JP6269933B2

JP6269933B2 - Glass plate

Info

Publication number: JP6269933B2
Application number: JP2013264954A
Authority: JP
Inventors: 篤虫明; 洋平細田
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2013-01-04
Filing date: 2013-12-24
Publication date: 2018-01-31
Anticipated expiration: 2033-12-24
Also published as: JP2014144907A

Description

本発明は、ガラス板に関し、具体的には、光散乱機能を有する分相性ガラス板に関する。 The present invention relates to a glass plate, and specifically to a phase separation glass plate having a light scattering function.

近年、家電製品の普及、大型化、多機能化等の理由から、家庭等の生活空間で消費されるエネルギーが増えている。特に、照明機器のエネルギー消費が多くなっている。このため、高効率の照明が活発に検討されている。 In recent years, energy consumed in living spaces such as homes has increased due to the widespread use, increase in size, and multifunctionality of home appliances. In particular, the energy consumption of lighting equipment is increasing. For this reason, highly efficient illumination is actively studied.

照明用光源は、限られた範囲を照らす「指向性光源」と、広範囲を照らす「拡散光源」とに分けられる。ＬＥＤ照明は、「指向性光源」に相当し、白熱球の代替として採用されつつある。その一方で、「拡散光源」に相当する蛍光灯の代替光源が望まれており、その候補として、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）照明が有力である。 Illumination light sources are classified into “directional light sources” that illuminate a limited range and “diffuse light sources” that illuminate a wide range. LED lighting corresponds to a “directional light source” and is being adopted as an alternative to an incandescent bulb. On the other hand, an alternative light source for a fluorescent lamp corresponding to a “diffusion light source” is desired, and organic EL (electroluminescence) illumination is a promising candidate.

有機ＥＬ素子は、ガラス板と、陽極である透明導電膜と、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンスを呈する有機化合物からなる一層又は複数層の発光層を含む有機ＥＬ層と、陰極とを備えた素子である。有機ＥＬ素子に用いられる有機ＥＬ層として、低分子色素系材料、共役高分子系材料等が用いられており、発光層を形成する場合、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等との積層構造が形成される。このような積層構造を有する有機ＥＬ層を、陽極と陰極の間に配置し、陽極と陰極に電界を印加することにより、陽極である透明電極から注入された正孔と、陰極から注入された電子とが、発光層内で再結合し、その再結合エネルギーによって発光中心が励起されて、発光する。 The organic EL element includes a glass plate, a transparent conductive film as an anode, an organic EL layer including an organic compound exhibiting electroluminescence that emits light by current injection, and a cathode, and a cathode. It is an element. As the organic EL layer used in the organic EL element, a low molecular dye material, a conjugated polymer material or the like is used. When forming a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection A laminated structure with layers and the like is formed. An organic EL layer having such a laminated structure is disposed between the anode and the cathode, and by applying an electric field to the anode and the cathode, holes injected from the transparent electrode that is the anode and those injected from the cathode The electrons recombine in the light emitting layer, and the emission center is excited by the recombination energy to emit light.

有機ＥＬ素子は、携帯電話、ディスプレイ用途として検討が進められており、一部では既に実用化されている。また、有機ＥＬ素子は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の薄型テレビと同等の発光効率を有している。 Organic EL elements have been studied for use in mobile phones and displays, and some have already been put into practical use. In addition, the organic EL element has a luminous efficiency equivalent to that of a thin television such as a liquid crystal display or a plasma display.

しかし、有機ＥＬ素子を照明用光源に適用するためには、輝度が未だ実用レベルに到達しておらず、更なる発光効率の改善が必要である。 However, in order to apply the organic EL element to the light source for illumination, the luminance has not yet reached the practical level, and further improvement of the light emission efficiency is necessary.

輝度が低い原因の一つとして、屈折率の不整合が挙げられる。具体的には、有機ＥＬ層の屈折率ｎ_ｄは１．８〜１．９であり、透明導電膜の屈折率ｎ_ｄは１．９〜２．０である。これに対して、ガラス板の屈折率ｎ_ｄは、通常、１．５程度である。よって、従来の有機ＥＬデバイスは、透明導電膜とガラス板の屈折率差が大きいことに起因して、有機ＥＬ層から放射した光が透明導電膜とガラス板の界面で反射し、光取り出し効率が低下するという問題があった。 One of the causes of low luminance is refractive index mismatch. Specifically, the refractive index _{n d} of the organic EL layer is 1.8 to 1.9, the refractive index _{n d} of the transparent conductive film is 1.9 to 2.0. In contrast, the refractive index _{n d} of the glass plate is usually about 1.5. Therefore, in the conventional organic EL device, light emitted from the organic EL layer is reflected at the interface between the transparent conductive film and the glass plate due to a large refractive index difference between the transparent conductive film and the glass plate, and the light extraction efficiency is reduced. There was a problem that decreased.

また、ガラス板と空気の屈折率差に起因して、ガラス板内に光が閉じ込められることも輝度が低い原因の一つである。例えば、屈折率ｎ_ｄ１．５のガラス板を用いた場合、空気の屈折率ｎ_ｄは１．０であるため、臨界角はスネルの法則より４２°と計算される。よって、この臨界角以上の入射角の光は、全反射を起こし、ガラス板内に閉じ込められて、空気中に取り出されないことになる。 Another reason for the low brightness is that light is confined in the glass plate due to the difference in refractive index between the glass plate and air. For example, when a glass plate having a refractive index n _{d of} 1.5 is used, since the refractive index n _{d of} air is 1.0, the critical angle is calculated as 42 ° according to Snell's law. Therefore, light having an incident angle greater than the critical angle causes total reflection, is confined in the glass plate, and is not extracted into the air.

特開２０１２−２５６３４号公報JP 2012-25634 A

上記問題を解決するために、透明導電膜とガラス板の間に、光取り出し層を形成することが検討されている。例えば、特許文献１には、光取り出し効率を高めるために、ソーダガラス板の表面に、高屈折率のガラスフリットを焼結させた光取り出し層を形成すると共に、光取り出し層内に散乱物質を分散させることが記載されている。 In order to solve the above problem, it has been studied to form a light extraction layer between the transparent conductive film and the glass plate. For example, in Patent Document 1, in order to increase the light extraction efficiency, a light extraction layer obtained by sintering a glass frit having a high refractive index is formed on the surface of a soda glass plate, and a scattering material is added in the light extraction layer. Dispersion is described.

しかし、特許文献１に記載のガラスフリットは、Ｎｂ_２Ｏ_５等を多量に含むため、原料コストが高価である。また、ガラス板の表面に光取り出し層を形成するためには、ガラス板の表面にガラスペーストを塗布する印刷工程が必要になり、この工程は生産コストの高騰を招く。更に、ガラスフリット中に散乱粒子を分散させる場合、散乱粒子自体の吸収により光取り出し層の透過率が低くなる。 However, since the glass frit described in Patent Document 1 contains a large amount of Nb ₂ O ₅ or the like, the raw material cost is high. Further, in order to form the light extraction layer on the surface of the glass plate, a printing process for applying a glass paste to the surface of the glass plate is required, and this process leads to an increase in production cost. Further, when the scattering particles are dispersed in the glass frit, the transmittance of the light extraction layer is lowered due to the absorption of the scattering particles themselves.

本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、焼結体からなる光取り出し層を形成しなくても、有機ＥＬ素子の光取り出し効率を高めることができ、しかも生産性に優れるガラス板を創案することである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical problem is that the light extraction efficiency of the organic EL element can be increased without forming a light extraction layer made of a sintered body, and The idea is to create a glass plate with excellent productivity.

