JP6338341B2 - 透過型放射線管、放射線発生装置及び放射線撮影システム - Google Patents

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Description

本発明は、例えば医療分野における診断や、産業分野における非破壊検査等のための各種撮影に用いられる透過型放射線管、この透過型放射線管を用いた放射線発生装置及びこの放射線発生装置を備えた放射線撮影システムに関する。
放射線発生装置を備えた放射線撮影装置において、撮影分解能を高め、取得画像の高精細化が図られることにより、病巣の前駆段階である石灰化等の生体組織が変化した微小領域を早期に発見することが求められている。
放射線発生装置の撮影分解能を決定する主たる要因の一つとして、放射線の発生源となるターゲットの焦点サイズが挙げられる。
一方で、電子線をターゲットに照射して放射線を発生させる放射線発生装置において、ターゲットにおける「放射線発生効率」は1%未満であるため、ターゲットに投入されたエネルギーのほとんどが熱に変換される。このため、ターゲット上の焦点径の下限は、実効的には、焦点における「陽極電流密度」と「ターゲットの耐熱性」、「ターゲットの放熱性」、「放射線発生効率」により制限される。
「放射線発生効率」を高効率化する方法として、ターゲットを、重金属を含有する薄膜形態としたターゲット層と、放射線を透過するとともにターゲット層を支持する基材とから構成された透過型のターゲットとすることが公知である。特許文献1には、従来の回転陽極型の反射型ターゲットに対して、「放射線発生効率」を1.5倍以上増大させた回転陽極型の透過型のターゲットが開示されている。透過型放射線管は、電子放出源からターゲットの電子照射面への電子線の照射により放射線を発生させ、発生した放射線を電子照射面とは反対側の放出面側へ透過させて放出する透過型のターゲットを用いたものとなっている。
透過型のターゲットの「放熱性」と「耐熱性」とを促進する方法として、透過型のターゲットのターゲット層を支持する基材に、ダイアモンドを適用することが公知である。特許文献2には、タングステンからなるターゲット層を支持する基材としてダイアモンドを使用することにより、放熱性を高め、微小焦点化を実現することが開示されている。ダイアモンドは、高い耐熱性と、高い熱伝導性を備えているとともに、高い放射線透過性を備えているため、透過型のターゲットの支持基材としては、好適な材料である。
透過型のターゲットの「放熱性」を促進する他の方法としては、ターゲットと陽極部材との接続部の熱抵抗を低減するようにターゲットを陽極部材に保持する方法が知られている。特許文献3には、管状の陽極部材と、該管状の陽極部材の開孔部の途中において、該開孔部の長手方向に対して斜めにターゲットを設けることで伝熱面積を増加させ、ターゲットと陽極部材との接続部の熱抵抗を減少させた透過型放射線管が開示されている。
特表2009−545840号公報 特表2003−505845号公報 特開2012−124098号公報
特許文献3に記載の管状の陽極部材は、ターゲットで発生した放射線の一部を遮蔽し、開孔の一端から所定の放射角を有した放射線束として取出す遮蔽体を兼ねている。また、特許文献3に記載された透過型放射線管は、ターゲットを保持する筒状の遮蔽体を備えている。この筒状の遮蔽体は、ターゲットの電子照射面を基準に、電子通過路を残して電子放出源側に延びている後方遮蔽体と、放射線通過路を残して電子放出源に延びている前方遮蔽体とを備えている。
しかしながら、特許文献3に記載のような後方遮蔽体と前方遮蔽体とを備えた透過型放射線管においては、電子線束により電子照射面に形成された主焦点に比較して、放射線照射領域から見た焦点の形状が変化し焦点サイズが増大する問題が生じる場合があった。
本願発明は、前方遮蔽体と後方遮蔽体とを有し、ターゲットが、電子線軸に対して電子照射面を傾斜させて設けられた透過型放射線管において、焦点の微小化を阻害する、放射線強度分布の変形および焦点径の増大を抑制することを目的とする。また、本発明は、放射線照射領域における放射線強度分布の変形および焦点径の拡大が抑制された放射線発生装置及び放射線撮影システムを提供することを目的とする。
上記目的のために、本発明の透過型放射線管は、第一に、電子線束を放出する電子放出源と、
前記電子線束の照射により主焦点が形成される電子照射面と前記電子照射面と対向する放出面とを有し、前記主焦点において放射線が発生し前記放射線の一部を放射線束として前記放出面から放出する透過型ターゲットと、
前記電子照射面の側に位置し、前記電子線束を囲む電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、
前記放出面の側に位置し、前記放射線束が放出される放出方向を制限する開口を有する前方遮蔽体と、を備える透過型放射線管であって、
前記電子線束の束中心が前記電子照射面の法線に対して傾斜するように、前記電子放出源は前記透過型ターゲットの後方に位置し、
前記開口の中心と前記主焦点の中心とを結ぶ取出し軸が前記法線に対して傾斜するように前記前方遮蔽体は位置し、
前記電子線束の前記電子照射面への正射影像前記放射線束の前記電子照射面への正射影像とが前記主焦点の中心に対して折り返し前記主焦点の外において重なるように、前記開口が前記前方遮蔽体に配置されていることを特徴とするものである。
また、本発明の透過型放射線管は、第二に、電子線束が照射される電子照射面を有するターゲット層を備える透過型ターゲットと、前記透過型ターゲットを保持する陽極部材と、を有する陽極と、
前記電子照射面上に主焦点を形成する電子線束を照射する電子放出源を備える陰極と、
前記陽極と前記陰極とに挟まれ前記電子放出源を囲む絶縁管と、を有する透過型放射線管であって、
前記陽極部材は、前記電子放出源に向かって突出し電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、前記ターゲット層から発生した放射線の一部を放射線束として前記後方遮蔽体とは反対側に通過させる開口を有する前方遮蔽体と、を備え、
前記電子線通路と前記開口とは前記電子照射面を挟んで折り返すように位置していることを特徴とするものである。
さらに、本発明の透過型放射線管は、第三に、電子線束が照射される電子照射面を有するターゲット層を備える透過型ターゲットと、
前記透過型ターゲットを保持する陽極部材と、を有する陽極と、
