JP6306540B2 - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents
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Description
開示の実施形態は、基板処理装置および基板処理方法に関する。 Embodiments disclosed herein relate to a substrate processing apparatus and a substrate processing method.
従来、シリコンウェハや化合物半導体ウェハなどの基板に薬液等の処理液を供給することにより、基板上の膜を除去するエッチング処理が知られている。具体的には、たとえば、基板の周縁に向けて処理液を吐出させて当てることで、膜をエッチング除去する基板処理装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。 Conventionally, an etching process for removing a film on a substrate by supplying a processing solution such as a chemical solution to a substrate such as a silicon wafer or a compound semiconductor wafer is known. Specifically, for example, there is known a substrate processing apparatus that etches and removes a film by discharging and applying a processing liquid toward the periphery of the substrate (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、基板の裏面の周縁付近には、たとえばポリマーやボート痕等の不要物が付着することがある。かかる不要物が付着した基板の裏面に対し、従来技術のように、処理液を吐出させて当てる方法では、不要物を除去することが難しく、除去性能の向上という点で改善の余地があった。 However, unnecessary substances such as polymers and boat traces may adhere to the periphery of the back surface of the substrate. With the method of discharging the treatment liquid to the back surface of the substrate to which such unnecessary materials have adhered, it is difficult to remove the unnecessary materials and there is room for improvement in terms of improving removal performance. .
実施形態の一態様は、基板に付着した不要物に対する除去性能を向上させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。 An object of one embodiment of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that can improve the removal performance with respect to unnecessary substances attached to a substrate.
実施形態の一態様に係る基板処理装置は、保持部と、環状部材と、液供給部とを備える。保持部は、基板を保持する。環状部材は、前記保持部によって保持された前記基板の外周縁を含む下面と対向するように配置され前記基板の周方向に沿って環状に形成された底面部、および、前記底面部の外周縁から上方へ向けて立設される外周側壁を備える。液供給部は、前記環状部材と前記基板との間を満たす処理液を供給する。 A substrate processing apparatus according to an aspect of an embodiment includes a holding unit, an annular member, and a liquid supply unit. The holding unit holds the substrate. The annular member is disposed so as to face the lower surface including the outer peripheral edge of the substrate held by the holding portion, and is formed in an annular shape along the circumferential direction of the substrate, and the outer peripheral edge of the bottom surface portion An outer peripheral side wall that is erected upward from the top is provided. The liquid supply unit supplies a processing liquid that fills a space between the annular member and the substrate.
実施形態の一態様によれば、基板に付着した不要物に対する除去性能を向上させることができる。 According to one aspect of the embodiment, it is possible to improve the removal performance with respect to unnecessary substances attached to the substrate.
以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板処理装置および基板処理方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of a substrate processing apparatus and a substrate processing method disclosed in the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, this invention is not limited by embodiment shown below.
<1.基板処理システムの構成>
(第1の実施形態)
図1は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
<1. Configuration of substrate processing system>
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate processing system according to the present embodiment. In the following, in order to clarify the positional relationship, the X axis, the Y axis, and the Z axis that are orthogonal to each other are defined, and the positive direction of the Z axis is the vertically upward direction.
図1に示すように、基板処理システム1は、搬入出ステーション2と、処理ステーション3とを備える。搬入出ステーション2と処理ステーション3とは隣接して設けられる。
As shown in FIG. 1, the substrate processing system 1 includes a carry-in /
搬入出ステーション2は、キャリア載置部11と、搬送部12とを備える。キャリア載置部11には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ(以下ウェハW)を水平状態で収容する複数のキャリアCが載置される。
The carry-in /
搬送部12は、キャリア載置部11に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置13と、受渡部14とを備える。基板搬送装置13は、ウェハWを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置13は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアCと受渡部14との間でウェハWの搬送を行う。
The
