JP6302176B2 - 還元ポリビニルアルコール樹脂の製造方法、及び、ポリビニルアセタール樹脂の製造方法 - Google Patents
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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主鎖中に存在するカルボニル基は、加熱又は光照射により、隣接する炭素原子に結合した水素との間でケト・エノール互変性体を形成する。主鎖中に存在するカルボニル基の酸素原子は水素化されてエノールとなり、主鎖の炭素間には二重結合が形成される。このように主鎖の炭素間に二重結合の連鎖が起こることにより、ポリビニルアルコール樹脂は黄変する。
主鎖中に存在するカルボニル基量を0.50mmol/g以下とすることで、このようなカルボニル基に起因するポリビニルアルコール樹脂の黄変を効果的に防止することができる。
また、上記ポリビニルアルコール樹脂、後述するポリ酢酸ビニル樹脂及びポリビニルアセタール樹脂には、主鎖中にα−オレフィンを導入した変性樹脂、アミン基、カルボキシル基等を導入した変性樹脂、一部がケン化された樹脂等も含む。
上記還元ポリビニルアルコール樹脂の主鎖中に存在するカルボニル基量の好ましい下限は、0.01mmol/gであり、好ましい上限は0.40mmol/gである。
なお、高分子化学第11巻(著者:鈴木敬三、斎藤隆英)第109号の第212ページ「ポリビニルアルコール中のカルボニル基について」によると、ポリビニルアルコール1単位の物質量を44とした場合の、ポリビニルアルコール主鎖中に存在するカルボニル基の含有量は、一般的に0.68mmol/g程度である。
ポリ酢酸ビニル樹脂をケン化することで、側鎖のアセチル基を加水分解するが、ケン化を完全に行うことはできないため、得られるポリビニルアルコール樹脂には、アセチル基が残存する。該アセチル基は、ポリビニルアルコール樹脂の側鎖に存在する官能基であり、アセチル基を構成するカルボニル基は、上記「主鎖中に存在するカルボニル基」には該当しない。
なお、ポリ酢酸ビニルの主鎖中に存在するカルボニル基は、上記ケン化工程によって加水分解されない。
上記ポリビニルアルコール樹脂のケン化度が70モル%未満であると水に対する溶解性が低下し、水溶媒中でアセタール化反応を均一に進めることが困難になり、99モル%を超えると分子間水素結合が強固となりすぎるため、水に溶解させた際に充分に溶解せず会合体ゲルを生成し、ポリビニルアルコール樹脂の品質不良につながる。
上記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の重合度が300未満であると、合わせガラス用中間膜として用いる場合に、耐貫通性が低下することがあり、重合度が3000を超えると、溶融粘度が高く流動しないため、合わせガラス用中間膜を製膜する際に押出し不良が生じることがある。
還元剤を用いて還元することで、ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の主鎖中に存在するカルボニル基を選択的に還元することができる。主鎖中に存在するカルボニル基が還元されると、主鎖の炭素間での二重結合の連鎖が起こらないため、黄変を抑制することができる。
なお、還元剤は、アセチル基を構成するカルボニル基に対しては作用しないため、還元工程の前後において、ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂のアセチル基量は変化しない。
ヒドリドイオンは、上記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の主鎖中に存在するカルボニル基をアルコールに還元する。ヒドリドイオンは、求核剤として、主鎖中に存在するカルボニル基のカルボニル炭素を求核攻撃し、その後加水分解することでアルコールへと還元させる。そのため、ケト・エノールからの主鎖の二重結合の連鎖を防ぐことができる。
水和又は溶媒和することによりヒドリドイオンを発生させる化合物としては、金属水素化物が挙げられる。金属水素化物としては、水酸化アルミニウムリチウム(LiAlH4)、ホウ素を含有する水素化物等が挙げられる。
ホウ素を含有する水素化物としては、ソジウムボロハイドライド(NaBH4)、水素化トリエチルホウ素リチウム(LiBH(C2H5)3)、水素化ホウ素リチウム(LiBH4)、シアノ水素化ホウ素ナトリウム(NaBH3CN)等が挙げられ、なかでもソジウムボロハイドライドが特に好ましい。
水酸化アルミニウムリチウム(LiAlH4)は、上記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の主鎖中に存在するカルボニル基、及び、ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の側鎖のアセチル基を構成するカルボニル基を還元するため、より選択的に主鎖中に存在するカルボニル基を還元する観点からは、上記ホウ素を含有する水素化物を用いることがより好ましい。