前記電子照射面上に主焦点を形成する電子線束を照射する電子放出源を備える陰極と、
前記陽極と前記陰極とに挟まれ前記電子放出源を囲む絶縁管と、を有する透過型放射線管であって、
前記陽極部材は、前記電子放出源に向かって突出し電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、前記ターゲット層から発生した放射線の一部を放射線束として前記後方遮蔽体とは反対側に通過させる開口を有する前方遮蔽体と、を備え、
前記電子線通路と前記開口とは前記電子照射面を挟んで折り返すように、前記陽極部材は前記後方遮蔽体と前記前方遮蔽体とを有していることを特徴とするものである。
また、本発明の放射線発生装置は、上記本発明に係る透過型放射線管と、絶縁性流体と、前記透過型放射線管と前記絶縁性流体とを収納する収納容器と、前記透過型放射線管に電気的に接続され、前記放射線管に電圧信号を印加して、放射線の発生を制御する駆動回路とを備え、前記絶縁性流体は前記放射線管と前記収納容器とに接触していることを特徴とするものである。
さらに、本発明の放射線撮影システムは、上記本発明に係る放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えていることを特徴とするものである。
本発明によれば、特に透過型のターゲットに対する電子線の入射軸と、放射線を取出す放出軸との配置を特定の幾何学的関係を満たすものとすることにより、放射線照射領域から見た主焦点中心と副焦点中心の位置を重ねることができる。そして、これによって、副焦点による焦点の粗大化を低減させることができる。
本発明に関わる放射線管の実施形態を示す断面図である。 本発明に関わる(a)放射線発生装置、(b)放射線発生装置の他の例、(c)撮影装置・撮影システムを示す構成図である。 本発明に関わる(a)マンモ撮影装置、(b)マンモ断層撮影装置の例である。 本発明に関わる実施形態の(a)陽極断面図、(b)電子照射面正射影像、(c)合成放射線強度分布を示す図である。 本発明の第一の特徴に関わる(a),(b)ターゲットと遮蔽体との接続関係を示す断面図、(c),(d)陽極の断面斜視図、(e)主焦点面積の電子線軸の入射角θ依存性図である。 本発明の第2の技術的特徴に関わる(a)陽極断面図、(b)検出面上での主焦点サイズSpte(φ)の出射角Φ依存性を示す図である。 本発明の第3の技術的特徴に関わる実施形態の(a)電子照射面射影図、(b)検出器から見た主焦点のアスペクト比の方位角Ψ依存性グラフである。 第3の技術的特徴を備えない参考例の(a)陽極断面図、(b)合成放射線強度分布を示す図、(c)電子照射面射影図である。 本発明に関わる実施形態(a)前方遮蔽体の断面図、()他の前方遮蔽体の断面図である。
まず、図1〜図3に基づいて本発明に係る透過型放射線管および、本発明の透過型放射線管の適用例として、放射線発生装置、放射線撮影装置、マンモ撮影装置、および、マンモ断層撮影装置について説明する。
図1に示すように、透過型放射線管1は、真空容器2内に、電子放出源3を有している。電子放出源3は、通常、電子放出部27と、グリッド電極と、レンズ電極とを有している。また、電子放出部27と相対向する位置にターゲット4が設けられている。ターゲット4は、放射線を発生する機能と、発生させた放射線を電子放出源3とは反対側に取り出すために放射線透過性とを備えることにより透過型のターゲット4として動作する。またターゲット4は、真空容器2の外へ放射線を出射させる透過窓として真空容器2の部分を構成した形態とする事も可能である。
なお、真空容器2は、筒状の絶縁管と後述する陽極32、陰極33とから構成され、内部空間が真空に減圧された気密容器である。陽極32と陰極33の少なくともいずれか一方と絶縁管とは、環状の接続部を介して互いに気密接合されている。絶縁管と、陽極32または陰極3とは、ろう付けにより接合される。絶縁管は、アルミナ、ジルコニア等のセラミック材料、高歪点ガラス等のガラス材料を用いることができる。
電子放出源3は、KOVAR(登録商標 鉄ニッケルコバルト合金)、Monel(登録商標 ニッケル銅合金)等の耐熱性金属から構成される陰極部材22とともに、陰極33を構成する。陰極33は、後述の陽極32と対向して配置される放射線管1の電位規定部材であり、真空容器2の内部の空間電場を規定する。電子放出源3と陰極部材22とは、ろう付け、溶接等により電気的かつ気密的に接合されている。また、陰極33は、放射線管1の外部に設けられた陰極電位規定ノードとの電気的接続を確立する電極端子を兼ねる形態とすることも可能である。
透過型のターゲット4は、電子の照射により放射線を発生するターゲット材料を備えたターゲット層6と、ターゲット層6を支持しターゲット層6で発生した放射線を透過する支持基材5とからなる積層体として構成される。さらに、透過型のターゲット4は、電子放出部27を備えた電子放出源3と対向するように配置され、電子放出源と対向する側にターゲット層6を有する。本願明細書においては、透過型のターゲット4は、電子照射面と対向する側の面を電子照射面7、電子照射面と反対側に位置する面を放出面8と称する。
支持基材5は、放射線の透過性および熱伝導性が高い材料で構成されている。支持基材5としては、例えば、ベリリウム、ダイアモンド、シリコンカーバイドを用いることができる。
また、ターゲット層6は、電子の照射によって放射線を放出する材料で構成されている。ターゲット層6は、放射線を効率よく発生させることができるよう、原子番号が42以上のターゲット金属を含有する層として構成される。ターゲット層6を構成する金属含有材料としては、純金属、合金、固溶体、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、等が適用される。ターゲット金属としては、具体的には、例えばタングステン、タンタル、モリブデン等を用いることができる。
なお、透過型のターゲット4は、陽極部材21、および、遮蔽体9とともに、陽極32を構成する。陽極32は、前述の陰極33と対向して配置される放射線管1の電位規定部材であり、真空容器2の内部の空間電場を規定する。また、本実施形態の陽極32は、放射線管1の外部に設けられた陽極電位規定ノードとの間の電気的接続を確立する電極端子を兼ねている。
陽極部材21は、電極としての機能と、真空容器2を構成する構造材料としの機能を有する。陽極部材21は、製造プロセス及び放射線管動作における耐熱性、絶縁管との線膨張係数の整合等を考慮して、KOVAR、Monel、ステンレス等の金属から構成される。