処理ステーション3は、搬送部12に隣接して設けられる。処理ステーション3は、搬送部15と、複数の処理ユニット16とを備える。複数の処理ユニット16は、搬送部15の両側に並べて設けられる。
The
搬送部15は、内部に基板搬送装置17を備える。基板搬送装置17は、ウェハWを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置17は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部14と処理ユニット16との間でウェハWの搬送を行う。
The
処理ユニット16は、基板搬送装置17によって搬送されるウェハWに対して所定の基板処理を行う。
The
また、基板処理システム1は、制御装置4を備える。制御装置4は、たとえばコンピュータであり、制御部18と記憶部19とを備える。記憶部19には、基板処理システム1において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部18は、記憶部19に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム1の動作を制御する。
Further, the substrate processing system 1 includes a
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置4の記憶部19にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。
Such a program may be recorded on a computer-readable storage medium, and may be installed in the
上記のように構成された基板処理システム1では、まず、搬入出ステーション2の基板搬送装置13が、キャリア載置部11に載置されたキャリアCからウェハWを取り出し、取り出したウェハWを受渡部14に載置する。受渡部14に載置されたウェハWは、処理ステーション3の基板搬送装置17によって受渡部14から取り出されて、処理ユニット16へ搬入される。
In the substrate processing system 1 configured as described above, first, the
処理ユニット16へ搬入されたウェハWは、処理ユニット16によって処理された後、基板搬送装置17によって処理ユニット16から搬出されて、受渡部14に載置される。そして、受渡部14に載置された処理済のウェハWは、基板搬送装置13によってキャリア載置部11のキャリアCへ戻される。
The wafer W carried into the
次に、基板処理システム1の処理ユニット16の概略構成について図2を参照して説明する。図2は、処理ユニット16の概略構成を示す図である。
Next, a schematic configuration of the
図2に示すように、処理ユニット16は、チャンバ20と、基板保持機構30と、処理流体供給部40と、回収カップ50とを備える。
As shown in FIG. 2, the
チャンバ20は、基板保持機構30と処理流体供給部40と回収カップ50とを収容する。チャンバ20の天井部には、FFU(Fan Filter Unit)21が設けられる。FFU21は、チャンバ20内にダウンフローを形成する。
The
基板保持機構30は、保持部31と、支柱部32と、駆動部33とを備える。保持部31は、ウェハWを水平に保持する。支柱部32は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部33によって回転可能に支持され、先端部において保持部31を水平に支持する。駆動部33は、支柱部32を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構30は、駆動部33を用いて支柱部32を回転させることによって支柱部32に支持された保持部31を回転させ、これにより、保持部31に保持されたウェハWを回転させる。
The
処理流体供給部40は、ウェハWに対して処理流体を供給する。処理流体供給部40は、処理流体供給源70に接続される。
The processing
回収カップ50は、保持部31を取り囲むように配置され、保持部31の回転によってウェハWから飛散する処理液を捕集する。回収カップ50の底部には、排液口51が形成されており、回収カップ50によって捕集された処理液は、かかる排液口51から処理ユニット16の外部へ排出される。また、回収カップ50の底部には、FFU21から供給される気体を処理ユニット16の外部へ排出する排気口52が形成される。
The
<2.処理ユニットの具体的構成>
次に、処理ユニット16の構成について図3を参照してより具体的に説明する。図3は、処理ユニット16の具体的な構成の一例を示す模式図である。図3では、処理ユニット16の特徴を説明するために必要な構成要素のみを示しており、一般的な構成要素についての記載を省略している。
<2. Specific configuration of processing unit>
Next, the configuration of the
図3に示すように、本実施形態に係る処理ユニット16が備えるチャンバ20のFFU21には、バルブ22を介して不活性ガス供給源23が接続される。FFU21は、不活性ガス供給源23から供給されるN2ガス等の不活性ガスをダウンフローガスとしてチャンバ20内へ吐出する。
As shown in FIG. 3, an inert
基板保持機構30は、ウェハWよりも小径な保持部31を備える。保持部31は、たとえばバキュームチャックであり、ウェハWの裏面の中心部を吸着保持する。基板保持機構30の駆動部33は、上記した保持部31の回転に加え、保持部31の昇降も行う。すなわち、基板保持機構30は、駆動部33を用いて支柱部32を昇降させることによって支柱部32に支持された保持部31を昇降させ、これにより、保持部31に保持されたウェハWを昇降させる。なお、駆動部33は、昇降部の一例である。
The
処理流体供給部40は、第1流体供給部40aと、第2流体供給部40bとを備える。第1流体供給部40aは、ウェハWの表面W1の外周縁Wa付近に対し、薬液などの処理流体を供給する。
The processing
具体的には、第1流体供給部40aは、ノズル41a〜41cと、ノズル41a〜41cを水平に支持するアーム42と、アーム42を旋回および昇降させる旋回昇降機構43とを備える。
Specifically, the first
ノズル41aは、バルブ60aを介して第1薬液供給源70aに接続される。第1薬液供給源70aは、たとえば、HF(フッ酸)の供給源である。HFは、一連の基板処理のうちの薬液処理、詳しくはエッチング処理において用いられるエッチング液の一例である。
The
ノズル41bは、バルブ60bを介して第1リンス液供給源70bに接続される。第1リンス液供給源70bは、DIW(純水)の供給源である。DIWは、リンス処理において用いられるリンス液の一例である。
The
ノズル41cは、バルブ60cを介して第1ガス供給源70cに接続される。第1ガス供給源70cは、不活性ガスの一種であるN2(窒素ガス)の供給源である。N2は、ウェハWの裏面W2に対する処理において用いられるガスであるが、これについては後述する。
The
なお、上記した第1薬液供給源70aから供給される薬液、第1リンス液供給源70bから供給されるリンス液、および、第1ガス供給源70cから供給されるN2は、常温であるが、これに限られず、常温よりも温度が高くてもよい。たとえば、高温の薬液の場合、エッチング処理におけるエッチングレートを向上させることが可能となる。また、ここでは、処理流体ごとに専用のノズル41a〜41cを設けることとしたが、複数の処理流体でノズルを共用してもよい。
Note that the chemical liquid supplied from the first chemical
第2流体供給部40bは、ウェハWの裏面W2の外周縁Wa付近に対し、薬液などの処理流体を供給し、エッチング処理などを行う。
The second
ところで、ウェハWの裏面W2の外周縁Wa付近には、たとえばポリマーやボート痕などの不要物が付着することがある。なお、ボート痕とは、たとえば、図示しない成膜装置における成膜処理時に、ウェハWの裏面W2の外周縁Wa付近に付着するチャック痕である。 By the way, in the vicinity of the outer peripheral edge Wa of the back surface W <b> 2 of the wafer W, for example, unnecessary substances such as polymers and boat traces may adhere. The boat trace is, for example, a chuck trace that adheres to the vicinity of the outer peripheral edge Wa of the back surface W2 of the wafer W during a film forming process in a film forming apparatus (not shown).
