JP6252048B2 - 磁場発生装置 - Google Patents

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Description

本発明は、磁気回路の分解や組立を必要とせずに磁束密度を変化させ過渡磁場の発生を可能とする永久磁石を用いた磁場発生装置に関する。
図25は、従来の磁場発生装置の構成を示す斜視図であり磁束は矢印が付された破線9のようになり、図26は、図25の等価磁気回路を示す図である。図25において、従来の磁場発生装置は、永久磁石1、永久磁石が発生する磁束の経路となるヨーク2〜7、センサ等の測定物が挿入されるエアギャップ8で構成されている。
図25及び図26に示すような磁気回路で磁束密度を変化させようとすると、永久磁石1の起磁力10、ヨーク2〜7の磁気抵抗12〜17、エアギャップ8の磁気抵抗18のいずれかを変化させる必要がある。
下記に示す特許文献1には、図25のエアギャップ8に相当する空間に磁性体を配置し、エアギャップ8の磁気抵抗18を変化させることで磁束密度を変化させている。
特開平4−242196号公報
上記した特許文献1では、測定物を挿入するエアギャップ8に磁性体を配置するため、連続して磁束密度が変化する過渡磁場を発生させながら測定を行うことは困難であるという課題がある。また、他の磁束密度の変化方法として、永久磁石1そのものを変更し永久磁石の起磁力10を変更する方法、ヨーク2〜7の材料や断面積を変更して、ヨーク2〜7の磁気抵抗を変更する方法、エアギャップ8のギャップの幅を変更し磁気抵抗を変更する方法などが考えられる。
しかしこれらの方法では、磁気回路の分解や組立が必要になるため、連続して磁束密度が変化するような過渡磁場を発生させることは困難である。また永久磁石1に外部磁場として逆向きの磁場を与え減磁する方法も考えられるが、外部磁場として逆向きの磁場を与え減磁する方法では、永久磁石1が減磁してしまう恐れがある。
そこで本発明の目的は、磁気回路の分解や組立を必要とせずに磁束密度を変化させ過渡磁場の発生を可能とする永久磁石を用いた磁場発生装置を提供することである。
上記した課題を解決するための本発明の第1の態様は、永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、磁性体ユニットは、傾斜がつけられた一体物で単一の楔状磁性体、同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体、若しくは、同じ厚みでも透磁率が異なる複数の矩形状磁性体、からなり、前記磁性体ユニットは、非磁性体から成る並進ステージ上に並進方向に向かって配置されて前記第2のエアギャップに並進可能にされ、前記磁性体ユニットを前記並進ステージにより前記第2のエアギャップ内に並進させることで前記第1のエアギャップに発生する磁束密度を調整する調整機構を設けたことを特徴とする。
また上記した課題を解決するための本発明の第2の態様は、永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、磁性体ユニットは、基部から先端部への厚みに傾斜が施された一体物で単一の扇状磁性体、同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体、若しくは、同じ厚みでも透磁率が異なる複数の矩形状磁性体、からなり、前記磁性体ユニットは、回転台の所定の円周上に配置され、前記回転台を回転させて前記第2のエアギャップに進入可能にされ、前記回転台の回転で前記磁性体ユニットを前記第2のエアギャップに進入させることでループ結合して前記第1のエアギャップに発生する磁束密度を調整する調整機構を設けたことを特徴とする。
上記において、上記磁性体ユニットの磁性体を囲むようにコイルが配置され、上記第2のループ磁気回路から上記磁性体ユニットが離れようとするときのみ上記コイルの励磁を行い、上記磁性体ユニット個々の磁性体を通過している磁束を打ち消すことを特徴とする。
本発明によれば、並進ステージ上の磁性体ユニットを並進させることで、エアギャップの磁束密度を変化させることが可能になるため、永久磁石を用いた磁気回路で過渡磁場を発生させることが可能となる。
また本発明によれば、回転台を回転させて該回転台の所定の円周上に配置された磁性体ユニットを可動させることで、エアギャップの磁束密度を変化させることが可能になるため、永久磁石を用いた磁気回路で過渡磁場を発生させることが可能となる。
本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の等価磁気回路を示す図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の動作を説明する第1の平面図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の動作を説明する第2の平面図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の動作を説明する第3の平面図である。 本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の異なる動作を説明する斜視図である。 本発明の実施形態2に係る磁場発生装置の動作を説明する平面図である。 本発明の実施形態3に係る磁場発生装置の動作を説明する平面図である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の等価磁気回路である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体40aが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体40bが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体40cが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態5に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態6に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の等価磁気回路である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体30aが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体30bが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の調整機構側ギャップ内に磁性体30cが挿入された場合の斜視図である。 