JP6337295B2 - Electrophoresis analysis chip and electrophoresis analyzer - Google Patents

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Description

本発明は、電気泳動分析チップおよび電気泳動分析装置に関するものである。   The present invention relates to an electrophoresis analysis chip and an electrophoresis analysis apparatus.

検体の分析においては、例えば、それぞれに電極が配された二つのリザーバーと、二つのリザーバーを接続するマイクロ流路とを備える分析チップが用いられる。分析は、例えば、リザーバーを介してマイクロ流路内に導入した検体を計測することにより行われる。   In the analysis of the specimen, for example, an analysis chip including two reservoirs each having an electrode disposed thereon and a microchannel connecting the two reservoirs is used. The analysis is performed, for example, by measuring a sample introduced into the microchannel via the reservoir.

米国特許第５４８２６０８号明細書US Pat. No. 5,482,608

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
二つのリザーバーにおける液位が異なると、静水圧流によってマイクロ流路における検体に流れが生じる可能性がある。検体の計測においては、電極に電圧を印加する前にマイクロ流路における検体が移動すると、高精度の計測に支障を来す可能性がある。 However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
If the liquid levels in the two reservoirs are different, flow may occur in the specimen in the microchannel due to the hydrostatic pressure flow. In sample measurement, if the sample in the microchannel moves before applying a voltage to the electrodes, there is a possibility that high-precision measurement may be hindered.

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、検体の分析を高精度に行える電気泳動分析チップおよび電気泳動分析装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to provide an electrophoresis analysis chip and an electrophoresis analysis apparatus capable of analyzing a sample with high accuracy.

本発明の第１の態様に従えば、基材に設けられた第１リザーバー及び第２リザーバーと、前記第１リザーバーと前記第２リザーバーとを接続し、検体が泳動する泳動流路と、前記第１リザーバーに保持された液体と前記第２リザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位が調整可能な液位調整部と、を備える電気泳動分析チップが提供される。   According to the first aspect of the present invention, the first reservoir and the second reservoir provided on the substrate, the electrophoresis channel for connecting the first reservoir and the second reservoir, and the sample migrating, There is provided an electrophoresis analysis chip comprising: a liquid level adjustment unit capable of adjusting a liquid level of at least one of a liquid held in a first reservoir and a liquid held in the second reservoir.

本発明の第２の態様に従えば、本発明の第１の態様の電気泳動分析チップを保持する保持部と、前記保持部に保持された前記電気泳動分析チップの液位調整部を用いて、前記第１のリザーバーに保持された液体と前記第２のリザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位を変位させる変位部と、を備えた、電気泳動分析装置が提供される。   According to the second aspect of the present invention, the holding unit that holds the electrophoresis analysis chip according to the first aspect of the present invention and the liquid level adjustment unit of the electrophoresis analysis chip held in the holding unit are used. There is provided an electrophoretic analyzer comprising: a displacement portion that displaces at least one liquid level of the liquid held in the first reservoir and the liquid held in the second reservoir.

本発明の第３の態様に従えば、本発明の第１の態様の電気泳動分析チップを保持する保持部と、前記保持部に保持された前記電気泳動分析チップの液位調整部に負荷を付与可能な負荷付与部と、を備えた、電気泳動分析装置が提供される。   According to the third aspect of the present invention, a load is applied to the holding unit that holds the electrophoresis analysis chip according to the first aspect of the present invention, and the liquid level adjustment unit of the electrophoresis analysis chip held in the holding unit. An electrophoretic analyzer including a load applying unit that can be applied is provided.

本発明では、検体の分析を高精度に行うことができる。   In the present invention, the sample can be analyzed with high accuracy.

実施形態に係る細胞外小胞体分析チップの基本構造を示す斜視図。The perspective view which shows the basic structure of the extracellular endoplasmic reticulum analysis chip concerning an embodiment. 図１のＩＩ−ＩＩ線断面図。II-II sectional view taken on the line of FIG. 第１実施形態に係る電気泳動分析チップ３００を示す外観斜視図。1 is an external perspective view showing an electrophoresis analysis chip 300 according to a first embodiment. 図３のＩＶ−ＩＶ線断面図。IV-IV sectional view taken on the line of FIG. 実施形態に係る液位調整工程を説明するための図。The figure for demonstrating the liquid level adjustment process which concerns on embodiment. 実施形態に係る負荷部１への押し込み距離と流路内速度との関係を示す図。The figure which shows the relationship between the pushing distance to the load part 1 which concerns on embodiment, and the speed in a flow path. 第２実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ａの断面図。Sectional drawing of the electrophoresis analysis chip | tip 300A which concerns on 2nd Embodiment. 実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ａで液位調整工程を説明するための図。The figure for demonstrating a liquid level adjustment process with the electrophoresis analysis chip | tip 300A which concerns on embodiment. 実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ｂを保持する電気泳動分析装置４００の概略的な構成図。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an electrophoresis analysis apparatus 400 that holds an electrophoresis analysis chip 300B according to an embodiment. 実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ｂの外観斜視図。The external appearance perspective view of the electrophoresis analysis chip 300B which concerns on embodiment. 実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ｂ、保持部４１０及び変位部４４０が示される平面図。FIG. 5 is a plan view showing an electrophoresis analysis chip 300B, a holding unit 410, and a displacement unit 440 according to the embodiment. 第２実施形態に係る電気泳動分析装置１５００を示す模式図。The schematic diagram which shows the electrophoresis analyzer 1500 which concerns on 2nd Embodiment. 筐体１５１０内の概略的な構成図。FIG. 14 is a schematic configuration diagram inside a housing 1510. 電気泳動分析チップの変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of an electrophoresis analysis chip | tip. 電気泳動分析チップの変形例を示す平面図。The top view which shows the modification of an electrophoresis analysis chip | tip. 電気泳動分析チップの変形例を示す平面図。The top view which shows the modification of an electrophoresis analysis chip | tip. 負荷付与部材の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of a load provision member. 負荷付与部材の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of a load provision member. 負荷付与部材の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of a load provision member.

一実施態様において、本発明は、検体を分析する際に用いられる電気泳動分析チップを提供する。検体としては、細胞、細胞外小胞体、微粒子、ラテックス粒子（抗体で修飾され、さらに細胞で修飾されたラテックス粒子を含む）、高分子ミセル等が挙げられる。本実施形態では、電気泳動分析チップとして、細胞外小胞体を分析するための細胞外小胞体分析チップを用いる場合について説明する。本明細書において、細胞外小胞体とは、エクソソーム（エキソソーム）、アポトーシス小体、マイクロベシクル等を含む、脂質小胞を意味するものとする。以下に、エクソソームを分析する場合を例として、本実施形態に係る細胞外小胞体分析チップ（電気泳動分析チップ）について説明する。   In one embodiment, the present invention provides an electrophoresis analysis chip for use in analyzing a specimen. Examples of the sample include cells, extracellular vesicles, fine particles, latex particles (including latex particles modified with antibodies and further modified with cells), polymer micelles, and the like. In the present embodiment, a case will be described in which an extracellular endoplasmic reticulum analysis chip for analyzing extracellular endoplasmic reticulum is used as an electrophoresis analysis chip. In the present specification, an extracellular vesicle means a lipid vesicle including exosome (exosome), apoptotic body, microvesicle and the like. In the following, the extracellular endoplasmic reticulum analysis chip (electrophoresis analysis chip) according to the present embodiment will be described by taking as an example the case of analyzing exosomes.

［エクソソーム］
エクソソーム（エキソソーム）は、直径３０〜１００ｎｍ程度の脂質小胞であり、エンドソームと細胞膜との融合体として、腫瘍細胞、樹状細胞、Ｔ細胞、Ｂ細胞等、種々の細胞から、血液、尿、唾液等の体液中に分泌される。
生体内に存在する癌細胞等の異常細胞は、その細胞膜に特有のタンパク質を発現している。エクソソームは細胞の分泌物であり、その表面に分泌源の細胞由来のタンパク質を発現している。 [Exosome]
Exosomes (exosomes) are lipid vesicles having a diameter of about 30 to 100 nm. As a fusion of endosome and cell membrane, various cells such as tumor cells, dendritic cells, T cells, B cells, blood, urine, It is secreted into body fluids such as saliva.
Abnormal cells such as cancer cells existing in the body express a protein specific to the cell membrane. An exosome is a secreted product of a cell and expresses a cell-derived protein as a secretory source on its surface.

そこで、エクソソームの表面に発現しているタンパク質を分析することで、分泌源の細胞の異常を検出することができる。ここで、エクソソームの表面とは、細胞から分泌される脂質小胞の膜表面であって、分泌されたエクソソームが生体内の環境と接する部分をいう。   Therefore, by analyzing the protein expressed on the surface of the exosome, abnormalities in the secretory cell can be detected. Here, the surface of the exosome is a membrane surface of a lipid vesicle secreted from a cell, and refers to a portion where the secreted exosome is in contact with the environment in the living body.

エクソソームは、生体内で循環している血液中で検出されるため、エクソソームを分析することで、バイオプシー検査をしなくとも、生体内の異常を検出することができる。   Since exosomes are detected in blood circulating in the living body, abnormalities in the living body can be detected by analyzing exosomes without performing a biopsy test.

［エクソソームの分析］
細胞外小胞体分析チップを用いたエクソソームの分析は、一例として次のようにして行うことができる。まず、検出対象のエクソソームを精製する。次に、エクソソームと特異的結合物質とを接触させる。ここで、特異的結合物質とは、エクソソームの表面に存在する分子に特異的に結合することができる物質を意味し、詳細は後述する。次に、細胞外小胞体分析チップを用いて、エクソソームのゼータ電位を計測し、分析を行う。本分析は、エクソソームに限らず、広く細胞外小胞体一般の分析にも適用できる。 [Analysis of exosomes]
As an example, analysis of exosomes using an extracellular endoplasmic reticulum analysis chip can be performed as follows. First, the exosome to be detected is purified. Next, the exosome is brought into contact with the specific binding substance. Here, the specific binding substance means a substance that can specifically bind to a molecule present on the surface of the exosome, and will be described in detail later. Next, the zeta potential of exosome is measured and analyzed using an extracellular endoplasmic reticulum analysis chip. This analysis can be applied not only to exosomes but also to analyzes of the extracellular endoplasmic reticulum in general.

（特異的結合物質）
特異的結合物質としては、例えば、抗体、改変抗体、アプタマー、リガンド分子等が挙げられる。抗体としては、ＩｇＧ、ＩｇＡ、ＩｇＤ、ＩｇＥ、ＩｇＭ等が挙げられる。ＩｇＧとしては、ＩｇＧ１、ＩｇＧ２、ＩｇＧ３、ＩｇＧ４等が挙げられる。ＩｇＡとしては、ＩｇＡ１、ＩｇＡ２等が挙げられる。ＩｇＭとしては、ＩｇＭ１、ＩｇＭ２等が挙げられる。改変抗体としては、Ｆａｂ、Ｆ（ａｂ’）２、ｓｃＦｖ等が挙げられる。アプタマーとしては、ペプチドアプタマー、核酸アプタマー等が挙げられる。リガンド分子としては、エクソソームの表面に存在する検出対象分子が、レセプタータンパク質である場合の、当該レセプタータンパク質のリガンド等が挙げられる。例えば、エクソソームの表面に存在する分子がインターロイキンである場合、リガンド分子としてはＧタンパク質等が挙げられる。 (Specific binding substance)
Specific binding substances include, for example, antibodies, modified antibodies, aptamers, ligand molecules, and the like. Examples of antibodies include IgG, IgA, IgD, IgE, IgM and the like. Examples of IgG include IgG1, IgG2, IgG3, and IgG4. Examples of IgA include IgA1 and IgA2. Examples of IgM include IgM1 and IgM2. Examples of the modified antibody include Fab, F (ab ′) 2 , scFv and the like. Examples of aptamers include peptide aptamers and nucleic acid aptamers. Examples of the ligand molecule include a ligand of the receptor protein when the molecule to be detected present on the surface of the exosome is a receptor protein. For example, when the molecule present on the surface of the exosome is interleukin, examples of the ligand molecule include G protein.

また、特異的結合物質は、標識物質で標識されていてもよい。標識物質としては、例えば、ビオチン、アビジン、ストレプトアビジン、ニュートラビジン、グルタチオン−Ｓ−トランスフェラーゼ、グルタチオン、蛍光色素、ポリエチレングリコール、メリト酸等の電荷分子等が挙げられる。   Further, the specific binding substance may be labeled with a labeling substance. Examples of the labeling substance include charged molecules such as biotin, avidin, streptavidin, neutravidin, glutathione-S-transferase, glutathione, fluorescent dye, polyethylene glycol, and melittic acid.

（エクソソームの精製）
本分析の各工程について説明する。まず、エクソソームを含有する試料から該エクソソームを精製する。試料としては、目的に応じて、血液、尿、母乳、気管支肺胞洗浄液、羊水、悪性滲出液、唾液、細胞培養液等が挙げられる。中でも、血液及び尿からは、エクソソームを精製しやすい。 (Purification of exosomes)
Each step of this analysis will be described. First, the exosome is purified from a sample containing exosome. Examples of the sample include blood, urine, breast milk, bronchoalveolar lavage fluid, amniotic fluid, malignant exudate, saliva, cell culture fluid and the like depending on the purpose. Especially, it is easy to purify exosomes from blood and urine.

エクソソームを精製する方法としては、超遠心分離、限外ろ過、連続フロー電気泳動、クロマトグラフィー、μ−ＴＡＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｔｏｔａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ）デバイスを使用する方法等が挙げられる。   Examples of the method for purifying exosomes include ultracentrifugation, ultrafiltration, continuous flow electrophoresis, chromatography, and a method using a μ-TAS (Micro-Total Analysis Systems) device.

（エクソソームと特異的結合物質との反応）
次に、エクソソームと特異的結合物質（抗体、アプタマー等）とを接触させる。エクソソームの表面に検出対象の分子が存在した場合、特異的結合物質−エクソソーム複合体が形成される。特異的結合物質を適切に選択することにより、例えば、癌、肥満、糖尿病、神経変性疾患等の疾患に関連する異常を検出することができる。詳細については後述する。 (Reaction between exosome and specific binding substance)
Next, the exosome is brought into contact with a specific binding substance (antibody, aptamer, etc.). When the molecule to be detected is present on the surface of the exosome, a specific binding substance-exosome complex is formed. By appropriately selecting a specific binding substance, for example, an abnormality associated with a disease such as cancer, obesity, diabetes, or neurodegenerative disease can be detected. Details will be described later.

（ゼータ電位の計測）
一例として、特異的結合物質として抗体を使用した場合について説明する。エクソソームと抗体とを反応させた後、抗体と反応させたエクソソームのゼータ電位を計測する。ゼータ電位とは、溶液中の微粒子の表面電荷である。例えば、エクソソームが負に帯電しているのに対し、抗体は正に帯電している。このため、抗体−エクソソーム複合体のゼータ電位は、エクソソーム単独のゼータ電位と比較して正にシフトしている。したがって、抗体と反応させたエクソソームのゼータ電位を測定することによって、エクソソームの膜表面における抗原の発現を検出することができる。これは、抗体に限らず、正に帯電した特異的結合物質でも同様である。 (Measurement of zeta potential)
As an example, the case where an antibody is used as a specific binding substance will be described. After reacting the exosome with the antibody, the zeta potential of the exosome reacted with the antibody is measured. The zeta potential is the surface charge of the fine particles in the solution. For example, exosomes are negatively charged while antibodies are positively charged. For this reason, the zeta potential of the antibody-exosome complex is positively shifted compared to the zeta potential of the exosome alone. Therefore, by measuring the zeta potential of the exosome reacted with the antibody, the expression of the antigen on the exosome membrane surface can be detected. This is true not only for antibodies but also for positively charged specific binding substances.