上記した不要物が付着したウェハWの裏面W2に対し、たとえば、薬液を吐出させて当てるような方法では、不要物を除去することが難しかった。そこで、本実施形態に係る処理ユニット16においては、ウェハWに付着した不要物を除去でき、除去性能を向上させることができるような構成とした。
For example, it is difficult to remove unnecessary substances by a method in which a chemical solution is ejected and applied to the back surface W2 of the wafer W to which the above-described unnecessary substances adhere. Therefore, the
以下、詳しく説明すると、第2流体供給部40bは、ノズル41d,41fと、環状部材80とを備える。ノズル41dは、バルブ60dを介して第2薬液供給源70dに接続される。また、ノズル41dは、バルブ60eを介して第2リンス液供給源70eにも接続される。
Hereinafter, in detail, the second
第2薬液供給源70dは、常温よりも温度の高い高温の薬液(たとえばHF)の供給源である。なお、図3では、薬液の供給源が第1、第2薬液供給源70a,70dの2つある例を示したが、1つであってもよい。かかる場合、ノズル41dへ薬液を供給する流路に、ヒータなどの加熱装置を設け、加熱装置によって加熱された高温の薬液をノズル41dへ供給する。
The second chemical
また、第2リンス液供給源70eは、リンス液の一例でDIWの供給源である。なお、ここでは、リンス液の供給源が第1、第2リンス液供給源70b,70eの2つの場合を例に挙げたが、1つであってもよい。
The second rinse
ノズル41fは、バルブ60fを介して第2ガス供給源70fに接続される。第2ガス供給源70fは、不活性ガスの一種であるN2の供給源である。第2ガス供給源70fからは、常温よりも温度の高い高温のN2ガスが供給される。高温のN2は、ウェハWの裏面W2に対する処理において用いられるガスであるが、これについては後述する。
The
上記したノズル41dは、環状部材80に接続される。図4は、図3に示す環状部材80を含む第2流体供給部40bの平面図である。なお、図4では、環状部材80とウェハWとの位置関係を明示するため、保持部31によって保持されたときのウェハWを想像線で示した。
The
図4に示すように、環状部材80は、上面視においてウェハWの外周縁Waを囲むように形成される。また、図3に示すように、環状部材80は、上面に薬液などを溜めることができるカップ状に形成される。なお、以下では、環状部材80に溜められた薬液などの処理液を「パドル」という場合がある。
As shown in FIG. 4, the
本実施形態では、かかる環状部材80に薬液を溜めてパドルを形成し、パドルによってウェハWの裏面W2(以下「下面W2」という場合がある)のエッチング処理を行うようにした。
In the present embodiment, a chemical solution is stored in the
具体的に説明すると、環状部材80は、図3,4に示すように、底面部80aと、外周側壁80bと、内周側壁80cとを備える。底面部80aは、保持部31(図3参照)によって保持されたウェハWの外周縁Waを含む下面W2と対向するように配置される。また、底面部80aは、ウェハWの周方向に沿って環状に形成される平板である。
More specifically, as shown in FIGS. 3 and 4, the
本実施形態では、環状部材80を上記の構成としたため、上面視において中心に中空部分80dを形成することができ、かかる中空部分80dに、保持部31を位置させることが可能となる。これにより、保持部31によって保持されたウェハWの下面W2と底面部80aとを容易に対向配置させることができる。
In the present embodiment, since the
図5は、図3に示す環状部材80付近の拡大図である。なお、図5では、理解し易いように、環状部材80に薬液が溜まってパドルが形成された状態を示し、かかるパドルに符号Aを付した。
FIG. 5 is an enlarged view of the vicinity of the
図5に示すように、外周側壁80bは、底面部80aの外周縁80a1から上方へ向けて立設される。詳しくは、外周側壁80bは、底面部80aの外周縁80a1から連続して形成される。また、外周側壁80bは、底面部80aの外周縁80a1からウェハWの径方向外側(図5に示す例では紙面右側)に斜め上方へ向けて立設される。このように、底面部80aに外周側壁80bを設けることで、環状部材80にあっては、パドルAを容易に形成することができる。
As shown in FIG. 5, the outer
また、外周側壁80bは、先端である端部80b1のZ軸方向の高さhb、正確には、底面部80aから端部80b1までの高さhbは、たとえば、ウェハWの下面W2の高さ(位置)と同じ、または、ウェハWの下面W2の高さよりも低くなるように設定される。これにより、後述する裏面W2の薬液処理において、薬液が環状部材80に供給された場合に、薬液の液面をウェハWの下面W2まで確実に到達させることができ、よって環状部材80とウェハWとの間を薬液で満たすことができる。
Further, the outer
また、たとえば仮に、外周側壁80bの端部80b1の高さがウェハWの下面W2の高さよりも高いと、薬液がウェハWの表面W1側へ回り込んでしまうおそれがある。しかしながら、本実施形態では、端部80b1の高さが上記のように設定されることで、薬液のウェハWの表面W1への回り込みを抑制することができる。
For example, if the height of the end portion 80b1 of the outer
内周側壁80cは、底面部80aの内周縁80a2から上方へ向けて立設される。詳しくは、内周側壁80cは、底面部80aの内周縁80a2から連続して形成される。また、内周側壁80cは、内周縁80a2からウェハWの径方向外側(図5では紙面右側)に斜め上方へ向けて立設される。このように、底面部80aに内周側壁80cを設けることで、ノズル41dから供給された薬液が環状部材80の内側から流れ出ることを防ぐことができる。したがって、環状部材80にあっては、パドルAをより一層容易に形成することができる。