遮蔽体9は、ターゲット4で発生した放射線のうち、不要な放射線の一部を遮蔽する目的により、ターゲット4に近接させて配置される部材である。遮蔽体9は、タングステン、タンタル、モリブデン、金、銅、銀等の重金属元素から構成される。
さらに、遮蔽体9は、ターゲット4の電子照射面7との位置毎に区別される後方遮蔽体9aと前方遮蔽体9bとから構成される。
後方遮蔽体9aは、電子放出源に近づく方向(以降、本願明細書では「ターゲットの後方」と称する。)に向かって、電子照射面7と交差する位置から延在する遮蔽体9の部分であって、電子線の通過を許容する電子線通路10を残して電子照射面7の周囲を囲んで設けられている。
前方遮蔽体9bは、電子放出源から遠ざかる方向(以降、本願明細書では「ターゲットの前方」と称する。)に向かって、電子照射面7と交差する位置から延在する遮蔽体9の部分であって、放射線の通過を許容する放射線通路11を残して放出面8の周囲を囲んで設けられている。
本実施形態において、後方遮蔽体9aは、陽極部材2に設けられた開口において、陽極部材2に外周を囲まれて接続されて、陽極32の部分を構成している。かかる後方遮蔽体9aと陽極部材2との接続は、ろう材、溶接等により、気密的、かつ、電気的な接続が確立されている。
なお、後方遮蔽体9aは、電子照射面7への電子線束23の照射に伴い放射状に発生する放射線のうち、ターゲットの後方に放出される成分の一部を遮蔽する機能を有する。また、後方遮蔽体9aは、ターゲット4に近接して設けられることにより、電子照射面7で発生した後方散乱電子の散乱する範囲を制限する機能を有する。
前方遮蔽体9bは、ターゲット4で発生した放射線の放出方向と放出領域を規定する開口25を有している。このような構成をとることにより、前方遮蔽体9bを通過した放射線は、放射線束19として、ターゲット4の前方に取出される。
なお、図1に示される実施形態においては、後方遮蔽体9aと前方遮蔽体9bは別体のものとして接続されているが、両者を一体物としたり、それぞれの少なくとも一方を複数の部材からなる複合材とすることもできる。
図1に示す様に、後方遮蔽体9aと前方遮蔽体9bとを、電子通路10と放射線通路11とが透過型のターゲット4を介して位置するように一体的に構成した形態においては、ターゲット4で発生した放射線の不要な放射方向への放出を効果的に遮蔽することが可能となる。この結果、本実施形態によれば、不要な放射線の漏洩を抑制した放射線管や、小型化・軽量化された放射線発生装置を提供することが可能となる。
次に、図2(a)に基づいて本発明に係る放射線発生装置101について説明する。
本発明に係る放射線発生装置101は、透過型放射線管1と、透過型放射線管に接触する絶縁性流体107と、それらを収納する収納容器105とから構成されている。また、放射線発生装置101は、必要に応じて可動絞りユニット103を備える形態とすることも可能である。
まず、放射線発生装置101について説明する。図2(a)に示す放射線発生装置101は、さらに、透過型放射線管1を、電圧信号を印加して駆動する駆動回路104を収納した形態となっている。収納容器105は真鍮、ステンレス等の金属材料からなる容器であり、後述する絶縁性流体107を介して放射線管1で発生した熱の容器外部への放熱構造を構成する。また、収納容器105は、所定の電位規定ノードと接続させることにより、周辺に配置された各種部材との間の放電を抑制する作用を発現させても良い。
なお、収納容器105は、図2(a)に示すように、放射線管1から出射される放射線を外部に取り出すための放出窓106が設けられた形態とすることも可能である。また、放射線管1の冷却媒体として、収納容器105の内部の余剰空間には絶縁性流体107が充填されている。絶縁性流体107は、放射線管1と収納容器105の容器内面のいずれとも接触している。
絶縁性流体107としては、電気的な絶縁性を有した流体であれば熱力学的な相は問わず、気体、液体が含まれる。絶縁性流体の絶縁性は、収納容器105および、駆動回路104、不図示の配線等の相互の電気的絶縁の作用を発現する。絶縁性の気体としては、空気、窒素、六フッ化硫黄(SF6)等が適用される。絶縁性の液体としては、電気絶縁油が好ましく、具体的には鉱油、シリコーン油、パーフロオロ系高分子油を用いることもできる。
駆動回路104は、透過型放射線管1の電子放出源3とターゲット4のターゲット層6に電気的に接続されており、それぞれに電圧を印加して放射線の発生を制御するものとなっている。駆動回路104によって電子放出源3からターゲット4に電子線が照射されることで発生した放射線は、ターゲット4の支持基材5を透過して透過型放射線管1から放出される。 駆動回路104は、本実施形態においては、収納容器105の内部に収納されているが、収納容器105に駆動配線を透過する開孔または駆動配線と接続する接続端子を設けることにより外部に配置しても良い。
図2(b)には、図2(a)に図示された放射線発生装置101の変形例が図示されている。本実施形態においては、陽極32は、ターゲット4および、前方遮蔽体9bを除いた後方遮蔽体9aの一部が、収納容器105の内部に収納されている。本実施形態においては、収納容器105の容器壁を構成する金属部材と、後方遮蔽体9aの外周とが伝熱的に接続されている。これにより、ターゲット4の発熱を効果的に収納容器105に出熱させ、さらには、放射線発生装置101の外部に放熱することが可能となる。伝熱的な接続とは、金属から構成され部材間の熱伝導を大きく阻害しない接合方法により実現され、ろう付け、溶接、熱融着等が含まれる。
前方遮蔽体9bの開口25を介して透過型放射線管1から放出される放射線束は、所定の放射線照射領域へ照射される。
上記のような本発明に係る放射線管を備えた放射線発生装置とすることにより、微小焦点化された放射線束が得られる。
次に、図2(c)に基づいて本発明に係る放射線撮影システムについて説明する。本発明に係る放射線撮影システムは、既に説明した放射線発生装置101と、被検体204を透過した放射線を検出する放射線検出装置201と、システム制御装置202と、表示装置203とを備えている。