本発明者等は、鋭意検討の結果、二以上の異種相を有するガラス板を有機ＥＬ照明に適用すると、焼結体からなる光取り出し層を形成しなくても、有機ＥＬ層から放射した光が異種相の界面で散乱して、光取り出し効率が向上することを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明のガラス板は、少なくとも二以上の異種相を有し、且つ有機ＥＬデバイスに用いることを特徴とする。なお、「有機ＥＬデバイス」には、有機ＥＬ照明のみならず、有機ＥＬディスプレイ等が含まれる。 As a result of intensive studies, the inventors have applied a glass plate having two or more heterogeneous phases to organic EL lighting, so that light emitted from the organic EL layer can be formed without forming a light extraction layer made of a sintered body. Has been found to be scattered at the interface of the different phases to improve the light extraction efficiency, and is proposed as the present invention. That is, the glass plate of the present invention has at least two or more heterogeneous phases and is used for an organic EL device. The “organic EL device” includes not only organic EL lighting but also an organic EL display.

第二に、本発明のガラス板は、分相しているガラスであり、且つ有機ＥＬデバイスに用いることを特徴とする。このようにすれば、有機ＥＬ層から放射した光が分相界面で散乱し、光取り出し効率が向上する。一般的に、ガラスの分相は、単一相の過冷却液体が少なくとも二以上の相に分かれた状態を指す。例えば、ヘイズ値が０．５％以上である場合、ガラスが「分相している」と判断してもよい。「ヘイズ値」は、例えば、両表面が鏡面研磨された試料（板厚１．１ｍｍ）を評価試料とし、スガ試験機製ＴＭダブルビーム式自動ヘーズコンピュータにより測定することができる。 2ndly, the glass plate of this invention is the glass which is phase-separated, and is used for an organic EL device. In this way, the light emitted from the organic EL layer is scattered at the phase separation interface, and the light extraction efficiency is improved. In general, glass phase separation refers to a state in which a single-phase supercooled liquid is divided into at least two or more phases. For example, when the haze value is 0.5% or more, it may be determined that the glass is “phase-separated”. The “haze value” can be measured by, for example, a sample (plate thickness of 1.1 mm) whose both surfaces are mirror-polished and evaluated by a TM double beam automatic haze computer manufactured by Suga Test Instruments.

第三に、本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３０〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜３０％を含有することが好ましい。このようにすれば、分相性ガラスを作製し易くなり、またガラス板の生産性を高めることもできる。 Thirdly, the glass plate of the present invention has a glass composition, in _{_{_{mass%, SiO 2 35~75%, B}}} 2 O 3 0~30%, preferably contains _Al 2 O 3 _0~30%. If it does in this way, it will become easy to produce phase separation glass and the productivity of a glass plate can also be raised.

第四に、本発明のガラス板は、実質的にレアメタル酸化物を含有しないことが好ましい。このようにすれば、原料コストを低廉化することができる。ここで、「レアメタル酸化物」は、希土類酸化物、Ｙ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＴａ_２Ｏ_５の合量を指す。「実質的にレアメタル酸化物を含有しない」とは、ガラス組成中のレアメタル酸化物の含有量が０．１質量％以下の場合を指す。 Fourthly, it is preferable that the glass plate of this invention does not contain a rare metal oxide substantially. In this way, the raw material cost can be reduced. Here, “rare metal oxide” refers to the total amount of rare earth oxide, Y ₂ O ₃ , Nb ₂ O ₅ and Ta ₂ O ₅ . “Substantially no rare metal oxide” refers to the case where the content of the rare metal oxide in the glass composition is 0.1% by mass or less.

第五に、本発明のガラス板は、屈折率ｎ_ｄが１．５００超であることが好ましい。このようにすれば、有機層とガラス板界面での屈折率差が小さくなり、有機ＥＬ層から放射した光が透明導電膜とガラス板の界面で反射し難くなる。ここで、「屈折率ｎ_ｄ」は、屈折率測定器で測定したｄ線の値を指し、例えば、２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（徐冷点Ｔａ＋３０℃）から（歪点Ｐｓ−５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎの冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率ｎ_ｄが整合する浸液をガラス間に浸透させながら、島津製作所製の屈折率測定器ＫＰＲ−２０００を用いることにより測定可能である。 Fifth, the glass plate of the present invention preferably has a refractive index n _d is 1.500 greater. By doing so, the difference in refractive index between the organic layer and the glass plate interface becomes small, and the light emitted from the organic EL layer becomes difficult to be reflected at the interface between the transparent conductive film and the glass plate. Here, “refractive index n _d ” refers to the value of the d-line measured by a refractive index measuring device. For example, after preparing a rectangular parallelepiped sample of 25 mm × 25 mm × about 3 mm, from (slow cooling point Ta + 30 ° C.) ( the temperature range of up to the strain point Ps-50 ° C.) annealed at a cooling rate of 0.1 ° C. / min, followed with the immersion liquid refractive index n _d is matched to penetrate between the glass, the refractive manufactured by Shimadzu Corporation It can be measured by using a rate measuring device KPR-2000.

第六に、本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面の表面粗さＲａが０．０１〜１０ｎｍであることが好ましい。このようにすれば、ガラス板の表面に形成される透明導電膜の特性を高めることができる。ここで、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値を指す。 Sixth, the glass plate of the present invention preferably has a surface roughness Ra of at least one surface of 0.01 to 10 nm. If it does in this way, the characteristic of the transparent conductive film formed in the surface of a glass plate can be improved. Here, “surface roughness Ra” refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.

第七に、本発明のガラス板は、ヘイズ値が１０％以上であることが好ましい。このようにすれば、有機ＥＬ層から放射した光がガラス板内で散乱し易くなる。 Seventh, the glass plate of the present invention preferably has a haze value of 10% or more. If it does in this way, it will become easy to scatter the light radiated | emitted from the organic electroluminescent layer within a glass plate.

第八に、本発明のガラス板は、板厚が１．０ｍｍ以下であることが好ましい。このようにすれば、有機ＥＬ照明の軽量化を図り易くなる。また、板厚が小さい程、ガラス板の可撓性を高めることができる。ガラス板の可撓性が高いと、有機ＥＬ照明に意匠性（フレキシブル性）を付与することができる。 Eighth, the glass plate of the present invention preferably has a plate thickness of 1.0 mm or less. If it does in this way, it will become easy to aim at weight reduction of organic EL illumination. Moreover, the flexibility of a glass plate can be improved, so that plate | board thickness is small. When the flexibility of the glass plate is high, designability (flexibility) can be imparted to the organic EL lighting.

第九に、本発明のガラス板は、オーバーフローダウンドロー法により成形されてなることが好ましい。このようにすれば、ガラス板の表面精度を高めることができる。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、耐熱性の樋状構造物の両側から、溶融ガラスを溢れさせて、樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。 Ninth, the glass plate of the present invention is preferably formed by an overflow down draw method. If it does in this way, the surface accuracy of a glass plate can be raised. Here, the “overflow down draw method” is a method in which molten glass overflows from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and is stretched downward to form a glass plate while joining at the lower end of the bowl-like structure. It is a method to do.

第十に、本発明のガラス板は、有機ＥＬ照明に用いることが好ましい。 Tenth, the glass plate of the present invention is preferably used for organic EL lighting.

第十一に、本発明のガラス板は、有機ＥＬ照明に用いるガラス板であって、ガラス板の一方の表面から臨界角以上の光を入射した際に、ガラス板の他方の表面から光が取り出される性質を有することを特徴とする。このようにすれば、ガラス板内に閉じ込められる光が低減されて、光取り出し効率が向上する。 Eleventh, the glass plate of the present invention is a glass plate used for organic EL lighting, and when light having a critical angle or more is incident from one surface of the glass plate, light is emitted from the other surface of the glass plate. It has the property of being taken out. In this way, the light confined in the glass plate is reduced, and the light extraction efficiency is improved.

第十二に、本発明のガラス板は、有機ＥＬ照明に用いるガラス板であって、（ガラス板の一方の表面から入射角６０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）／（ガラス板の一方の表面から入射角０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）の値が０．０１以上であることを特徴とする。このようにすれば、ガラス板内に閉じ込められる光が低減されて、光取り出し効率が向上する。 Twelfth, the glass plate of the present invention is a glass plate used for organic EL lighting (obtained from the other surface of the glass plate by irradiating light with an incident angle of 60 ° from one surface of the glass plate). Radiant flux value) / (radiant flux value obtained from the other surface of the glass plate by irradiating light with an incident angle of 0 ° from one surface of the glass plate) is 0.01 or more. And In this way, the light confined in the glass plate is reduced, and the light extraction efficiency is improved.

光散乱性の評価方法を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the light-scattering evaluation method. ［表２］のデータをプロットしたチャートである。It is the chart which plotted the data of [Table 2].

本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３０〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜３０％を含有することが好ましい。このようにすれば、分相性が向上し、光散乱機能を高め易くなる。以下、各成分を上記のように限定した理由を説明する。 The glass plate of the present invention has a glass composition, in _{_{_{mass%, SiO 2 35~75%, B}}} 2 O 3 0~30%, preferably contains _Al 2 O 3 _0~30%. If it does in this way, phase separation will improve and it will become easy to raise a light-scattering function. Hereinafter, the reason why each component is limited as described above will be described.

ＳｉＯ_２の含有量は３５〜７５％が好ましい。ＳｉＯ_２の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ_２の好適な上限範囲は７５％以下、特に７０％以下である。一方、ＳｉＯ_２の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ_２の好適な下限範囲は３０％以上、３５％以上、４０％以上、４５％以上、特に５０％以上である。 The content of SiO ₂ is preferably 35 to 75%. When the content of SiO ₂ increases, the meltability and moldability tend to decrease, and the refractive index tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of SiO ₂ is 75% or less, particularly 70% or less. On the other hand, when the content of SiO ₂ decreases, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the preferable lower limit range of SiO ₂ is 30% or more, 35% or more, 40% or more, 45% or more, particularly 50% or more.

Ｂ_２Ｏ_３の含有量は０〜３０％が好ましい。Ｂ_２Ｏ_３は、分相性を高める成分であるが、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が多過ぎると、ヤング率が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。更にガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなることに加えて、耐酸性が低下し易くなる。よって、Ｂ_２Ｏ_３の好適な上限範囲は３０％以下、２８％以下、２５％以下、２４％以下、２３％以下、２０％以下、１５％以下、１３％以下、特に１０％以下であり、好適な下限範囲は０．５％上、１％以上、２％以上、３％以上、特に４％以上である。 The content of B ₂ O ₃ is preferably 0 to 30%. B ₂ O ₃ is a component that enhances phase separation, but if the content of B ₂ O ₃ is too large, the Young's modulus tends to decrease and the strain point tends to decrease. Furthermore, the component balance of the glass composition is impaired, and in addition to the resistance to devitrification being easily lowered, the acid resistance is easily lowered. Therefore, the preferable upper limit range of B ₂ O ₃ is 30% or less, 28% or less, 25% or less, 24% or less, 23% or less, 20% or less, 15% or less, 13% or less, particularly 10% or less. The preferable lower limit range is 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 4% or more.

Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は０〜３０％が好ましい。Ａｌ_２Ｏ_３は、耐失透性を高める成分であるが、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が多過ぎると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆に耐失透性が低下し易くなる。また耐酸性が低下し易くなる。よって、Ａｌ_２Ｏ_３の好適な上限範囲は３０％以下、２５％以下、２０％以下、１７％以下、１４％以下、１２％以下、特に１０％以下であり、下限値は３％以上、５％以上、特に７％以上である。 The content of Al ₂ O ₃ is preferably 0 to 30%. Al ₂ O ₃ is a component that enhances devitrification resistance. However, if the content of Al ₂ O ₃ is too large, the component balance of the glass composition is impaired, and conversely, devitrification resistance is likely to decrease. . Moreover, acid resistance tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of Al ₂ O ₃ is 30% or less, 25% or less, 20% or less, 17% or less, 14% or less, 12% or less, particularly 10% or less, and the lower limit is 3% or more, 5% or more, particularly 7% or more.

上記成分以外にも、例えば、以下の成分を添加することができる。 In addition to the above components, for example, the following components can be added.

Ｌｉ_２Ｏの含有量は０〜３０％が好ましい。Ｌｉ_２Ｏは、分相性を高める成分であるが、Ｌｉ_２Ｏの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。また、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分の溶出によりガラスが白濁し易くなる。よって、Ｌｉ_２Ｏの好適な上限範囲は３０％以下、２０％以下、特に１０％以下である。 The content of Li ₂ O is preferably 0 to 30%. Li ₂ O is a component that enhances phase separation. However, if the content of Li ₂ O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Moreover, in the etching process with an acid, the glass tends to become cloudy due to elution of the alkali component. Therefore, a preferable upper limit range of Li ₂ O is 30% or less, 20% or less, and particularly 10% or less.

Ｎａ_２Ｏの含有量は０〜３０％が好ましい。Ｎａ_２Ｏは、分相性を高める成分であるが、Ｎａ_２Ｏの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。また、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分の溶出によりガラスが白濁し易くなる。よって、Ｎａ_２Ｏの好適な上限範囲は３０％以下、特に２０％以下であり、好適な下限範囲は０．０１％以上、０．１％以上、２％以上、５％以上、特に１０％以上である。 The content of Na ₂ O is preferably 0 to 30%. Na ₂ O is a component that enhances the phase separation. However, when the content of Na ₂ O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Moreover, in the etching process with an acid, the glass tends to become cloudy due to elution of the alkali component. Therefore, a preferable upper limit range of Na ₂ O is 30% or less, particularly 20% or less, and a preferable lower limit range is 0.01% or more, 0.1% or more, 2% or more, 5% or more, particularly 10%. That's it.

Ｋ_２Ｏの含有量は０〜３０％が好ましい。Ｋ_２Ｏは、分相性を高める成分であるが、Ｋ_２Ｏの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。また、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分の溶出によりガラスが白濁し易くなる。よって、Ｋ_２Ｏの好適な上限範囲は３０％以下、２０％以下、特に１０％以下であり、好適に下限範囲は０．０１％以上、特に０．１％以上である。 The content of K ₂ O is preferably 0 to 30%. K ₂ O is a component that enhances phase separation. However, if the content of K ₂ O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Moreover, in the etching process with an acid, the glass tends to become cloudy due to elution of the alkali component. Therefore, the preferable upper limit range of K ₂ O is 30% or less, 20% or less, particularly 10% or less, and the lower limit range is preferably 0.01% or more, particularly 0.1% or more.

ＭｇＯの含有量は０〜３０％が好ましい。ＭｇＯは、屈折率、ヤング率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、ＭｇＯを多量に含有させると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下したり、密度や熱膨張係数が高くなり過ぎる虞がある。よって、ＭｇＯの好適な上限範囲は３０％以下、２０％以下、１０％以下、７％以下、特に５％以下である。 The content of MgO is preferably 0 to 30%. MgO is a component that raises the refractive index, Young's modulus, and strain point and lowers the high-temperature viscosity. However, when MgO is contained in a large amount, the liquidus temperature rises and devitrification resistance decreases. Or the density and thermal expansion coefficient may become too high. Therefore, the preferable upper limit range of MgO is 30% or less, 20% or less, 10% or less, 7% or less, and particularly 5% or less.

ＣａＯの含有量は０〜３０％が好ましい。ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの好適な上限範囲は３０％以下、２０％以下、特に１０％以下である。 The content of CaO is preferably 0 to 30%. When the content of CaO is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, and the balance of components of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of CaO is 30% or less, 20% or less, and particularly 10% or less.

ＳｒＯの含有量は０〜３０％が好ましい。ＳｒＯの含有量が多くなると、屈折率、密度、熱膨張係数が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの好適な上限範囲は３０％以下、２０％以下、特に１０％以下である。 The content of SrO is preferably 0 to 30%. When the SrO content is increased, the refractive index, density, and thermal expansion coefficient are likely to be increased, and the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, a suitable upper limit range of SrO is 30% or less, 20% or less, and particularly 10% or less.

ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、屈折率を高める成分である。ＢａＯの含有量が多くなると、屈折率、密度、熱膨張係数が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの好適な上限範囲は６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、３％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下であり、ＢａＯを導入する場合、好適な下限範囲は０．１％以上、特に１％以上である。 BaO is a component that increases the refractive index of alkaline earth metal oxides without extremely reducing the viscosity of the glass. When the content of BaO increases, the refractive index, density, and thermal expansion coefficient tend to increase, and the balance of the components of the glass composition is impaired, and devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of BaO is 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, 3% or less, 1% or less, 0.5% or less, 1% or less, and when BaO is introduced, the preferred lower limit range is 0.1% or more, particularly 1% or more.

ＺｎＯは、屈折率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、ＺｎＯを多量に添加すると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下する。よって、ＺｎＯの好適な上限範囲は２０％以下、１０％以下、５％以下、特に３％以下であり、好適な下限範囲は０．１％以上、特に１％以上である。 ZnO is a component that increases the refractive index and strain point and also decreases the high-temperature viscosity. However, when ZnO is added in a large amount, the liquidus temperature increases and devitrification resistance decreases. Therefore, a preferable upper limit range of ZnO is 20% or less, 10% or less, 5% or less, particularly 3% or less, and a preferable lower limit range is 0.1% or more, particularly 1% or more.

ＴｉＯ_２は、屈折率を高める成分であり、その含有量は０〜２０％が好ましい。しかし、ＴｉＯ_２の含有量が多くなると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。また直線透過率が低下する虞がある。よって、ＴｉＯ_２の好適な上限範囲は２０％以下、１０％以下、特に５％以下であり、好適な下限範囲は０．００１％以上、特に０．０１％以上である。 TiO ₂ is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 20%. However, when the content of TiO ₂ is increased, the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is easily lowered. Moreover, there exists a possibility that a linear transmittance | permeability may fall. Therefore, the preferable upper limit range of TiO ₂ is 20% or less, 10% or less, particularly 5% or less, and the preferable lower limit range is 0.001% or more, particularly 0.01% or more.

ＺｒＯ_２は、屈折率を高める成分であり、その含有量は０〜２０％が好ましい。しかし、ＺｒＯ_２の含有量が多くなると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＺｒＯ_２の好適な上限範囲は２０％以下、１０％以下、特に５％以下である。 ZrO ₂ is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 20%. However, when the content of ZrO ₂ increases, the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is likely to decrease. Therefore, a suitable upper limit range of ZrO ₂ is 20% or less, 10% or less, and particularly 5% or less.

Ｌａ_２Ｏ_３は、屈折率を高める成分であり、その含有量は０〜１０％が好ましい。Ｌａ_２Ｏ_３の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性や耐酸性が低下し易くなる。また、原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、Ｌａ_２Ｏ_３の好適な上限範囲は１０％以下、５％以下、３％以下、２．５％以下、特に１％以下である。 La ₂ O ₃ is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of La ₂ O ₃ is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, and devitrification resistance and acid resistance are likely to be decreased. Moreover, raw material cost rises and the manufacturing cost of a glass plate tends to rise. Therefore, a suitable upper limit range of La ₂ O ₃ is 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2.5% or less, and particularly 1% or less.

Ｎｂ_２Ｏ_５は、屈折率を高める成分であり、その含有量は０〜１０％が好ましい。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性が低下し易くなる。また、原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、Ｎｂ_２Ｏ_５の好適な上限範囲は１０％以下、５％以下、３％以下、特に１％以下である。 Nb ₂ O ₅ is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of Nb ₂ O ₅ increases, the density and thermal expansion coefficient tend to increase, and devitrification resistance tends to decrease. Moreover, raw material cost rises and the manufacturing cost of a glass plate tends to rise. Therefore, a suitable upper limit range of Nb ₂ O ₅ is 10% or less, 5% or less, 3% or less, and particularly 1% or less.

Ｇｄ_２Ｏ_３は、屈折率を高める成分であり、その含有量は０〜１０％が好ましい。Ｇｄ_２Ｏ_３の含有量が多くなると、密度や熱膨張係数が高くなり過ぎたり、ガラス組成の成分バランスを欠いて、耐失透性が低下したり、高温粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｇｄ_２Ｏ_３の好適な上限範囲は１０％以下、５％以下、３％以下、特に１％以下である。 Gd ₂ O ₃ is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of Gd ₂ O ₃ is increased, the density and thermal expansion coefficient become too high, the component balance of the glass composition is lacking, the devitrification resistance is lowered, the high temperature viscosity is lowered too much, and a high liquid It becomes difficult to secure the phase viscosity. Therefore, a suitable upper limit range of Gd ₂ O ₃ is 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less.

Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（Ｌａ_２Ｏ_３とＮｂ_２Ｏ_５の合量）の含有量は０〜１０％が好ましい。Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性が低下し易くなり、更には高い液相粘度を確保し難くなる。また、原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５の好適な上限範囲は１０％以下、８％以下、５％以下、３％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下である。ここで、「Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５」は、Ｌａ_２Ｏ_３とＮｂ_２Ｏ_５の合量を指す。 The content of La ₂ O ₃ + Nb ₂ O ₅ (the total amount of La ₂ O ₃ and Nb ₂ O ₅ ) is preferably 0 to 10%. When the content of La ₂ O ₃ + Nb ₂ O ₅ is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, the devitrification resistance is likely to be lowered, and further, it is difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Moreover, raw material cost rises and the manufacturing cost of a glass plate tends to rise. Therefore, a suitable upper limit range of La ₂ O ₃ + Nb ₂ O ₅ is 10% or less, 8% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less. . Here, “La ₂ O ₃ + Nb ₂ O ₅ ” refers to the total amount of La ₂ O ₃ and Nb ₂ O ₅ .

レアメタル酸化物の含有量は合量で０〜１０％が好ましい。レアメタル酸化物の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性や耐酸性が低下し易くなり、高い液相粘度を確保し難くなる。また、原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、レアメタル酸化物の好適な上限範囲は１０％以下、５％以下、３％以下、特に１％以下であり、実質的に含有しないことが望ましい。 The total content of rare metal oxides is preferably 0 to 10%. When the content of the rare metal oxide is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, and the devitrification resistance and the acid resistance are liable to be lowered, so that it is difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Moreover, raw material cost rises and the manufacturing cost of a glass plate tends to rise. Therefore, the preferable upper limit range of the rare metal oxide is 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less, and it is desirable that the rare metal oxide is not substantially contained.

清澄剤として、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ_３、ＣｅＯ_２の群から選択された一種又は二種以上を０〜３％添加することができる。但し、Ａｓ_２Ｏ_３とＳｂ_２Ｏ_３は、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、各々の含有量は０．３％未満が好ましい。以上の点を考慮すると、清澄剤として、ＳｎＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ_３及びＣｅＯ_２が好ましい。 As a clarifier, 0 to 3% of one or two or more selected from the group of As ₂ O ₃ , Sb ₂ O ₃ , SnO ₂ , Fe ₂ O ₃ , F, Cl, SO ₃ , and CeO ₂ is added. Can do. However, it is preferable to refrain from using As ₂ O ₃ and Sb ₂ O ₃ as much as possible from the environmental viewpoint, and the content of each is preferably less than 0.3%. Considering the above points, SnO ₂ , Fe ₂ O ₃ , F, Cl, SO ₃ and CeO ₂ are preferable as the fining agent.

ＳｎＯ_２の含有量は、好ましくは０〜１％、０．００１〜１％、特に０．０１〜０．５％である。 The content of SnO ₂ is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, particularly 0.01 to 0.5%.

鉄の好適な上限範囲は、Ｆｅ_２Ｏ_３に換算して、０．０５％以下、０．０４％以下、０．０３％以下、特に０．０２％以下であり、好適な下限範囲は、Ｆｅ_２Ｏ_３に換算して、０．００１％以上である。ここで、「Ｆｅ_２Ｏ_３換算」は、価数によらず全Ｆｅ量をＦｅ_２Ｏ_３量に換算した値を指す。 The preferable upper limit range of iron is 0.05% or less, 0.04% or less, 0.03% or less, particularly 0.02% or less in terms of Fe ₂ O ₃ . In terms of Fe ₂ O ₃ , it is 0.001% or more. Here, “Fe ₂ O ₃ conversion” refers to a value obtained by converting the total Fe amount to the Fe ₂ O ₃ amount regardless of the valence.

Ｆの含有量は、好ましくは０〜１％、０．００１〜０．５％、特に０．０１〜０．４％である。なお、Ｆは、分相性を高める成分でもある。 The content of F is preferably 0 to 1%, 0.001 to 0.5%, particularly 0.01 to 0.4%. Note that F is also a component that improves phase separation.

Ｃｌの含有量は、好ましくは０〜１％、０．００１〜０．５％、特に０．０１〜０．４％である。 The content of Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 0.5%, particularly 0.01 to 0.4%.

ＳＯ_３の含有量は、好ましくは０〜１％、０〜０．５％、０．００１〜０．１％、０．００５〜０．１％、０．０１〜０．１％、特に０．０１〜０．０５％である。ＳＯ_３の導入原料として、芒硝を用いてもよく、硫酸を含む原料を用いてもよい。 The content of SO ₃ is preferably 0 to 1%, 0 to 0.5%, 0.001 to 0.1%, 0.005 to 0.1%, 0.01 to 0.1%, especially 0. 0.01-0.05%. As a raw material for introducing SO ₃ , sodium sulfate may be used, or a raw material containing sulfuric acid may be used.

ＳｎＯ_２＋Ｃｌ＋ＳＯ_３の含有量は、好ましくは０〜１％、０．００１〜１％、０．０１〜０．５％、特に０．０１〜０．３％である。ここで、「ＳｎＯ_２＋Ｃｌ＋ＳＯ_３」は、ＳｎＯ_２、Ｃｌ及びＳＯ_３の合量を指す。 The content of SnO ₂ + Cl + SO ₃ is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, in particular 0.01 to 0.3%. Here, “SnO ₂ + Cl + SO ₃ ” refers to the total amount of SnO ₂ , Cl and SO ₃ .

ＣｅＯ_２の含有量は０〜６％が好ましい。ＣｅＯ_２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣｅＯ_２の好適な上限範囲は６％以下、５％以下、３％以下、２％以下、特に１％以下である。一方、ＣｅＯ_２の含有量が少なくなると、清澄性が乏しくなる。よって、ＣｅＯ_２を添加する場合、ＣｅＯ_２の好適な下限範囲は０．００１％以上、０．０１％以上、特に０．１％以上である。 The content of CeO ₂ is preferably 0 to 6%. When the content of CeO ₂ is increased, the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of CeO ₂ is 6% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, and particularly 1% or less. On the other hand, when the content of CeO ₂ decreases, the clarity becomes poor. Accordingly, when adding CeO _2, it preferred lower limit range of CeO ₂ is less than 0.001%, 0.01% or more, particularly 0.1% or more.

ＰｂＯは、高温粘性を低下させる成分であるが、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましい。ＰｂＯの含有量は０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＰｂＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が０．１％未満の場合を指す。 PbO is a component that lowers the high-temperature viscosity, but it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental point of view. The content of PbO is preferably 0.5% or less, and desirably not substantially contained. Here, “substantially does not contain PbO” refers to a case where the content of PbO in the glass composition is less than 0.1%.

上記成分以外にも、他の成分を合量で好ましくは１０％（望ましくは５％）まで添加してもよい。 In addition to the above components, other components may be added in a total amount of preferably 10% (desirably 5%).

本発明のガラス板において、屈折率ｎ_ｄは、好ましくは１．５００超である。屈折率ｎ_ｄが１．５００以下になると、透明導電膜−ガラス板界面の反射によって光を効率良く取り出せなくなる。一方、屈折率ｎ_ｄが高過ぎると、空気−ガラス板界面での反射率が高くなり、ガラス表面に粗面化処理を施しても、光を外部に取り出し難くなる。よって、屈折率ｎ_ｄは、好ましくは２．３００以下、２．２００以下、２．１００以下、２．０００以下、１．９００以下、特に１．７５０以下である。 In the glass plate of the present invention, the refractive index _{n d} is preferably 1.500 greater. When the refractive index n _d is 1.500 or less, the transparent conductive film - might become caught efficiently light by reflection of the glass plate surface. On the other hand, if the refractive index _nd is too high, the reflectance at the air-glass plate interface becomes high, and it is difficult to extract light to the outside even if the glass surface is roughened. Therefore, the refractive index _{n d} is preferably 2.300 or less, 2.200 or less, 2.100 or less, 2.000 or less, 1.900 or less, particularly 1.750 or less.

本発明のガラス板において、密度は、好ましくは５．０ｇ／ｃｍ^３以下、４．８ｇ／ｃｍ^３以下、４．５ｇ／ｃｍ^３以下、４．３ｇ／ｃｍ^３以下、３．７ｇ／ｃｍ^３以下、３．５ｇ／ｃｍ^３以下、特に３．４ｇ／ｃｍ^３以下である。このようにすれば、デバイスを軽量化することができる。 In the glass plate of the present invention, the density is preferably 5.0 g / cm ³ or less, 4.8 g / cm ³ or less, 4.5 g / cm ³ or less, 4.3 g / cm ³ or less, 3.7 g / cm ^3. Hereinafter, it is 3.5 g / cm ³ or less, particularly 3.4 g / cm ³ or less. In this way, the device can be reduced in weight.

本発明のガラス板において、３０〜３８０℃における熱膨張係数は、好ましくは４５×１０^−７〜１１０×１０^−７／℃、５０×１０^−７〜１００×１０^−７／℃、６０×１０^−７〜９５×１０^−７／℃、６５×１０^−７〜９３×１０^−７／℃、特に６７×１０^−７〜８０×１０^−７／℃である。近年、有機ＥＬデバイス等において、意匠的要素を高める観点から、ガラス板に可撓性を付与する場合がある。ガラス板の可撓性を高めるためには、ガラス板の厚みを小さくする必要があるが、この場合に、ガラス板と透明導電膜の熱膨張係数が不整合であると、ガラス板が反り易くなる。そこで、３０〜３８０℃における熱膨張係数を上記範囲とすれば、このような事態を防止し易くなる。 In the glass plate of the present invention, the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is preferably 45 × 10 ^{−7 to} 110 × 10 ⁻⁷ / ° C., 50 × 10 ^{−7 to} 100 × 10 ⁻⁷ / ° C., 60 × 10. ^{-7 to} 95 × 10 ⁻⁷ / ° C., 65 × 10 ^{−7 to} 93 × 10 ⁻⁷ / ° C., particularly 67 × 10 ⁻⁷ to 80 × 10 ⁻⁷ / ° C. In recent years, in an organic EL device or the like, flexibility may be imparted to a glass plate from the viewpoint of enhancing design elements. In order to increase the flexibility of the glass plate, it is necessary to reduce the thickness of the glass plate. In this case, if the thermal expansion coefficients of the glass plate and the transparent conductive film are mismatched, the glass plate is likely to warp. Become. Therefore, if the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is in the above range, such a situation can be easily prevented.

本発明のガラス板において、歪点は、好ましくは４５０℃以上、４７０℃以上、特に５２０℃以上である。透明導電膜を高温で形成する程、透明性が高く、電気抵抗が低くなり易い。しかし、従来のガラス板は、耐熱性が不十分であるため、透明導電膜の透明性と低電気抵抗を両立させることが困難であった。そこで、歪点を上記範囲とすれば、透明性と低電気抵抗の両立が可能になり、更にはデバイスの製造工程における熱処理によりガラス板が熱収縮し難くなる。 In the glass plate of the present invention, the strain point is preferably 450 ° C. or higher, 470 ° C. or higher, particularly 520 ° C. or higher. The higher the temperature of the transparent conductive film, the higher the transparency and the lower the electrical resistance. However, since the conventional glass plate has insufficient heat resistance, it has been difficult to achieve both transparency of the transparent conductive film and low electrical resistance. Therefore, when the strain point is in the above range, both transparency and low electrical resistance can be achieved, and furthermore, the glass plate is hardly thermally contracted by heat treatment in the device manufacturing process.

本発明のガラス板において、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１４５０℃以下、１４２０℃以下、１３９０℃以下、特に１３２０℃以下である。このようにすれば、溶融性が向上するため、ガラス板の製造効率が向上する。 In the glass plate of the present invention, the temperature at 10 ^2.5 dPa · s is preferably 1450 ° C. or lower, 1420 ° C. or lower, 1390 ° C. or lower, particularly 1320 ° C. or lower. If it does in this way, since a meltability will improve, the manufacturing efficiency of a glass plate will improve.

本発明のガラス板において、液相温度は、好ましくは１２００℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１１０℃以下、１０９０℃以下、１０７０℃以下、１０５０℃以下、１０４０℃以下、１０００℃以下、特に９８０℃以下である。また、液相粘度は、好ましくは１０^３．５ｄＰａ・ｓ以上、１０^３．８ｄＰａ・ｓ以上、１０^４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０^４．２ｄＰａ・ｓ以上、１０^４．４ｄＰａ・ｓ以上、１０^４．６ｄＰａ・ｓ以上、１０^４．８ｄＰａ・ｓ以上、特に１０^５．０ｄＰａ・ｓ以上である。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、フロート法又はオーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなる。 In the glass plate of the present invention, the liquidus temperature is preferably 1200 ° C or lower, 1150 ° C or lower, 1130 ° C or lower, 1110 ° C or lower, 1090 ° C or lower, 1070 ° C or lower, 1050 ° C or lower, 1040 ° C or lower, 1000 ° C or lower, In particular, it is 980 ° C. or lower. The liquid phase viscosity is preferably 10 ^3.5 dPa · s or more, 10 ^3.8 dPa · s or more, 10 ^4.0 dPa · s or more, 10 ^4.2 dPa · s or more, 10 ^4.4 dPa or more. S or more, 10 ^4.6 dPa · s or more, 10 ^4.8 dPa · s or more, particularly 10 ^5.0 dPa · s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping | molding, and it will become easy to shape | mold a glass plate by the float method or the overflow downdraw method.

本発明のガラス板において、直線透過率は、好ましくは１０％以上、３０％以上、５０％以上、６０％以上、特に７０％以上である。このようにすれば、有機ＥＬ素子を作製した際に輝度を高めることができる。なお、「直線透過率」は、例えば、両表面が鏡面研磨された試料（板厚１．１ｍｍ）を評価試料とし、日本分光製Ｖ―６７０を用いて、バンド幅：５．０ｎｍ、走査速度：２００ｎｍ／分、データ間隔：０．５ｎｍで測定することができる。 In the glass plate of the present invention, the linear transmittance is preferably 10% or more, 30% or more, 50% or more, 60% or more, particularly 70% or more. If it does in this way, a brightness | luminance can be raised when an organic EL element is produced. “Linear transmittance” is, for example, a sample (plate thickness: 1.1 mm) whose both surfaces are mirror-polished, and using V-670 manufactured by JASCO, band width: 5.0 nm, scanning speed : 200 nm / min, data interval: 0.5 nm.

本発明のガラス板において、ヘイズ値は、好ましくは１０％以上、２０％以上、３０％以上、４０％以上、特に５０〜９９％である。このようにすれば、有機ＥＬ素子を作製した際に光取り出し効率を高めることができる。なお、ヘイズ値は、分相性を制御することにより、調整することができる。 In the glass plate of the present invention, the haze value is preferably 10% or more, 20% or more, 30% or more, 40% or more, particularly 50 to 99%. In this way, the light extraction efficiency can be increased when an organic EL element is produced. The haze value can be adjusted by controlling the phase separation.

本発明のガラス板において、全光線透過率は、好ましくは３０％以上、４０％以上、特に５０〜１００％である。このようにすれば、有機ＥＬ素子を作製した際に光取り出し効率を高めることができる。なお、「全光線透過率」は、例えば、両表面が鏡面研磨された試料（板厚１．１ｍｍ）を評価試料とし、スガ試験機製ＴＭダブルビーム式自動ヘーズコンピュータにより測定することができる。 In the glass plate of the present invention, the total light transmittance is preferably 30% or more, 40% or more, particularly 50 to 100%. In this way, the light extraction efficiency can be increased when an organic EL element is produced. The “total light transmittance” can be measured by a TM double beam type automatic haze computer manufactured by Suga Test Instruments, using, for example, a sample (plate thickness: 1.1 mm) whose both surfaces are mirror-polished.

本発明のガラス板において、（ガラス板の一方の表面から入射角６０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）／（ガラス板の一方の表面から入射角０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）の値は、好ましくは０．０１以上、０．０２以上、０．０３以上、０．０４以上、特に０．０５以上である。上記値が小さ過ぎると、ガラス板内に閉じ込められる光が多くなり、光取り出し効率が低下し易くなる。 In the glass plate of the present invention, (radiant flux value obtained from the other surface of the glass plate by irradiating light with an incident angle of 60 ° from one surface of the glass plate) / (incident angle from one surface of the glass plate) The value of the radiant flux value obtained from the other surface of the glass plate by irradiating 0 ° light is preferably 0.01 or more, 0.02 or more, 0.03 or more, 0.04 or more, particularly 0. .05 or more. If the above value is too small, the amount of light confined in the glass plate increases, and the light extraction efficiency tends to decrease.

本発明のガラス板において、板厚は、好ましくは１．５ｍｍ以下、１．３ｍｍ以下、１．１ｍｍ以下、０．８ｍｍ以下、０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以下である。板厚が小さい程、可撓性が高まり、意匠性に優れた有機ＥＬ照明を作製し易くなるが、板厚が極端に小さくなると、ガラスが破損し易くなる。よって、板厚は、好ましくは１０μｍ以上、特に３０μｍ以上である。 In the glass plate of the present invention, the plate thickness is preferably 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, 0. 2 mm or less, particularly 0.1 mm or less. The smaller the plate thickness, the higher the flexibility and the easier it is to produce an organic EL illumination with excellent design, but the glass tends to break when the plate thickness becomes extremely small. Therefore, the plate thickness is preferably 10 μm or more, particularly 30 μm or more.

本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に未研磨面を有すること（特に、少なくとも一方の表面の有効面全体が未研磨面であること）が好ましい。ガラスの理論強度は、非常に高いが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラスの表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、ガラス板の表面を未研磨にすれば、本来の機械的強度を損ない難くなるため、ガラス板が破壊し難くなる。また、研磨工程を簡略化又は省略し得るため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。 The glass plate of the present invention preferably has an unpolished surface on at least one surface (particularly, the entire effective surface of at least one surface is an unpolished surface). The theoretical strength of glass is very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow is generated on the surface of the glass in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the surface of the glass plate is unpolished, the original mechanical strength is hardly lost, and thus the glass plate is difficult to break. Further, since the polishing step can be simplified or omitted, the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.

本発明のガラス板において、少なくとも一方の表面（特に未研磨面）の表面粗さＲａは０．０１〜１μｍが好ましい。表面粗さＲａが１μｍより大きいと、その面に形成される透明導電膜の品位が低下して、均一な発光を得難くなる。表面粗さＲａの好適な上限範囲は１μｍ以下、０．８μｍ以下、０．５μｍ以下、０．３μｍ以下、０．１μｍ以下、０．０７μｍ以下、０．０５μｍ以下、０．０３μｍ以下、特に１０ｎｍ以下である。 In the glass plate of the present invention, the surface roughness Ra of at least one surface (particularly an unpolished surface) is preferably 0.01 to 1 μm. When the surface roughness Ra is larger than 1 μm, the quality of the transparent conductive film formed on the surface is lowered and it is difficult to obtain uniform light emission. Suitable upper limit ranges of the surface roughness Ra are 1 μm or less, 0.8 μm or less, 0.5 μm or less, 0.3 μm or less, 0.1 μm or less, 0.07 μm or less, 0.05 μm or less, 0.03 μm or less, particularly 10 nm. It is as follows.