The inner
また、内周側壁80cは、先端である端部80c1のZ軸方向の高さhc、正確には、底面部80aから端部80bcまでの高さhcは、たとえば、ウェハWの下面W2の高さ(位置)よりも低くなるように設定される。これにより、環状部材80が、回転するウェハWと干渉することを防止しつつ、薬液の液面をウェハWの下面W2まで到達させることができる。
Further, the inner
ここで、底面部80aの内周縁80a2のウェハWに対する位置、言い換えれば、内周側壁80cのウェハWに対する位置について説明する。図4に示すように、内周縁80a2は、ウェハWにおいて、ウェハWの外周縁Waから径方向内側へ所定距離D1離間した部位と対向する位置に配置される。
Here, the position of the inner peripheral edge 80a2 of the
かかる位置に内周縁80a2が配置され、内周縁80a2に内周側壁80cが設けられるようにしたことから、ウェハWの外周縁Waから径方向内側へ所定距離D1離間した部位までを、環状部材80のパドルAに接触させることができる。すなわち、所定距離D1は、任意に設定可能な数値であるが、たとえば、ウェハWの外周縁Waに対してエッチング処理を施したい範囲に設定されることが好ましい。
Since the inner peripheral edge 80a2 is disposed at such a position and the inner
そして、環状部材80の底面部80aには、上記したノズル41dが接続される。エッチング処理の際には、ノズル41dから環状部材80に薬液が供給され、環状部材80とウェハWとの間が薬液に満たされて、パドルAが形成される。
The
なお、環状部材80において、ノズル41dが接続される部分は、図示の例に限定されるものではなく、外周側壁80bや内周側壁80cなどその他の部分であってもよい。また、図3,4に示すノズル41dの数は、例示であって限定されるものではなく、2個以上であってもよい。さらに、ノズル41dは、薬液をウェハWの回転方向に沿って円滑に供給できるよう、ウェハWの径方向に対して斜め方向を向くようにしてもよい。なお、ノズル41dは、液供給部の一例である。
In the
ノズル41fは、図4に示すように、環状部材80の内周側壁80cに周方向に並べて複数個配置される。なお、図4では、複数個あるノズル41fのうちの一部を図示し、残余のノズル41fは、図示の簡略化のため、ドットで示した。
As shown in FIG. 4, a plurality of
また、ノズル41fは、図5に示すように、ウェハWにおいて環状部材80との間に満たされた薬液よりもウェハWの径方向内側の部位へ向けて高温のN2を吐出する。図5では、高温のN2が吐出される部位を破線で囲み、符号Wbを付した。これにより、環状部材80に溜まった薬液が、N2によってウェハWの径方向外側へ押し込まれ、ウェハWの径方向内側、すなわち、保持部31側へ回り込むことを防止することができる。
Further, as shown in FIG. 5, the
また、ノズル41fにあっては、ウェハWの径方向外側から内側へ向けて斜めにN2を供給するようにした。これにより、N2が直接、環状部材80内のパドルAに吐出されなくなり、除去性能が低下することを抑制することができる。
Further, in the
すなわち、たとえば仮に、N2が直接、環状部材80内のパドルAに吐出されると、パドルAとウェハWとの接触面が揺れるなどして乱れ、エッチング処理における除去性能に影響を及ぼすおそれがある。本実施形態では、上記のように、ノズル41fは、ウェハWの径方向外側から内側へ向けて斜めにN2を供給するようにしたので、N2が直接、環状部材80内のパドルAに吐出されなくなり、除去性能が低下することを抑制することができる。
That is, for example, if N2 is directly discharged to the paddle A in the
また、ノズル41fからは高温のN2が供給されることから、ウェハWを加熱することができ、エッチング処理におけるエッチングレートを向上させることができる。
Further, since the high temperature N2 is supplied from the
また、上記のように構成した環状部材80には、振動部85が複数個取り付けられる。振動部85は、環状部材80とウェハWとの間に満たされた薬液(パドルA)に対して振動を付与する。これにより、パドルAにおいてキャビテーションが生じ、不要物がより一層除去され、エッチング処理における除去性能をより一層向上させることができる。なお、振動部85としては、たとえば、超音波振動子を用いることができるが、これに限定されるものではない。
A plurality of vibrating
また、振動部85は、環状部材80において、ウェハWの外周縁Waに対応する位置に配置されることが好ましい。これにより、不要物が付着しやすいウェハWの外周縁Wa付近において、不要物をより確実に除去することができる。なお、図4に示すように、本実施形態では、振動部85を複数個(2個)、上面視において対称な位置に配置するようにしたが、これは例示であって限定されるものではない。
In addition, the vibrating
環状部材80には、排水路82が接続され、排水路82の途中にはバルブ83が介挿される。従って、バルブ83が開弁されると、環状部材80内の薬液は排水路82を介して外部へ排水される。これにより、環状部材80内の液だまりを防止することができる。
A
<3.基板処理システムの具体的動作>
次に、本実施形態に係る基板処理システム1が実行する基板処理の内容について図6を参照して説明する。
<3. Specific operation of substrate processing system>
Next, the contents of the substrate processing executed by the substrate processing system 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