なお、ラネーニッケルやパラジウム炭素を触媒として用い、主鎖中に存在する二重結合を直接水素添加反応により還元することも可能であるが、重金属を使用するため環境的に好ましくないこと、また樹脂中に重金属が少なからず残存してしまうことで電子材料用途への展開が困難になる。
上記ポリ酢酸ビニル樹脂を還元剤を用いて還元する工程を行う場合は、ポリ酢酸ビニル樹脂を還元し、その後還元したポリ酢酸ビニル樹脂をケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を作製することができる。
上記ポリビニルアルコール樹脂を還元剤を用いて還元する工程を行う場合は、ポリ酢酸ビニル樹脂をケン化してポリビニルアルコール樹脂を作製し、その後ポリビニルアルコール樹脂を還元して還元ポリビニルアルコール樹脂を作製することができる。
工業的には、取扱性の観点から、ポリビニルアルコール樹脂を還元剤を用いて還元する工程よりも、ポリ酢酸ビニル樹脂を還元剤を用いて還元する工程の方が好ましい。
上記還元剤のポリ酢酸ビニル樹脂に対する添加量が0.1重量%未満であると、還元されるカルボニル基が少なく充分に黄変を抑制することができず、35重量%を超えると洗浄後の廃液を排水することによる環境負荷が大きい。また、ホウ素を含有する還元剤を用いた場合に、残存するホウ素とポリ酢酸ビニル樹脂の水酸基が架橋しゲル化するため、得られるポリ酢酸ビニル樹脂の取扱性が低下する。
上記還元剤のポリ酢酸ビニル樹脂に対する添加量の好ましい下限は1.0重量%であり、好ましい上限は25重量%である。
上記還元剤のポリビニルアルコール樹脂に対する添加量が0.1重量%未満であると、還元されるカルボニル基が少なく充分に黄変を抑制することができず、35重量%を超えると、ホウ素を含有する還元剤を用いた場合に、残存するホウ素とポリビニルアルコール樹脂の水酸基が架橋しゲル化するため、得られるポリビニルアルコール樹脂の取扱性が低下する。
上記還元剤のポリビニルアルコール樹脂に対する添加量の好ましい下限は1.0重量%であり、好ましい上限は25重量%である。
上記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の溶媒に対する溶解量が0.1重量%未満であると、工業化の際のランニングコストが高くなることがあり、また50重量%を超えると、粘度が高くなり、還元反応が不均一となるため、還元後のポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の組成にバラつきが生じることがある。
上記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂の溶媒に対する溶解量のより好ましい下限は3重量%であり、より好ましい上限は10重量%である。
上記溶媒は単独で用いてもよいし、二種類以上の溶媒を混合させた混合溶媒を用いることもできる。
アセタール化前に還元工程を有することで、アセタール化反応後の中和工程において、還元工程で残存したホウ素及びカウンターカチオンを洗浄できるため、得られるポリビニルアセタール樹脂中の残存ホウ素及びカウンターカチオンを低減することができる。
また、還元工程では、樹脂を完全に溶解させることが好ましいが、アセタール化後に還元工程を有すると、有機溶剤等に樹脂を再溶解し、更に精製する工程が別途必要となるため、生産ラインが煩雑になってしまう。
温度100〜400℃、圧力0.5〜100MPaの高温高圧流体中でアセタール化することで、短時間で均一にアセタール化を行うことができ、アセタール化度が高いポリビニルアセタール樹脂を得ることができる。
また、高温高圧流体の圧力が0.5MPa未満であると、アセタール化が充分に進まず、得られるポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が不充分となることがあり、100MPaを超えると、反応装置に要するコストが上昇し、経済的でない。上記高温高圧流体の圧力の好ましい上限は40MPa、より好ましい上限は10MPaである。
上記ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が40モル%未満であると可塑剤との相溶性が低下することがあり、90モル%を超えると、合わせガラス用中間膜として用いる場合に、破断強度が低下することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度のより好ましい下限は50モル%、より好ましい上限は85モル%である。
なお、本明細書において、アセタール化度とは、ポリビニルアルコールの水酸基数のうち、アルデヒドでアセタール化された水酸基数の割合をいう。
上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が10モル%未満であると、合わせガラス用中間膜として用いる場合に、破断強度が低下することがあり、60モル%を超えると可塑剤との相溶性が低下することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量のより好ましい下限は50モル%、より好ましい上限は25モル%である。