本発明のガラス板は、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、表面になるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できる限り、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、溶融ガラスに対して、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールを溶融ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールを溶融ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。なお、オーバーフローダウンドロー法以外にも、スロットダウンドロー法を採用することができる。このようにすれば、板厚が小さいガラス板を作製し易くなる。ここで、「スロットダウンドロー法」は、略矩形形状の隙間から溶融ガラスを流し出しながら、下方に延伸成形して、ガラス板を成形する方法である。 The glass plate of the present invention is preferably formed by a downdraw method, particularly an overflow downdraw method. In this way, it is possible to produce a glass plate that is unpolished and has good surface quality. The reason is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface accuracy can be realized. Further, there is no particular limitation on the method for applying force to the molten glass in order to perform downward stretching. For example, a method of rotating and stretching a heat-resistant roll having a sufficiently large width in contact with the molten glass may be adopted, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls may be used only in the vicinity of the end face of the molten glass. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching. In addition to the overflow downdraw method, a slot downdraw method can be employed. If it does in this way, it will become easy to produce a glass plate with small board thickness. Here, the “slot down draw method” is a method of forming a glass plate by drawing and forming molten glass from a substantially rectangular gap while drawing it downward.

上記成形方法以外にも、例えば、リドロー法、フロート法、ロールアウト法等を採用することができる。 In addition to the above molding method, for example, a redraw method, a float method, a roll-out method, or the like can be employed.

本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面を粗面化面としてもよい。粗面化面を有機ＥＬ照明等の空気と接する側にすれば、ガラス板の散乱効果に加えて、粗面化面の無反射構造により、有機ＥＬ層から放射した光が有機ＥＬ層内に戻り難くなり、結果として、光の取り出し効率を高めることができる。粗面化面の表面粗さＲａは、好ましくは１０Å以上、２０Å以上、３０Å以上、特に５０Å以上である。粗面化面は、ＨＦエッチング、サンドブラスト等で形成することができ得る。また、リプレス等の熱加工により、ガラス板の表面に凹凸形状を形成してもよい。このようにすれば、ガラス表面に正確な反射構造を形成することができる。凹凸形状は、屈折率ｎ_ｄを考慮しながら、その間隔と深さを調整すればよい。 The glass plate of the present invention may have at least one surface as a roughened surface. If the roughened surface is on the side in contact with air such as organic EL lighting, in addition to the scattering effect of the glass plate, the light emitted from the organic EL layer will enter the organic EL layer due to the non-reflective structure of the roughened surface. As a result, the light extraction efficiency can be increased. The surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 mm or more, 20 mm or more, 30 mm or more, particularly 50 mm or more. The roughened surface can be formed by HF etching, sandblasting, or the like. Moreover, you may form an uneven | corrugated shape in the surface of a glass plate by heat processing, such as a repress. In this way, an accurate reflection structure can be formed on the glass surface. Uneven shape, taking into account the refractive index n _d, may be adjusted the spacing and depth.

また、大気圧プラズマプロセスにより粗面化面を形成することもできる。このようにすれば、ガラス板の一方の表面の表面状態を維持した上で、他方の表面に対して、均一に粗面化処理を行うことができる。また、大気圧プラズマプロセスのソースとして、Ｆを含有するガス（例えば、ＳＦ_６、ＣＦ_４）を用いることが好ましい。このようにすれば、ＨＦ系ガスを含有したプラズマが発生するため、粗面化面を効率良く形成することができる。 Further, the roughened surface can be formed by an atmospheric pressure plasma process. In this way, it is possible to uniformly roughen the other surface while maintaining the surface state of one surface of the glass plate. Moreover, it is preferable to use a gas containing F (for example, SF ₆ , CF ₄ ) as a source of the atmospheric pressure plasma process. In this way, plasma containing HF gas is generated, so that the roughened surface can be efficiently formed.

更に、ガラス板の成形時に、ガラス板の表面に凹凸形状を形成する方法も好ましい。この場合、別途独立した粗面化処理が不要になり、粗面化処理の効率が向上する。その他の方法として、所定の凹凸形状を有する樹脂フィルムをガラス板の表面に貼り付けてもよい。 Furthermore, a method of forming an uneven shape on the surface of the glass plate at the time of forming the glass plate is also preferable. In this case, a separate roughening process becomes unnecessary, and the efficiency of the roughening process is improved. As another method, a resin film having a predetermined uneven shape may be attached to the surface of the glass plate.

以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated in detail. The following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.

表１は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜５）を示している。 Table 1 shows examples of the present invention (sample Nos. 1 to 5).

まず、表１に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して１４００℃で４時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出し、板状に成形した後、所定のアニール処理を行った。最後に、得られたガラス板について、必要に応じて加工を行い、種々の特性を評価した。 First, after preparing a glass raw material so that it might become the glass composition of Table 1, the obtained glass batch was supplied to the glass melting furnace, and it fuse | melted at 1400 degreeC for 4 hours. Next, the obtained molten glass was poured onto a carbon plate, formed into a plate shape, and then subjected to a predetermined annealing treatment. Finally, the obtained glass plate was processed as necessary to evaluate various properties.

屈折率ｎ_ｄは、まず２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（徐冷点Ｔａ＋３０℃）から（歪点Ｐｓ−５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎの冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率ｎ_ｄが整合する浸液をガラス間に浸透させながら、島津製作所製の屈折率測定器ＫＰＲ−２０００により測定したｄ線の値である。 Refractive index _{n d} is firstly prepared a rectangular sample of 25 mm × 25 mm × about 3 mm, the temperature range of 0.1 ° C. / min up to the (annealing point Ta + 30 ° C.) (strain point Ps-50 ° C.) Cooling annealed at a rate, followed with the immersion liquid refractive index n _d is matched to penetrate between the glass, the value of the d-line as determined by the refractive index measuring instrument KPR-2000 manufactured by Shimadzu Corporation.

密度は、周知のアルキメデス法で測定した値である。 The density is a value measured by a well-known Archimedes method.

熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。測定試料として、φ５ｍｍ×２０ｍｍの円柱状試料（端面はＲ加工されている）を用いた。 Thermal expansion coefficient (alpha) is the value which measured the average thermal expansion coefficient in 30-380 degreeC using the dilatometer. As a measurement sample, a cylindrical sample having a diameter of 5 mm × 20 mm (the end surface is R-processed) was used.

歪点Ｐｓは、ＡＳＴＭＣ３３６−７１に記載の方法で測定した値である。なお、歪点Ｐｓが高い程、耐熱性が高くなる。 The strain point Ps is a value measured by the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.

徐冷点Ｔａ、軟化点ＴｓはＡＳＴＭＣ３３８−９３に記載の方法で測定した値である。 The annealing point Ta and the softening point Ts are values measured by the method described in ASTM C338-93.

高温粘度１０^４．０ｄＰａ・ｓ、１０^３．０ｄＰａ・ｓ、１０^２．５ｄＰａ・ｓ及び１０^２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、高温粘度が低い程、溶融性に優れる。 The temperatures at high temperature viscosities of 10 ^4.0 dPa · s, 10 ^3.0 dPa · s, 10 ^2.5 dPa · s, and 10 ^2.0 dPa · s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in a meltability, so that high temperature viscosity is low.

ヘイズ値及び全光線透過率は、両表面が鏡面研磨された試料（板厚１．１ｍｍ）を評価試料とし、スガ試験機製ＴＭダブルビーム式自動ヘーズコンピュータにより測定した値である。 The haze value and the total light transmittance are values measured with a TM double beam type automatic haze computer manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. using a sample (plate thickness 1.1 mm) whose both surfaces are mirror-polished.

直線透過率は、両表面が鏡面研磨された試料（板厚１．１ｍｍ）を評価試料とし、日本分光製Ｖ―６７０により測定した値である。 The linear transmittance is a value measured by JASCO V-670 using a sample (plate thickness: 1.1 mm) whose both surfaces are mirror-polished as an evaluation sample.