図6は、本実施形態に係る基板処理システム1が実行する基板処理の処理手順を示すフローチャートである。なお、図6に示す各処理手順は、制御装置4の制御部18の制御に従って実行される。
FIG. 6 is a flowchart showing a substrate processing procedure performed by the substrate processing system 1 according to the present embodiment. Each processing procedure shown in FIG. 6 is executed under the control of the control unit 18 of the
図6に示すように、処理ユニット16では、まず、ウェハWの搬入処理が行われる(ステップS101)。かかる搬入処理では、基板搬送装置17(図1参照)によって保持部31上にウェハWが載置された後、保持部31によってウェハWが保持される。
As shown in FIG. 6, in the
続いて、処理ユニット16では、ウェハWの表面薬液処理が行われる(ステップS102)。かかる表面薬液処理では、制御部18は、駆動部33を制御し、保持部31を回転させることにより、保持部31に保持されたウェハWを所定の回転数で回転させる。次いで、制御部18は、バルブ60aを所定時間開放することによって、第1薬液供給源70aから供給されるHFをノズル41aからウェハWの表面W1の外周縁Wa付近へ供給する。これにより、ウェハWの表面W1の外周縁Wa付近に形成された膜がHFによってエッチングされる。
Subsequently, in the
次いで、処理ユニット16では、ウェハWの裏面薬液処理が行われる(S103)。かかる裏面薬液処理では、制御部18は、駆動部33を制御し、ウェハWを表面薬液処理時よりも低い回転数で回転させる。
Next, in the
次いで、制御部18は、バルブ60dを所定時間開放することによって、第2薬液供給源70dから供給されるHFをノズル41dから環状部材80へ供給する。これにより、環状部材80とウェハWの下面W2との間がHFによって満たされ、パドルAが形成される。かかるパドルAは、液面がウェハWの下面W2に接触した状態である。
Next, the control unit 18 opens the
なお、ノズル41dからのHFの供給量は、供給開始から内周側壁80cの先端である端部80c1まで液面が達するまでは、相対的に大きくすることが好ましい。その後、液面が上昇してウェハWの下面W2に接触するまでは、相対的に小さくすることが好ましい。これにより、パドルAを迅速に形成することができるとともに、HFの保持部31側への回り込みを抑制することができる。
In addition, it is preferable that the supply amount of HF from the
さらに、制御部18は、振動部85を動作させてパドルAに対して振動を付与する。これにより、パドルA、すなわち、HFが振動し、ウェハWの裏面W2に形成された膜や付着していた不要物がHFによって効率よくエッチングされる。
Further, the control unit 18 operates the
なお、ここでは、振動部85を動作させてパドルAに対して振動を付与するようにしたが、必ずしも振動を付与することを要しない。すなわち、環状部材80に溜まったHFのみでウェハWの裏面W2のエッチング処理を行うようにしてもよい。
Here, the
また、裏面薬液処理において、制御部18は、バルブ60fを所定時間開放することによって、第2ガス供給源70fから供給される高温のN2をノズル41fからウェハWの下面W2へ吐出する。これにより、環状部材80に溜まった薬液が、保持部31側へ回り込むことを防止することができるとともに、ウェハWを加熱できることから、除去性能を向上させることができる。
Further, in the backside chemical processing, the control unit 18 opens the
また、裏面薬液処理において、制御部18は、バルブ60cを所定時間開放することによって、第1ガス供給源70cから供給されるN2をノズル41cからウェハWの表面W1の外周縁Waへ吐出する。これにより、環状部材80に溜まった薬液が溢れ出た場合に、溢れ出た薬液が表面W1へ回り込むことを防止することができる。
Further, in the backside chemical processing, the control unit 18 opens the
なお、ここで、制御部18は、ウェハWの反り量に応じて駆動部33を制御して保持部31を昇降させるように構成してもよい。すなわち、たとえば、ウェハWの外周縁Waに反りが生じると、ウェハWの下面W2と環状部材80との間隔が変わり、仮に間隔が広くなると、環状部材80内のパドルAがウェハWの下面W2に到達しないおそれがある。
Here, the control unit 18 may be configured to move the holding
そこで、本実施形態では、ウェハWの反り量に応じて保持部31を昇降させ、保持部31によって保持されたウェハWを環状部材80に対して適切な位置、換言すれば、エッチング処理を行うことができる位置となるように構成してもよい。
Therefore, in the present embodiment, the holding
具体的には、制御部18は、ウェハWの外周縁Waが上側に反った場合、ウェハWが下降するように駆動部33を制御する一方、外周縁Waが下側に反った場合、ウェハWが上昇するように駆動部33を制御する。これにより、ウェハWと環状部材80との位置関係を一定に保つことができ、エッチング処理を確実に行うことができる。
Specifically, the control unit 18 controls the
なお、ウェハWの反り量については、たとえば、ステップS101でウェハWが搬入されたときに、搬入されたウェハWの特性として、ユーザから制御部18に入力されて記憶されるものとする。なお、上記では、ウェハWの反り量を制御部18が予め記憶する場合を例にとって説明したが、これに限られず、距離センサ等を用いてウェハWの反り量を実際に計測し、計測した反り量に基づいて駆動部33の制御を行うようにしてもよい。
