JP6336867B2 - ルツボ測定装置 - Google Patents
ルツボ測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6336867B2 JP6336867B2 JP2014193113A JP2014193113A JP6336867B2 JP 6336867 B2 JP6336867 B2 JP 6336867B2 JP 2014193113 A JP2014193113 A JP 2014193113A JP 2014193113 A JP2014193113 A JP 2014193113A JP 6336867 B2 JP6336867 B2 JP 6336867B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica glass
- glass crucible
- laser light
- crucible
- scattering state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 320
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 32
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 25
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 144
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 24
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000003841 Raman measurement Methods 0.000 description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 8
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
測定の対象となるシリカガラスルツボにレーザー光を出射する光出射部と、
前記光出射部によりシリカガラスルツボ内に入射されたレーザー光の散乱の状態を示す散乱状況を測定する散乱状況測定部と、
を有し、
前記散乱状況測定部は、シリカガラスルツボの厚み方向の各位置の散乱状況を測定するよう構成されている
という構成を採る。
前記光出射部は、シリカガラスルツボの内側から当該シリカガラスルツボの厚み方向に向かって前記レーザー光を出射するように構成され、
前記散乱状況測定部は、測定の対象となるシリカガラスルツボのうちの前記光出射部によりレーザー光を入射される部分の端面方向から前記レーザー光の散乱状況を測定するように構成されている
という構成を採る。
前記光出射部が出射するレーザー光の波長に応じた所定の波長の光を、シリカガラスルツボに照射する照明部を有し、
前記散乱状況測定部は、前記照明部による光の照射下で前記レーザー光の散乱状況を測定するよう構成されている
という構成を採る。
前記光出射部は、前記レーザー光を広角に出射するよう構成されている
という構成を採る。
前記光出射部は、シリカガラスルツボの端面方向から当該シリカガラスルツボの厚み方向の各位置に単色のレーザー光を出射するように構成され、
前記散乱状況測定部は、前記光出射部が出射した光に応じて生じるラマン散乱を前記レーザー光の散乱状況として前記各位置で測定する
という構成を採る。
前記光出射部は、予め定められた所定の間隔でシリカガラスルツボの全周に亘ってレーザー光を出射するよう構成され、
前記散乱状況測定部は、前記光出射部が出射したレーザー光に応じた前記レーザー光の散乱状況をそれぞれ測定するよう構成されている
という構成を採る。
本発明の第1の実施形態におけるルツボ測定装置を、図1乃至図10を参照して説明する。図1は、本発明の第1の実施形態にかかるルツボ測定装置の構成の一例を示す図である。図2は、シリカガラスルツボにレーザー光を入射した際の様子を、シリカガラスルツボの端面方向から測定した際の一例を示す図である。図3は、シリカガラスルツボにレーザー光を入射した際の様子を、シリカガラスルツボの端面方向から測定した際の一例を示す図である。図4は、シリカガラスルツボの構造とレーザー光の散乱状況との関係の一例を示す図である。図5は、シリカガラスルツボの構造とレーザー光の散乱状況との関係の一例を示す図である。図6は、実際の測定画像の一例を示す図である。図7は、図5で示すシリカガラスルツボの内部残留応力を示す図である。図8は、第1の実施形態にかかるルツボ測定装置の動作の一例を示す図である。図9は、クロスラインレーザーを用いて、シリカガラスルツボ1の厚み方向の散乱状況を測定した図の一例である。図10は、クロスラインレーザーを用いて、シリカガラスルツボ1の厚み方向の散乱状況を測定した図の一例である。
図6は、実際にシリカガラスルツボ1にレーザー光を入射した際の、レーザー光の散乱状況を、カメラ部3を用いて撮影した画像である。図6(A)を参照すると、シリカガラスルツボ1に入射されたレーザー光は、当該シリカガラスルツボ1の内側から所定位置まで透過した後、一部散乱している状況が観測される。そのため、図6(A)で示すシリカガラスルツボ1は、レーザー光が透過する領域である透明層と、透明層の外側に位置しレーザー光が散乱する領域である気泡含有層と、を有していると判別することが出来る。
続いて、本発明の第2の実施形態について、図11及び図12を参照して説明する。図11は、本実施形態におけるルツボ測定装置の構成の一例を示している。図12は、照明部による照明下での散乱状況の測定のしやすさの違いを説明するための図である。
次に、本発明の第3の実施形態について、図13乃至図16を参照して説明する。図13は、本実施形態におけるルツボ測定装置の構成の一例である。図14は、本実施形態におけるルツボ測定装置がラマンスペクトルの測定を行う位置の一例を示す図である。図15及び図16は、実際に測定したラマンスペクトルの一例である。
図15及び図16は、実際にシリカガラスルツボ1の厚み方向の各位置のラマンスペクトルを測定した結果である。図15は、図6(A)、図7(A)と同様のシリカガラスルツボ1の端面の、当該シリカガラスルツボ1の厚み方向の各位置のラマンスペクトルを測定した結果である。図16は、図6(B)、図7(B)と同様のシリカガラスルツボ1の端面の、当該シリカガラスルツボ1の厚み方向の各位置のラマンスペクトルを測定した結果である。
2 レーザーポインタ
3 カメラ部
4 照明部
21 レーザー部
31 ラマン分光測定部
311 レイリー光除去フィルタ
312 分光器
313 検出器
Claims (6)
- 測定の対象となるシリカガラスルツボにレーザー光を出射する光出射部と、
前記光出射部によりシリカガラスルツボ内に入射されたレーザー光の散乱の状態を示す散乱状況を測定する散乱状況測定部と、
を有し、
前記散乱状況測定部は、シリカガラスルツボの厚み方向の各位置の散乱状況を測定するよう構成され、
前記光出射部は、シリカガラスルツボの厚み方向に向かって前記レーザー光を出射するように構成され、
前記散乱状況測定部は、測定の対象となるシリカガラスルツボのうちの前記光出射部によりレーザー光を入射される部分の端面方向から前記レーザー光の散乱状況を測定するように構成されている
ルツボ測定装置。 - 前記光出射部は、シリカガラスルツボの内側から当該シリカガラスルツボの厚み方向に向かって前記レーザー光を出射するように構成されている
請求項1に記載のルツボ測定装置。 - 前記光出射部が出射するレーザー光の波長に応じた所定の波長の光を、シリカガラスルツボに照射する照明部を有し、
前記散乱状況測定部は、前記照明部による光の照射下で前記レーザー光の散乱状況を測定するよう構成されている
請求項1又は2に記載のルツボ測定装置。 - 前記光出射部は、前記レーザー光を広角に出射するよう構成されている
請求項1乃至3のいずれかに記載のルツボ測定装置。 - 前記光出射部は、予め定められた所定の間隔でシリカガラスルツボの全周に亘ってレーザー光を出射するよう構成され、
前記散乱状況測定部は、前記光出射部が出射したレーザー光に応じた前記レーザー光の散乱状況をそれぞれ測定するよう構成されている