システム制御装置202は、放射線発生装置101と放射線検出装置201とを連携制御する。駆動回路104は、システム制御装置202による制御の下に、透過型放射線管1に各種の制御信号を出力する。この制御信号により、放射線発生装置101から放出される放射線の放出状態が制御される。放射線発生装置101から放出された放射線は、被検体204を透過して検出器206で検出される。検出器206は、検出した放射線を画像信号に変換して信号処理部205に出力する。信号処理部205は、システム制御装置202による制御の下に、画像信号に所定の信号処理を施し、処理された画像信号をシステム制御装置202に出力する。システム制御装置202は、処理された画像信号に基づいて、表示装置203に画像を表示させるための表示信号を表示装置203に出力する。表示装置203は、表示信号に基づく画像を、被検体204の撮影画像としてスクリーンに表示する。放射線の代表例はX線であり、本発明の放射線撮影システムは、X線撮影システムとして利用することができる。X線撮影システムは、工業製品の非破壊検査や人体や動物の病理診断に用いることができる。
本発明に係る放射線撮影システムを更に具体的に説明すると、例えば図3(a)に示されるようなマンモグラフィー撮影装置とすることができる。図3(a)において、支持台301の上部に本発明に係る放射線発生装置101が放射線の照射方向を下側にして取り付けられている。放射線発生装置101は、内蔵する透過型放射線管1のターゲット4側が被験者側となり、電子放出源3側がその反対側となるように設けられている。放射線発生装置101の下方には押え板302が支持台301に上下に移動可能に取り付けられており、更にその下方に検出器206が設けられている。検出器206としては、フラットパネルディテクター(FPD)を好ましく用いることができる。被写体である***を検出器206と押え板302の間に挟んで放射線発生装置101から放射線を照射することで、被写体の二次元画像を得ることができる。
本実施形態のように、本発明の放射線管1を備えたマンモ放射線撮影装置とすることにより、乳がんの初期段階の微小な石灰化の検出精度を向上することが可能となる。
また、図3(b)は、図2(b)に図示した放射線発生装置101を、三次元画像を取得可能なコーンビーム断層撮影装置(Cone Beam Computed Tomograpy 装置:これ以降CBCT装置)に適用した実施形態である。
本実施形態においては、図3(b)に示すように、***の断層画像を取得するマンモ断層撮影装置を構成している。本実施形態のマンモ断層撮影装置は、回転軸404を中心として回転可能な回転台401の上に、放射線発生装置101と放射線検出装置201とが回転中心を間に挟んで相対向して設けられている。放射線発生装置101は、放射線の照射方向を放射線検出装置201に向けて設けられている。放射線発生装置101及び放射線検出装置201の上方には、被験者が俯せに横になることができる検診台402が設けられている。放射線発生装置101は、内蔵する透過型放射線管1のターゲット4側が検診台402側(被験者側)となり、電子放出源3側がその反対側となるように設けられている。検診台402には検査孔403が設けられており、被験者が***をこの検査孔403に入れて横たわった状態で撮影できるようになっている。検査孔403は、放射線発生装置101と放射線検出装置201の間に位置している。このようなCBCT装置で、回転台401を回転させながら360度の方向から撮影を行い、画像情報をコンピューター処理することで、被写体の三次元画像を得ることができる。
なお、図3(b)に図示した実施形態では、図2(b)に記載の放射線発生装置101を備えており、ターゲット4及び遮蔽体9が、放射線管を構成する真空容器2のみならず、放射線発生装置を構成する収納容器10の外側に位置している。このため、本実施形態においては、前述の収納容器105との伝熱的な接続部を介したターゲット4の放熱作用に加えて、放射線発生装置101の回転動作に伴い遮蔽体9を介した雰囲気との熱交換作用を発現することが可能である。これにより、ターゲット4の熱負荷が軽減され、電子照射面に形成する主焦点ビーム径をより一層微小化させることが可能となっている。このため、本実施形態のマンモ断層撮影装置によれば、乳がんの初期の石灰化領域の3次元的な位置同定が行いやすくなる利点がある。
また、本実施形態は、ターゲット4および遮蔽体9は、収納容器10と検診台402との間に位置している。そして、ターゲット4の焦点から放出された放射線束が被験者の胸骨に被曝することなく、***の付け根付近のブラインドエリアが低減されたマンモ断層撮影装置となっている。
次に、図4乃至図7を用いて、本発明の透過型放射線管の特徴である透過型のターゲットを備えた陽極構造について説明する。本発明の透過型放射線管の陽極構造は、電子線束の入射軸である電子線軸と、ターゲットから放出され放射線束として取出される放射線軸との幾何学的な関係を特徴として備える。
まず、図4(a)は、図1(a)に示した透過型放射線管の陽極構造を拡大した断面図である。図4(a)に記載の断面A−A’は、電子照射面7の面内に位置し、ターゲット4の後方からターゲット4を観察する仮想断面を示している。図4(b)には、仮想断面A−A‘において、電子線束の中心軸である電子線軸12と、放射線束の中心軸である放射線軸15とが正射影されている。仮想断面A−A‘には、さらに、主焦点14と、主焦点14の中心を起点とした焦点14の法線13と、法線13を含む仮想平面のうち、かかる仮想平面に電子線軸12を正射影した射影軸が法線13と一致する仮想垂直面20とが図示されている。図4(a)および図4(b)により電子線軸12と放射線軸15との幾何学的な関係が示されている。図4()は、第3の技術的特徴により発現する、本発明の効果を説明する図である。第3の技術的特徴に係る効果については、後述する。
なお、主焦点14の中心は、主焦点14を面積積分した重心に一致する様に決定され、電子線軸12、放射線軸15に接続されている。また、放射線束19は、主焦点14と開口25とで規定される仮想錐体に内接する部分を有する錐体であると捉えられる。
本実施形態の陽極構造は、第1乃至第3の技術的特徴を備えている。
第1の特徴は、「前記電子放出源は、前記電子線束の束中心である電子線軸が前記ターゲットの前記電子照射面の法線に対して傾斜するように、前記ターゲットの後方に位置する」ことである。第1の技術的特徴は、図4(a)において、電子線軸12が法線13に対して入射角θをなして、電子線束23がターゲット4に入射していることに対応する。図4(a)においては、陽極を部分拡大した図であるため、図1に示された電子放出源3は省略されている。