For example, when the wafer W is loaded in step S101, the warpage amount of the wafer W is input from the user to the control unit 18 and stored as a characteristic of the loaded wafer W. In the above description, the case where the control unit 18 stores the warpage amount of the wafer W in advance has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the warpage amount of the wafer W is actually measured and measured using a distance sensor or the like. The
続いて、処理ユニット16では、リンス処理が行われる(ステップS104)。かかるリンス処理では、制御部18は、駆動部33を制御し、ウェハWを裏面薬液処理時よりも高い回転数で回転させる。次いで、制御部18は、バルブ60bを所定時間開放することによって、第1リンス液供給源70bから供給されるDIWをノズル41bからウェハWの表面W1の外周縁Wa付近へ供給する。これにより、ウェハWの表面W1に残存するHFを洗い流すことができる。
Subsequently, in the
また、制御部18は、バルブ60eを所定時間開放することによって、第2リンス供給源70eから供給されるDIWをノズル41dから環状部材80へ供給する。これにより、環状部材80とウェハWの下面W2との間がDIWによって満たされ、パドルAが形成される。かかるパドルAは、液面がウェハWの下面W2に接触した状態である。これにより、ウェハWの下面W2に残存するHFを洗い流すことができる。
Further, the control unit 18 opens the
さらに、制御部18は、振動部85を動作させてDIWのパドルAに対して振動を付与するようにしてもよい。これにより、パドルA、すなわち、DIWが振動し、ウェハWの下面W2に残存するHFを効率良く洗い流すことができる。
Further, the control unit 18 may operate the
なお、上記では、ウェハWの下面W2に残存するHFを環状部材80に溜めたDIWで洗い流すように構成したが、これに限定されるものではない。すなわち、たとえば、ウェハWの下面W2へ向けて吐出するノズルを別途設け、リンス処理では、かかるノズルからウェハWの下面W2へ向けてDIWを吐出させる構成であってもよい。
In the above description, the HF remaining on the lower surface W2 of the wafer W is washed away with DIW accumulated in the
次いで、処理ユニット16では、乾燥処理が行われる(ステップS105)。かかる乾燥処理では、制御部18は、駆動部33を制御してウェハWを比較的高い回転数(たとえば、1000rpm)で所定時間回転させる。これにより、ウェハWに残存するDIWが振り切られて、ウェハWが乾燥する。
Next, in the
つづいて、処理ユニット16では、搬出処理が行われる(ステップS106)。かかる搬出処理では、制御部18は、駆動部33によるウェハWの回転を停止させた後、ウェハWが基板搬送装置17(図1参照)によって処理ユニット16から搬出される。かかる搬出処理が完了すると、1枚のウェハWについての一連の基板処理が完了する。
Subsequently, in the
上述してきたように、本実施形態に係る基板処理システム1(基板処理装置の一例)は、保持部31と、環状部材80と、ノズル41d(液供給部の一例)とを備える。保持部31は、ウェハWを保持する。環状部材80は、保持部31によって保持されたウェハWの外周縁Waを含む下面W2と対向するように配置されウェハWの周方向に沿って環状に形成された底面部80a、および、底面部80aの外周縁80a1から上方へ向けて立設される外周側壁80bを備える。ノズル41dは、環状部材80とウェハWとの間を満たす処理液を供給する。これにより、ウェハWに付着した不要物に対する除去性能を向上させることができる。
As described above, the substrate processing system 1 (an example of a substrate processing apparatus) according to the present embodiment includes the holding
<4.第2の実施形態に係る基板処理システムの構成>
(第2の実施形態)
次いで、第2の実施形態に係る基板処理システム1について説明する。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同様の部分については、既に説明した部分と同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
<4. Configuration of Substrate Processing System According to Second Embodiment>
(Second Embodiment)
Next, the substrate processing system 1 according to the second embodiment will be described. In the following description, parts that are the same as those already described are given the same reference numerals as those already described, and redundant descriptions are omitted.
