JP6266360B2 - 画像処理装置および荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
近年、微細加工のパターン形成の方法として、高分子ブロック共重合体組成物を含む高分子層を基板表面に配置し、前記高分子層をミクロ相分離させて、物質が自然に構造を形成する現象、いわゆる自己組織化現象を応用した手法が注目を集めている。この方法では、材料・プロセスを最適化することで、簡便な塗布プロセスにより数ナノメートル〜数百ナノメートルの種々の形状を有する微細な規則構造を形成できる。
第1の方法は、下地基板表面に溝・孔を加工し、それをガイドとしてその内部に高分子ブロック共重合体組成物を含む高分子層を成膜して規則配列パターンを形成させる方法である。ガイドは配列が安定するように自己組織化のパターン周期の2倍から十倍程度となるような大きさとする。微細構造はガイドによって制限された範囲で配列し、自己組織化の長距離秩序性が向上する。
SEMでは、電子源より放出される電子ビ−ムが複数段のレンズにて集束されると共に、集束された電子ビ−ムは走査偏向器によって、試料上を一次元的、或いは二次元的に走査される。
2つ目の例は化学的にパターン化した下地をガイドとする方法である。下地基板806の上に反射防止膜806とPS相に親和性をもつ層807を成膜し、リソグラフィー技術によりレジストパターン809を形成し、そのレジストパターン809をマスクとしてPS相に親和性をもつ層807をエッチングして、PS相に親和性をもつラインを形成し高分子ブロック共重合の配向ガイド810を形成する。次にPS相に親和性をもつライン810の間に、PS相およびPMMA相に対し同じ親和性を持つ中性層811を成膜し、その上に高分子ブロック共重合のPS相812とPMMA相813の交互積層構造からなるラメラ構造を形成する。このとき、配向ガイド810の上にはラメラ構造のPS相812偏析させることが可能である。
102、103、104,105,106 特定領域から切り出したテンプレート
201、202、203 SEM
204 条件設定装置
205 シミュレーター
206 記憶媒体
301 電子源
302 引出電極
303 電子ビーム
304 コンデンサレンズ
305 走査偏向器
306 対物レンズ
307 試料室
308 試料台
309 試料
310 電子
311 二次電子
312 変換電極
313 検出器
314 制御装置
401 画像処理プロセッサ
402 比較演算領域設定部
403 テンプレート設定部
404 パターンマッチング設定部
405 パターン一致率演算部
406 パターン配列および欠陥分布記憶部
407 テンプレート記憶部
408 計測結果記憶部
501 自己組織化による周期パターン
502 パターン配列表示
503 隣接パターンと揃っている計測点の表示
504 隣接パターンと揃っていない場合或いは欠陥がある計測点の表示
505 配向パターン表示
506 隣接パターンと揃っている計測点のベクトル表示
507 パターン配列表示507
508 パターン配列が一定となる領域
601 自己組織化による周期パターン
602 計測点
603、604、605 特定領域
606、607,608 テンプレート+
609 参照テンプレート
610 デザインデータ
611 デザインデータの特定領域から切り出した参照テンプレート
701 自己組織化により配列されたホールパターンの画像
702 計測点
703 参照テンプレート
704 同一周期パターン領域と欠陥領域
801 下地基板
802 PS相およびPMMA相に対し同じ親和性を持つ中性層
803 HSQレジストパターン
804 高分子ブロック共重合のPS相
805 高分子ブロック共重合のPMMA相
806 下地基板
807 反射防止膜
808 PS相に親和性をもつ層
809 レジストパターン
810 PS相に親和性をもつライン
811 PS相およびPMMA相に対し同じ親和性を持つ中性層
812 高分子ブロック共重合のPS相
813 高分子ブロック共重合のPMMA相
814 配向ガイド
815 中性層
816 配向ガイド上のPS相ライン
817 中性層上のPS相ライン
901 デザインデータ
902 ガイド上のラインデータ
903 ガイド上にないラインデータ
904 パターンピッチと同程度のサイズの特定領域
905 自己組織化により形成するパターン
906 ガイド上のラインパターン
907 ガイド上にないラインパターン
908、909 ガイド上のラインパターンを含む特定領域
910、911 ガイド上にないラインパターンを含む特定領域
1001 デザインデータ
1002 ガイド上のホールデータ
1003 ガイド上にないホールデータ
1004 パターンピッチと同程度のサイズの特定領域
1005 自己組織化により形成するパターン
1006、1007 ガイド上ホールパターンを含む特定領域
1008 ガイド上にないホールパターンを含む特定領域
Claims (13)