第2の技術的特徴は、「前記前方遮蔽体は、前記開口の中心と前記主焦点の中心とを結ぶ取出し軸である放射線軸が、前記法線に対して傾斜するように位置する」ことである。
第2の技術的特徴は、図4(a)において、法線13に対して出射角Φをなすように、放射線束19を取り出す位置に開口25を備えた前方遮蔽体9bが設けられていることに対応する。
第3の技術的特徴は、「前記開口は、前記電子線束の前記電子照射面への正射影像が、主焦点の外において、前記放射線束の前記電子照射面への正射影像に重なるように、前記前方遮蔽体に配置されている」ことである。第の技術的特徴は、図4(a)、(b)において電子線束23がターゲット層6に照射された後、前方遮蔽体9bの開口25により、折り返すように電子放出源3に近づく方向に放射線束19として取出されることに対応する。
次に、第1の技術的特徴について、図5の各図を用いて説明する。
図5(a)、(b)は、それぞれ、電子線軸がターゲットの電子照射面に対して垂直入射、または、斜め入射となるように後方遮蔽体9aに透過型のターゲット4が接続された実施形態の断面図を示している。即ち、図5(a)、(b)のそれぞれに記載の実施形態の電子線軸の入射角は、0度、θ度となっている。なお、図5(a)、(b)は、それぞれ、x軸を電子照射面7の法線に平行に、y軸電子照射面7に平行にとっている。一方、図5(c)、(d)は、それぞれ、図5(a)、(b)の実施形態を斜視図で示したものであり、不図示の電子線束の入射により形成された主焦点14と主焦点の面積Sfsを記号的に示している。図5(e)は、図5(c)、(d)に示された主焦点の面積、電子線束のビーム径Rと入射角θの関係で対比する意図で図示された説明図である。
図5(e)により、透過型のターゲットに対する電子線軸および電子線束の入射角θにより、電子線軸と法線とを含む平面と電子入射面とが交差する交差線上において、焦点が1/cosθ倍増大し、焦点の面積が1/cosθ倍に増大することが示されている。
この結果、本発明の第1の技術的特徴により、電子放出源3の放出する電流密度を減少させることなく、主焦点14における電流密度を低減することが可能となり、ターゲットの熱負荷を軽減することが可能となる。
なお、図5においては、電子線ビームのビーム形状、および、入射角θが0度の主焦点14の焦点形状は、円形であるが、上記の電子線軸の斜め入射による電流密度低減効果は、任意のビーム形状/焦点形状において成立する。
この結果、本発明の第1の技術的特徴により、電子線束のビーム幅Rを絞ることが可能となる技術的意義を発現する。
次に、第2の技術的特徴について、図6の各図を用いて説明する。
図6(a)は、透過型のターゲット4の法線13に対する出射角Φの位置に、主焦点の放射線束形状を観測するビームプロファイル計測器60を備えた概略構成図である。また、図6(b)は、検出器から見た主焦点面積Spteの出射角Φ依存性を示すグラフである。
図6(a)に示されたビームプロファイル計測器60は、焦点径より十分に小さい径のピンホールを備えたピンホール部材61と複数の放射線検出素子をアレイ状に備えた放射線検出器62とから構成される。このビームプロファイル計測器60を用いることにより、放射線束のビーム形状として、ビーム径、ビーム内の放射線強度分布を同定することが可能となり、放射線検出器62からみた見掛け上の焦点サイズSpteが得られる。またビームプロファイル計測器60のピンホールと主焦点の中心との出射角Φを変えることにより、図6(b)のように、検出器から見た焦点サイズSpte(φ)の出射角φ依存性が得られる。
図6(b)において、横軸は出射角Φを示し、二本の縦軸のうち、左側の縦軸には、入射角θの電子線束により電子照射面7上に形成された主焦点面積Spt(θ)で規格化した検出器から見た焦点サイズSpte(φ)が示されている。また、右側の縦軸には、入射角θ=0度の電子線束により電子照射面7上に形成された主焦点面積Spt(0)で規格化した検出器から見た焦点サイズSpte(φ)が示されている。
図6(b)に示されるように、放射線軸15が法線13となす出射角Φを、電子線軸1が法線13となす入射角θより大きくなるように、開口25とターゲット4と電子放出源3とを配置することにより、Spt(0)よりもSpte(Φ)を小さくできる。つまり、上記開口25とターゲット4と電子放出源3の配置により、入射角θが0度の電子線束23に形成される主焦点の面積Spt(0)よりも、検出器からみた見掛け上の主焦点の面積Spte(Φ)を小さくする事が可能となる。そして、これによって電子レンズ設計により得られる焦点径に対して微小化がなされる。
図6(b)に示すように、検出器から見た焦点サイズSpte(φ)は、出射角Φの増加に対して単調減少し、出射角φがπ/2で0の値となる。出射角Φを入射角θと一致させた条件において、規格化されたSpte(φ)/Spt(0)は1となり、電子照射面7の上に形成され入射角θにより拡大された焦点サイズが、電子線束を斜め入射しない条件に復元することが可能となる。
すなわち、第1の技術的特徴と第2の技術的特徴とにより、焦点の電流密度を低減せずに、また、検出器から見た焦点サイズを拡大せずに、ターゲット上の熱負荷を低減するので、電子線束を細ビーム化させて微小焦点化を実現することが可能となる。
次に、第3の技術的特徴について、図7(a)、(b)と図4(b)とを用いて説明する。第3の技術的特徴は、主焦点形状の品質に関する第1の技術的意義と、主焦点の外に生じる副焦点(オフフォーカルスポット)に関する第2の技術的意義と、を本発明の放射線発生管にもたらす。
まず、図7(a)、(b)を用いて、第1の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴について説明する。図7(a)は、図4()において断面A−A’で示された電子照射面7に電子線束23と放射線束19とを正射影した仮想断面図である。図7(b)は、検出器から見た主焦点14のアスペクト比ARの方位角Ψ依存性を示すグラフである。
図7(a)において、電子線軸12、放射線軸15、前方遮蔽体9b及び開口25の正射影像と主焦点14が示されている。図7(a)には、法線13を含む仮想平面に対して電子線軸12を正射影した正射影像が、法線13に一致する仮想平面である仮想垂直面20が、さらに、図示されている。また、理解の為に、図7(a)に図示された電子線軸12を構成する電子線束23のビーム形状は、円形である場合を考える。また、主焦点14を内包する範囲に形成されている主焦点14は、理解のために、図7(a)では省略されている。
