JP6252734B2 - 化学機械的研磨装置用リテーナリング構造物およびその製造方法 - Google Patents
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Description
12:外部リング
14:インサートリング
15:孔
16:インサートピン
17:胴体
18:溝部
Claims (2)
- 化学機械的研磨装置(CMP)用リテーナリング構造物において、
前記化学機械的研磨装置のヘッドに結合するための複数の孔が上面に形成されるが、内側には雌ねじ山が形成される金属材のインサートリング(insert ring)と、
上面が開放された中空部を有する円筒状の胴体と、前記胴体の側面に雄ねじ山とが形成され、前記インサートリングの孔にねじ結合されてタップ加工される樹脂材のインサートピンと、
前記インサートピンおよび前記インサートリングを取り囲んで形成される外部リングとを含むことを特徴とする化学機械的研磨装置用リテーナリング構造物。 - 化学機械的研磨装置(CMP)用リテーナリング構造物の製造方法において、
前記化学機械的研磨装置のヘッドに結合するための複数の孔を金属材のインサートリングの上面に形成させるが、内側には雌ねじ山を形成させるステップと、
上面が開放された中空部を有する円筒状の胴体と、前記胴体の側面に雄ねじ山とが形成され、樹脂材の複数のインサートピンを前記インサートリングの複数の孔にねじ結合させるステップと、
前記インサートピンが結合された前記インサートリングを金型に装着させ、樹脂材を射出させ、前記インサートリングを樹脂材で取り囲んで外部リングを形成させるステップと、
前記インサートピンにタップ加工するステップとを含むことを特徴とする化学機械的研磨装置用リテーナリング構造物の製造方法。
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