JP6324246B2 - リソグラフィ装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Description
優先度が高い基板を含む第3ロットの処理の割り込み要求があった場合、前記制御部は、前記優先度に基づいて、前記第3ロットの基板に対して前記形成部を割当て、前記第1ロットの複数の基板及び前記第2ロットの複数の基板に割当てる前記形成部の数を変更するように、前記第1ロットの複数の基板、前記第2ロットの複数の基板及び前記第3ロットの基板に対して前記複数の形成部の再割当てを行い、
前記制御部は、前記再割当てに基づいて、前記第1ロットの複数の基板、前記第2ロットの複数の基板及び前記第3ロットの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせることを特徴とするリソグラフィ装置である。
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。なお、実施形態を説明するための全図を通して、原則として(断りのない限り)、同一の部材等には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
既に説明した図1−3を参照して実施形態2の説明を行う。実施形態1と共通する事項については説明を省略する。各ロットの属性は、実施形態1では、複数のロットそれぞれに属する基板の数を含むものとしたが、実施形態2では、複数のロットそれぞれに属する基板に形成されたパターンに対する重ね合わせの特性をさらに含む。各形成部1は、当該重ね合わせに影響する固有の特性を有する。当該特性は、例えば、光学系4の特性、ステージ5の位置決めのための制御系(計測器を含む)の特性、ならびに光学系4およびステージ5のうち少なくとも一方を支持する構造体の特性のうち少なくとも一つを含みうる。ここで、同一のロットに属する複数の基板をそれぞれ処理する複数の形成部(形成部群50)は、当該特性が互いに同一または類似の形成部から構成されうる。当該複数の形成部(形成部群50)は、主制御部40により割り当てられる。
図4および図5は、それぞれ実施形態3に係るリソグラフィ装置の構成例を示す図である。図4および図5を参照して実施形態3を説明する。まず、図4において、搬送部の構成が図3のそれとは異なっている。なお、図4において、各形成部群50を5個の形成部1から構成しているが、各形成部群50における形成部1の個数はそれには限定されない。図4において、搬送部53は、形成部群50を囲むように形成部群50の周囲に配置されている。このように構成することにより、基板バッファ54から目的の形成部1への基板7の搬送経路は複数通り採りうる。よって、一部の搬送経路にエラーが発生しても、他の搬送経路を介して基板の搬送が可能となり、搬送部のロバスト性が高まる。また、このような搬送部53の構成により、形成部群50を構成する形成部1の個数の変更を容易に行うことができる。また、ロバスト性の点で有利な搬送部53の構成は、例えば、図5の構成によっても実現しうる。図5において、搬送部53は、その搬送経路がネットワーク状(網状または網目状)に構成(形成)されている。なお、搬送経路の構成は、図4および図5の構成例に限られず、搬送部のロバスト性を高めるような構成であればよく、配置スペースやコスト等を考慮して決めうるものである。
以上の説明では、図3のステップS301で取得する属性は、複数のロットそれぞれに属する基板の数や、それに加えて複数のロットそれぞれに属する基板に形成されたパターンに対する重ね合わせ特性(要求重ね合わせ精度等)を含むものとした。しかしながら、当該属性は、それらには限定されず、以下を含むようなものであってもよい。
・「複数のロットそれぞれに属する基板の数に加えて」でなく、複数のロットそれぞれに属する基板に形成されたパターンに対する重ね合わせ特性(要求重ね合わせ精度等)のみ
・複数のロットそれぞれの処理(パターン形成)に許容される所要時間
・複数のロットそれぞれの処理(パターン形成)の優先度
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロまたはナノデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ装置を用いて、パターン形成を基板に行う工程と、かかる工程でパターン形成を行われた基板を加工(現像等)する工程とを含みうる。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
40 主制御部
Claims (12)
- それぞれがパターンの形成処理を基板に行う複数の形成部を含むリソグラフィ装置であって、
それぞれが複数の基板を含む第1ロット及び第2ロットのそれぞれの属性の情報に基づいて、前記第1ロットの複数の基板に対して前記複数の形成部を割当て、前記第2ロットの複数の基板に対して前記複数の形成部を割当て、該割当てに基づいて前記第1ロットの複数の基板及び前記第2ロットの複数の基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせる制御部を含み、
優先度が高い基板を含む第3ロットの処理の割り込み要求があった場合、前記制御部は、前記優先度に基づいて、前記第3ロットの基板に対して前記形成部を割当て、前記第1ロットの複数の基板及び前記第2ロットの複数の基板に割当てる前記形成部の数を変更するように、前記第1ロットの複数の基板、前記第2ロットの複数の基板及び前記第3ロットの基板に対して前記複数の形成部の再割当てを行い、
前記制御部、前記再割当てに基づいて、前記第1ロットの複数の基板、前記第2ロットの複数の基板及び前記第3ロットの基板に対して前記複数の形成部に並行してパターンの形成処理を行わせることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記属性の情報は、基板の数の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記属性の情報は、パターン形成に許容される時間の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記属性の情報は、パターン形成の優先度の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記優先度の情報は、前記複数のロットのそれぞれのパターン形成を完了すべき時刻の情報を含むことを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記属性の情報は、要求されるパターンの重ね合わせ特性の情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記重ね合わせ特性の情報は、前記形成部の光学系、前記基板を保持するステージの位置決めのための制御系、および、前記光学系又は前記ステージを支持する構造体のうち少なくとも一つの特性の情報を含むことを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記情報を、前記複数のロットのそれぞれに対応するレシピの情報から取得することを特徴とする請求項1ないし請求項7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の形成部のそれぞれに基板を搬送する搬送部を含み、該搬送部は、1つの前記形成部へ基板を搬送するための搬送経路を複数有することを特徴とする請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記搬送経路が前記複数の形成部を囲むように配置されていることを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の搬送経路が網目状に配置されていることを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1ないし請求項11のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンの形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターンの形成を行われた基板を加工する工程と、
を含み、加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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