エクソソームのゼータ電位ζは、一例として、細胞外小胞体分析チップのマイクロ流路内で、エクソソームの電気泳動を行い、エクソソームの電気泳動速度Ｓを光学的に測定し、測定されたエクソソームの電気泳動速度Ｓに基づいて、以下の式（１）に示すスモルコフスキー（Ｓｍｏｌｕｃｈｏｗｓｋｉ）の式を用いて算出することができる。
Ｕ＝（ε／η）ζ …（１）
式（１）中、Ｕは測定対象のエクソソームの電気泳動移動度、ε及びηは、それぞれ、サンプル溶液の誘電率及び粘性係数である。また、電気泳動移動度Ｕは、電気泳動速度Ｓをマイクロ流路内の電界強度で除して算出することができる。 As an example, the exosome zeta potential ζ is obtained by performing exosome electrophoresis in the micro-channel of the extracellular endoplasmic reticulum analysis chip, optically measuring the exosome electrophoresis speed S, and measuring the measured exosome electrophoresis. Based on the speed S, it can be calculated using the Smolkovsky equation shown in the following equation (1).
U = (ε / η) ζ (1)
In Equation (1), U is the electrophoretic mobility of the exosome to be measured, and ε and η are the dielectric constant and viscosity coefficient of the sample solution, respectively. The electrophoretic mobility U can be calculated by dividing the electrophoretic velocity S by the electric field strength in the microchannel.

エクソソームの電気泳動速度Ｓは、一例として、エクソソームを、細胞外小胞体分析チップのマイクロ流路内で電気泳動し、一例として、レーザー光を、マイクロ流路内を流れるエクソソームに照射して、レイリー散乱光による粒子画像を取得することにより、測定することができる。レーザー光としては、一例として、波長４８８ｎｍ、強度５０ｍＷのものが挙げられる。   As an example, the exosome electrophoresis speed S is obtained by electrophoresing exosomes in a microchannel of an extracellular endoplasmic reticulum analysis chip, and as an example, irradiating a laser beam on exosomes flowing in the microchannel, Measurement can be performed by obtaining a particle image by scattered light. As an example of the laser beam, one having a wavelength of 488 nm and an intensity of 50 mW can be given.

［細胞外小胞体分析チップの基本構造］
図１は、細胞外小胞体分析チップの基本構造を示す斜視図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。細胞外小胞体分析チップ１００は、第１リザーバー１１０と、第２リザーバー１２０と、第１リザーバー１１０と第２リザーバー１２０とを接続する泳動流路１５０と、基材１６０とを備えている。泳動流路１５０は、例えば、ミリ流路やマイクロ流路である。泳動流路１５０は、一例として、幅２００μｍ、高さ５０μｍ、長さ１０００μｍ程度の大きさである。泳動流路１５０は、細胞外小胞体、あるいは、細胞外小胞体の表面に存在する分子に特異的に結合する特異的結合物質と細胞外小胞体とが相互作用してなる、特異的結合物質−細胞外小胞体複合体（一例として、抗体−エクソソーム複合体）を電気泳動するものである。特異的結合物質の一例として、抗体、アプタマー、またはこれらの組み合わせからなるものが挙げられる。アプタマーは例えば、核酸アプタマー、ペプチドアプタマーなどである。特異的結合物質が認識する分子としては、例えば抗原、膜タンパク質、核酸、糖鎖、糖脂質等が挙げられる。
泳動流路１５０は、その一方の端部が第１のリザーバー部と接続され、その他方の端部が第２リザーバー１２０と接続されている。また、第１リザーバー１１０及び第２リザーバー１２０は、基材１６０に設けられ、それぞれ電極１３０及び電極１４０を有している。例えば、電極１３０は第１リザーバー１１０の底部に設けられ、電極１４０は第２リザーバー１２０の底部に設けられている。図２に示すように、電極１３０及び電極１４０は、それぞれ泳動流路１５０の端部の近傍に設けられている。また、例えば、第１リザーバー１１０は検体（例、分析対象のエクソソーム）が導入され、第２リザーバー１２０は緩衝液が導入される。なお、その緩衝液は第１リザーバー１１０に導入されてもよい。 [Basic structure of extracellular endoplasmic reticulum analysis chip]
FIG. 1 is a perspective view showing a basic structure of an extracellular endoplasmic reticulum analysis chip. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. The extracellular endoplasmic reticulum analysis chip 100 includes a first reservoir 110, a second reservoir 120, an electrophoresis channel 150 that connects the first reservoir 110 and the second reservoir 120, and a substrate 160. The migration channel 150 is, for example, a millimeter channel or a micro channel. For example, the migration channel 150 has a width of about 200 μm, a height of 50 μm, and a length of about 1000 μm. The electrophoresis channel 150 is a specific binding substance formed by the interaction between an extracellular vesicle or a specific binding substance that specifically binds to a molecule present on the surface of the extracellular vesicle and the extracellular vesicle. -Electrophoresis of an extracellular endoplasmic reticulum complex (for example, an antibody-exosome complex). An example of a specific binding substance includes an antibody, an aptamer, or a combination thereof. Aptamers are, for example, nucleic acid aptamers, peptide aptamers and the like. Examples of molecules recognized by the specific binding substance include antigens, membrane proteins, nucleic acids, sugar chains, glycolipids and the like.
The migration channel 150 has one end connected to the first reservoir and the other end connected to the second reservoir 120. In addition, the first reservoir 110 and the second reservoir 120 are provided on the base 160 and have an electrode 130 and an electrode 140, respectively. For example, the electrode 130 is provided at the bottom of the first reservoir 110, and the electrode 140 is provided at the bottom of the second reservoir 120. As shown in FIG. 2, the electrode 130 and the electrode 140 are each provided in the vicinity of the end of the migration channel 150. In addition, for example, a sample (eg, exosome to be analyzed) is introduced into the first reservoir 110, and a buffer solution is introduced into the second reservoir 120. The buffer solution may be introduced into the first reservoir 110.

本細胞外小胞体分析チップ１００は、細胞外小胞体のゼータ電位を計測するのに好適である。以下に、検体又は細胞外小胞体としてエクソソームを分析する場合を例として、本細胞外小胞体分析チップを用いた、エクソソームのゼータ電位の測定方法について説明する。   This extracellular endoplasmic reticulum analysis chip 100 is suitable for measuring the zeta potential of an extracellular endoplasmic reticulum. In the following, a method for measuring the zeta potential of exosome using this extracellular endoplasmic reticulum analysis chip will be described, taking as an example the case of analyzing exosomes as specimens or extracellular endoplasmic reticulum.

まず、分析対象のエクソソームを含む試料液が、第１リザーバー１１０に導入される。分析対象のエクソソームは、特異的結合物質と反応させたものであってもよい。エクソソームは例えば培養上清や血清から抽出したものであり、試料液は、例えば、リン酸緩衝液（Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ Ｂｕｆｆｅｒｅｄ Ｓａｌｉｎｅ、ＰＢＳ）等の緩衝液にエクソソームが懸濁されたエクソソーム懸濁液である。次に、エクソソームを含む試料液が泳動流路１５０に導入される。一例として、シリンジを第２リザーバー１２０に接続して試料液を吸引することにより、エクソソームを泳動流路１５０に導入することができる。次に、緩衝液を、第１リザーバー１１０及び第２リザーバー１２０に入れる。後述する液位調整手段により、第１リザーバー１１０と第２リザーバー１２０との液位（液面高）を調整して揃え、泳動流路１５０に生じる静水圧流の発生を防ぎ、ゼータ電位測定の精度を向上させることが可能となる。続いて、制御部（例、後述の制御部ＣＯＮＴ、又はコンピュータ１５１３など）によって電極１３０及び１４０の間に電圧を印加し、エクソソームを電気泳動する。一例として、制御部は約５０Ｖ／ｃｍの電界強度の電圧を約１０秒間印加する。   First, a sample solution containing exosomes to be analyzed is introduced into the first reservoir 110. The exosome to be analyzed may have been reacted with a specific binding substance. The exosome is extracted from, for example, a culture supernatant or serum, and the sample solution is an exosome suspension in which the exosome is suspended in a buffer solution such as a phosphate buffer solution (PBS). Next, a sample solution containing exosomes is introduced into the migration channel 150. As an example, the exosome can be introduced into the electrophoresis channel 150 by connecting a syringe to the second reservoir 120 and sucking the sample solution. Next, the buffer solution is put into the first reservoir 110 and the second reservoir 120. By adjusting the liquid level (liquid level height) between the first reservoir 110 and the second reservoir 120 by the liquid level adjusting means described later, the generation of hydrostatic pressure flow generated in the migration channel 150 is prevented, and zeta potential measurement is performed. The accuracy can be improved. Subsequently, a voltage is applied between the electrodes 130 and 140 by a control unit (for example, a control unit CONT or a computer 1513 described later), and the exosome is electrophoresed. As an example, the control unit applies a voltage having an electric field strength of about 50 V / cm for about 10 seconds.

電気泳動中に、泳動流路１５０にレーザー光を照射し、泳動流路１５０からの出射光であるエクソソームを介した散乱光を、対物レンズ等を用いて集光し、受光センサ（例、高感度カメラ）を用いて、エクソソーム又は特異的結合物質−エクソソーム複合体を撮影する。対物レンズの倍率は、一例として６０倍程度である。レーザーの波長及び強度は、一例として、波長４８８ｎｍ、強度５０ｍＷである。   During electrophoresis, the electrophoresis channel 150 is irradiated with laser light, and the scattered light passing through the exosome, which is emitted from the electrophoresis channel 150, is collected using an objective lens or the like, and a light receiving sensor (eg, high A sensitivity camera is used to image exosomes or specific binding substance-exosome complexes. The magnification of the objective lens is about 60 times as an example. The wavelength and intensity of the laser are, for example, a wavelength of 488 nm and an intensity of 50 mW.

続いて、制御部は、撮影した画像をもとに、エクソソーム又は特異的結合物質−エクソソーム複合体の電気泳動速度Ｓを算出する。そして、制御部は、電気泳動速度Ｓを電界強度で除して、電気泳動移動度Ｕを算出する。続いて、制御部は、上述したスモルコフスキーの式を用いて、エクソソーム又は特異的結合物質−エクソソーム複合体のゼータ電位を算出する。   Subsequently, the control unit calculates the electrophoresis speed S of the exosome or the specific binding substance-exosome complex based on the photographed image. Then, the control unit calculates the electrophoretic mobility U by dividing the electrophoretic velocity S by the electric field strength. Subsequently, the control unit calculates the zeta potential of the exosome or the specific binding substance-exosome complex using the Smolkovsky equation described above.

本実施形態における細胞外小胞体分析チップを用いることにより、特異的結合物質−エクソソーム複合体のゼータ電位の平均値だけでなく、特異的結合物質−エクソソーム複合体のゼータ電位を１粒子レベルで計測することができる。そのため、ゼータ電位の平均値からは、特異的結合物質が認識する分子（例えば、抗原等）を有するエクソソームが試料中に存在しないように思われる場合であっても、マイナーポピュレーションとして存在する、該抗原を有するエクソソームを検出することができる。   By using the extracellular endoplasmic reticulum analysis chip in this embodiment, not only the average value of the zeta potential of the specific binding substance-exosome complex but also the zeta potential of the specific binding substance-exosome complex is measured at the level of one particle. can do. Therefore, from the average value of the zeta potential, even if it seems that there is no exosome having a molecule (for example, antigen) recognized by the specific binding substance in the sample, it exists as a minor population. An exosome having the antigen can be detected.

［電気泳動分析チップの第１実施形態］
図３は、一実施態様に係る電気泳動分析チップ３００を示す外観斜視図である。図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。本実施形態の電気泳動分析チップ３００は、順次積み重ねられたリザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０を備えている。例えば、本実施形態における電気泳動分析チップ３００は、少なくともリザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０で構成された、積層構造（積層体）である。この場合、電気泳動分析チップの積層構造は三層構造となっている。また、例えば、このような電気泳動分析チップの積層構造は、リザーバー部材１０と、流路部材３０と、基板５０とを互いに貼りあわせて形成される。 [First Embodiment of Electrophoresis Analysis Chip]
FIG. 3 is an external perspective view showing an electrophoresis analysis chip 300 according to one embodiment. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. The electrophoresis analysis chip 300 of this embodiment includes a reservoir member 10, a flow path member 30, and a substrate 50 that are sequentially stacked. For example, the electrophoresis analysis chip 300 in the present embodiment has a laminated structure (laminated body) composed of at least the reservoir member 10, the flow path member 30, and the substrate 50. In this case, the laminated structure of the electrophoresis analysis chip is a three-layer structure. Further, for example, such a laminated structure of the electrophoresis analysis chip is formed by bonding the reservoir member 10, the flow path member 30, and the substrate 50 to each other.

なお、以下の説明においては、リザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０が順次積み重ねられる方向をＺ方向（Ｚ軸）、リザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０の長さ方向をＹ方向（Ｙ軸）、Ｚ方向及びＹ方向と直交するリザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０の幅方向をＸ方向（Ｘ軸）として適宜説明する。   In the following description, the direction in which the reservoir member 10, the flow path member 30 and the substrate 50 are sequentially stacked is the Z direction (Z axis), and the length direction of the reservoir member 10, the flow path member 30 and the substrate 50 is the Y direction. The width direction of the reservoir member 10, the flow path member 30, and the substrate 50 orthogonal to the (Y axis), the Z direction, and the Y direction will be appropriately described as the X direction (X axis).

リザーバー部材１０は、外力などによって少なくとも一方向に弾性変形可能な材料で形成される。リザーバー部材１０の材料には、一例として、エラストマーであり、シリコーンゴム、ＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）などが挙げられる。リザーバー部材１０は、直方体形状の基材１５に形成された第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１を備えている。第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１は、Ｙ方向に間隔をあけて配置されている。例えば、第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１は、泳動流路３３の流路方向に間隔をあけて配置されている。リザーバー部材１０には、第１リザーバー１１と第２リザーバー２１との間に、Ｚ方向に貫通する平面視矩形状の貫通孔１６が設けられている。   The reservoir member 10 is made of a material that can be elastically deformed in at least one direction by an external force or the like. Examples of the material of the reservoir member 10 include elastomers such as silicone rubber and PDMS (polydimethylsiloxane). The reservoir member 10 includes a first reservoir 11 and a second reservoir 21 formed on a rectangular parallelepiped base material 15. The 1st reservoir | reserver 11 and the 2nd reservoir | reserver 21 are arrange | positioned at intervals in the Y direction. For example, the first reservoir 11 and the second reservoir 21 are arranged with an interval in the direction of the migration channel 33. The reservoir member 10 is provided with a through hole 16 having a rectangular shape in plan view that penetrates in the Z direction between the first reservoir 11 and the second reservoir 21.

第１リザーバー１１は、ＸＹ平面と平行な面での断面が円形状でＺ方向に延在し基材を貫通する第１保持空間１２を備えている。第１保持空間１２は、第１内壁面１３に囲まれて形成されている。第１保持空間１２は、リザーバー部材１０の上面（第１面）１０ａに開口している。第１面１０ａには、第１保持空間１２の開口部の周囲を 取り囲んで区画する第１突条１４が、一例として、高さ数百μｍで突設されている。第１突条１４は、図３に示すように、第１保持空間１２と同一軸線周りに形成された平面視円弧形状の円弧部分１４ａと、円弧部１４ａの端部間を接続する弦状の直線部１４ｂとを備えている。円弧部１４ａは、第１保持空間１２の−Ｙ側に配置される。直線部１４ｂは、第１保持空間１２の＋Ｙ側に配置される。図４に示すように、直線部１４ｂの内周面の一部は、第１保持空間１２を形成する第１内壁面１３を構成している。第１保持空間１２の上面１０ａに開口する部分には、第１保持空間１２を形成する直線部１４ｂの内周面の一部を除いて、一例として、高さ１ｍｍで面取りが形成されている。   The first reservoir 11 includes a first holding space 12 that has a circular cross section in a plane parallel to the XY plane, extends in the Z direction, and penetrates the base material. The first holding space 12 is formed surrounded by the first inner wall surface 13. The first holding space 12 is open to the upper surface (first surface) 10 a of the reservoir member 10. On the first surface 10a, as an example, a first protrusion 14 that surrounds and divides the periphery of the opening of the first holding space 12 is projected with a height of several hundreds of micrometers. As shown in FIG. 3, the first protrusion 14 has a chord-like shape that connects between the arc-shaped arc portion 14 a formed around the same axis as the first holding space 12 and the end of the arc-shaped portion 14 a. And a straight portion 14b. The arc portion 14 a is disposed on the −Y side of the first holding space 12. The straight line portion 14 b is disposed on the + Y side of the first holding space 12. As shown in FIG. 4, a part of the inner peripheral surface of the straight portion 14 b constitutes a first inner wall surface 13 that forms the first holding space 12. As an example, a chamfer is formed at a portion of the first holding space 12 that opens to the upper surface 10a except for a part of the inner peripheral surface of the linear portion 14b that forms the first holding space 12 at a height of 1 mm. .

第２リザーバー２１は、ＸＹ平面と平行な面での断面が円形状でＺ方向に延在し基材を貫通する第２保持空間２２を備えている。第２保持空間２２は、第２内壁面２３に囲まれて形成されている。第２保持空間２２は、リザーバー部材１０の上面１０ａに開口している。第１面１０ａには、第２保持空間２２の開口部の周囲を 取り囲んで区画する第２突条２４が突設されている。第２突条２４は、図３に示すように、第２保持空間２２と同一軸線周りに形成された平面視円弧形状の円弧部分２４ａと、円弧部２４ａの端部間を接続する弦状の直線部２４ｂとを備えている。円弧部２４ａは、第２保持空間２２の＋Ｙ側に配置される。直線部２４ｂは、第２保持空間２２の−Ｙ側に配置される。図４に示すように、直線部２４ｂの内周面の一部は、第２保持空間２２を形成する第２内壁面２３を構成している。第２保持空間２２の上面１０ａに開口する部分には、第２保持空間２２を形成する直線部２４ｂの内周面の一部を除いて、一例として、高さ１ｍｍで面取りが形成されている。   The second reservoir 21 includes a second holding space 22 that has a circular cross section in a plane parallel to the XY plane, extends in the Z direction, and penetrates the base material. The second holding space 22 is formed surrounded by the second inner wall surface 23. The second holding space 22 opens on the upper surface 10 a of the reservoir member 10. A second ridge 24 is provided on the first surface 10 a so as to surround and divide the periphery of the opening of the second holding space 22. As shown in FIG. 3, the second protrusion 24 has a chord-like shape connecting the arc portion 24 a having a circular arc shape in plan view formed around the same axis as the second holding space 22 and the end of the arc portion 24 a. And a straight portion 24b. The arc portion 24 a is disposed on the + Y side of the second holding space 22. The straight portion 24 b is disposed on the −Y side of the second holding space 22. As shown in FIG. 4, a part of the inner peripheral surface of the straight portion 24 b constitutes a second inner wall surface 23 that forms the second holding space 22. As an example, a chamfer is formed at a portion of the second holding space 22 that opens to the upper surface 10 a except for a part of the inner peripheral surface of the straight portion 24 b that forms the second holding space 22. .

基材１５における第１リザーバー１１よりも＋Ｙ側には、上面１０ａと平行で上面１０ａよりも−Ｚ側に位置する上面１０ｃが露出して設けられている。上面１０ａの＋Ｙ側の端縁と、上面１０ｃの−Ｙ側の端縁とは、ＺＸ面と平行な側面（第２面）１０ｄで接続される。側面１０ｄの少なくともＹ方向（例、流路方向）の位置は、当該側面１０ｄに負荷を加えたとときに、側面１０ｄと対向する第１内壁面１３が弾性変形可能な厚さとなるように設定されている（一例として、１ｍｍ程度）。側面１０ｄには、第１内壁面１３が容易に弾性変形可能なように、図３に示すように、直線部１４ｂと当該直線部１４ｂ以外の部分を分離する切込み１７が設けられている。切込み１７は、上面１０ａから上面１０ｃに達する厚さで、側面１０ｄから−Ｙ側に向かうに従って漸次幅が小さくなる楔形状に形成されている。   On the + Y side of the base 15 with respect to the first reservoir 11, an upper surface 10c that is parallel to the upper surface 10a and located on the −Z side of the upper surface 10a is exposed. The + Y side edge of the upper surface 10a and the −Y side edge of the upper surface 10c are connected by a side surface (second surface) 10d parallel to the ZX plane. At least the position of the side surface 10d in the Y direction (eg, the flow path direction) is set so that the first inner wall surface 13 facing the side surface 10d has a thickness capable of elastic deformation when a load is applied to the side surface 10d. (As an example, about 1 mm). As shown in FIG. 3, the side surface 10d is provided with a straight portion 14b and a notch 17 for separating a portion other than the straight portion 14b so that the first inner wall surface 13 can be easily elastically deformed. The notch 17 has a thickness reaching the upper surface 10c from the upper surface 10a, and is formed in a wedge shape whose width gradually decreases from the side surface 10d toward the -Y side.

流路部材３０は、第１保持空間３１（流路部材側の第１保持空間）、第２保持空間３２（流路部材側の第２保持空間）及び泳動流路３３を備えている。第１保持空間３１は、第１保持空間１２と連通する位置に、Ｚ方向に貫通して設けられている。第２保持空間３２は、第２保持空間２２と連通する位置に、Ｚ方向に貫通して設けられている。泳動流路３３は、基板５０と対向する側の面３０ａに第１保持空間３１と第２保持空間３２とを接続するように設けられている。泳動流路３３は、一例として、幅２００μｍ、高さ５０μｍ、長さ１０００μｍ程度の大きさに形成されている。流路部材３０は、一例として、リザーバー部材１０と同様に、ＰＤＭＳで形成されるが、後述するように、流路部材３０には直接的に液位調整のための負荷が加わらないため、剛性が大きいプラスチック材で形成してもよい。   The flow path member 30 includes a first holding space 31 (first holding space on the flow path member side), a second holding space 32 (second holding space on the flow path member side), and an electrophoresis flow path 33. The first holding space 31 is provided through the Z holding direction at a position communicating with the first holding space 12. The second holding space 32 is provided so as to penetrate in the Z direction at a position communicating with the second holding space 22. The migration channel 33 is provided so as to connect the first holding space 31 and the second holding space 32 to the surface 30 a facing the substrate 50. For example, the migration channel 33 is formed in a size of about 200 μm in width, 50 μm in height, and about 1000 μm in length. As an example, the flow path member 30 is formed of PDMS as in the case of the reservoir member 10, but, as will be described later, the flow path member 30 is not subjected to a load for directly adjusting the liquid level. May be formed of a large plastic material.

基板５０は、リザーバー部材１０及び流路部材３０よりもＹ方向の外側にそれぞれ延出する長さを有している。基板５０の流路部材３０と対向する面５０ａには、電極５１及び電極５２が流路部材３０に対して露出して設けられている。電極５１は一端が第１保持空間３１に臨み、他端がリザーバー部材１０及び流路部材３０よりも＋Ｙ側に延出して露出するように設けられる。電極５２は一端が第２保持空間３２に臨み、他端がリザーバー部材１０及び流路部材３０よりも−Ｙ側に延出して露出するように形成される。電極５１及び電極５２の素材としては、金、白金、カーボン等が挙げられる。   The substrate 50 has a length that extends outward in the Y direction from the reservoir member 10 and the flow path member 30. An electrode 51 and an electrode 52 are exposed from the channel member 30 on the surface 50 a of the substrate 50 facing the channel member 30. The electrode 51 is provided so that one end faces the first holding space 31 and the other end extends to the + Y side from the reservoir member 10 and the flow path member 30 and is exposed. The electrode 52 is formed such that one end faces the second holding space 32 and the other end extends and is exposed to the −Y side from the reservoir member 10 and the flow path member 30. Examples of the material of the electrode 51 and the electrode 52 include gold, platinum, and carbon.

上記のリザーバー部材１０は、一例として、ＰＤＭＳ（東レダウコーニング（株）製 SILPOT 184）主剤と架橋剤を１０：１の割合に混合し脱気させることと、ＰＤＭＳを樹脂製の鋳型に注型することと、８０℃で７時間加熱して固化させることで作製される。上記の流路部材３０は、一例として、リザーバー部材１０の作製で用いたＰＤＭＳと同じ組成のＰＤＭＳを、幅２００μｍ、長さ４０ｍｍの立方体からなる流路モールドを有するガラス材に流して込み加熱硬化させ、硬化後に流路モールドから引き剥がすことにより作製することができる。上記の基板５０は、一例として、ガラス基板にスパッタリング加工等により電極５１及び電極５２を形成することで作製される。一例として、リザーバー部材１０、流路部材３０及び基板５０をそれぞれプラズマ照射して貼り合わせることにより、第１リザーバー１１の第１保持空間１２、３１と、第２リザーバー２１の第２保持空間２２、３２とが泳動流路３３を介して接続された電気泳動分析チップ３００が作製される。   As an example, the reservoir member 10 may be prepared by mixing PDMS (SILPOT 184 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and a cross-linking agent in a ratio of 10: 1 and degassing PDMS into a resin mold. And by solidifying by heating at 80 ° C. for 7 hours. As an example, the flow path member 30 is prepared by pouring PDMS having the same composition as the PDMS used in the preparation of the reservoir member 10 into a glass material having a flow path mold made of a cube having a width of 200 μm and a length of 40 mm, and being cured by heating. And can be produced by peeling from the flow path mold after curing. As an example, the substrate 50 is manufactured by forming the electrode 51 and the electrode 52 on a glass substrate by sputtering or the like. As an example, the reservoir member 10, the flow path member 30 and the substrate 50 are each plasma-irradiated and bonded to each other, whereby the first holding spaces 12 and 31 of the first reservoir 11, the second holding space 22 of the second reservoir 21, Thus, an electrophoresis analysis chip 300 is prepared in which 32 is connected via the electrophoresis channel 33.

なお、図３及び図４では図示はしていないが、電気泳動分析チップ３００には第１保持空間１２の開口部及び第２保持空間２２の開口部を覆うカバーが設けられていてもよい。ただし、カバーは、第１保持空間１２及び第２保持空間２２を密封するものではなく、第１保持空間１２及び第２保持空間２２を大気開放した状態で覆う構成となっている。第１保持空間１２の開口部及び第２保持空間２２の開口部がカバーで覆われることにより、検体による周囲の汚染又は周囲環境による検体の汚染を防止することができる。
また、カバーに、一例として、第１突条１４及び第２突条２４と嵌合する窪みを設け、当該窪みを第１突条１４及び第２突条２４と嵌合させることにより、カバーを電気泳動分析チップ３００に位置決めした状態で第１保持空間１２の開口部及び第２保持空間２２の開口部を覆うことが可能となる。 Although not shown in FIGS. 3 and 4, the electrophoresis analysis chip 300 may be provided with a cover that covers the opening of the first holding space 12 and the opening of the second holding space 22. However, the cover does not seal the first holding space 12 and the second holding space 22, but covers the first holding space 12 and the second holding space 22 in a state where the air is open to the atmosphere. By covering the opening of the first holding space 12 and the opening of the second holding space 22 with the cover, it is possible to prevent contamination of the sample by the sample or the sample by the surrounding environment.
Further, as an example, the cover is provided with a recess that fits with the first protrusion 14 and the second protrusion 24, and the recess is fitted with the first protrusion 14 and the second protrusion 24, so that the cover is It is possible to cover the opening of the first holding space 12 and the opening of the second holding space 22 while being positioned on the electrophoresis analysis chip 300.

次に、上記の電気泳動分析チップ３００を用いて検体を計測する前に、第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１の液位を調整する手順について説明する。
まず、検体を含む液体（以下、適宜、検体液と称する）を第２リザーバー２１の第２保持空間２２に滴下する。このとき、検体液は、上面１０ａにおける第２保持空間２２の開口部（検体導入口）を介して第２保持空間２２に導入される。次に、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に、例えばシリンジを挿して検体液を吸引することにより、泳動流路３３に検体液を導入する。次に、第２リザーバー２１の第２保持空間２２に滴下した検体液と同じ検体液を、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に滴下して、泳動流路３３を挟んで第１保持空間１２、３１及び第２保持空間２２、３２が検体液でつながった状態とする。 Next, a procedure for adjusting the liquid levels in the first reservoir 11 and the second reservoir 21 before measuring a sample using the electrophoresis analysis chip 300 will be described.
First, a liquid containing a specimen (hereinafter referred to as a specimen liquid as appropriate) is dropped into the second holding space 22 of the second reservoir 21. At this time, the sample liquid is introduced into the second holding space 22 through the opening (sample inlet) of the second holding space 22 on the upper surface 10a. Next, the sample liquid is introduced into the migration channel 33 by inserting, for example, a syringe into the first holding space 12 of the first reservoir 11 to aspirate the sample liquid. Next, the same sample liquid as the sample liquid dropped into the second holding space 22 of the second reservoir 21 is dropped into the first holding space 12 of the first reservoir 11, and the first holding space is sandwiched between the migration flow paths 33. 12 and 31 and the second holding spaces 22 and 32 are connected by the sample liquid.

このとき、第２保持空間２２、３２に保持された検体液の液位が第１保持空間１２、３１に保持された検体液の液位よりも高いと、泳動流路３３においては静水圧により第２保持空間２２、３２から第１保持空間１２、３１に向けて検体を含む検体液が流動する。泳動流路３３における検体（粒子）の流動は、上述した粒子画像により確認することができる。この場合、リザーバー部材１０の側面１０ｄのうち、第１内壁面１３との間の厚さが最も薄くなる、第１保持空間１２の軸線を含むＹ軸と側面１０ｄとが交差する位置を、液位調整部としての負荷部１（図３及び図４参照）とし、スティック状の負荷付与部材Ｓｆによって負荷部１に−Ｙ方向に向けて負荷を付与する。なお、例えば、負荷付与部材Ｓｆは、後述の電気泳動分析装置に設けられている。   At this time, if the liquid level of the sample liquid held in the second holding spaces 22 and 32 is higher than the liquid level of the sample liquid held in the first holding spaces 12 and 31, the hydrostatic pressure is generated in the migration channel 33. The sample liquid containing the sample flows from the second holding spaces 22 and 32 toward the first holding spaces 12 and 31. The flow of the specimen (particle) in the migration channel 33 can be confirmed by the particle image described above. In this case, of the side surface 10d of the reservoir member 10, the position where the thickness between the first inner wall surface 13 and the Y axis including the axis of the first holding space 12 intersects with the side surface 10d is the liquid surface. A load portion 1 (see FIGS. 3 and 4) serving as a position adjusting portion is used, and a load is applied to the load portion 1 in the −Y direction by a stick-like load applying member Sf. For example, the load applying member Sf is provided in an electrophoretic analyzer described later.