本発明の実施形態7に係る磁場発生装置におけるコイル50aを励磁し、調整機構側に流れる磁束29bを打ち消す磁束51を発生させた場合の斜視図である。 従来の磁場発生装置の構成を示す斜視図である。 従来の磁場発生装置の等価磁気回路を示す図である。
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。図2は、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。図1及び図2に示される本発明の実施形態に係る磁場発生装置は、永久磁石1、ヨーク2〜7、エアギャップ(第1のエアギャップ、以下同じ)8、調整機構側ヨーク23〜26、調整機構側ギャップ(第2のエアギャップ、以下同じ)28、同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体30a〜30c、非磁性並進ステージ31で構成されており、非磁性並進ステージ31は図示の並進方向32aの方向に並進可能である。なお上記において従来構成と同じものには同じ番号を付与している。
図3は、図1及び図2に示した本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の等価磁気回路を示す図である。図1及び図2において非磁性並進ステージ31が図示の並進方向32aの方向に並進することにより、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38(図3参照)が変化する。
図4ないし図6は、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の動作/作用を説明する平面図である。いま図2において、調整機構側ギャップ28に磁性体30a〜30cが存在しない場合は、磁束29aが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁気回路の磁気抵抗よりも大きくなるように設定されており、磁束9は磁束29aより大きくなる。このためエアギャップ8の磁束密度は調整機構側ギャップ28の磁束密度より大きくなる。
一方、図4に示すように、調整機構側ギャップ28に磁性体30aが存在する場合は、磁束29bが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁束回路の磁気抵抗よりも小さくなり、磁束9は磁束29bよりも小さくなる。このため、調整機構側ギャップ28に磁性体30a〜30cが存在しないときのエアギャップ8の磁束密度に比べ、調整機構側ギャップ28に磁性体30aが存在する場合のエアギャップ8の磁束密度は小さくなる。
非磁性並進ステージ31に配置する磁性体30a、30b、30cは、磁性体30a、30b、30cの順に厚みが増すため、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38は調整機構側ギャップ28に磁性体がないとき(図2参照)、磁性体30aが存在するとき(図4参照)、磁性体30bが存在するとき(図5参照)、磁性体30cが存在するとき(図6参照)、の順でエアギャップ8の磁束密度は小さくなる。
これらのことから、非磁性並進ステージ31を図示の並進方向32aの方向に動かす速度、磁性体30a〜30cの厚さおよび非磁性並進ステージ31に配置する磁性体の数などを適切に選択することで所望の過渡磁場を発生させることが可能となる。なお非磁性並進ステージ31は、ヨーク23,26に平行に永久磁石1に接近または離隔するように並進する。
図7は、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置の異なる動作を説明する斜視図である。図7に示すように並進方向が上記した図1に示した本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と異なっているが、図7に示すような非磁性並進ステージ31の配置、並進方向32bの方向であっても本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と同様にエアギャップの磁束密度を変化させることが可能である。なお図7に示す非磁性並進ステージ31は、ヨーク2,7に平行に永久磁石1とは一定の距離を保って並進する。
図8は、本発明の実施形態2に係る磁場発生装置の動作を説明する平面図である。図8に示すように本発明の実施形態2に係る磁場発生装置では、傾斜のついた一体物で単一の楔状磁性体30dを用いて本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させるものである。本発明の実施形態2に係る磁場発生装置によれば、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させることが可能である。
図9は、本発明の実施形態3に係る磁場発生装置の動作を説明する平面図である。図9に示すように本発明の実施形態3に係る磁場発生装置では、厚みは同じでも透磁率の異なる材料を用いた複数の磁性体30e、30f、30gを使用して本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させるものである。本発明の実施形態3に係る磁場発生装置によれば、本発明の実施形態1に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させることが可能である。