上記ガラス板として、2種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とを用いてもよい。また、上記ガラス板として、2種類以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
(還元ポリビニルアルコール樹脂の製造)
主鎖中に存在するカルボニル基量が0.93mmol/gのポリ酢酸ビニル樹脂(PVAc樹脂)5g、還元剤としてソジウムボロハイドライド(NaBH4)0.55g、及び、溶媒としてメタノール100gを反応容器に加え、25℃で60分間反応させ、還元を行った。還元したポリ酢酸ビニル樹脂を酢酸エチル及び水でそれぞれ抽出洗浄を行い、更に食塩水で洗浄し、その後硫酸マグネシウムで乾燥して濾過し、ポリ酢酸ビニル樹脂の粉末を得た。
得られたポリ酢酸ビニル樹脂に対してメタノールを100重量部、0.5M水酸化ナトリウムメタノール溶液を5重量部添加することでケン化し、主鎖中に存在するカルボニル基量が0.08mmol/gの還元ポリビニルアルコール樹脂(PVA樹脂)を得た。
主鎖中に存在するカルボニル基量は、以下の方法により求めた。まず、硫酸ヒドロキシルアミンを水とエタノールの混合溶液に溶解し再結晶させ、0.1M硫酸ヒドロキシルアミン水溶液を調整した。ポリ酢酸ビニル樹脂又は還元ポリビニルアルコール樹脂0.5gを含有するブタノール溶液20mlと0.1M硫酸ヒドロキシルアミン水溶液25mlとを混合し、室温で4時間反応させた。次に反応液に指示薬としてブロモフェノールブルーを添加し、0.1MNaOH水溶液で滴定して、主鎖中に存在するカルボニル基量を求めた。別途、ポリ酢酸ビニル樹脂又は還元ポリビニルアルコール樹脂を含まないブタノール20mlを用いて空試験を行い、ブランク補正をした。
得られた還元ポリビニルアルコール樹脂5g、水100g、n−ブチルアルデヒド3.5ml、及び、触媒として25%塩酸3gを別の反応容器に加え、50℃、1MPaで180分間反応させてアセタール化を行い、ポリビニルアセタール樹脂溶液を得た。
ポリビニルアセタール樹脂を乾燥した後、ジメチルスルホキシドに溶解し、水への沈殿を3回行った。その後、ポリビニルアセタール樹脂を充分乾燥し、重水素化ジメチルスルホキシドに再溶解し、1H−NMR測定によりアセタール化度、水酸基量、及び、アセチル基量を測定した。
ポリビニルアセタール樹脂の主鎖中に存在するカルボニル基量は、上記と同様の方法で測定した。
得られたポリビニルアセタール樹脂を加圧プレスし、樹脂シートを得た。樹脂シートの厚みは5mmであった。
得られた樹脂シートを、縦300mm×横300mmの一対のガラス板(厚み10mm)の間に積層し、積層体を得た。得られた積層体を、真空ラミネーターにて90℃下、30分保持しつつ真空プレスを行い圧着した。圧着後140℃、14MPaの条件でオートクレーブを用いて20分間圧着を行い、合わせガラスを得た。
表1に記載した配合とした以外は、実施例1と同様にして、ポリ酢酸ビニル樹脂を還元し、その後、ポリビニルアルコール樹脂をケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
表1に記載した配合とした以外は、実施例1と同様にして、ポリ酢酸ビニル樹脂を還元し、その後、ポリビニルアルコール樹脂をケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、表1に記載した反応条件とした以外は、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
主鎖中に存在するカルボニル基量が1.03mmol/gのポリ酢酸ビニル樹脂を用いた以外は、実施例1と同様にして還元し、その後ケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用い、反応容器に二酸化炭素を注入し、容器内温度を130℃に調整し、圧力調整弁を用いて容器内圧を3.0MPaに調整し、60分間攪拌しながらアセタール化反応を行った。その後、反応部を室温まで冷却し、ポリビニルアセタール樹脂を含有する混合液を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
ポリ酢酸ビニルをケン化することによって得られるポリビニルアルコール樹脂(主鎖中に存在するカルボニル基量が0.97mmol/g)5g、還元剤としてソジウムボロハイドライド(NaBH4)0.55g、及び、溶媒として水100gを反応容器に入れ、25℃で60分間反応させ、還元を行った。還元したポリビニルアルコール樹脂を冷水で3回洗浄し、乾燥して還元ポリビニルアルコール樹脂の粉末を得た。
得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
表1に記載した配合とした以外は、実施例5と同様にしてポリビニルアルコール樹脂を還元し、還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