負荷付与部材Ｓｆによって負荷部１に−Ｙ方向への負荷が付与されると、図５に示すように、第１内壁面１３のうち、他の箇所よりも薄くなっている、主として負荷部１と対向する位置の第１内壁面１３が第１可撓部１３ａとして弾性変形して第１保持空間１２の内部に膨出する。側面１０ｄは、直線部１４ｂと当該直線部１４ｂ以外の部分とが切込み１７によって分離されているため、負荷部１に負荷を付与する際、付与した負荷は実質的にほぼ全てが第１内壁面１３を弾性変形させるための力として寄与し、必要最小限の負荷で第１内壁面１３を弾性変形させることができる。負荷付与部材Ｓｆによって付与される負荷は、他の箇所よりも薄い負荷部１の弾性変形に費やされるため、リザーバー部材１０の他の箇所の変形、及び流路部材３０の泳動流路３３の変形が抑制される。   When a load in the −Y direction is applied to the load portion 1 by the load applying member Sf, as shown in FIG. 5, the load portion 1 is mainly thinner than other portions of the first inner wall surface 13. The first inner wall surface 13 at a position opposite to is elastically deformed as the first flexible portion 13 a and bulges into the first holding space 12. In the side surface 10d, since the straight portion 14b and a portion other than the straight portion 14b are separated by the notch 17, when the load is applied to the load portion 1, substantially all of the applied load is the first inner wall surface. It contributes as a force for elastically deforming 13 and the first inner wall surface 13 can be elastically deformed with a minimum necessary load. Since the load applied by the load applying member Sf is consumed by elastic deformation of the load portion 1 thinner than other portions, deformation of other portions of the reservoir member 10 and deformation of the migration flow path 33 of the flow path member 30 are performed. Is suppressed.

第１保持空間１２の容積は、第１可撓部１３ａが第１保持空間１２の内部に膨出することにより減少する。すなわち、負荷付与部材Ｓｆによって負荷部１に−Ｙ方向への負荷を付与することにより、第１保持空間１２の容積が調整される。第１保持空間１２に保持されている検体液の液位は、第１保持空間１２の容積変化に応じて上昇（変位）する。従って、負荷付与部材Ｓｆによる負荷部１への−Ｙ方向への負荷を調整して、第１保持空間１２の容積を調整することにより、第１保持空間１２に保持されている検体液の液位を調整することができる。検体液の液位が調整され第１保持空間１２における検体液の液位と、第１保持空間１２における検体液の液位と第２保持空間２２における検体液の液位とが面一となったことは、泳動流路３３における検体（粒子）の流動が停止したことを、上述した粒子画像により確認することができる。   The volume of the first holding space 12 decreases as the first flexible portion 13 a bulges into the first holding space 12. That is, the volume of the first holding space 12 is adjusted by applying a load in the −Y direction to the load portion 1 by the load applying member Sf. The liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 rises (displaces) in accordance with the volume change of the first holding space 12. Therefore, by adjusting the load in the −Y direction on the load portion 1 by the load applying member Sf and adjusting the volume of the first holding space 12, the liquid of the sample liquid held in the first holding space 12 is adjusted. The position can be adjusted. The liquid level of the sample liquid is adjusted so that the liquid level of the sample liquid in the first holding space 12 is flush with the liquid level of the sample liquid in the first holding space 12 and the liquid level of the sample liquid in the second holding space 22. This can be confirmed by the above-described particle image that the flow of the specimen (particles) in the migration channel 33 has stopped.

第１保持空間１２に保持されている検体液の液位が上昇することにより、検体液が第１保持空間１２から溢れる可能性があるが、第１保持空間１２の開口部の周囲に第１突条１４が突設されているため、検体液が第１リザーバー１１から漏れ出すことを抑制できる。また、本実施形態の電気泳動分析チップは、第１保持空間１２の外側から負荷部１に対する負荷を負荷付与部材Ｓｆによって調整して、第１保持空間１２の容積を調整することにより、第１保持空間１２に保持されている検体液の液位を調整することができる。   Although the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 may rise, the sample liquid may overflow from the first holding space 12, but the first around the opening of the first holding space 12. Since the protrusion 14 is provided in a protruding manner, the sample liquid can be prevented from leaking from the first reservoir 11. Further, the electrophoresis analysis chip of the present embodiment adjusts the load on the load portion 1 from the outside of the first holding space 12 by the load applying member Sf, and adjusts the volume of the first holding space 12 to thereby adjust the first holding space 12. The liquid level of the sample liquid held in the holding space 12 can be adjusted.

[実施例]
平均粒子径約１００ｎｍのラテックス粒子を１０１０個／ｍｌ含む検体液を第２リザーバー２１の第２保持空間２２に滴下した後に、例えばシリンジを用いて泳動流路３３に検体液を導入した。次に、第２リザーバー２１の第２保持空間２２に滴下した検体液と同じ検体液を、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に滴下した。ここで、例えば、貫通孔１６を介して泳動流路３３にレーザー光を照射して、泳動流路３３内の検体（ラテックス粒子）の散乱光を顕微鏡（一例として暗視野顕微鏡）で観察した。泳動流路３３内には、ブラウン運動しながら第２リザーバー２１から第１リザーバー１１に向かう方向に流動する検体（ラテックス粒子）が無数に観察された。 [Example]
After a sample liquid containing 10 10 latex particles having an average particle diameter of about 100 nm / ml was dropped into the second holding space 22 of the second reservoir 21, the sample liquid was introduced into the electrophoresis channel 33 using, for example, a syringe. Next, the same sample liquid as the sample liquid dropped into the second holding space 22 of the second reservoir 21 was dropped into the first holding space 12 of the first reservoir 11. Here, for example, the electrophoresis channel 33 was irradiated with laser light through the through-hole 16, and the scattered light of the specimen (latex particles) in the migration channel 33 was observed with a microscope (a dark field microscope as an example). An infinite number of specimens (latex particles) flowing in the direction from the second reservoir 21 toward the first reservoir 11 with Brownian motion were observed in the electrophoresis channel 33.

顕微鏡で検体の流動を観察しながら負荷付与部材Ｓｆを用いて負荷部１に−Ｙ方向への負荷を付与して押し込んだところ、第１保持空間１２に保持された検体液の液位が上昇し泳動流路３３内の検体の流速が変化した。図６は、直径４ｍｍ、高さ（深さ）３ｍｍの第１保持空間１２、３１及び第２保持空間２２、３２を有する電気泳動分析チップ３００を用いたときの、負荷部１への押し込み距離と流路内速度との関係を示す図である。図６に示されるように、負荷部１への押し込み距離が大きくなるほど、泳動流路３３内の検体の流速は小さくなることが確認された。この場合、負荷部１への押し込み距離は、負荷部１に負荷を付与して押し込んだときのＹ方向の位置変化である。   When the load application member Sf is used to apply a load in the −Y direction and push it in while observing the flow of the sample with a microscope, the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 rises. The flow rate of the sample in the electrophoresis channel 33 changed. FIG. 6 shows the pushing distance to the load unit 1 when the electrophoresis analysis chip 300 having the first holding spaces 12 and 31 and the second holding spaces 22 and 32 having a diameter of 4 mm and a height (depth) of 3 mm is used. It is a figure which shows the relationship between a flow path speed. As shown in FIG. 6, it was confirmed that the flow velocity of the specimen in the electrophoresis channel 33 decreases as the pushing distance to the load unit 1 increases. In this case, the pushing distance to the load unit 1 is a change in position in the Y direction when a load is applied to the load unit 1 and pushed.

さらに、負荷部１への押し込み量を増加させたところ、泳動流路３３内の検体の第２リザーバー２１から第１リザーバー１１に向かう方向への流動は停止し、検体のブラウン運動のみが観察された。負荷部１に負荷を付与して検体の流動を停止させるために要した時間は、従来のように、例えばピペットを用いて第１リザーバー１１または第２リザーバー２１に対して検体液の継ぎ足しまたは吸引を適宜繰り返した場合には５分程度であったが、本実施形態の電気泳動分析チップ３００を用いた場合には１分程度であった。   Further, when the amount of pushing into the load section 1 is increased, the flow of the specimen in the migration channel 33 in the direction from the second reservoir 21 to the first reservoir 11 is stopped, and only the Brownian motion of the specimen is observed. It was. The time required to apply the load to the load unit 1 and stop the flow of the specimen is, for example, adding or aspirating the specimen liquid to the first reservoir 11 or the second reservoir 21 using, for example, a pipette as in the past. When it was repeated as appropriate, it took about 5 minutes, but when the electrophoresis analysis chip 300 of this embodiment was used, it took about 1 minute.

このように、泳動流路３３内の検体の流動が停止すると、上述したように、泳動流路３３での検体の電気泳動速度Ｓを光学的に測定してゼータ電位を高精度に計測することが可能になる。   Thus, when the flow of the sample in the migration channel 33 stops, as described above, the electrophoresis speed S of the sample in the migration channel 33 is optically measured to measure the zeta potential with high accuracy. Is possible.

以上説明したように、本実施形態では、負荷部１に負荷を付与して第１内壁面１３（第１可撓部１３ａ）を弾性変形させるという簡単な操作で第１保持空間１２に保持された検体液の液位を容易に調整することが可能となる。そのため、本実施形態では、装置が大掛かりになることなく泳動流路３３内の検体の流動を停止または低減させることができ、検体の分析を簡素な構成で高精度に行うことができる。また、熟練した技術者でなくとも、保持空間１２に負荷を加えて変形させるという簡便な操作のみで、保持空間１２の容積を変更し、第１保持空間の液位と第２保持空間の液位との高さを揃え、泳動流路３３内の検体の流動を停止または低減させることができる。
本実施形態では、側面１０ｄが切込み１７によって分離されているため、負荷部１に負荷を付与する際、必要最小限の負荷で第１内壁面１３を効率的に弾性変形させることができる。本実施形態では、第１突条１４が第１保持空間１２の開口部の周囲を取り囲み、第２突条２４が第２保持空間２２の開口部の周囲を取り囲んでいるため、検体の溢出を抑制することが可能である。また、本実施形態では、負荷付与部材Ｓｆによって付与される負荷は、主として、他の箇所よりも薄い部分の負荷部１の弾性変形に費やされるため、負荷付与部材Ｓｆによって付与される負荷によってリザーバー部材１０の他の箇所、及び、流路部材３０の泳動流路３３が変形するがことを抑制できる。 As described above, in the present embodiment, the load is held in the first holding space 12 by a simple operation of applying a load to the load portion 1 and elastically deforming the first inner wall surface 13 (first flexible portion 13a). The liquid level of the sample liquid can be easily adjusted. Therefore, in this embodiment, the flow of the sample in the migration channel 33 can be stopped or reduced without increasing the size of the apparatus, and the analysis of the sample can be performed with high accuracy with a simple configuration. Moreover, even if it is not a skilled engineer, the volume of the holding space 12 is changed only by a simple operation of applying a load to the holding space 12 to deform it, and the liquid level in the first holding space and the liquid in the second holding space are changed. Accordingly, the flow of the sample in the electrophoresis channel 33 can be stopped or reduced.
In the present embodiment, since the side surface 10d is separated by the notch 17, the first inner wall surface 13 can be efficiently elastically deformed with the minimum necessary load when applying a load to the load portion 1. In the present embodiment, the first protrusion 14 surrounds the opening of the first holding space 12, and the second protrusion 24 surrounds the opening of the second holding space 22. It is possible to suppress. In the present embodiment, the load applied by the load applying member Sf is mainly consumed by the elastic deformation of the load portion 1 in a portion thinner than other portions, and therefore the reservoir is applied by the load applied by the load applying member Sf. It can suppress that the other location of the member 10, and the migration flow path 33 of the flow path member 30 deform | transform.

なお、上記第１実施形態で説明した検体液の液位調整は、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に保持された検体液の液位を上昇させる方向の調整となるため、第１保持空間１２に検体液を滴下する際には、第２リザーバー２１の第２保持空間２２に保持される液体の液位よりも低くすることが好ましい。また、液位調整時の負荷部１となる側面１０ｄ（及び上面１０ｃ）を第２リザーバー２１側についても設けることも可能である。負荷部１を第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１の双方に設けた場合は、検体液の液位が第１リザーバー１１の第１保持空間１２あるいは第２リザーバー２１の第２保持空間２２のどちらが高い場合でも、液位が低い方の負荷部１に負荷を付与することで、検体液の液位を調整することにより、泳動流路３３内の検体の流動を停止させることが可能となる。第２保持空間２２に保持された検体液の液位を調整する場合（上昇させる場合）には、第２保持空間２２の開口部から検体液が溢れ出る可能性があるが、第２保持空間２２の開口部の周囲に第２突条２４が突設されているため、検体液が第２リザーバー２１から漏れ出すことを抑制できる。   The liquid level adjustment of the sample liquid described in the first embodiment is an adjustment in the direction in which the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 of the first reservoir 11 is raised. When dropping the sample liquid into the space 12, it is preferable that the liquid level be lower than the liquid level held in the second holding space 22 of the second reservoir 21. Further, the side surface 10d (and the upper surface 10c) serving as the load portion 1 at the time of liquid level adjustment can also be provided on the second reservoir 21 side. In the case where the load unit 1 is provided in both the first reservoir 11 and the second reservoir 21, which of the first holding space 12 of the first reservoir 11 or the second holding space 22 of the second reservoir 21 is the liquid level of the sample liquid. Even when the liquid level is high, by applying a load to the load unit 1 having a lower liquid level, the flow of the sample in the electrophoresis channel 33 can be stopped by adjusting the liquid level of the sample liquid. When the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 is adjusted (when raised), the sample liquid may overflow from the opening of the second holding space 22, but the second holding space Since the second protrusion 24 protrudes around the opening 22, the sample liquid can be prevented from leaking from the second reservoir 21.

