JP6310739B2 - 電界吸収型変調器、光モジュール、及び電界吸収型変調器の製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (5)
- Mg若しくはCのいずれか又はその組み合わせがドーパントとして第1濃度に添加される多重量子井戸層と、
前記第1濃度よりも高濃度である第2濃度にMgがドーパントとして添加されるとともに、前記多重量子井戸層に接して形成されるp型半導体層と、
を備え、
前記第1濃度は、2×10 16 cm −3 以上2×10 17 cm −3 以下である、
ことを特徴とする、電界吸収型変調器。 - 請求項1に記載の電界吸収型変調器であって、
前記第1濃度は、前記多重量子井戸層の層厚の中心部分におけるドーパント濃度である、
ことを特徴とする、電界吸収型変調器。 - 請求項2に記載の電界吸収型変調器であって、
前記多重量子井戸層の、積層方向に沿うそれぞれの位置におけるドーパント濃度は、前記第1濃度の±1×1016cm−3以内である、
ことを特徴とする、電界吸収型変調器。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の電界吸収型変調器を備える、レーザモジュールと、
受信器と、
を備える、光モジュール。 - Mg若しくはCのいずれか又はその組み合わせがドーパントとして第1濃度に添加される多重量子井戸層を積層する、多重量子井戸積層工程と、
前記第1濃度よりも高濃度である第2濃度にMgがドーパントとして添加されるp型半導体層を、前記多重量子井戸層に接して積層する、隣接p型半導体層積層工程と、
を備え、
前記第1濃度は、2×10 16 cm −3 以上2×10 17 cm −3 以下である、
ことを特徴とする、電界吸収型変調器の製造方法。
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