図7(a)には、電子線束23が入射角θで入射することによって電子照射面7に形成された主焦点14が図示されている。図7(a)に記載の主焦点14は、y軸方向に延びた楕円形状となっている。
電子線軸12に対する放射線軸15の法線13周りのずれ角を方位角Ψと定義する。方位角Ψは、ターゲットと電子放出源と前方遮蔽体の開口との位置関係によって規定される。方位角Ψと出射角Φとに依存して主焦点14は、検出器から見た見掛けの主焦点7の形状として、図7(b)の右側に列記したような形状を示し。検出器から見た主焦点7のアスペクト比は、方位角Ψに依存して互いに異なることが、図7(b)から読み取れる。
検出器から見た主焦点7のアスペクト比は、焦点放射線撮影装置における撮影画像の品質に影響を及ぼし、1が好ましい。検出器から見た主焦点7のアスペクト比を1とする方位角Ψの条件は、0、π(rad)である。
従って、第3の技術的特徴による第1の技術的意義は、電子線束23と放射線束19とを、互いに平行ベクトル(Ψ=π)または逆平行ベクトル(Ψ=0)の関係を満たして重なるようにすることで得られる。電子線束23と放射線束19が上記関係を満たして重なるよう、ターゲットと電子放出源と前方遮蔽体の開口との位置関係を規定することにより、検出器から見た主焦点の形状に関わる品質を好適な範囲とすることができる。
次に、図4(a)−(c)、図8(a)−(c)を用いて、第2の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴を説明する。
第2の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴は、方位角Ψを0radとすることである。すなわち、第2の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴は、図7(a)において、電子線束23と放射線束19それぞれの、電子照射面に対する正射影像が互いに反平行ベクトルの関係で重なるように、ターゲット、電子放出源、開口とを配置することである。
図4(b)において、放射線束19と電子線束23とは、電子照射面7に対する正射影像として重なっている。図4(a)に示された実施形態の陽極構造は、図4(b)に図示された光学的ジオメトリを満たすように、前方遮蔽体9bの開口25がターゲット4、電子線束23に対して配置されている。
このような光学的なジオメトリを満たした本実施形態の陽極構造の主焦点14の中心16付近の放射線強度分布が、図4(c)の実線で示されている。図4(c)の横軸Xは、法線13と放射軸15とを含む仮想平面に含まれ、放射線軸15に垂直な方向である。横軸XのXcは、放射線軸15と放射線検出器62とが重なる位置に相当する。
図4()記載の実線(下から1番目)のプロファイルは、放射線軸15の延長上に配置したビームプロファイル計測器60によって得られる。ビームプロファイル計測器60は、主焦点のサイズより十分小さい口径のピンホールを備えたピンホール部材61と、アレイ状に配列された複数の放射線検出素子を備える放射線検出器62とから構成されている。本願明細書においては、後方遮蔽体9aと透過型のターゲットと前方遮蔽体9bとを備えた透過型の放射線管1の放射線軸15上に配置したビームプロファイル計測器60で計測したビームプロファイルを「合成放射線強度分布」と称する。
破線のプロファイル(上から1番目)は、主焦点14から放出された放射線のビームプロファイルであり、後方遮蔽体9aを除去した不図示の陽極構造に電子線束23を照射することにより得られる。破線のプロファイルは、後方遮蔽体9aの影響を受けず、電子照射面7に由来するので「電子照射面の放射線強度分布」と称する。
本願発明者等の鋭意なる検討により、「合成放射線強度分布」と「電子照射面の放射線強度分布」とは、ビームプロファイルにおいて一致せず、前者が後者に対して大きい強度を示すことが判った。また、「合成放射線強度分布」と「電子照射面の放射線強度分布」の差分は点線のプロファイル(上から2番目)となり、所定のX座標に対応した位置に極大成分を有していた。この点線のプロファイルの極大を示すX座標は、透過型のターゲット4、開口25に対する後方遮蔽体9aの相対的な位置関係に依存して変化することが判った。
従って、上記点線のプロファイルは、後方遮蔽体に起因することが確認された。この点線のプロファイルを本願明細書においては、「後方遮蔽体の放射線強度分布」と称する。「後方遮蔽体の放射線強度分布」「電子照射面の放射線強度分布」に対する平均強度は、数%以下の範囲である。しかし、後方遮蔽体の位置によっては、ビームプロファイル計測器60から見た「合成放射線強度分布」のビーム形状を、図8(c)中に図示した実線のように主焦点中心に対して歪んだ形状に変形させることが確認された。
本願発明者等の鋭意なる検討の結果、「合成放射線強度分布」に歪みをもたらす「後方遮蔽体の放射線強度分布」について推定されたメカニズムを、図8(a)−(c)を用いて説明する。
図8(a)において、電子照射面902に照射された電子線束913の一部は、ターゲット900の後方に後方散乱電子として散乱する。後方散乱電子は、入射角θを法線903に対して折り返した反射角θ‘(=θ)を中心とし、余弦則p(θ’)∝cos(θ‘)に従った散乱角分布で散乱する。金属からなる遮蔽体により電子線通路は無電界領域となっているので、弾性散乱された後方散乱電子が減速することなく飛行し後方遮蔽体に衝突する。
この結果、所定の検出位置に極大を有する「後方遮蔽体の放射線強度分布」が発生する。後方遮蔽体917aに副焦点の中心908が発生する。
副焦点の中心908と主焦点の中心907との延長線が、前方遮蔽体の917bの開口を通り、前方遮蔽体の917bの開口中心910を通らない、図8(a)に示す実施形態の場合は、図8()に示すような「合成放射線強度分布」となるものと考えられる。
図8()においては、「後方遮蔽体の放射線強度分布」と「電子照射面の放射線強度分布」のそれぞれの強度中心である副焦点中心と主焦点中心とのX座標が一致せず、「合成放射線強度分布」に歪みをもたらす