［電気泳動分析チップの第２実施形態］
次に、電気泳動分析チップ３００Ａの第２実施形態について、図７及び図８を参照して説明する。これらの図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。 [Second Embodiment of Electrophoresis Analysis Chip]
Next, a second embodiment of the electrophoresis analysis chip 300A will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same components as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図７及び図８は、第２実施形態に係る電気泳動分析チップ３００Ａの断面図である。
図７に示す電気泳動分析チップ３００Ａの第１リザーバー１１は、上面１０ａ設けられた第１筒部１８を備える。第１筒部１８は、第１保持空間１２と軸線を合致させて設けられている。第１筒部１８の内周面１８ａは、第１内壁面１３と面一に形成されている。第１筒部１８の内周面１８ａは、第１内壁面１３の一部を形成する。第１筒部１８の厚さは、外周面１８ｂに負荷が付与されたときに内周面１８ａが弾性変形して第１保持空間１２に膨出可能な厚さに設定されている。 7 and 8 are cross-sectional views of the electrophoresis analysis chip 300A according to the second embodiment.
The first reservoir 11 of the electrophoresis analysis chip 300A shown in FIG. 7 includes a first cylinder portion 18 provided on the upper surface 10a. The first cylinder portion 18 is provided so that the first holding space 12 and the axis line coincide with each other. An inner peripheral surface 18 a of the first cylindrical portion 18 is formed flush with the first inner wall surface 13. The inner peripheral surface 18 a of the first cylindrical portion 18 forms a part of the first inner wall surface 13. The thickness of the first cylindrical portion 18 is set to a thickness that allows the inner peripheral surface 18a to elastically deform and bulge into the first holding space 12 when a load is applied to the outer peripheral surface 18b.

電気泳動分析チップ３００Ａの第２リザーバー２１は、上面１０ａ設けられた第２筒部２８を備える。第２筒部２８は、第２保持空間２２と軸線を合致させて設けられている。第２筒部２８の内周面２８ａは、第２内壁面２３と面一に形成されている。第２筒部２８の内周面２８ａは、第２内壁面２３の一部を形成する。第２筒部２８の厚さは、外周面２８ｂに負荷が付与されたときに内周面２８ａが弾性変形して第２保持空間２２に膨出可能な厚さに設定されている。
他の構成は、上記第１実施形態と同様である。 The second reservoir 21 of the electrophoresis analysis chip 300A includes a second cylinder portion 28 provided on the upper surface 10a. The second cylindrical portion 28 is provided so that the second holding space 22 and the axis coincide with each other. An inner peripheral surface 28 a of the second cylindrical portion 28 is formed flush with the second inner wall surface 23. The inner peripheral surface 28 a of the second cylindrical portion 28 forms a part of the second inner wall surface 23. The thickness of the second cylindrical portion 28 is set to a thickness that allows the inner peripheral surface 28a to elastically deform and bulge into the second holding space 22 when a load is applied to the outer peripheral surface 28b.
Other configurations are the same as those of the first embodiment.

上記構成の電気泳動分析チップ３００Ａにおいて、検体液の液位を調整する手順について説明する。
一例として、第２リザーバー２１の第２保持空間２２に保持された検体液の液位が、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に保持された検体液の液位よりも高い場合、静水圧流によって泳動流路３３内では検体が第２リザーバー２１から第１リザーバー１１に向かう方向へ流動する。検体が第２リザーバー２１から第１リザーバー１１に向かう方向へ流動する場合は、図８に示すように、第１リザーバー１１の第１筒部１８に対して負荷を付与する。例えば、第１筒部１８の外周面１８ａの一部を負荷部１として、負荷付与部材Ｓｆによって負荷を付与する。 A procedure for adjusting the liquid level of the sample liquid in the electrophoresis analysis chip 300A having the above-described configuration will be described.
As an example, when the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 of the second reservoir 21 is higher than the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 of the first reservoir 11, the hydrostatic pressure Due to the flow, the sample flows in the migration channel 33 in the direction from the second reservoir 21 toward the first reservoir 11. When the specimen flows in the direction from the second reservoir 21 toward the first reservoir 11, a load is applied to the first cylinder portion 18 of the first reservoir 11 as shown in FIG. 8. For example, a part of the outer peripheral surface 18a of the first cylindrical portion 18 is set as the load portion 1 and a load is applied by the load applying member Sf.

負荷部１として外周面１８ｂに負荷を付与すると、第１筒部１８は、負荷部１と対向する位置の内周面１８ａが第１可撓部として第１保持空間１２内に倒れ込むように弾性変形する。内周面１８ａが第１保持空間１２内に弾性変形することにより、第１保持空間１２の容積が減少する。第１保持空間１２の容積が減少することによって、第１保持空間１２に保持されていた検体液の液位が上昇する。従って、上記と同様に、顕微鏡を観察しつつ、負荷部１への負荷付与量、すなわち、負荷付与部材Ｓｆによる外周面１８ｂへの押し込み量を調整することにより、第１保持空間１２及び第２保持空間２２間の検体液の液位差が解消される。その結果、第１保持空間１２及び第２保持空間２２間の検体液の液位差に起因して生じる泳動流路３３内の検体流動が抑えられる。   When a load is applied to the outer peripheral surface 18b as the load portion 1, the first cylindrical portion 18 is elastic so that the inner peripheral surface 18a at a position facing the load portion 1 falls into the first holding space 12 as a first flexible portion. Deform. When the inner peripheral surface 18a is elastically deformed into the first holding space 12, the volume of the first holding space 12 is reduced. As the volume of the first holding space 12 decreases, the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 rises. Accordingly, in the same manner as described above, the first holding space 12 and the second holding space 12 are adjusted by adjusting the load applied amount to the load portion 1, that is, the push amount applied to the outer peripheral surface 18b by the load applying member Sf while observing the microscope. The liquid level difference of the sample liquid between the holding spaces 22 is eliminated. As a result, the sample flow in the migration channel 33 caused by the difference in the level of the sample liquid between the first holding space 12 and the second holding space 22 is suppressed.

上記とは逆に、第１リザーバー１１の第１保持空間１２に保持された検体液の液位が、第２リザーバー２１の第２保持空間２２に保持された検体液の液位よりも高い場合、静水圧流によって泳動流路３３内では検体が第１リザーバー１１から第２リザーバー２１に向かう方向へ流動する。この場合には、第２リザーバー２１の第２筒部２８の外周面２８ｂに対して負荷部１として負荷を付与して、内周面２８ａを第１可撓部として第２保持空間２２内に弾性変形させることにより、上記と同様に、第１保持空間１２及び第２保持空間２２間の検体液の液位差を解消して、第１保持空間１２及び第２保持空間２２間の検体液の液位差に起因して生じる泳動流路３３内の検体流動を抑えることができる。   On the contrary, the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 of the first reservoir 11 is higher than the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 of the second reservoir 21. Due to the hydrostatic pressure flow, the specimen flows in the migration channel 33 in the direction from the first reservoir 11 to the second reservoir 21. In this case, a load is applied as the load portion 1 to the outer peripheral surface 28b of the second cylindrical portion 28 of the second reservoir 21, and the inner peripheral surface 28a is used as the first flexible portion in the second holding space 22. By elastically deforming, similarly to the above, the liquid level difference of the sample liquid between the first holding space 12 and the second holding space 22 is eliminated, and the sample liquid between the first holding space 12 and the second holding space 22 is eliminated. It is possible to suppress the specimen flow in the electrophoresis channel 33 caused by the liquid level difference between the two.

本実施形態の電気泳動分析チップ３００Ａでは、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、第１保持空間１２または第２保持空間２２のいずれの検体液の液位が高い場合でも容易に液位を調整することが可能になる。さらに、本実施形態では、負荷部１である第１筒部１８及び第２筒部２８が筒状であり均一の厚さで形成されているため、上記第１実施形態のように、厚さが薄い負荷部１が特定箇所にある場合と比較して、負荷を付与する位置によって負荷の付与量に変動が生じることなく安定して負荷を付与することが可能になる。   In the electrophoresis analysis chip 300A of the present embodiment, in addition to obtaining the same functions and effects as those of the first embodiment, the level of the sample liquid in either the first holding space 12 or the second holding space 22 is determined. Even if it is high, the liquid level can be easily adjusted. Furthermore, in the present embodiment, since the first cylindrical portion 18 and the second cylindrical portion 28 which are the load portions 1 are cylindrical and are formed with a uniform thickness, the thickness is the same as in the first embodiment. Compared with the case where the load portion 1 with a small thickness is located at a specific location, it is possible to stably apply the load without variation in the amount of load applied depending on the position where the load is applied.

［電気泳動分析装置の第１実施形態］
次に、電気泳動分析チップを保持して電気泳動分析を行う電気泳動分析装置の第１実施形態について、図９〜図１１を参照して説明する。これらの図において、図１乃至図６に示す電気泳動分析チップ３００の第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
図９は、電気泳動分析チップ３００Ｂを保持する電気泳動分析装置４００の概略的な構成図である。図１０は、本実施形態で用いられる電気泳動分析チップ３００Ｂの外観斜視図である。 [First Embodiment of Electrophoresis Analyzer]
Next, a first embodiment of an electrophoresis analyzer that performs electrophoresis analysis while holding an electrophoresis analysis chip will be described with reference to FIGS. 9 to 11. In these drawings, the same components as those of the first embodiment of the electrophoresis analysis chip 300 shown in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of an electrophoresis analyzer 400 that holds the electrophoresis analysis chip 300B. FIG. 10 is an external perspective view of the electrophoresis analysis chip 300B used in the present embodiment.

電気泳動分析装置４００は、保持部４１０、計測部４２０、４３０、変位部４４０及び制御部ＣＯＮＴを備えている。
保持部４１０は、電気泳動分析チップ３００Ｂの基板５０の周縁部を−Ｚ側から保持するとともに、基板５０の側面をＹ方向の両側から保持する。保持部４１０は、電気泳動分析チップ３００Ｂを保持して少なくともＸ方向に移動可能である。 The electrophoretic analyzer 400 includes a holding unit 410, measurement units 420 and 430, a displacement unit 440, and a control unit CONT.
The holding unit 410 holds the periphery of the substrate 50 of the electrophoresis analysis chip 300B from the −Z side, and holds the side surfaces of the substrate 50 from both sides in the Y direction. The holding unit 410 holds the electrophoresis analysis chip 300B and can move at least in the X direction.

図１０に示すように、電気泳動分析チップ３００Ｂは、第１実施形態で説明した電気泳動分析チップ３００と比較して、第１リザーバー１１、第２リザーバー２１、泳動流路３３、電極５１、５２及び第１突条１４、第２突条２４をそれぞれ有するレーンがＸ方向に複数（図１０では４レーン）配列されている。すなわち、電気泳動分析チップ３００Ｂは、Ｙ方向に延在する複数（図１０では４つ）の泳動流路３３が互いに平行に、Ｘ方向に間隔をあけて設けられている。電気泳動分析チップ３００Ｂの側面１０ｄには、Ｘ方向で隣り合う第１リザーバー１１の間を分離するように切込み１７が設けられている。第１突条１４は、各レーンにおける第１保持空間１２の開口部を独立して区画するように当該開口部の周囲に突設される。第１突条２４は、各レーンにおける第２保持空間２２の開口部を独立して区画するように当該開口部の周囲に突設される。貫通孔１６は、第１リザーバー１１と第２リザーバー２１との間に複数（５つ）のレーンに跨る大きさで形成されている。   As shown in FIG. 10, the electrophoresis analysis chip 300 </ b> B has a first reservoir 11, a second reservoir 21, an electrophoresis channel 33, and electrodes 51, 52 compared to the electrophoresis analysis chip 300 described in the first embodiment. A plurality of lanes each having the first protrusion 14 and the second protrusion 24 are arranged in the X direction (four lanes in FIG. 10). That is, in the electrophoresis analysis chip 300B, a plurality (four in FIG. 10) of electrophoresis channels 33 extending in the Y direction are provided in parallel to each other and spaced in the X direction. A cut 17 is provided on the side surface 10d of the electrophoresis analysis chip 300B so as to separate the first reservoirs 11 adjacent in the X direction. The 1st protrusion 14 is protrudingly provided around the said opening part so that the opening part of the 1st holding space 12 in each lane may be divided independently. The 1st protrusion 24 is protrudingly provided around the said opening part so that the opening part of the 2nd holding space 22 in each lane may be divided independently. The through hole 16 is formed between the first reservoir 11 and the second reservoir 21 in a size that spans multiple (five) lanes.

計測部４２０は、光照射部４２１と検出部４２２と移動度算出部（図示せず）とを含む。光照射部４２１は、貫通孔１６を介して＋Ｚ側から泳動流路３３に光を照射する。検出部４２２は、泳動流路３３における検体を検出する。移動度算出部は、検出部４２２の検出結果から検体の移動度からゼータ電位を算出する。   The measurement unit 420 includes a light irradiation unit 421, a detection unit 422, and a mobility calculation unit (not shown). The light irradiation unit 421 irradiates the migration channel 33 with light from the + Z side through the through hole 16. The detection unit 422 detects the sample in the migration channel 33. The mobility calculation unit calculates the zeta potential from the mobility of the specimen from the detection result of the detection unit 422.

計測部（第２計測部）４３０は、液位センサ４３１、４３２を備えている。液位センサ４３１は、一例として、第１保持空間１２に保持された検体液に検知光を投光し、液面で反射した光を受光することにより、当該第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報を検出する。液位センサ４３１は、検出した検体液の液位に関する情報を制御部ＣＯＮＴに出力する。液位センサ４３２は、一例として、第２保持空間２２に保持された検体液に検知光を投光し、液面で反射した光を受光することにより、当該第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報を検出する。液位センサ４３２は、検出した検体液の液位に関する情報を制御部ＣＯＮＴに出力する。   The measurement unit (second measurement unit) 430 includes liquid level sensors 431 and 432. For example, the liquid level sensor 431 is held in the first holding space 12 by projecting detection light onto the sample liquid held in the first holding space 12 and receiving light reflected by the liquid surface. Information on the liquid level of the sample liquid is detected. The liquid level sensor 431 outputs information on the detected liquid level of the sample liquid to the control unit CONT. For example, the liquid level sensor 432 is held in the second holding space 22 by projecting detection light onto the sample liquid held in the second holding space 22 and receiving light reflected by the liquid surface. Information on the liquid level of the sample liquid is detected. The liquid level sensor 432 outputs information related to the detected liquid level of the sample liquid to the control unit CONT.

制御部ＣＯＮＴは、液位センサ４３１によって検出された第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報、及び液位センサ４３２によって検出された第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報を表示装置ＤＰに表示させる。   The control unit CONT detects information about the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 detected by the liquid level sensor 431 and the sample liquid held in the second holding space 22 detected by the liquid level sensor 432. Is displayed on the display device DP.

図１１は、電気泳動分析チップ３００Ｂ、保持部４１０及び変位部４４０が示される平面図である。
変位部４４０は、複数のレーンの負荷部１を用いて第１保持空間１２に保持された検体液の液位をレーン毎に変位可能である。変位部４４０は、保持枠４４１、押しゴマ４４２、４４３、変位調整ネジ４４４及び付勢部材４４５を備えている。押しゴマ４４２、４４３、変位調整ネジ４４４及び付勢部材４４５は、レーン毎に独立して設けられている。 FIG. 11 is a plan view showing the electrophoresis analysis chip 300 </ b> B, the holding unit 410, and the displacement unit 440.
The displacement unit 440 can displace the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 for each lane using the load units 1 of a plurality of lanes. The displacement part 440 includes a holding frame 441, push sesame 442 and 443, a displacement adjustment screw 444 and an urging member 445. The push sesame 442, 443, the displacement adjusting screw 444, and the urging member 445 are provided independently for each lane.