- 荷電粒子ビームの走査によって得られる取得画像を記憶する記憶媒体と、当該記憶媒体に記憶された取得画像上で参照画像を用いたマッチング処理を実行する演算装置を備えた画像処理装置において、
前記演算装置は、前記記憶媒体に記憶された自己誘導組織化プロセスによって生成される試料の前記取得画像の第1の領域、前記取得画像に含まれるパターンの設計データの前記第1の領域に相当する第2の領域、或いは前記設計データのシミュレーション画像の前記第1の領域に相当する第3の領域からの画像の抽出に基づいて参照画像を生成し、前記第1の領域以外の前記取得画像の第4の領域の画像と、前記参照画像を比較し、前記参照画像と前記第4の領域の画像の一致度、及び前記参照画像のマッチング位置に関する位置情報の少なくとも1つを求めることを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記取得画像の位置の異なる複数の領域で、前記参照画像との一致度、及び前記参照画像のマッチング位置に関する位置情報の少なくとも1つを求めることを特徴とする画像処理装置。 - 請求項2において、
前記演算装置は、前記取得画像の位置の異なる複数の領域の所定範囲内で、前記一致度、及び位置情報の少なくとも1つを求めることを特徴とする画像処理装置。 - 請求項3において、
前記演算装置は、前記取得画像の位置の異なる複数の領域の所定範囲内で、前記参照画像を回転させつつ、マッチング処理を実行することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項4において、
前記演算装置は、前記参照画像の回転の程度に応じて、前記取得画像内の複数の領域を識別することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項5において、
前記取得画像内の複数の領域を識別して表示する表示装置を備えたことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記参照画像と前記第4の領域の画像の一致度、及びマッチング位置の位置情報の少なくとも1つに応じて、前記取得画像内の複数の領域を識別することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項7において、
前記取得画像内の複数の領域を識別して表示する表示装置を備えたことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記取得画像の複数の領域から抽出した画像を合成して、前記参照画像を生成することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記試料に含まれるガイドパターンと、自己組織化によって生成されるパターンの相対位置を算出することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記設計データから切り出された参照画像と、前記取得画像に含まれる周期パターンの複数の計測点との相対位置ずれを計測し、相対位置ずれ分布を算出することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記一致度、及び位置情報の少なくとも1つが所定の条件を満たす領域の面積に関する情報を求めることを特徴とする画像処理装置。 - 荷電粒子源から放出されるビームを走査する偏向器と、当該偏向器のビーム走査によって得られる荷電粒子を検出する検出器と、当該検出器によって得られた信号に基づいて形成された取得画像上で参照画像を用いたマッチング処理を実行する演算装置を備えた荷電粒子線装置において、
前記取得画像を記憶する記憶媒体を備え、
前記演算装置は、前記記憶媒体に記憶された自己誘導組織化プロセスによって生成される試料の前記取得画像の第1の領域、前記取得画像に含まれるパターンの設計データの前記第1の領域に相当する第2の領域、或いは前記設計データのシミュレーション画像の前記第1の領域に相当する第3の領域からの画像の抽出に基づいて参照画像を生成し、前記第1の領域以外の前記取得画像の第4の領域の画像と、前記参照画像を比較し、前記参照画像と前記第4の領域の画像の一致度、及び前記参照画像のマッチング位置に関する位置情報の少なくとも1つを求めることを特徴とする荷電粒子線装置。
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JP2014012068A JP6266360B2 (ja) | 2014-01-27 | 2014-01-27 | 画像処理装置および荷電粒子線装置 |
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JP2015141913A JP2015141913A (ja) | 2015-08-03 |
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2014
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