従って、第2の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴を得るためには、図4(a)、(b)、図1に示されるように、ターゲット4の法線13と主焦点14の中心17と含む仮想平面のうち、電子線束23の仮想平面に対する正射影が法線13と一致する仮想垂直面20を仮定したときに、開口25は、仮想垂直面20に対して電子放出源3と同じ側に位置するように透過型放射線管1を構成すれば良い。
また、第2の技術的意義をもたらす第3の技術的特徴をより一層確実に得るためには、図4(a)に示されるように、電子線束23の照射により主焦点14から後方に散乱した後方散乱電子が後方遮蔽体9aに入射することにより後方遮蔽体9aに形成される副焦点の中心17と、主焦点14の中心16と、を結んだ直線が、開口25を通るように透過型放射線管1を構成すれば良い。
なお、図4(a)に図示された陽極構造を備えた透過型放射線管を、図3(a)、(b)に記載のマンモ撮影層、マンモ断層撮影装置に適用した場合において、好適な方遮蔽体9bの開口形状について、図9(a)、(b)を用いて説明する。
図4(a)に図示された実施形態においては、放射線通路11は、先端側に向かって徐々に拡径した形状となっており、放射線通路を構成する開口25の内壁面は4つの平面から構成されている。図4(a)に示した実施形態の仮想断面B−B’における横断面を図9(a)に示す。
図9(a)には、頂点OPQRから構成される矩形の開口形状を有した方遮蔽体9と、断面B−B‘に正射影された法線13が図示されている。本実施形態においては、開口25を規定する対向する2辺である辺PR及び辺OQは、射影法線24と垂直な関係になっており、一般に矩形な不図示の放射線検出器の検出範囲と、放射線発生装置が形成する曝射範囲とを高精度に位置合わせすることが可能となっている。
また、図9(b)には、図9(a)に記載の実施形態の変形例が示されており、本実施形態の前方遮蔽体9bには、頂点STUVから構成される台形形状の開口25が設けられている。開口25を構成する辺TUと辺SVの2辺は、それぞれ、射影法線2と垂直な関係となっている。辺TUと辺SVの長さ比を調整することにより、不図示の放射線検出器の検出面と放射線軸15とが垂直な関係に無い際に、焦点から遠い側において放射線束が拡大することにより台形状となる曝射範囲を、台形補正することが可能となる。
また、図1、図4(a)に図示された実施形態では、電子線束23によりターゲット層上に形成される主焦点14は、後方遮蔽体9aから離間している。
本実施形態とは異なり、電子線束23をターゲット層6と後方遮蔽体9aとに同時に照射する放射線管1とすると、ターゲット層6と後方遮蔽体9aとがそれぞれ有する密度、構成元素、組成、電子線束23に対する角度等のパラメータにおいて相違する。このため、ターゲット層6と後方遮蔽体9aのそれぞれの媒質中における電子散乱の素過程が相違する。この結果、ターゲット層6と後方遮蔽体9aのそれぞれの線質が一致しないため、オフフォーカルスポットを発生させることになり、焦点サイズが実効的に増大する。
このため、図1、図4(a)に図示された実施形態のように、主焦点14は、後方遮蔽体9aから離間した透過型放射線管とすることが、微小焦点化の点で好ましい。
1:透過型放射線管、2:真空容器、3:電子放出源、4:ターゲット、5:支持基材、6:ターゲット層、7:電子照射面、8:放出面、9a:後方遮蔽体:前方遮蔽体、10:電子線通路、11:放射線通路、12:電子線軸、13:法線、14:主焦点、15:放射線軸、16:主焦点中心、17:副焦点の中心、18:開口中心、19:放射線束、20:仮想垂直面、21:陽極部材、22:陰極部材、23:電子線束、24:射影法線、25:開口、27:電子放出部、28:電子線通路の中心軸、3:陽極、3:陰極、101:放射線発生装置、103:可動絞りユニット、104:駆動回路、105:収納容器、106:放出窓、107:絶縁性流体、108:収納容器、109:制限羽根、201:放射線検出装置、202:システム制御装置、203:表示装置、204:被検体、205:信号処理部、206:検出器、301:支持台、302:押え板、401:回転台、402:検診台、403:検査孔、404:回転軸

Claims (26)

  1. 電子線束を放出する電子放出源と、
    前記電子線束の照射により主焦点が形成される電子照射面と前記電子照射面と対向する放出面とを有し、前記主焦点において放射線が発生し前記放射線の一部を放射線束として前記放出面から放出する透過型ターゲットと、
    前記電子照射面の側に位置し、前記電子線束を囲む電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、
    前記放出面の側に位置し、前記放射線束が放出される放出方向を制限する開口を有する前方遮蔽体と、を備える透過型放射線管であって、
    前記電子線束の束中心が前記電子照射面の法線に対して傾斜するように、前記電子放出源は前記透過型ターゲットの後方に位置し、
    前記開口の中心と前記主焦点の中心とを結ぶ取出し軸が前記法線に対して傾斜するように前記前方遮蔽体は位置し、
    前記電子線束の前記電子照射面への正射影像前記放射線束の前記電子照射面への正射影像とが前記主焦点の中心に対して折り返し前記主焦点の外において重なるように、前記開口が前記前方遮蔽体に配置されていることを特徴とする透過型放射線管。
  2. 前記法線と前記主焦点と含む仮想平面のうち前記束中心の前記仮想平面に対する正射影が前記法線と一致する仮想垂直面を仮定したときに、前記開口は、前記仮想垂直面に対して前記電子放出源と同じ側に位置することを特徴とする請求項1に記載の透過型放射線管。
  3. 前記放射線束は、前記主焦点と前記開口とで規定される仮想錐体に内接する部分を有する錐体であることを特徴とする請求項1又は2に記載の透過型放射線管。
  4. 前記電子線束の照射により前記主焦点で後方に散乱した後方散乱電子が前記後方遮蔽体に入射することにより前記後方遮蔽体に形成される副焦点の中心と、前記主焦点の中心と、を結んだ直線が、前記開口を通ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  5. 前記取出し軸が前記法線となす出射角Φは、前記束中心が前記法線となす入射角θより大きいことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  6. 前記後方遮蔽体と前記前方遮蔽体とは、前記電子通路と前記開口とが前記透過型ターゲットを介して位置するように一体的に構成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  7. 前記前方遮蔽体の前記開口は、前記主焦点から見て台形または矩形であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  8. 前記開口を規定し互いに対向する2辺は、前記法線に対して垂直に配置していることを特徴とする請求項7に記載の透過型放射線管。