保持枠４４１は、Ｘ方向に延在する角筒形状を有している。保持枠４４１は、電気泳動分析チップ３００Ｂにおける第１リザーバー１１の＋Ｙ側に配置されている。保持枠４４１は、保持部４１０と一体的に設けられている。保持枠４４１における電気泳動分析チップ３００Ｂと対向する側壁４４１ａには、Ｘ方向に関して複数のレーンの負荷部１と同じ位置にＹ方向に貫通する孔部４４１ｂが形成されている。保持枠４４１における側壁４４１ａと対向する側壁４４１ｃには、孔部４４１ｂと同軸で雌ネジ部４４１ｄが貫通して形成されている。   The holding frame 441 has a rectangular tube shape extending in the X direction. The holding frame 441 is disposed on the + Y side of the first reservoir 11 in the electrophoresis analysis chip 300B. The holding frame 441 is provided integrally with the holding unit 410. A hole 441b penetrating in the Y direction is formed in the side wall 441a of the holding frame 441 facing the electrophoresis analysis chip 300B in the same position as the load portions 1 of the plurality of lanes in the X direction. A female threaded portion 441d is formed through the side wall 441c of the holding frame 441 facing the side wall 441a so as to be coaxial with the hole 441b.

押しゴマ４４２は、図１１に示すように、負荷部１と対向する−Ｙ側の先端に鋭角のエッジ部が設けられている。押しゴマ４４２の＋Ｙ側は、押しゴマ４４３に一体的に固定されている。押しゴマ４４３は、軸部４４３ａと係合部４４３ｂとを備えている。軸部４４３ａは、孔部４４１ｂにＹ方向に移動自在に保持される。軸部４４３ａは、係合部４４３ｂが側壁４４１ｃに係合したときに先端が側壁４４１ａから突出する長さに形成されている。係合部４４３ｂは、軸部４４３ａよりも大径に形成されている。係合部４４３ｂは、保持枠４４１の内部空間に配置されている。付勢部材４４５は、側壁４４１ａと係合部４４３ｂとの間に配された、一例として、コイルバネで構成される。付勢部材４４５は、側壁４４１ａに対して係合部４４３ｂが離間する方向（＋Ｙ側）に係合部４４３ｂを付勢する。変位調整ネジ４４４は、雄ねじ部４４４ａとヘッド部４４４ｂとを備えている。雄ねじ部４４４ａは、雌ネジ部４４１ｄと螺合している。ヘッド部４４４ｂは、側壁４４１ｃの＋Ｙ側の外側に配されている。   As shown in FIG. 11, the push sesame 442 is provided with an acute edge portion at the −Y side end facing the load portion 1. The + Y side of the push sesame 442 is integrally fixed to the push sesame 443. The push sesame 443 includes a shaft portion 443a and an engaging portion 443b. The shaft portion 443a is held in the hole portion 441b so as to be movable in the Y direction. The shaft portion 443a is formed in such a length that the tip projects from the side wall 441a when the engaging portion 443b is engaged with the side wall 441c. The engaging portion 443b is formed with a larger diameter than the shaft portion 443a. The engaging portion 443b is disposed in the internal space of the holding frame 441. The urging member 445 is configured by a coil spring, for example, disposed between the side wall 441a and the engaging portion 443b. The urging member 445 urges the engaging portion 443b in a direction (+ Y side) in which the engaging portion 443b is separated from the side wall 441a. The displacement adjustment screw 444 includes a male screw portion 444a and a head portion 444b. The male screw portion 444a is screwed with the female screw portion 441d. The head portion 444b is disposed outside the + Y side of the side wall 441c.

上記構成の電気泳動分析装置４００において、第１リザーバー１１の液位を調整する際には、まず、液位調整を行うレーンに対応する変位調整ネジ４４４を回転する。ヘッド部４４４ｂを介して変位調整ネジ４４４を回転すると、雌ネジ部４４１ｄと螺合する雄ねじ部４４４ａが、付勢部材４４５の付勢力に抗して雌ネジ部４４１ｄ及び雄ねじ部４４４ａのピッチと回転数に応じた移動量で−Ｙ方向に移動する。   In the electrophoretic analyzer 400 having the above configuration, when adjusting the liquid level of the first reservoir 11, first, the displacement adjusting screw 444 corresponding to the lane in which the liquid level is adjusted is rotated. When the displacement adjustment screw 444 is rotated via the head portion 444b, the male screw portion 444a screwed with the female screw portion 441d is rotated against the biasing force of the biasing member 445 and the pitch and rotation of the female screw portion 441d and the male screw portion 444a. It moves in the -Y direction with a movement amount corresponding to the number.

変位調整ネジ４４４が−Ｙ方向に移動すると、押しゴマ４４２及び押しゴマ４４３が−Ｙ方向に移動する。押しゴマ４４３が−Ｙ方向に移動することにより、押しゴマ４４３の先端部が調整対象レーンの負荷部１を押し込む。負荷部１が押し込まれて弾性変形すると、上述したように、第１保持空間１２の容積が減ることにより、第１保持空間１２に保持されている検体液の液位が上昇する。   When the displacement adjustment screw 444 moves in the −Y direction, the push sesame 442 and the push sesame 443 move in the −Y direction. When the push sesame 443 moves in the −Y direction, the tip of the push sesame 443 pushes the load portion 1 of the adjustment target lane. When the load unit 1 is pushed in and elastically deformed, as described above, the volume of the first holding space 12 is reduced, so that the liquid level of the specimen liquid held in the first holding space 12 is increased.

第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報は、液位センサ４３１によって検出される。第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報は、液位センサ４３２によって検出される。第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報及び第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報は制御部ＣＯＮＴを介して表示部ＤＰに表示される。従って、作業者（オペレータ）は、表示部ＤＰに表示される検体液の液位情報に応じて変位調整ネジ４４４の回転数及び回転方向を調整することにより、第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間１２に保持された検体液の液位とを同一にすることができる。   Information relating to the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 is detected by the liquid level sensor 431. Information relating to the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 is detected by the liquid level sensor 432. Information on the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 and information on the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 are displayed on the display unit DP via the control unit CONT. Therefore, the operator (operator) is held in the first holding space 12 by adjusting the rotation speed and rotation direction of the displacement adjustment screw 444 in accordance with the liquid level information of the sample liquid displayed on the display unit DP. The liquid level of the sample liquid and the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 12 can be made the same.

そして、他のレーンについても同様に、各レーンに対応する変位調整ネジ４４４の回転数及び回転方向を調整することにより、全てのレーンについて第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間１２に保持された検体液の液位とを同一にすることができる。このようにして、第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間２２に保持された検体液の液位との差が調整されると、上述したように、検出部４２２による泳動流路３３における検体の検出と、移動度算出部によるゼータ電位の算出処理が行われる。   Similarly, with respect to the other lanes, by adjusting the rotation speed and the rotation direction of the displacement adjusting screw 444 corresponding to each lane, the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 for all the lanes can be determined. The liquid level of the sample liquid held in the second holding space 12 can be made the same. In this way, when the difference between the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 and the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 is adjusted, the detection is performed as described above. The detection of the sample in the electrophoresis channel 33 by the unit 422 and the zeta potential calculation process by the mobility calculation unit are performed.

以上説明したように、本実施形態の電気泳動分析装置４００においては、複数レーンが設けられた電気泳動分析チップ３００Ｂに対して、レーン毎に独立して第１保持空間１２に保持された検体液の液位を調整することができる。そのため、本実施形態では、レーン毎に第１保持空間１２及び第２保持空間２２に保持された検体液の液位差に起因して生じる検体の流動を抑制することが可能となる。その結果、本実施形態では、複数のレーンが設けられる場合でも、誤差要因を低減した状態でレーン毎に検体の電気泳動速度を検出して、検体のゼータ電位を高精度に算出することが可能となる。また、本実施形態では、平行に並んだ複数レーンに対して、一方向（＋Ｙ側）からの加圧により液位調整を行っているため、装置構成の簡便化及び小型軽量化を図ることができる。また、本実施形態では、隣り合うレーンの間で切込み１７を設けて負荷部１を分離しているため、各レーンにおける負荷部１に付与する負荷（弾性変形）の影響が他のレーンの負荷部１に及ぶことを抑制することができる。また、本実施形態では、レーン毎に第１保持空間１２の開口部の周囲を第１突条１４が区画し、各レーン毎に第２保持空間２２の開口部の周囲を第２突条２４が区画しているため、第１保持空間１２に保持されている検体液と、第２保持空間２２に保持されている検体液との少なくとも一方が開口部から溢れた場合でも、検体液が他のレーンで用いられている検体液と混じる、いわゆるコンタミが生じることを抑制できる。また、本実施形態において、電気泳動分析チップ３００Ｂが配置され保持される保持部４１０と変位部４４０とは、保持部４１０に変位部４４０が設けられるような一体的に構成されていてもよい。この場合、保持部４１０には、電気泳動分析チップ３００Ｂが配置される位置、かつ変位部４４０の押しゴマ４４２が負荷部１に接触可能な位置を示す位置決め部が予め設けられている。   As described above, in the electrophoresis analysis apparatus 400 of the present embodiment, the sample liquid held in the first holding space 12 independently for each lane with respect to the electrophoresis analysis chip 300B provided with a plurality of lanes. The liquid level can be adjusted. Therefore, in the present embodiment, it is possible to suppress the flow of the specimen that occurs due to the liquid level difference between the specimen liquids held in the first holding space 12 and the second holding space 22 for each lane. As a result, in this embodiment, even when a plurality of lanes are provided, it is possible to detect the electrophoresis speed of the specimen for each lane with a reduced error factor and calculate the zeta potential of the specimen with high accuracy. It becomes. Moreover, in this embodiment, since the liquid level is adjusted by pressurization from one direction (+ Y side) for a plurality of lanes arranged in parallel, the apparatus configuration can be simplified and reduced in size and weight. it can. Moreover, in this embodiment, since the notch 17 is provided between adjacent lanes and the load part 1 is separated, the influence of the load (elastic deformation) applied to the load part 1 in each lane is affected by the load of other lanes. It can suppress reaching part 1. In the present embodiment, the first ridge 14 divides the periphery of the opening of the first holding space 12 for each lane, and the second ridge 24 surrounds the opening of the second holding space 22 for each lane. Therefore, even if at least one of the sample liquid held in the first holding space 12 and the sample liquid held in the second holding space 22 overflows from the opening, the sample liquid remains in the other. It is possible to suppress the occurrence of so-called contamination mixed with the sample liquid used in the lane. In the present embodiment, the holding unit 410 and the displacement unit 440 on which the electrophoresis analysis chip 300B is arranged and held may be integrally configured such that the holding unit 410 is provided with the displacement unit 440. In this case, the holding unit 410 is provided in advance with a positioning unit that indicates a position where the electrophoresis analysis chip 300 </ b> B is disposed and a position where the push block 442 of the displacement unit 440 can contact the load unit 1.

また、本実施形態では、第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報及び第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報が液位表示部ＤＰに表示されるため、表示された液位情報を参照しながら変位部４４０を操作して微調整することができる。そのため、本実施形態では、マニュアル作業で液位調整を行う場合でも、検体液の液位差に起因して生じる検体の流動を容易に抑制することが可能となる。
また、上述した各実施形態における電気泳動分析チップは、第１リザーバー及び第２リザーバーを有するリザーバー部材と、該第１リザーバーと該第２リザーバーとを接続し検体が泳動する泳動流路を有する流路部材と、基板とで構成された積層構造であり、該リザーバー部材は該第１リザーバーに保持された液体と該第２リザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位が調整可能な液位調整部を備える。また、該第１リザーバーは第１保持空間を備え、該液位調整部は、該第１保持空間の容積を調整可能である。電気泳動分析チップは、リザーバー部材１０と、流路部材３０と、基板５０とを順次積み重ね、貼り合わせることによって作製されるため、容易に製造することができ、また製造コストを抑えることが可能となる。また、各部材を重ねる際、リザーバー部材１０と、流路部材３０と、基板５０のいずれか一つ以上の部材に、アライメントマーク（位置合わせ基準部）が設けられていてもよい。 In the present embodiment, information related to the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 and information related to the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 are displayed on the liquid level display unit DP. Therefore, the displacement unit 440 can be operated and finely adjusted while referring to the displayed liquid level information. Therefore, in this embodiment, even when the liquid level is adjusted manually, it is possible to easily suppress the flow of the specimen caused by the liquid level difference of the specimen liquid.
In addition, the electrophoresis analysis chip in each of the embodiments described above includes a reservoir member having a first reservoir and a second reservoir, and a flow having an electrophoresis channel that connects the first reservoir and the second reservoir to migrate a sample. A laminated structure including a path member and a substrate, and the reservoir member is a liquid capable of adjusting a liquid level of at least one of a liquid held in the first reservoir and a liquid held in the second reservoir. A position adjustment unit is provided. The first reservoir includes a first holding space, and the liquid level adjustment unit can adjust the volume of the first holding space. Since the electrophoresis analysis chip is manufactured by sequentially stacking and adhering the reservoir member 10, the flow path member 30, and the substrate 50, it can be easily manufactured and the manufacturing cost can be reduced. Become. Further, when the members are stacked, an alignment mark (positioning reference portion) may be provided on any one or more of the reservoir member 10, the flow path member 30, and the substrate 50.

［電気泳動分析装置の第２実施形態］
次に、電気泳動分析装置の第２実施形態について、図１２及び図１３を参照して説明する。これらの図において、図９乃至図１１に示す電気泳動分析装置４００の第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。 [Second Embodiment of Electrophoresis Analyzer]
Next, a second embodiment of the electrophoresis analyzer will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same components as those of the first embodiment of the electrophoresis analyzer 400 shown in FIGS. 9 to 11 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図１２は、一実施態様の電気泳動分析装置１５００を示す模式図である。
電気泳動分析装置１５００は、筐体１５１０と、電気泳動分析チップ導入口１５２０と、電気泳動分析チップ３００Ｂを保持する保持部４１０と信号ケーブル１５１１と、コンピュータ１５１３と、オペレーションスクリーン１５１５とを備える。 FIG. 12 is a schematic diagram showing an electrophoretic analyzer 1500 according to one embodiment.
The electrophoretic analyzer 1500 includes a housing 1510, an electrophoretic analysis chip introduction port 1520, a holding unit 410 that holds the electrophoretic analysis chip 300B, a signal cable 1511, a computer 1513, and an operation screen 1515.

筐体１５１０内には、図１３に示すように、変位部４４０が設けられている。本実施形態における変位部４４０は、保持枠４４１及び押しゴマ４４３の構成と、押しゴマ４４３を駆動するアクチュエータが加わっている点が上記電気泳動分析装置４００と異なる。   As shown in FIG. 13, a displacement portion 440 is provided in the housing 1510. The displacement part 440 in the present embodiment is different from the electrophoretic analyzer 400 in that the structure of the holding frame 441 and the push block 443 and the actuator that drives the push block 443 are added.

保持枠４４１の側壁４４１ｃには、孔部４４１ｂと同軸で孔部４４１ｅが貫通して形成されている。押しゴマ４４３は、軸部４４３ａ、係合部４４３ｂ及び軸部４４３ｃを備えている。軸部４４３ｃは、孔部４４１ｅにＹ方向に移動自在に保持されている。軸部４４３ｃは、付勢部材４４５に付勢されて係合部４４３ｂが側壁４４１ｃに当接したときに、側壁４４１ｃから＋Ｙ方向に突出する長さに形成されている。   A hole 441e is formed through the side wall 441c of the holding frame 441 so as to be coaxial with the hole 441b. The push sesame 443 includes a shaft portion 443a, an engaging portion 443b, and a shaft portion 443c. The shaft portion 443c is held in the hole portion 441e so as to be movable in the Y direction. The shaft portion 443c is formed to have a length that protrudes in the + Y direction from the side wall 441c when the engaging portion 443b comes into contact with the side wall 441c by being biased by the biasing member 445.