図10は、本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。図11は、本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。図10および図11に示されるように、本発明の実施形態4に係る磁場発生装置は、永久磁石1、ヨーク2〜7、エアギャップ(第1のエアギャップ、以下同じ)8、調整機構側ヨーク23〜26、調整機構側ギャップ(第2のエアギャップ、以下同じ)28、同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体40a〜40c、回転台41で構成されており、回転台41は回転軸42の回りでの回転が可能にされている。上記において従来構成と同じものには同じ番号を付与している。
図12は、図10及び図11に示した本発明の実施形態4に係る磁場発生装置の等価磁気回路を示す図である。図10及び図11において回転台41が回転することにより、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38が変化する。
いま図10及び図11において調整機構側ギャップ28に磁性体40a〜40cが存在しないときは、図11に示されるように磁束29aが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁気回路の磁気抵抗よりも大きくなるように設定されており、磁束9は磁束29aより大きくなる。このためエアギャップ8の磁束密度は調整機構側ギャップ28の磁束密度より大きくなる。
一方、図13に示すように、調整機構側ギャップ28に磁性体40aが存在する場合は、磁束29bが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁束回路の磁気抵抗よりも小さくなり、磁束9は磁束29bよりも小さくなる。このため、調整機構側ギャップ28に磁性体40a〜40cが存在しないときのエアギャップ8の磁束密度に比べ、調整機構側ギャップ28に磁性体40aが存在する場合のエアギャップ8の磁束密度は小さくなる。
回転台41に配置する磁性体40a、40b、40cは、磁性体40a、40b、40cの順に厚みが減るため、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38は調整機構側ギャップ28に磁性体がないとき(図10参照)、磁性体40cが存在するとき(図15参照)、磁性体40bが存在するとき(図14参照)、磁性体40aが存在するとき(図13参照)の順に小さくなり、エアギャップ8の磁束密度は調整機構側ギャップ28に磁性体がないとき(図10参照)、磁性体40cが存在するとき(図15参照)、磁性体40bが存在するとき(図14参照)、磁性体40aが存在するとき(図13参照)の順に小さくなる。
これらのことから、回転台41を回転軸42回りで回転させる速度、磁性体40a〜40cの厚さおよび回転台41に配置する磁性体の数などを適切に選択することで所望の過渡磁場を発生させることが可能となる。
図16は、本発明の実施形態5に係る磁場発生装置の動作を説明する斜視図である。図16に示すように本発明の実施形態5に係る磁場発生装置では、傾斜のついた一体物で単一の扇状磁性体40dを用いて本発明の実施形態4に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させるものである。本発明の実施形態5に係る磁場発生装置によれば、本発明の実施形態4に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させることが可能である。
また図17は、本発明の実施形態6に係る磁場発生装置の動作を説明する斜視図である。図17に示すように本発明の実施形態6に係る磁場発生装置では、厚みは同じでも透磁率の異なる材料を用いた複数の矩形状磁性体40e、40f、40gを使用して本発明の実施形態4に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させるものである。本発明の実施形態6に係る磁場発生装置によれば、本発明の実施形態4に係る磁場発生装置と同様に第1のエアギャップの磁束密度を変化させることが可能である。
図18は、本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の構成を示す斜視図である。また図19は、本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の構成を示す平面図である。図18及び図19に示される本発明の実施形態7に係る磁場発生装置は、永久磁石1、ヨーク2〜7、エアギャップ(第1のエアギャップ、以下同じ)8、調整機構側ヨーク23〜26、調整機構側ギャップ(第2のエアギャップ、以下同じ)28、同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体30a〜30c、磁性体30a〜30cを囲むように配置されたコイル50a〜50c、回転台41で構成されており、回転台41は回転軸42の回りでの回転が可能にされている。上記において従来構成と同じものには同じ番号を付与している。
図20は、図18及び図19に示した本本発明の実施形態7に係る磁場発生装置の等価磁気回路である。図18及び図19において回転台41が回転することにより、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38が変化する。
いま図18及び図19において調整機構側ギャップ28に磁性体30a〜30cが存在しないときは、図19に示されるように磁束29aが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁気回路の磁気抵抗よりも大きくなるように設定されており、磁束9は磁束29aより大きくなる。このためエアギャップ8の磁束密度は調整機構側ギャップ28の磁束密度より大きくなる。