次に、試料Ｎｏ．１に係るガラス板（板厚１．１ｍｍ）を実施例とし、その光散乱性を評価した。まず一方のガラス板の表面上に浸液を用いて屈折率ｎ_ｄ１．７４の半球レンズを設置し、半球レンズの中心に向かって、光源を入射させた。次に、ガラス板の内部を通って、他方のガラス板の表面から取り出される光を積分球により検出した。更に、入射角θを変化させて同様の実験を繰り返し、それぞれの入射角において取り出される光を積分球により検出した。その測定結果を表２に示す。ここで、光源には、モリテックス製赤色レーザーＳＮＦ−６６０−５、分光器には、オーシャンフォトニクス製ファイバマルチチャンネル分光器ＵＳＢ４０００、ソフトウェアには、オーシャンフォトニクス製ＯＰＷａｖｅを用いた。また、積分球と分光器を接続する光ファイバには、オーシャンオプティクス製Ｐ５０−２−ＵＶ−ＶＩＳを用いた。なお、比較例として、日本電気硝子製ＳＳ−１（厚さ１．１ｍｍ、屈折率ｎ_ｄ１．５）を用いた。 Next, sample No. The glass plate (thickness 1.1 mm) according to No. 1 was used as an example, and its light scattering property was evaluated. First, a hemispherical lens having a refractive index n _d 1.74 was placed on the surface of one glass plate using an immersion liquid, and a light source was incident toward the center of the hemispherical lens. Next, the light extracted from the surface of the other glass plate through the inside of the glass plate was detected by an integrating sphere. Further, the same experiment was repeated while changing the incident angle θ, and the light extracted at each incident angle was detected by an integrating sphere. The measurement results are shown in Table 2. Here, a red laser SNF-660-5 manufactured by Moritex was used as a light source, a fiber multichannel spectrometer USB4000 manufactured by Ocean Photonics was used as a spectrometer, and OPWave manufactured by Ocean Photonics was used as software. Moreover, P50-2-UV-VIS made from Ocean Optics was used for the optical fiber connecting the integrating sphere and the spectroscope. As a comparative example, Nippon Electric Ltd. SS-1 (thickness 1.1 mm, refractive index _n d 1.5) was used.

図１は、光散乱性の評価方法を示す概略断面図である。図１から分かるように、ガラス板１の一方の表面上に半球レンズ２が配置されており、ガラス板１の他方の表面に積分球３が配置されている。ガラス板１の表面に垂直な面からの傾きをθとし、この角度から光源４の光が半球レンズ２の中心に向かって出射されると共に、ガラス板１の内部を通って積分球３により検出される。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a light scattering evaluation method. As can be seen from FIG. 1, a hemispherical lens 2 is disposed on one surface of the glass plate 1, and an integrating sphere 3 is disposed on the other surface of the glass plate 1. The inclination from a plane perpendicular to the surface of the glass plate 1 is θ, and light from the light source 4 is emitted toward the center of the hemispherical lens 2 from this angle and is detected by the integrating sphere 3 through the inside of the glass plate 1. Is done.

図２は、表２のデータをプロットしたチャートである。図２において、縦軸は放射束値（μＷ）、横軸は入射角θ（°）を示しており、「○」は実施例のデータ、「×」は比較例のデータを示している。 FIG. 2 is a chart in which the data in Table 2 is plotted. In FIG. 2, the vertical axis represents the radiant flux value (μW), the horizontal axis represents the incident angle θ (°), “◯” represents the data of the example, and “x” represents the data of the comparative example.

表２から明らかなように、実施例では、臨界角付近である４０°以上の入射角においても高い放射束値が得られた。更に、２０°以下の入射角でも比較例と同等の放射束値が得られた。一方、比較例では、臨界角付近である４０°以上の入射角では、放射束値が８０μＷ以下であった。 As is apparent from Table 2, in the example, a high radiant flux value was obtained even at an incident angle of 40 ° or more, which is near the critical angle. Furthermore, a radiant flux value equivalent to that of the comparative example was obtained even at an incident angle of 20 ° or less. On the other hand, in the comparative example, the radiant flux value was 80 μW or less at an incident angle of 40 ° or more near the critical angle.

１ガラス板
２半球レンズ
３積分球
４光源 1 glass plate 2 hemispherical lens 3 integrating sphere 4 light source

Claims

ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３２〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜３０％、Ｎａ _２Ｏ５〜３０％、ＭｇＯ０〜７％を含有し、少なくとも二以上の異種相に分相しており、且つ有機ＥＬデバイスに用いることを特徴とするガラス板。 As a glass composition, in _mass%, it contains _{_{SiO 2 35~75%, B 2 O}} 3 2~30%, Al 2 O 3 5~30%, Na 2 O 5~30%, the 0 to 7% MgO, A glass plate which is phase-divided into at least two different phases and is used for an organic EL device.

少なくとも一方の表面が未研磨面であることを特徴とする請求項１に記載のガラス板。 The glass plate according to claim 1, wherein at least one surface is an unpolished surface.

ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３２〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜３０％、Ｎａ_２Ｏ１０〜３０％、ＭｇＯ０〜７％を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス板。 As a glass composition, in _{_{_{mass%, SiO 2 35~75%, B}}} 2 O 3 2~30%, Al 2 O 3 5~30%, Na 2 O 10 ~30%, that it contains 0 to 7% MgO The glass plate according to claim 1 or 2.

実質的にレアメタル酸化物を含有しないことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のガラス板。 The glass plate according to any one of claims 1 to 3, which contains substantially no rare metal oxide.

屈折率ｎ_ｄが１．５００超であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のガラス板。 Glass plate according to claim 1, the refractive index n _d is equal to or is 1.500 greater.

少なくとも一方の表面の表面粗さＲａが０．０１〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のガラス板。 The glass plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface roughness Ra of at least one surface is 0.01 to 10 nm.

ヘイズ値が１０％以上であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のガラス板。 The glass plate according to any one of claims 1 to 6, wherein a haze value is 10% or more.

板厚が１．０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載のガラス板。 A plate thickness is 1.0 mm or less, The glass plate in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned.

オーバーフローダウンドロー法により成形されてなることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のガラス板。 The glass plate according to any one of claims 1 to 8, which is formed by an overflow downdraw method.

有機ＥＬ照明に用いることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載のガラス板。 It uses for organic electroluminescent illumination, The glass plate in any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned.

ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３２〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜３０％、Ｎａ _２Ｏ５〜３０％、ＭｇＯ０〜７％を含有し、有機ＥＬ照明に用いるガラス板であって、ガラス板の一方の表面から臨界角以上の光を入射した際に、ガラス板の他方の表面から光が取り出される性質を有することを特徴とするガラス板。 As a glass composition, in _mass%, it contains _{_{SiO 2 35~75%, B 2 O}} 3 2~30%, Al 2 O 3 5~30%, Na 2 O 5~30%, the 0 to 7% MgO, A glass plate used for organic EL lighting, characterized in that when a light having a critical angle or more is incident from one surface of the glass plate, the light is extracted from the other surface of the glass plate. .

ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３２〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜３０％、Ｎａ _２Ｏ５〜３０％、ＭｇＯ０〜７％を含有し、有機ＥＬ照明に用いるガラス板であって、（ガラス板の一方の表面から入射角６０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）／（ガラス板の一方の表面から入射角０°の光を照射して、ガラス板の他方の表面から得られる放射束値）の値が０．０１以上であることを特徴とするガラス板。 As a glass composition, in _mass%, it contains _{_{SiO 2 35~75%, B 2 O}} 3 2~30%, Al 2 O 3 5~30%, Na 2 O 5~30%, the 0 to 7% MgO, A glass plate used for organic EL lighting, wherein (radiant flux value obtained from the other surface of the glass plate by irradiating light with an incident angle of 60 ° from one surface of the glass plate) / (one of the glass plates) A glass plate having a value of 0.01 or more of a radiant flux value obtained from the other surface of the glass plate by irradiating light with an incident angle of 0 ° from the surface.