軸部４４３ｃの先端部と対向する位置には、アクチュエータ４４５が設けられている。アクチュエータ４４５は、制御部ＣＯＮＴの制御により、付勢部材４４５の付勢力に抗して押しゴマ４４３を−Ｙ方向に移動させる力を軸部４４３ｃに付与する。   An actuator 445 is provided at a position facing the tip of the shaft portion 443c. The actuator 445 applies a force that moves the pushing sesame 443 in the −Y direction against the biasing force of the biasing member 445 to the shaft portion 443c under the control of the control unit CONT.

上記構成の電気泳動分析装置１５００は、以下のように動作する。まず、検査対象の検体を導入した、電気泳動分析チップ３００Ｂを、保持部４１０にセットする。続いて、保持部４１０が矢印βの方向に移動することにより、電気泳動分析チップ３００Ｂが、電気泳動分析装置１５００の内部に移動する。   The electrophoretic analyzer 1500 having the above-described configuration operates as follows. First, the electrophoresis analysis chip 300 </ b> B into which the specimen to be examined is introduced is set in the holding unit 410. Subsequently, when the holding unit 410 moves in the direction of the arrow β, the electrophoresis analysis chip 300B moves to the inside of the electrophoresis analysis apparatus 1500.

筐体１５１０内に移動した電気泳動分析チップ３００Ｂに対しては、第１リザーバー１１の液位調整が行われる。
まず、制御部ＣＯＮＴは液位センサ４３１が検出した第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報及び液位センサ４３２が検出した第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報に基づいてアクチュエータ４４５の駆動量を求める。アクチュエータ４４５の駆動量は、一例として、押しゴマ４４２の押し込み量と第１保持空間１２に保持された検体液の液位変化量との関係を予め保持したテーブル、あるいは当該関係に基づき導いた関数等を用いて求める。制御部ＣＯＮＴは、アクチュエータ４４５を駆動させ、押しゴマ４４２を介して負荷部１に負荷を付与した後に、液位センサ４３１、４３２の検出結果を確認し、第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間２２に保持された検体液の液位との差が所定値内に収まるまで、上記アクチュエータ４４５の駆動と液位センサ４３１、４３２の検出結果の確認とを繰り返して行う（フィードバック制御する）。 The liquid level of the first reservoir 11 is adjusted for the electrophoresis analysis chip 300B that has moved into the housing 1510.
First, the control unit CONT detects information about the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 detected by the liquid level sensor 431 and the liquid of the sample liquid held in the second holding space 22 detected by the liquid level sensor 432. The driving amount of the actuator 445 is obtained based on the information regarding the position. The drive amount of the actuator 445 is, for example, a table that holds in advance a relationship between the push amount of the push sesame 442 and the liquid level change amount of the sample liquid held in the first holding space 12, or a function derived based on the relationship. And so on. The control unit CONT drives the actuator 445 and applies a load to the load unit 1 via the push sesame 442, confirms the detection results of the liquid level sensors 431 and 432, and holds the sample held in the first holding space 12. Until the difference between the liquid level and the liquid level of the specimen liquid held in the second holding space 22 falls within a predetermined value, the actuator 445 is driven and the detection results of the liquid level sensors 431 and 432 are confirmed. Repeat (feedback control).

このようにして、第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間２２に保持された検体液の液位との差が調整されると、上述したように、検出部４２２による泳動流路３３における検体の検出と、移動度算出部によるゼータ電位の算出処理が行われる。   In this way, when the difference between the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 and the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22 is adjusted, the detection is performed as described above. The detection of the sample in the electrophoresis channel 33 by the unit 422 and the zeta potential calculation process by the mobility calculation unit are performed.

以上説明したように、本実施形態の電気泳動分析装置１５００では、上記第１実施形態の電気泳動分析装置４００と同様の作用・効果が得られることに加えて、第１保持空間１２に保持された検体液の液位に関する情報及び第２保持空間２２に保持された検体液の液位に関する情報に応じて制御部ＣＯＮＴが変位部４４０を制御するため、容易、且つ迅速に検体液の液位差に起因して生じる検体の流動を抑制することが可能となる。   As described above, the electrophoretic analyzer 1500 according to the present embodiment can be held in the first holding space 12 in addition to obtaining the same operation and effect as the electrophoretic analyzer 400 according to the first embodiment. Since the control unit CONT controls the displacement unit 440 according to the information related to the liquid level of the sample liquid and the information related to the liquid level of the sample liquid held in the second holding space 22, the liquid level of the sample liquid can be easily and quickly. It becomes possible to suppress the flow of the specimen caused by the difference.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

例えば、上記実施形態の電気泳動分析装置４００、１５００においては、第１リザーバー１１について検体液の液位を調整する構成を例示したが、この構成に限定されるものではなく、第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１の双方に変位部４４０を設け、検出された検体液の液位に応じて第１リザーバー１１及び第２リザーバー２１の一方、あるいは両方の液位を調整する構成としてもよい。   For example, in the electrophoretic analyzers 400 and 1500 of the above-described embodiment, the configuration for adjusting the liquid level of the sample liquid with respect to the first reservoir 11 is illustrated, but the configuration is not limited to this configuration. A displacement part 440 may be provided in both of the second reservoirs 21 and the liquid level of one or both of the first reservoir 11 and the second reservoir 21 may be adjusted according to the detected liquid level of the sample liquid.

上記実施形態では、電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂの一部に押しゴマ４４２が当接して負荷を付与する構成としたが、この構成には限られない。例えば、図１４に示すように、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）を形成する第１内壁面１３（または第２内壁面２３）の第１外周面１９（または第２外周面２９）との間で気体溜まり１９ａ（または気体溜まり２９ａ）を形成する可撓性を有するバルーンＢＬを液位調整部として設ける構成を採ることも可能である。バルーンＢＬは、第１外周面１９（または第２外周面２９）の全周または一部に設けることができる。バルーンＢＬを操作（押し込む等）して、気体溜まり１９ａ（または気体溜まり２９ａ）の体積を変化させることにより、気体溜まり１９ａ（または気体溜まり２９ａ）の気圧を上昇させることができる。気体溜まり１９ａ（または気体溜まり２９ａ）の気圧が上昇することにより、気体溜まり１９ａ（または気体溜まり２９ａ）に臨む第１外周面１９（または第２外周面２９）及び第１内壁面１３（または第２内壁面２３）が第１保持空間１２（または第２保持空間２２）内に弾性変形する。従って、バルーンＢＬを備えた電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂにおいては、上記の体積変化に応じて第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積が変化し、当該容積変化に応じて第１保持空間１２（または第２保持空間２２）に保持される検体液の液位を調整することが可能となる。   In the above-described embodiment, the push sesame 442 is brought into contact with a part of the electrophoresis analysis chips 300, 300A, and 300B to apply a load. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, as shown in FIG. 14, the first outer peripheral surface 19 (or the second outer peripheral surface) of the first inner wall surface 13 (or the second inner wall surface 23) that forms the first holding space 12 (or the second holding space 22). It is also possible to adopt a configuration in which a flexible balloon BL that forms a gas reservoir 19a (or a gas reservoir 29a) with the liquid level adjusting unit is provided as a liquid level adjusting unit. The balloon BL can be provided on the entire circumference or a part of the first outer circumferential surface 19 (or the second outer circumferential surface 29). By operating (pushing in) the balloon BL and changing the volume of the gas reservoir 19a (or the gas reservoir 29a), the pressure of the gas reservoir 19a (or the gas reservoir 29a) can be increased. When the pressure of the gas reservoir 19a (or the gas reservoir 29a) increases, the first outer peripheral surface 19 (or the second outer peripheral surface 29) and the first inner wall surface 13 (or the first inner wall surface 13) facing the gas reservoir 19a (or the gas reservoir 29a). 2 inner wall surface 23) is elastically deformed into the first holding space 12 (or the second holding space 22). Therefore, in the electrophoretic analysis chips 300, 300A, 300B provided with the balloon BL, the volume of the first holding space 12 (or the second holding space 22) changes according to the above volume change, and according to the volume change. Thus, it is possible to adjust the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 (or the second holding space 22).

また、上記実施形態における電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂは可撓性を有する材料で形成され、負荷が付与されることにより弾性変形する構成を例示したが、一例として、図１５に示すように、負荷部１のみを弾性変形可能な可撓性材料で形成し、他の箇所は剛性を有する材料で形成する構成してもよい。また、剛性を有する材料で電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂを形成し、図１６に示すように、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）を形成する第１内壁面１３（または第２内壁面２３）の一部に切欠溝１３ｂを設けて薄肉部を複数（図１６では２つ）形成することにより、切欠溝１３ｂで挟まれた領域を弾性変形可能な負荷部１とすることも可能である。この構成を採る場合には、電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂを成形（製造）する際に同じ工程で切欠溝１３ｂを成形することが可能なため、電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂの強度（剛性）を確保しつつ、弾性変形可能な負荷部１を形成することが可能になり製造コストの低減に寄与できる。   In addition, although the electrophoresis analysis chips 300, 300A, and 300B in the above embodiment are formed of a flexible material and are elastically deformed when a load is applied, an example is shown in FIG. In addition, only the load portion 1 may be formed of a flexible material that can be elastically deformed, and other portions may be formed of a material having rigidity. Further, the electrophoresis analysis chips 300, 300A, and 300B are formed of a material having rigidity, and as shown in FIG. 16, the first inner wall surface 13 (or the second holding space 22) that forms the first holding space 12 (or the second holding space 22). By providing the notch groove 13b in a part of the second inner wall surface 23) and forming a plurality of thin portions (two in FIG. 16), the region sandwiched by the notch grooves 13b is made the load portion 1 that can be elastically deformed. It is also possible. In the case of adopting this configuration, the notch groove 13b can be formed in the same process when the electrophoresis analysis chips 300, 300A, 300B are formed (manufactured), so that the electrophoresis analysis chips 300, 300A, 300B can be formed. It is possible to form the load portion 1 that can be elastically deformed while ensuring the strength (rigidity), which can contribute to a reduction in manufacturing cost.

上記実施形態では、電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂに対して第１保持空間１２及び第２保持空間２２の延在方向（Ｚ方向）と交叉するＹ方向に沿って負荷を付与する構成を例示したが、Ｘ方向に沿って負荷を付与する構成であってもよいことは言うまでもない。また、本発明では、第１保持空間１２及び第２保持空間２２の延在方向に沿って負荷を付与する構成も適用可能である。図１７には、第１保持空間１２及び第２保持空間２２の延在方向に沿って負荷を付与する負荷付与部材Ｓｖの構成の一例が示される。図１７に示すように、負荷付与部材Ｓｖは、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の開口部を閉塞する蓋部Ｓｖ１と、蓋部Ｓｖ１の第１保持空間１２（または第２保持空間２２）に対向する側の面に設けられた突部Ｓｖ２とを備えている。上記の負荷付与部材Ｓｖは、蓋部Ｓｖ１が下方に移動することにより、筒状の壁部に圧縮方向の弾性変形が生じ、突部Ｓｖ２の検体液への浸漬量が増加する。これにより、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積が減少し、検体液の液位を上昇させることができる。   In the above-described embodiment, the electrophoretic analysis chips 300, 300A, 300B are configured to apply a load along the Y direction that intersects the extending direction (Z direction) of the first holding space 12 and the second holding space 22. Although illustrated, it cannot be overemphasized that the structure which provides a load along a X direction may be sufficient. In the present invention, a configuration in which a load is applied along the extending direction of the first holding space 12 and the second holding space 22 is also applicable. FIG. 17 shows an example of the configuration of the load applying member Sv that applies a load along the extending direction of the first holding space 12 and the second holding space 22. As shown in FIG. 17, the load applying member Sv includes a lid Sv1 that closes an opening of the first holding space 12 (or the second holding space 22), and the first holding space 12 (or the second holding space 12 of the lid Sv1). And a protrusion Sv2 provided on the surface facing the holding space 22). In the load applying member Sv, when the lid portion Sv1 moves downward, the cylindrical wall portion is elastically deformed in the compression direction, and the amount of protrusion Sv2 immersed in the sample liquid increases. As a result, the volume of the first holding space 12 (or the second holding space 22) can be reduced, and the liquid level of the sample liquid can be raised.

図１８は、第１保持空間１２及び第２保持空間２２の延在方向に沿って負荷を付与する負荷付与部材Ｓｗの構成の一例が示される。負荷付与部材Ｓｗは、先端部の外径が第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の開口部の径よりも小さい。負荷付与部材Ｓｗは、先端部から離間するのに従って漸次拡径する円錐台部を有している。円錐台部は、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の開口部の径よりも大きい外径の領域を有している。上記の構成の負荷付与部材Ｓｗを用い、先端部を第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の開口部に挿入した後に、負荷付与部材Ｓｗを下方に移動させることにより、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の開口部は、径が大きくなる方向に弾性変形する。これにより、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積が増加し、検体液の液位を下降させることができる。   FIG. 18 shows an example of the configuration of the load applying member Sw that applies a load along the extending direction of the first holding space 12 and the second holding space 22. The load applying member Sw has an outer diameter at the tip portion smaller than the diameter of the opening of the first holding space 12 (or the second holding space 22). The load applying member Sw has a truncated cone part that gradually increases in diameter as it is separated from the tip part. The truncated cone portion has a region having an outer diameter larger than the diameter of the opening of the first holding space 12 (or the second holding space 22). Using the load applying member Sw having the above-described configuration, after the tip portion is inserted into the opening of the first holding space 12 (or the second holding space 22), the load applying member Sw is moved downward to thereby perform the first holding. The opening of the space 12 (or the second holding space 22) is elastically deformed in the direction in which the diameter increases. As a result, the volume of the first holding space 12 (or the second holding space 22) is increased, and the liquid level of the sample liquid can be lowered.

上記実施形態では、機械的（物理的）に電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂを弾性変形させる構成を例示したが、熱的に電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂを弾性変形させることも可能である。一例として、形状記憶ポリマー等の変形ポリマーを用いて熱を付与することで電気泳動分析チップ３００、３００Ａ、３００Ｂを弾性変形させることも可能である。形状記憶ポリマーは、成形加工又は機械加工により形成した形状を樹脂中の固定相により記憶し、形状回復温度以上融点未満の温度範囲内の温度下において、記憶した形状を自由な形状に変形させることができる。そして、形状記憶ポリマーは、この変形させた状態を維持したまま形状回復温度未満の温度に冷却することで、この変形を固定することができる。この形状回復温度未満の温度に冷却して加えた変形を固定させたものを、形状回復温度以上で融点未満の温度に加熱することにより、成形加工又は機械加工により形成した形状が復元される。   In the above embodiment, the configuration in which the electrophoretic analysis chips 300, 300A, and 300B are elastically deformed mechanically (physically) is exemplified. However, the electrophoretic analysis chips 300, 300A, and 300B can be elastically deformed thermally. It is. As an example, the electrophoretic analysis chips 300, 300A, and 300B can be elastically deformed by applying heat using a deformable polymer such as a shape memory polymer. The shape memory polymer memorizes the shape formed by molding or machining by the stationary phase in the resin, and transforms the memorized shape into a free shape at a temperature within the temperature range above the shape recovery temperature and below the melting point. Can do. And shape memory polymer can fix this deformation | transformation by cooling to the temperature below shape recovery temperature, maintaining this deformed state. The shape formed by molding or machining is restored by heating the fixed deformation after cooling to a temperature below the shape recovery temperature to a temperature above the shape recovery temperature and below the melting point.