表1に記載した配合及び反応条件とした以外は、実施例5と同様にしてポリビニルアルコール樹脂を還元し、還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、表1に記載した反応条件とした以外は、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
還元剤を水素化ホウ素リチウム(LiBH4)とした以外は、実施例1と同様にしてポリ酢酸ビニル樹脂を還元し、その後、ポリビニルアルコール樹脂をケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
主鎖中に存在するカルボニル基量が0.83mmol/gのポリビニルアルコール(PVA)を用い、ポリビニルアルコールの還元を行わずに、実施例1と同様にしてアセタール化を行い、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
ポリビニルアルコールの還元を行わずに、表1に記載した反応条件とした以外は実施例1と同様にしてアセタール化を行い、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
還元剤の添加量を表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様にして還元し、その後ケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
還元剤の添加量を表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様にして還元し、その後ケン化して還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂は、一部がゲル化しており、カルボニル基量の測定はできなかった。比較例6では、得られた還元ポリビニルアセタール樹脂の取扱性が悪く、樹脂シート及び合わせガラスの製造はできなかった。
還元剤の添加量を表1に示すように変えた以外は、実施例5と同様にしてポリビニルアルコール樹脂を還元し、還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。得られたポリビニルアセタール樹脂を用いて、実施例1と同様に樹脂シート及び合わせガラスを製造した。
還元剤の添加量を表1に示すように変えた以外は、実施例5と同様にしてポリビニルアルコール樹脂を還元し、還元ポリビニルアルコール樹脂を得た。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂は、ゲル化しており、カルボニル基量の測定はできなかった。得られた還元ポリビニルアルコール樹脂を用いて、実施例1と同様にしてアセタール化し、ポリビニルアセタール樹脂を得た。比較例8では、得られた還元ポリビニルアセタール樹脂の取扱性が悪く、樹脂シート及び合わせガラスの製造はできなかった。
実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、以下の方法により評価を行った。結果を表1に示す。
実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、JIS R3205:2005「合わせガラス」の7.4「耐熱性試験」に準拠した方法で試験を行い、目視により観察し、以下の基準で評価した。
○:着色がみられない
△:やや黄色く着色している
×:黄色に着色している
実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、JIS R3205:2005「合わせガラス」の7.3「耐光性試験」に準拠した方法で試験を行い、目視により観察し、以下の基準で評価した。
○:着色がみられない
△:やや黄色く着色している
×:黄色に着色している
Claims (3)
- 主鎖中に存在するカルボニル基量が0.50mmol/g以下である還元ポリビニルアルコール樹脂の製造方法であって、
ポリ酢酸ビニル樹脂をケン化してポリビニルアルコール樹脂を作製するケン化工程、及び、
前記ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂を還元剤を用いて還元する還元工程を有し、
前記還元剤は、ソジウムボロハイドライドであり、
前記還元工程において、ポリ酢酸ビニル樹脂又はポリビニルアルコール樹脂に対して、還元剤を4〜22重量%添加する
ことを特徴とする還元ポリビニルアルコール樹脂の製造方法。 - 請求項1記載の還元ポリビニルアルコール樹脂の製造方法により得られた還元ポリビニルアルコール樹脂をアセタール化してポリビニルアセタール樹脂を得る工程を有することを特徴とするポリビニルアセタール樹脂の製造方法。
- アセタール化は、温度100〜400℃、圧力0.5〜100MPaの高温高圧流体中で行うことを特徴とする請求項2記載のポリビニルアセタール樹脂の製造方法。
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