第2の実施形態に係る基板処理システム1においては、ウェハW上に形成された膜のエッジ部分をカットする「エッジカット処理」が行われる。かかるエッジカット処理においては、たとえば、有機溶剤などの薬液をノズルからウェハWのエッジ部分へ向けて吐出することで、ウェハWの膜が薬液によって溶解されて除去される。 In the substrate processing system 1 according to the second embodiment, an “edge cut process” for cutting the edge portion of the film formed on the wafer W is performed. In such edge cutting processing, for example, a chemical solution such as an organic solvent is discharged from the nozzle toward the edge portion of the wafer W, whereby the film of the wafer W is dissolved and removed by the chemical solution.
しかしながら、たとえば、ウェハWに反りが生じている場合、ウェハWにおいてノズルから吐出される薬液の到達位置が変わり、膜のカット精度が低下するおそれがあった。 However, for example, when the wafer W is warped, the arrival position of the chemical solution discharged from the nozzle on the wafer W is changed, and the film cutting accuracy may be lowered.
そこで、第2の実施形態にあっては、ウェハWの反り量を検出し、検出された反り量に基づいてノズル位置を変更するようにした。これにより、ウェハWの反りが生じている場合の膜のカット精度を向上させることができる。 Therefore, in the second embodiment, the warpage amount of the wafer W is detected, and the nozzle position is changed based on the detected warpage amount. Thereby, the cutting accuracy of the film when the wafer W is warped can be improved.
図7は、第2の実施形態における処理ユニット116の具体的な構成の一例を示す模式図である。図7では、処理ユニット116の特徴を説明するために必要な構成要素のみを示しており、チャンバ20など一般的な構成要素についての記載を省略している。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating an example of a specific configuration of the
処理ユニット116は、天板100と、昇降機構110と、反り検出部120とを備える。天板100は、保持部31によって保持されたウェハWの上方に配置されるとともに、FFU121などを備える。
The
昇降機構110は、天板100に接続され、天板100を昇降させる。反り検出部120は、ウェハWに生じた反り量を検出する、詳しくは、たとえば、ウェハWの外周縁Waに生じた上下方向(鉛直方向)の反り量を検出する。
The elevating
反り検出部120としては、たとえばレーザ変位計や静電容量センサなどの距離計測装置を用いることができるが、これに限られない。すなわち、たとえば、反り検出部120としてカメラを用い、カメラで撮像した画像を解析してウェハWに生じた反り量を検出してもよい。
As the
処理流体供給部40は、ノズル141を備える。ノズル141は、バルブ60gを介して第3薬液供給源70gに接続される。第3薬液供給源70gは、たとえば、エッジカット処理において用いられる薬液の一種である有機溶剤の供給源である。上記したノズル141は、天板100に取り付けられる。従って、昇降機構110によって天板100が昇降すると、ノズル141も昇降する。
The processing
<5.第2の実施形態に係る基板処理システムの具体的動作>
次に、第2の実施形態に係る基板処理システム1が実行する基板処理の内容について図8を参照して説明する。
<5. Specific Operation of Substrate Processing System According to Second Embodiment>
Next, the contents of the substrate processing executed by the substrate processing system 1 according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
図8は、第2の実施形態に係る基板処理システム1が実行する基板処理の処理手順を示すフローチャートである。なお、図8に示す各処理手順は、制御装置4の制御部18の制御に従って実行される。なお、図8では、ウェハWの搬入出処理等の記載を省略している。
FIG. 8 is a flowchart showing a substrate processing procedure executed by the substrate processing system 1 according to the second embodiment. Note that each processing procedure shown in FIG. 8 is executed according to the control of the control unit 18 of the
図8に示すように、処理ユニット116では、まず、ウェハWの反り検出処理が行われる(ステップS201)。かかる検出処理では、制御部18は、反り検出部120の出力に基づき、ウェハWの反り量を検出する。
As shown in FIG. 8, in the
次いで、処理ユニット116では、ノズル141を移動させる処理が行われる(ステップS202)。かかるノズル移動処理では、制御部18は、検出されたウェハWの反り量に応じてノズル141を昇降させる。
Next, in the
かかる処理について、図9を参照して説明する。図9は、ノズル移動処理を説明する図である。なお、図9においては、ウェハWにおいてエッジカット処理を施すべき部位を符号Pで示し、以下、目標位置Pという。また、図9では、反りが生じていないウェハWを実線で示す一方、下向きの反りが生じたウェハWを破線で示した。 Such processing will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a diagram illustrating the nozzle movement process. In FIG. 9, a part to be subjected to the edge cut process on the wafer W is indicated by a symbol P, and hereinafter referred to as a target position P. In FIG. 9, the wafer W in which no warpage has occurred is indicated by a solid line, while the wafer W in which a downward warpage has occurred is indicated by a broken line.