一例として、図１９（ａ）に示すように、第１内壁面１３（または第２内壁面２３）に形成された窪み５は、形状回復温度未満の温度のときの形状である。形状回復温度以上融点未満の温度範囲内の温度下においては、図１９（ｂ）に示すように、窪み５が形成されない形状として記憶することができる。従って、窪み５が形成される図１９（ａ）に示される状態から加熱して、窪み５が形成されない図１９（ｂ）に示される状態に第１内壁面１３（または第２内壁面２３）を変形させることによって第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積を減少させることができる。また、上記の構成とは逆に、第１内壁面１３（または第２内壁面２３）に形成された窪み５が形状回復温度以上融点未満の温度範囲内の温度下での形状で、形状回復温度未満の温度のときの形状が窪み５が形成されない状態としてもよい。この構成では、窪み５が形成されない図１９（ｂ）に示される状態から加熱して、窪み５が形成される図１９（ａ）に示される状態に第１内壁面１３（または第２内壁面２３）を変形させることにより、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積を増加させることができる。   As an example, as shown in FIG. 19A, the recess 5 formed in the first inner wall surface 13 (or the second inner wall surface 23) has a shape at a temperature lower than the shape recovery temperature. Under a temperature within the temperature range of the shape recovery temperature or higher and lower than the melting point, as shown in FIG. 19B, the shape can be stored as a shape in which the recess 5 is not formed. Accordingly, the first inner wall surface 13 (or the second inner wall surface 23) is heated to the state shown in FIG. 19B where the recess 5 is not formed by heating from the state shown in FIG. 19A where the recess 5 is formed. By deforming, the volume of the first holding space 12 (or the second holding space 22) can be reduced. Contrary to the above configuration, the shape of the recess 5 formed in the first inner wall surface 13 (or the second inner wall surface 23) is a shape under a temperature within the temperature range of the shape recovery temperature or higher and lower than the melting point. The shape when the temperature is lower than the temperature may be a state in which the depression 5 is not formed. In this configuration, the first inner wall surface 13 (or the second inner wall surface is heated to the state shown in FIG. 19A where the recess 5 is formed by heating from the state shown in FIG. 19B where the recess 5 is not formed. By deforming 23), the volume of the first holding space 12 (or the second holding space 22) can be increased.

従って、加熱後に窪み５が形成される第１領域と、加熱後に窪み５が形成されない第２領域とを双方設けておき、第１保持空間１２に保持された検体液の液位と、第２保持空間２２に保持された検体液の液位とに応じて、液位を下降させる場合には、第１領域を加熱し、液位を上昇させる場合には第２領域を加熱する構成としてもよい。さらに、形状回復温度未満の温度から形状回復温度以上の温度に徐々に加熱する際の、温度と変形量との相関関係を予め求めておき、第１保持空間１２（または第２保持空間２２）の容積変化を微小量ずつ調整可能な構成としてもよい。   Accordingly, both the first region where the dent 5 is formed after heating and the second region where the dent 5 is not formed after heating are provided, and the liquid level of the sample liquid held in the first holding space 12 and the second When the liquid level is lowered according to the liquid level of the sample liquid held in the holding space 22, the first region is heated, and when the liquid level is raised, the second region is heated. Good. Further, the correlation between the temperature and the deformation amount when gradually heating from the temperature lower than the shape recovery temperature to the temperature higher than the shape recovery temperature is obtained in advance, and the first holding space 12 (or the second holding space 22). It is good also as a structure which can adjust the volume change of every minute amount.

このような形状記憶ポリマーとしては、特に限定されず、例えば、形状記憶性を有するエラストマー等の高分子材料を挙げることができる。
形状記憶性を有するエラストマーの具体例としては、ポリウレタン、ポリイソプレン、ポリエチレン、ポリノルボルネン、スチレン−ブタジエン共重合体；エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、メラニン樹脂；ポリカプロラクトン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド；等のポリマーを、例えば有機過酸化物、過酸化ベンゾイルといった過酸化物を使用した熱による化学的架橋手法によって架橋されたものが挙げられる。 Such a shape memory polymer is not particularly limited, and examples thereof include polymer materials such as elastomers having shape memory properties.
Specific examples of the shape memory elastomer include polyurethane, polyisoprene, polyethylene, polynorbornene, styrene-butadiene copolymer; epoxy resin, phenol resin, acrylic resin, polyester, melanin resin; polycaprolactone, polyvinyl chloride, Polymers such as polystyrene, polybutylene succinate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene sulfide, etc., which are crosslinked by a thermal chemical crosslinking method using a peroxide such as an organic peroxide or benzoyl peroxide, for example. Can be mentioned.

１…負荷部（液位調整部）、 １０ａ…上面（第１面）、 １０ｄ…上面（第２面）、 １１…第１リザーバー、 １２…第１保持空間、 １３…第１内壁面、 １３ａ…第１可撓部、 １４…第１突条、 １８…第１筒部、 ２１…第２リザーバー、 ２２…第２保持空間、 ２４…第２突条、 ２８…第２筒部、 ３３…泳動流路、 １１０…第１リザーバー、 １２０…第２リザーバー、 １３０、１４０…電極、 １５０…泳動流路、３００、３００Ａ、３００Ｂ…細胞外小胞体分析チップ（電気泳動分析チップ）、 ４００、１５００…電気泳動分析装置、 ４１０…保持部、 ４２０…計測部、 ４３０…計測部（第２計測部）、 ４００…変位部、 ＢＬ…バルーン（液位調整部、体積変化部）、 ＣＯＮＴ…制御部、 Ｓｆ、Ｓｖ…負荷付与部材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Load part (liquid level adjustment part), 10a ... Upper surface (1st surface), 10d ... Upper surface (2nd surface), 11 ... 1st reservoir, 12 ... 1st holding space, 13 ... 1st inner wall surface, 13a ... 1st flexible part, 14 ... 1st protrusion, 18 ... 1st cylinder part, 21 ... 2nd reservoir, 22 ... 2nd holding space, 24 ... 2nd protrusion, 28 ... 2nd cylinder part, 33 ... Electrophoretic flow path, 110 ... first reservoir, 120 ... second reservoir, 130, 140 ... electrode, 150 ... electrophoretic flow path, 300, 300A, 300B ... extracellular endoplasmic reticulum analysis chip (electrophoresis analysis chip), 400, 1500 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Electrophoresis analyzer 410 ... Holding | maintenance part 420 ... Measurement part 430 ... Measurement part (2nd measurement part), 400 ... Displacement part, BL ... Balloon (liquid level adjustment part, volume change part), CONT ... Control part , Sf, Sv ... Load application Wood

Claims (19)

基材に設けられた第１リザーバー及び第２リザーバーと、
前記第１リザーバーと前記第２リザーバーとを接続し、検体が泳動する泳動流路と、
前記第１リザーバーに保持された液体と前記第２リザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位が調整可能な液位調整部と、
を備える電気泳動分析チップ。 A first reservoir and a second reservoir provided on the substrate;
An electrophoresis channel that connects the first reservoir and the second reservoir, and the sample migrates;
A liquid level adjusting unit capable of adjusting the liquid level of at least one of the liquid held in the first reservoir and the liquid held in the second reservoir;
An electrophoresis analysis chip comprising: 前記第１リザーバーは第１保持空間を備え、
前記液位調整部は、前記第１保持空間の容積を調整可能である
請求項１記載の電気泳動分析チップ。 The first reservoir includes a first holding space;
The electrophoresis analysis chip according to claim 1, wherein the liquid level adjustment unit is capable of adjusting a volume of the first holding space. 前記第２リザーバーは、前記検体を導入する検体導入口を有する
請求項１または２記載の電気泳動分析チップ。 The electrophoresis analysis chip according to claim 1, wherein the second reservoir has a sample introduction port for introducing the sample. 前記第１保持空間は、少なくとも一部に第１可撓部を有する内壁面で形成されている
請求項２に記載の電気泳動分析チップ。 The electrophoresis analysis chip according to claim 2, wherein the first holding space is formed by an inner wall surface having a first flexible portion at least in part. 前記液位調整部は、前記第１リザーバーに配されて体積変化によって前記第１保持部の容積を調整可能な体積変化部を含む
請求項４記載の電気泳動分析チップ。 5. The electrophoresis analysis chip according to claim 4, wherein the liquid level adjustment unit includes a volume changing unit that is arranged in the first reservoir and can adjust the volume of the first holding unit by changing the volume. 前記液位調整部は、負荷が加わったときに前記負荷に応じて前記第１可撓部が弾性変形する負荷部を備える
請求項４記載の電気泳動分析チップ。 The electrophoretic analysis chip according to claim 4, wherein the liquid level adjustment unit includes a load unit that elastically deforms the first flexible unit in accordance with the load when a load is applied. 前記基材は、第１面から突出して設けられ内周面が前記第１内壁面の一部を形成する第１筒部を備え、
前記負荷部は、前記第１筒部の外周面の少なくとも一部である
請求項６記載の電気泳動分析チップ。 The base material includes a first tube portion that protrudes from the first surface, and an inner peripheral surface forms a part of the first inner wall surface,
The electrophoresis analysis chip according to claim 6, wherein the load portion is at least a part of an outer peripheral surface of the first tube portion. 前記基材は、前記第１保持空間が開口する第１面と、
前記第１保持空間の開口部の周囲を区画する第１突条を備え、
前記負荷部は、前記第１突条である
請求項６記載の電気泳動分析チップ。 The base material has a first surface in which the first holding space is opened,
A first protrusion that divides the periphery of the opening of the first holding space;
The electrophoresis analysis chip according to claim 6, wherein the load portion is the first protrusion. 前記基材は、前記第１保持空間が開口する第１面と、該第１面と交叉し前記第１内壁面と前記弾性変形が可能な厚さを隔てて設けられた第２面とを備え、
前記負荷部は、前記第２面である
請求項６記載の電気泳動分析チップ。 The base material includes a first surface in which the first holding space is opened, and a second surface that intersects with the first surface and is separated from the first inner wall surface by a thickness allowing the elastic deformation. Prepared,
The electrophoresis analysis chip according to claim 6, wherein the load portion is the second surface. 複数の前記第１のリザーバー、前記第２のリザーバー及び前記泳動流路を有し、
前記第２面は、前記複数の第１内壁面と前記弾性変形が可能な厚さを隔てて設けられ、且つ隣り合う前記第１のリザーバー同士の間とに設けられた切込みにより分離される
請求項９記載の電気泳動分析チップ。 A plurality of the first reservoir, the second reservoir, and the migration channel;
The second surface is provided to be separated from the plurality of first inner wall surfaces by a thickness that allows the elastic deformation, and is separated by a notch provided between the adjacent first reservoirs. Item 10. The electrophoresis analysis chip according to Item 9. 前記検体は、細胞外小胞体、あるいは、前記細胞外小胞体の表面に存在する分子に特異的に結合する特異的結合物質と前記細胞外小胞体とが相互作用してなる、特異的結合物質−細胞外小胞体複合体を含む
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の電気泳動分析チップ。 The specimen is an extracellular vesicle, or a specific binding substance formed by the interaction between a specific binding substance that specifically binds to a molecule present on the surface of the extracellular vesicle and the extracellular vesicle. The electrophoretic analysis chip according to any one of claims 1 to 10, comprising an extracellular endoplasmic reticulum complex. 検体を分析する電気泳動分析チップであり、
第１リザーバー及び第２リザーバーを有するリザーバー部材と、
前記第１リザーバーと前記第２リザーバーとを接続し、検体が泳動する泳動流路を有する流路部材と、
基板と、で構成される積層構造であり、
前記リザーバー部材は前記第１リザーバーに保持される液体と前記第２リザーバーに保持される液体との少なくとも一方の液位が調整可能な液位調整部を備える
電気泳動分析チップ。 An electrophoresis analysis chip for analyzing a sample,
A reservoir member having a first reservoir and a second reservoir;
A flow path member that connects the first reservoir and the second reservoir and has an electrophoresis flow path in which a sample migrates;
A laminated structure composed of a substrate,
The electrophoretic analysis chip, wherein the reservoir member includes a liquid level adjustment unit capable of adjusting a liquid level of at least one of a liquid held in the first reservoir and a liquid held in the second reservoir. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の電気泳動分析チップを保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記電気泳動分析チップの液位調整部を用いて、前記第１のリザーバーに保持された液体と前記第２のリザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位を変位させる変位部と、
を備えた、電気泳動分析装置。 A holding unit for holding the electrophoresis analysis chip according to any one of claims 1 to 12,
Using the liquid level adjustment unit of the electrophoresis analysis chip held in the holding unit, at least one liquid level of the liquid held in the first reservoir and the liquid held in the second reservoir is determined. A displacement part to be displaced;
An electrophoretic analyzer comprising: 前記検体のゼータ電位を計測する計測部を備えた、請求項１３記載の電気泳動分析装置。   The electrophoretic analyzer according to claim 13, further comprising a measurement unit that measures a zeta potential of the specimen. 前記第１のリザーバーに保持された液体と前記第２のリザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位を計測する第２計測部と、
前記第２計測部の計測結果を用いて前記変位部を制御する制御部と、
を備えた、請求項１３又は１４記載の電気泳動分析装置。 A second measuring unit for measuring at least one liquid level of the liquid held in the first reservoir and the liquid held in the second reservoir;
A control unit that controls the displacement unit using a measurement result of the second measurement unit;
The electrophoretic analyzer according to claim 13 or 14, comprising: 請求項６〜１０のいずれか一項に記載の電気泳動分析チップを保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記電気泳動分析チップの液位調整部に負荷を付与可能な負荷付与部と、
を備えた、電気泳動分析装置。 A holding unit for holding the electrophoresis analysis chip according to any one of claims 6 to 10,
A load applying unit capable of applying a load to the liquid level adjusting unit of the electrophoresis analysis chip held in the holding unit;
An electrophoretic analyzer comprising: 前記第１のリザーバー、前記第２のリザーバー及び前記泳動流路は、該泳動流路と交叉する方向にそれぞれ複数設けられ、
前記負荷付与部は、複数の前記液位調整部毎に互いに独立して負荷を付与可能である
請求項１６記載の電気泳動分析装置。 A plurality of the first reservoir, the second reservoir, and the migration channel are provided in a direction crossing the migration channel,
The electrophoretic analyzer according to claim 16, wherein the load applying unit can apply a load independently of each other for each of the plurality of liquid level adjusting units. 前記検体のゼータ電位を計測する計測部を備えた、請求項１６又は１７記載の電気泳動分析装置。   The electrophoretic analyzer according to claim 16 or 17, further comprising a measurement unit that measures a zeta potential of the specimen. 前記第１のリザーバーに保持された液体と前記第２のリザーバーに保持された液体との少なくとも一方の液位を計測する第２計測部と、
前記第２計測部の計測結果を用いて前記負荷付与部を制御する制御部と、
を備えた、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の電気泳動分析装置。 A second measuring unit for measuring at least one liquid level of the liquid held in the first reservoir and the liquid held in the second reservoir;
A control unit for controlling the load applying unit using a measurement result of the second measurement unit;
The electrophoretic analyzer according to claim 16, comprising:
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