請求項1乃至4のいずれかに記載のルツボ測定装置。 - 測定の対象となるシリカガラスルツボにレーザー光を出射する光出射部と、
前記光出射部によりシリカガラスルツボ内に入射されたレーザー光の散乱の状態を示す散乱状況を測定する散乱状況測定部と、
を有し、
前記散乱状況測定部は、シリカガラスルツボの厚み方向の各位置の散乱状況を測定するよう構成され、
前記光出射部は、シリカガラスルツボの端面方向から当該シリカガラスルツボの端面における厚み方向の各位置に単色のレーザー光を出射するように構成され、
前記散乱状況測定部は、測定の対象となるシリカガラスルツボのうちの前記光出射部によりレーザー光を入射される部分の端面方向から、前記光出射部が出射した光に応じて生じるラマン散乱を前記レーザー光の散乱状況として測定する
ルツボ測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014193113A JP6336867B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | ルツボ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014193113A JP6336867B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | ルツボ測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016064931A JP2016064931A (ja) | 2016-04-28 |
JP6336867B2 true JP6336867B2 (ja) | 2018-06-06 |
Family
ID=55803889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014193113A Active JP6336867B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | ルツボ測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6336867B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017158656A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボ、シリカガラスルツボの製造方法 |
WO2017158655A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 株式会社Sumco | ルツボ測定装置、ルツボ測定方法、ルツボの製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030024467A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-06 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method of eliminating near-surface bubbles in quartz crucibles |
KR101248915B1 (ko) * | 2009-12-11 | 2013-04-01 | 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 | 실리카 유리 도가니 |
JP5749151B2 (ja) * | 2011-12-22 | 2015-07-15 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボのラマンスペクトルの三次元形状測定方法 |
JP6405828B2 (ja) * | 2014-09-22 | 2018-10-17 | 株式会社Sumco | ルツボ測定方法 |
JP2016064932A (ja) * | 2014-09-22 | 2016-04-28 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボ |
JP6405827B2 (ja) * | 2014-09-22 | 2018-10-17 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボの製造方法 |
-
2014
- 2014-09-22 JP JP2014193113A patent/JP6336867B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016064931A (ja) | 2016-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6405828B2 (ja) | ルツボ測定方法 | |
KR101894683B1 (ko) | 금속체의 형상 검사 장치 및 금속체의 형상 검사 방법 | |
EP3182060B1 (en) | Shape inspection apparatus for metallic body and shape inspection method for metallic body | |
EP3088573B1 (en) | Quartz glass crucible and strain measurement device therefor | |
JP2016064932A (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP6405827B2 (ja) | シリカガラスルツボの製造方法 | |
JP2007024674A (ja) | 表面・表層検査装置、及び表面・表層検査方法 | |
JP6336867B2 (ja) | ルツボ測定装置 | |
WO2017158655A1 (ja) | ルツボ測定装置、ルツボ測定方法、ルツボの製造方法 | |
JP2007040736A (ja) | 形状計測装置 | |
WO2017158656A1 (ja) | シリカガラスルツボ、シリカガラスルツボの製造方法 | |
JP5164086B2 (ja) | 物体の歪を検出する方法およびその装置 | |
KR102279169B1 (ko) | 검출 장치 및 검출 방법 | |
JP2008020332A (ja) | 薄膜測定方法及び薄膜測定装置 | |
JP5601442B2 (ja) | 赤外線光学系の評価装置 | |
JP2010117326A (ja) | 応力測定装置および応力測定方法 | |
JP2010156557A (ja) | 入射光学系及びラマン散乱光測定装置 | |
JP2013217903A (ja) | 試料分析装置及び試料分析プログラム | |
JP2017518485A (ja) | 立体測定式基板走査機 | |
JP5682553B2 (ja) | シリカガラスルツボを用いたシリコン単結晶引上げの条件設定を支援する装置 | |
TWI426248B (zh) | 光譜量測系統與光譜量測方法 | |
JP6358040B2 (ja) | 内径測定装置の最適測定位置の検出方法 | |
JP2016217828A (ja) | 欠陥検出装置 | |
JP5246173B2 (ja) | 燃料性状判定装置 | |
AlTabich et al. | Imaging of defects in zinc oxide by spectrally resolved two-photon fluorescence microscopy |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170728 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180417 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180507 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6336867 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |