JP6291714B2 - 絶縁樹脂シート - Google Patents
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Description
[1] 耐熱フィルムと、該耐熱フィルムの両面に形成された熱硬化性樹脂組成物層を有する絶縁樹脂シートであって、該耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と該熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜3である絶縁樹脂シート。
[2] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜2である前記[1]記載の絶縁樹脂シート。
[3] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜1.5である前記[1]記載の絶縁樹脂シート。
[4] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.7〜1.3である前記[1]記載の絶縁樹脂シート。
[5] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、30ppm/℃以下である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[6] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、25ppm/℃以下である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[7] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、20ppm/℃以下である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[8] 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、15ppm/℃以下である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[9] 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)が30ppm/℃以下である前記[1]〜[8]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[10] 前記耐熱フィルムがポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、アラミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、液晶ポリマーフィルムからなる群より選択される前記[1]〜[9]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[11] 前記耐熱フィルムの厚みが2μm以上30μm以下である前記[1]〜[10]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[12] 前記熱硬化性樹脂組成物層がエポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填剤を含有する前記[1]〜[11]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[13] 前記エポキシ樹脂がナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂及びナフチレンエーテル型エポキシ樹脂から選択される1種以上からなる前記[12]記載の絶縁樹脂シート。
[14] 前記熱硬化性樹脂組成物層の無機充填剤の含有量が30重量%以上90質量%以下である前記[12]記載の絶縁樹脂シート。
[15] 前記熱硬化性樹脂組成物層の無機充填剤の含有量が40重量%以上80質量%以下である前記[12]記載の絶縁樹脂シート。
[16] 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化後の線熱膨張係数が50ppm/℃以下である前記[1]〜[15]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[17] 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化後の線熱膨張係数が40ppm/℃以下である前記[1]〜[15]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[18] 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化後の線熱膨張係数が30ppm/℃以下である前記[1]〜[15]のいずれかに記載の絶縁樹脂シート。
[19] 多層プリント配線板のビルドアップ層用である前記[1]〜[18]のいずれか一項に記載の絶縁樹脂シート。
[20] 前記耐熱フィルムの両面に形成された熱硬化性樹脂組成物層において一方が導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層であり、他方が内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層であって、導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層の厚みが2μm以上18μm以下、内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層の厚みが5μm以上120μm以下である前記[19]記載の絶縁樹脂シート。
[21] 前記内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層の最低溶融粘度が100poise以上5000poise以下である前記[20]記載の絶縁樹脂シート。
[22] 少なくとも導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層の外面に保護フィルムを有する前記[19]〜[21]の何れかに記載の絶縁樹脂シート。
[23] 以下の(A)〜(F)の工程を含む多層プリント配線板の製造方法;
(A)請求項22記載の絶縁樹脂シートを、内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層を内層回路基板側にして、該内層回路基板の片面又は両面にラミネートする工程、
(B)絶縁樹脂シートの熱硬化性樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、
(C)保護フィルム層を剥離する工程、
(D)絶縁層に穴あけ加工してビアホールを形成する工程、
(E)絶縁層(導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層)表面を粗化処理する工程、
(F)粗化処理後の絶縁層表面にめっきして導体層を形成する工程。
[24] 前記[1]〜[22]記載の絶縁樹脂シートにより絶縁層が形成された多層プリント配線板。
[25] ビアホールの開口径が100μm以下である、前記[24]記載の多層プリント配線板。
[26] ビアホールの開口径が75μm以下である、前記[24]記載の多層プリント配線板。
[27] ビアホールの開口径が50μm以下である、前記[24]記載の多層プリント配線板。
[28] 前記[24]〜[28]記載のいずれかに記載の多層プリント配線板を含む半導体装置。
また、例えば、耐熱フィルムとは別の支持体となるフィルム上に熱硬化性樹脂組成物層を形成することで、導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層を有する樹脂シートと、内層回路基板埋め込み用の熱硬化性樹脂組成物層を有する樹脂シートを耐熱フィルムの表面に個別または同時にラミネートすることにより本発明の絶縁樹脂シートを作製することもできる。この場合、支持体として用いたフィルムはそのまま保護フィルムとしての機能を果たすこともできる。ラミネートにより耐熱フィルム上に熱硬化性樹脂組成物を形成する場合、条件はラミネート温度70〜110℃、ラミネート時間5〜30秒、ラミネート圧力1〜10kgf/cm2が好ましい。
(1)基板の下地処理
ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板[銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.3mm、松下電工(株)製R5715ES]の両面をメック(株)製CZ8100に浸漬して銅表面の粗化処理をおこなった。
(2)絶縁樹脂シートのラミネート
実施例及び比較例で作成した絶縁樹脂シートを、バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP−500(名機(株)製商品名)を用いて、第2層が銅張積層板の両面に接するように、ラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着させることにより行った。
(3)樹脂組成物の硬化
ラミネート後、100℃で30分、その後180℃で30分の硬化条件で樹脂組成物を硬化し絶縁層を形成した。
(4)ビアホールの形成
硬化後、支持体を剥離し、第1層上より、レーザー加工機(三菱電機(株)製炭酸ガスレーザー装置:ML605GTWII−P)を用いて、ビアホールを形成した。レーザー照射の条件は、パルス幅13μ秒、エネルギー3mJ、ショット数1ショット、マスク径1.1mmで行った。
(5)デスミア処理及び粗化処理
ビアホール形成後、膨潤液である、アトテックジャパン(株)のジエチレングリコールモノブチルエーテル含有のスエリングディップ・セキュリガンドPに60℃で5分間浸漬し(膨潤条件1)又は10分間浸漬し(膨潤条件2)、次に粗化液として、アトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で10分間浸漬(浸漬条件1)または20分間浸漬(浸漬条件2)、水洗処理後、最後に中和液として、アトテックジャパン(株)のリダクションソリューシン・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬した。その後、130℃で15分乾燥した。これにより絶縁層表面の粗化処理とビアホール内のスミア除去を行った。
(6)セミアディティブ工法による導体層形成
絶縁層表面及びビアホール内に導体層を形成するため、無電解銅めっき(アトテックジャパン(株)製薬液を使用した無電解銅めっきプロセスを使用)を行った。無電解銅めっきの膜厚は1μmとなった。その後、電解銅めっきを行い、計30μm厚の導体層(銅層)を形成した。
1.アルカリクリーニング(樹脂表面の洗浄と電荷調整)
商品名:Cleaning cleaner Securiganth 902
条件:60℃で5分
2.ソフトエッチング(ビア底、導体の銅の洗浄)
硫酸酸性ペルオキソ二硫酸ナトリウム水溶液
条件:30℃で1分
3.プレディップ(次のPd付与のための表面の電荷の調整が目的)
商品名:Pre. Dip Neoganth B
条件:室温で1分
4.アクティヴェーター(樹脂表面へのPdの付与)
商品名:Activator Neoganth 834
条件:35℃で5分
5.還元(樹脂に付いたPdを還元する)
商品名:Reducer Neoganth WA
:Reducer Acceralator 810 mod.の混合液
条件:30℃で5分
6.無電解銅めっき(Cuを樹脂表面(Pd表面)に析出させる)
商品名:Basic Solution Printganth MSK-DK
:Copper solution Printganth MSK
:Stabilizer Printganth MSK-DK
:Reducer Cu の混合液
条件:35℃で20分
ビアの断面をSEMで観察した。耐熱フィルムと樹脂組成物層(硬化物)との壁面段差が3μm未満のものを「○」、壁面段差が3μm以上5μm未満のものを「△」、壁面段差が5μm以上のものを「×」とした。
導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層(上層)、内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層(下層)からなる接着フィルム(耐熱フィルムの両面に、ホットロールを使用してサンドイッチし、該発明の接着フィルムを得る前)を、ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板[銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.3mm、松下電工(株)製R5715ES]の両面をメック(株)製CZ8100に浸漬して銅表面の粗化処理をおこなった基板の両面にラミネート、次いで100℃で30分、さらに180℃で30分間(デスミア前のプレキュアと同じ条件)で加熱することにより両面に硬化物を形成した基板を得た。その後、10cm角に切断し、支持体を剥がし、130℃で15分乾燥し、該乾燥直後の質量(初期質量(X1))と、該乾燥後にさらにデスミア処理、水洗をし、130℃で15分乾燥した直後の質量(デスミア後質量(X2))を測定し、下記式により、各々の硬化物のエッチング量を求めた。なお、ここでいう「デスミア処理」は前述のデスミア処理と同じ処理である。
また、耐熱フィルム単独のエッチング量は、フィルム単体で同様の測定を行った。
内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層(下層)の溶融粘度を測定した。(株)ユー・ビー・エム社製型式Rheosol−G3000を使用して、樹脂量は1g、直径18mmのパラレルプレートを使用し、開始温度60℃から200℃まで、昇温速度5℃/分、測定温度間隔2.5℃、振動1Hz、ひずみ1degの測定条件にて最低溶融粘度(poise)を測定した。
実施例及び比較例で用いた絶縁樹脂シートの樹脂組成物層(上層及び下層それぞれを)、接触式層厚計((株)ミツトヨ製、MCD−25MJ)を用いて測定した。
各接着フィルム及び絶縁樹脂シートを180℃で90分間硬化させ、離型PETより剥離した硬化物及び各耐熱フィルムを幅約5mm、長さ約15mmの試験片にカットし、リガク(株)製熱機械分析装置Thermo plus TMA 8310を使用して、引張モードで熱機械分析を行った。荷重1g、昇温速度5℃/分で2回測定した。2回目の測定における25℃から150℃までの平均線膨張率を熱膨張係数とした。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量約169)5部、結晶性2官能エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)12部、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP7200H」、エポキシ当量約275)9部、フェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶溶液)10部を、ソルベントナフサ30部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却後、そこへ、活性エステル化合物(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性基当量約223の不揮発分65質量%のトルエン溶液)40部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン、固形分5質量%のMEK溶液)3部、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製、「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製「SOC2」、単位表面積当たりのカーボン量0.39mg/m2)180部、を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスを作製した。
次いで、離型処理付きポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック(株)製「AL5」、厚さ25μm又は38μm)(離形PET)の離型面上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚みが15μm(AL5:25μm厚)又は3μm(AL5:38μm厚)となるように樹脂ワニスを均一に塗布し、80〜120℃(平均100℃)で3分間(15μm)、2分間(3μm)乾燥させて、樹脂組成物層と離形PETからなる接着フィルムを作製した。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量約169)8部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP4032SS」、エポキシ当量約144)3部、結晶性2官能エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)6部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC3000H」、エポキシ当量約288)12部、フェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「E1256B40」、固形分40質量%のMEK溶液)10部を、ソルベントナフサ15部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却後、そこへ、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤(DIC(株)製「LA−7054」水酸基当量125の固形分60%のMEK溶液)12部、ナフタレン型硬化剤(新日鐵化学(株)製「SN−485」水酸基当量215の固形分60%のMEK溶液)8部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン、固形分5質量%のMEK溶液)0.5部、難燃剤(三光(株)製「HCA−HQ」、10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-10-ヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナンスレン-10-オキサイド、平均粒径2μm)3部、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製、「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製「SOC2」、単位表面積当たりのカーボン量0.39mg/m2)100部、を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスを作製した。
次いで、製造例1と全く同様にして、樹脂組成物層と離形PETからなる接着フィルムを作製した。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量約169)8部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP4032SS」、エポキシ当量約144)3部、結晶性2官能エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)6部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC3000H」、エポキシ当量約288)12部、フェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「E1256B40」、固形分40質量%のMEK溶液)25部を、ソルベントナフサ15部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却後、そこへ、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤(DIC(株)製「LA−7054」水酸基当量125の固形分60%のMEK溶液)12部、ナフタレン型硬化剤(新日鐵化学(株)製「SN−485」水酸基当量215の固形分60%のMEK溶液)8部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン、固形分5質量%のMEK溶液)0.9部、難燃剤(三光(株)製「HCA−HQ」、10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-10-ヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナンスレン-10-オキサイド、平均粒径2μm)3部、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製、「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製「SOC2」、単位表面積当たりのカーボン量0.39mg/m2)60部、を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスを作製した。
次いで、製造例1と全く同様にして、樹脂組成物層と離形PETからなる接着フィルムを作製した。
Claims (28)
- 耐熱フィルムと、該耐熱フィルムの両面に形成された熱硬化性樹脂組成物層を有する絶縁樹脂シートであって、該耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と該熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜3である絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜2である請求項1記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.5〜1.5である請求項1記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの単位面積当たりのエッチング量(E1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の単位面積当たりのエッチング量(E2)が、E1/E2=0.7〜1.3である請求項1記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、30ppm/℃以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、25ppm/℃以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、20ppm/℃以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)と前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数(C2)の差の絶対値が、15ppm/℃以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの25〜150℃の線熱膨張係数(C1)が30ppm/℃以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムがポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、アラミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、液晶ポリマーフィルムからなる群より選択される請求項1〜9のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの厚みが2μm以上30μm以下である請求項1〜10のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層がエポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填剤を含有する請求項1〜11のいずれか1項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記エポキシ樹脂がナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂及びナフチレンエーテル型エポキシ樹脂から選択される1種以上からなる請求項12記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層の無機充填剤の含有量が30重量%以上90質量%以下である請求項12記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層の無機充填剤の含有量が40重量%以上80質量%以下である請求項12記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数が50ppm/℃以下である請求項1〜15のいずれか一項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数が40ppm/℃以下である請求項1〜15のいずれか一項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記熱硬化性樹脂組成物層の硬化物の25〜150℃の線熱膨張係数が30ppm/℃以下である請求項1〜15のいずれか一項に記載の絶縁樹脂シート。
- 多層プリント配線板のビルドアップ層用である請求項1〜18のいずれか一項に記載の絶縁樹脂シート。
- 前記耐熱フィルムの両面に形成された熱硬化性樹脂組成物層において一方が導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層であり、他方が内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層であって、導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層の厚みが2μm以上18μm以下、内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層の厚みが5μm以上120μm以下である請求項19記載の絶縁樹脂シート。
- 前記内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層の最低溶融粘度が100poise以上5000poise以下である請求項20記載の絶縁樹脂シート。
- 少なくとも導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層の外面に保護フィルムを有する請求項19〜21の何れか一項に記載の絶縁樹脂シート。
- 以下の(A)〜(F)の工程を含む多層プリント配線板の製造方法;
(A)請求項22記載の絶縁樹脂シートを、内層回路基板ラミネート用の熱硬化性樹脂組成物層を内層回路基板側にして、該内層回路基板の片面又は両面にラミネートする工程、
(B)絶縁樹脂シートの熱硬化性樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、
(C)保護フィルム層を剥離する工程、
(D)絶縁層に穴あけ加工してビアホールを形成する工程、
(E)絶縁層(導体層形成用の熱硬化性樹脂組成物層)表面を粗化処理する工程、
(F)粗化処理後の絶縁層表面にめっきして導体層を形成する工程。 - 請求項1〜21記載の絶縁樹脂シートにより絶縁層が形成された多層プリント配線板。
- ビアホールの開口径が100μm以下である、請求項24記載の多層プリント配線板。
- ビアホールの開口径が75μm以下である、請求項24記載の多層プリント配線板。
- ビアホールの開口径が50μm以下である、請求項24記載の多層プリント配線板。
- 請求項24〜27記載のいずれか一項に記載の多層プリント配線板を含む半導体装置。
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