図9に示すように、ノズル141が、たとえば反りが生じていなウェハW(実線で示すウェハW)の目標位置Pへ向けて薬液を吐出していたとする。続いて、反りが生じたウェハW(破線で示すウェハW)が搬入された場合、ノズル141を移動させないと、二点鎖線の矢印で示すように、薬液は目標位置Pから大きく外れて吐出されてしまう。
As shown in FIG. 9, it is assumed that the
そこで、本実施形態におけるノズル移動処理では、ウェハWの反り量に応じてノズル141の位置を移動させるようにした。図9に示す例では、制御部18は、昇降機構110を動作させて天板100を下降させることで、ノズル141を下降させるようにした。なお、図9においては、移動後のノズル141を破線で示した。
Therefore, in the nozzle movement process in the present embodiment, the position of the
そして、制御部18は、続くエッジカット処理において、薬液を吐出する(ステップS203)。このように、検出されたウェハWの反り量に応じてノズル141を上下に移動させることで、図9に破線で示したように、ノズル141とウェハWの目標位置Pとの相対位置を一定に保つことができる。これにより、第2の実施形態にあっては、ノズル141から反りが生じたウェハW(破線で示すウェハW)の目標位置Pに対して薬液を吐出することが可能となり、ウェハWの反りが生じている場合の膜のカット精度を向上させることができる。
And the control part 18 discharges a chemical | medical solution in the subsequent edge cut process (step S203). In this way, by moving the
なお、上記した第1の実施形態では、第2薬液供給源70dから供給される薬液を高温の薬液としたが、これに限定されるものではなく、常温の薬液であってもよい。また、上記では、エッチング処理に用いる薬液としてHFを例に挙げたが、これに限られず、SC1(アンモニア、過酸化水素および水の混合液)などその他の薬液であってもよい。
In the first embodiment described above, the chemical solution supplied from the second chemical
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。 Further effects and modifications can be easily derived by those skilled in the art. Thus, the broader aspects of the present invention are not limited to the specific details and representative embodiments shown and described above. Accordingly, various modifications can be made without departing from the spirit or scope of the general inventive concept as defined by the appended claims and their equivalents.
1 基板処理システム
4 制御装置
16 処理ユニット
41a〜41d,41f ノズル
70a 第1薬液供給源
70d 第2薬液供給源
80 環状部材
80a 底面部
80a1 外周縁
80a2 内周縁
80b 外周側壁
80c 内周側壁
85 振動部
W ウェハ
Wa 外周縁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (7)
前記保持部によって保持された前記基板の外周縁を含む下面と対向するように配置され前記基板の周方向に沿って環状に形成された底面部、および、前記底面部の外周縁から上方へ向けて立設される外周側壁を備えた環状部材と、
前記環状部材と前記基板との間を満たす処理液を供給する液供給部と
を備えることを特徴とする基板処理装置。 A holding unit for holding the substrate;
A bottom surface portion that is disposed so as to face the lower surface including the outer peripheral edge of the substrate held by the holding portion and is formed in an annular shape along the circumferential direction of the substrate, and upward from the outer peripheral edge of the bottom surface portion An annular member having an outer peripheral side wall standing upright,
A substrate processing apparatus, comprising: a liquid supply unit that supplies a processing liquid that fills between the annular member and the substrate.
を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising: a vibrating unit that applies vibration to the processing liquid filled between the annular member and the substrate.
内周縁が前記基板の外周縁から径方向内側へ所定距離離間した部位と対向する位置に配置され、
前記環状部材は、
前記底面部の内周縁から上方へ向けて立設される内周側壁
を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。 The bottom portion is
The inner peripheral edge is disposed at a position facing a portion spaced a predetermined distance radially inward from the outer peripheral edge of the substrate,
The annular member is
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an inner peripheral side wall that is erected upward from an inner peripheral edge of the bottom surface portion.
先端の高さが、前記保持部によって保持された前記基板の下面の高さと同じまたは前記基板の下面の高さよりも低くなるように設定されること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の基板処理装置。 The outer peripheral side wall is
The height of the tip is set to be the same as the height of the lower surface of the substrate held by the holding portion or lower than the height of the lower surface of the substrate. The substrate processing apparatus as described in one.
を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の基板処理装置。 A gas supply unit configured to supply gas obliquely from the radially outer side to the inner side of the substrate with respect to the radially inner portion of the substrate with respect to the processing liquid filled between the annular member in the substrate; The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising a substrate processing apparatus.
前記基板の反り量に応じて前記昇降部を制御して前記保持部を昇降させる制御部と
を備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 An elevating part for elevating the holding part;
The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising: a control unit configured to control the elevating unit according to an amount of warpage of the substrate and elevate the holding unit.
前記保持工程において保持された前記基板の外周縁を含む下面と対向するように配置され前記基板の周方向に沿って環状に形成された底面部、および、前記底面部の外周縁から上方へ向けて立設される外周側壁を備えた環状部材と前記基板との間を満たす処理液を供給する液供給工程と
を含むことを特徴とする基板処理方法。 A holding step for holding the substrate;
A bottom surface portion that is disposed so as to face the lower surface including the outer peripheral edge of the substrate held in the holding step and is formed in an annular shape along the circumferential direction of the substrate, and upward from the outer peripheral edge of the bottom surface portion And a liquid supply step of supplying a processing liquid that fills the space between the annular member having the outer peripheral side wall and the substrate, and a substrate processing method.
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