数は冷却液の温度上昇分を考慮して設定され、例えばアンテナの本数は4本程度である。
この問題を好適に解決するためには、前記接続導体は、互いに隣接する前記アンテナにおいて一方の前記アンテナに接続される一方の導体部と、他方の前記アンテナに接続される他方の導体部と、前記一方の導体部及び前記他方の導体部に電気的に直列接続された容量素子とを有することが望ましい。このように接続導体に容量素子を設けることによって接続導体のインピーダンスを零相当にすることができ、接続導体によるインピーダンスの増加を無くすことができる。
このプラズマ処理装置によれば、処理室の圧力などの条件と、アンテナが配置されるアンテナ室の圧力などの条件とを個別に制御することができ、プラズマの発生を効率的にできるとともに、基板の処理を効率的にできる。
本実施形態のプラズマ処理装置100は、誘導結合型のプラズマPを用いて基板Wに処理を施すものである。ここで、基板Wは、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)用の基板、フレキシブルディスプレイ用のフレキシブル基板等である。また、基板Wに施す処理は、例えば、プラズマCVD法による膜形成、エッチング、アッシング、スパッタリング等である。
このように、金属パイプ31及び絶縁パイプ32の間のシール構造、金属パイプ31と各電極33A、33Bとの電気的接触が、雄ねじ部31a及び雌ねじ部32aの締結と共に行われるので、組み立て作業が非常に簡便となる。
このように構成した本実施形態のプラズマ処理装置100によれば、絶縁パイプ32を介して互いに隣り合う金属パイプ31にコンデンサ33を電気的に直列接続しているので、アンテナ3の合成リアクタンスは、簡単に言えば、誘導性リアクタンスから容量性リアクタンスを引いた形になるので、アンテナ3のインピーダンスを低減させることができる。その結果、アンテナ3を長くする場合でもそのインピーダンスの増大を抑えることができ、アンテナ3に高周波電流が流れやすくなり、誘導結合型のプラズマPを効率良く発生させることができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
W ・・・基板
P ・・・誘導結合プラズマ
2 ・・・真空容器
3 ・・・アンテナ
31 ・・・金属パイプ(導体要素)
32 ・・・絶縁パイプ(絶縁要素)
32b・・・凹部
33 ・・・コンデンサ
33A・・・第1の電極
33B・・・第2の電極
331・・・フランジ部
332・・・延出部
CL ・・・冷却液(液体の誘電体)
4 ・・・高周波電源
17 ・・・接続導体
17a・・・一方の導体部
17b・・・他方の導体部
17c・・・容量素子
18 ・・・処理室
Claims (13)
- 高周波電流が流されて、プラズマを発生させるためのアンテナであって、
少なくとも2つの導体要素と、互いに隣り合う前記導体要素の間に設けられて、それら導体要素を絶縁する絶縁要素と、互いに隣り合う前記導体要素と電気的に直列接続された容量素子とを備え、
前記容量素子は、互いに隣り合う前記導体要素の一方と電気的に接続された第1の電極と、互いに隣り合う前記導体要素の他方と電気的に接続されるとともに、前記第1の電極に対向して配置された第2の電極と、前記第1の電極及び前記第2の電極の間の空間を満たす誘電体とからなり、前記誘電体が液体であるアンテナ。 - 前記絶縁要素は、管状をなすものであり、
前記容量素子は、前記絶縁要素の内部に設けられている、請求項1記載のアンテナ。 - 前記導体要素は、管状をなすものであり、
前記導体要素及び前記絶縁要素の内部に冷却液が流れるものであり、
前記冷却液が前記誘電体となる、請求項2記載のアンテナ。 - 前記各電極は、前記導体要素における前記絶縁要素側の端部に電気的に接触するフランジ部と、当該フランジ部から前記絶縁要素側に延出した延出部とを有する、請求項2又は3記載のアンテナ。
- 前記各電極の延出部は、管状をなすものであり、互いに同軸上に配置されている、請求項4記載のアンテナ。
- 前記各電極のフランジ部は、前記絶縁要素の軸方向の端面に形成された凹部に嵌合されている、請求項4又は5記載のアンテナ。
- 真空排気されかつガスが導入される真空容器と、
前記真空容器内に配置された請求項1乃至6の何れか一項に記載のアンテナと、
前記アンテナに高周波電流を流す高周波電源とを備え、
前記アンテナによって発生させたプラズマを用いて基板に処理を施すように構成されているプラズマ処理装置。 - 複数の前記アンテナを備えており、
前記アンテナの両端部は、前記真空容器外に延び出ており、
互いに隣接する前記アンテナにおいて一方の前記アンテナの端部と他方の前記アンテナの端部とを接続導体により電気的に接続して、前記互いに隣接する前記アンテナに互いに逆向きの高周波電流が流れるように構成されている、請求項7記載のプラズマ処理装置。 - 前記接続導体は内部に流路を有しており、その流路に冷却液が流れるものである、請求項8記載のプラズマ処理装置。
- 前記導体要素及び前記絶縁要素の内部に冷却液が流れるものであり、
互いに隣接する前記アンテナにおいて一方の前記アンテナを流れた冷却液が前記接続導体の流路を介して他方の前記アンテナに流れるものである、請求項9記載のプラズマ処理装置。 - 前記接続導体は、互いに隣接する前記アンテナにおいて一方の前記アンテナに接続される一方の導体部と、他方の前記アンテナに接続される他方の導体部と、前記一方の導体部及び前記他方の導体部に電気的に直列接続された容量素子とを有する、請求項8乃至10の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 真空排気されかつガスが導入される処理室と、
前記処理室外に配置された請求項1乃至6の何れか一項に記載のアンテナと、
前記アンテナに高周波電流を流す高周波電源とを備え、
前記アンテナによって発生させたプラズマを用いて前記処理室内の基板に処理を施すように構成されているプラズマ処理装置。 - 複数の前記アンテナを備えており、
互いに隣接する前記アンテナにおいて一方の前記アンテナの端部と他方の前記アンテナの端部とを接続導体により電気的に接続して、前記互いに隣接する前記アンテナに互いに逆向きの高周波電流が流れるように構成されている、請求項12記載のプラズマ処理装置。
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