  9. 前記主焦点は、前記後方遮蔽体から離間していることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  10. 電子線束が照射される電子照射面を有するターゲット層を備える透過型ターゲットと、前記透過型ターゲットを保持する陽極部材と、を有する陽極と、
    前記電子照射面上に主焦点を形成する電子線束を照射する電子放出源を備える陰極と、
    前記陽極と前記陰極とに挟まれ前記電子放出源を囲む絶縁管と、を有する透過型放射線管であって、
    前記陽極部材は、前記電子放出源に向かって突出し電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、前記ターゲット層から発生した放射線の一部を放射線束として前記後方遮蔽体とは反対側に通過させる開口を有する前方遮蔽体と、を備え、
    前記電子線通路と前記開口とは前記電子照射面を挟んで折り返すように位置していることを特徴とする透過型放射線管。
  11. 電子線束が照射される電子照射面を有するターゲット層を備える透過型ターゲットと、
    前記透過型ターゲットを保持する陽極部材と、を有する陽極と、
    前記電子照射面上に主焦点を形成する電子線束を照射する電子放出源を備える陰極と、
    前記陽極と前記陰極とに挟まれ前記電子放出源を囲む絶縁管と、を有する透過型放射線管であって、
    前記陽極部材は、前記電子放出源に向かって突出し電子線通路を有する管状の後方遮蔽体と、前記ターゲット層から発生した放射線の一部を放射線束として前記後方遮蔽体とは反対側に通過させる開口を有する前方遮蔽体と、を備え、
    前記電子線通路と前記開口とは前記電子照射面を挟んで折り返すように、前記陽極部材は前記後方遮蔽体と前記前方遮蔽体とを有していることを特徴とする透過型放射線管。
  12. 前記電子線束の束中心が前記電子照射面の法線に対して傾斜するように、前記電子放出源は前記透過型ターゲットの後方に位置し、
    前記開口の中心と前記主焦点の中心とを結ぶ取出し軸が前記法線に対して傾斜するように前記前方遮蔽体は位置し、
    前記電子線束の前記電子照射面への正射影像が、前記主焦点の外において、前記放射線束の前記電子照射面への正射影像に重なるように、前記開口が前記前方遮蔽体に配置されていることを特徴とする請求項10又は11に記載の透過型放射線管。
  13. 前記法線と前記主焦点と含む仮想平面のうち前記束中心の前記仮想平面に対する正射影が前記法線と一致する仮想垂直面を仮定したときに、前記開口は、前記仮想垂直面に対して前記電子放出源と同じ側に位置することを特徴とする請求項12に記載の透過型放射線管。
  14. 前記放射線束は、前記主焦点と前記開口とで規定される仮想錐体に内接する部分を有する錐体であることを特徴とする請求項12又は13に記載の透過型放射線管。
  15. 前記電子線束の照射により前記主焦点で後方に散乱した後方散乱電子が前記後方遮蔽体に入射することにより前記後方遮蔽体に形成される副焦点の中心と、前記主焦点の中心と、を結んだ直線が、前記開口を通ることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  16. 前記取出し軸が前記法線となす出射角Φは、前記束中心が前記法線となす入射角θより大きいことを特徴とする請求項12乃至15のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  17. 前記後方遮蔽体と前記前方遮蔽体とは、前記電子通路と前記開口とが前記透過型ターゲットを介して位置するように一体的に構成されていることを特徴とする請求項12乃至16のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  18. 前記前方遮蔽体の前記開口は、前記主焦点から見て台形または矩形であることを特徴とする請求項12乃至17のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  19. 前記開口を規定し互いに対向する2辺は、前記法線に対して垂直に配置していることを特徴とする請求項18に記載の透過型放射線管。
  20. 前記主焦点は、前記後方遮蔽体から離間していることを特徴とする請求項12乃至19のいずれか1項に記載の透過型放射線管。
  21. 請求項1乃至20のいずれか一項に記載の透過型放射線管と、
    絶縁性流体と、
    前記透過型放射線管と前記絶縁性流体とを収納する収納容器と、
    前記透過型放射線管に電気的に接続され、前記放射線管に電圧信号を印加して、放射線の発生を制御する駆動回路と、を備え、
    前記絶縁性流体は前記放射線管と前記収納容器とに接触していることを特徴とする放射線発生装置。
  22. 前記収納容器は開口を有し、前記後方遮蔽体は、外周において、前記収納容器の前記開口と伝熱的に接続されていることを特徴とする請求項21に記載の放射線発生装置。
  23. 前記収納容器は、前記駆動回路を収納していることを特徴とする請求項21または22に記載の放射線発生装置。
  24. 請求項21乃至23のいずれか1項に記載の放射線発生装置と、
    前記放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
    前記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置と
    を備えていることを特徴とする放射線撮影システム。
  25. 被検体が***であることを特徴とする請求項24に記載の放射線撮影システム。
  26. 前記放射線発生装置が***の周囲を回転可能に設けられおり、前記***の断層画像を取得可能であることを特徴とする請求項24または25に記載の放射線撮影システム。
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