一方、図21に示すように、調整機構側ギャップ28に磁性体30aが存在する場合は、磁束29bが流れる磁気回路の磁気抵抗は磁束9が流れる磁束回路の磁気抵抗よりも小さくなり、磁束9は磁束29bよりも小さくなる。このため、調整機構側ギャップ28に磁性体30a〜30cが存在しないときのエアギャップ8の磁束密度に比べ、調整機構側ギャップ28に磁性体30aが存在する場合のエアギャップ8の磁束密度は小さくなる。
回転台41に配置する磁性体30a、30b、30cは、磁性体30a、30b、30cの順に厚みが減るため、調整機構側ギャップ28の磁気抵抗38は調整機構側ギャップ28に磁性体がないとき(図19参照)、磁性体30cが存在するとき(図23参照)、磁性体30bが存在するとき(図22参照)、磁性体30aが存在するとき(図21参照)の順に小さくなり、エアギャップ8の磁束密度は調整機構側ギャップ28に磁性体がないとき(図19参照)、磁性体30cが存在するとき(図23参照)、磁性体30bが存在するとき(図22参照)、磁性体30aが存在するとき(図21参照)の順に小さくなる。
これらのことから、回転台41を回転軸42回りで回転させる速度、磁性体30a〜30cの厚さおよび回転台41に配置する磁性体の数などを適切に選択することで所望の過渡磁場を発生させることが可能となる。
磁性体30a〜30cが調整機構側ギャップ28に存在している場合、磁性体30a〜30cには調整側に流れる磁束29b、29c、29dが通過しているため、吸引力が発生し、磁性体30a〜30cが調整機構側ギャップ28から離れようとする際、回転台41の回転を妨げてしまう。このため、磁性体30a〜30cが調整機構側ギャップ28から離れようとする際にコイル50a〜50cを励磁し、調整機構側に流れる磁束29b、29c、29dと逆向きの磁束を発生させることで、吸引力を打ち消し、回転台41の回転をスムーズに回転させることが可能となる。
図24は、本発明の実施形態7に係る磁場発生装置におけるコイル50aを励磁し、調整機構側に流れる磁束29bを打ち消す磁束51を発生させた場合の斜視図であり、他のコイル50b、50cを励磁した場合も同様であるため図示を省略している。
1 永久磁石
2〜7 ヨーク
8 エアギャップ
9 磁束
10 永久磁石の起磁力
11 永久磁石の磁気抵抗
12〜17 ヨーク2〜7の磁気抵抗
18 エアギャップ8の磁気抵抗
23〜26 調整機構側ヨーク
28 調整機構側エアギャップ
29a〜29d 調整機構側に流れる磁束
30a〜30g 磁性体
31 非磁性並進ステージ
32a,32b 並進方向
33〜36 調整機構側ヨーク23〜26の磁気抵抗
38 調整機構側ギャップ28の磁気抵抗
40a〜40g 磁性体
41 回転台
42 回転台の回転軸
50a〜50c コイル
51 磁束

Claims (11)

  1. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    傾斜がつけられた一体物で単一の楔状磁性体からなり、非磁性体から成る並進ステージ上に並進方向に向かって配置されて前記第2のエアギャップに並進可能にされる磁性体ユニットと、
    前記磁性体ユニットを前記並進ステージにより前記第2のエアギャップ内に並進させることで前記第1のエアギャップに発生する磁束密度を調整する調整機構を設けたことを特徴とする磁場発生装置。
  2. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体からなる磁性体ユニットを有し、
    前記磁性体ユニットは、非磁性体から成る並進ステージ上に並進方向に向かって直線上に配置されて前記第2のエアギャップに並進可能にされている、ことを特徴とする磁場発生装置。
  3. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    同じ厚みでも透磁率が異なる複数の矩形状磁性体からなる磁性体ユニットを有し、
    前記磁性体ユニットは、非磁性体から成る並進ステージ上に並進方向に向かって直線上に配置されて前記第2のエアギャップに並進可能にされている、ことを特徴とする磁場発生装置。
  4. 請求項2または3記載の磁場発生装置において、
    前記非磁性体から成る前記並進ステージ上の前記磁性体ユニットを前記第2のエアギャップに並進させたとき、前記磁性体ユニット個々の磁性体が介在する磁気抵抗が前記第1のエアギャップを含む磁気回路の磁気抵抗よりも大きくなるよう設定されていることを特徴とする磁場発生装置。
  5. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の磁場発生装置において、
    前記並進ステージは、前記永久磁石に接近又は離隔するように並進する、ことを特徴とする磁場発生装置。
  6. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の磁場発生装置において、
    前記並進ステージは、前記永久磁石と一定の距離を保って並進する、ことを特徴とする磁場発生装置。
  7. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    基部から先端部への厚みに傾斜が施された一体物で単一の扇状磁性体からなり、回転台の所定の円周上に配置され、前記回転台を回転させて前記第2のエアギャップに進入可能にされる磁性体ユニットと、
    前記回転台の回転で前記磁性体ユニットを前記第2のエアギャップに進入させることでループ結合して前記第1のエアギャップに発生する磁束密度を調整する調整機構を設けたことを特徴とする磁場発生装置。
  8. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    同じ材料で厚さが異なる複数の矩形状磁性体からなる磁性体ユニットを有し、
    前記磁性体ユニットは、前記回転台の所定の円周上に配置され、前記回転台を回転させることで前記第2のエアギャップに進入可能にされ、
    前記回転台の回転で前記複数の磁性体ユニット個々を前記第2のエアギャップに進入させる、ことを特徴とする磁場発生装置。
  9. 永久磁石、該永久磁石から発生する磁束の経路となる磁性体、該磁性体による第1のループ磁気回路及び第2のループ磁気回路を含み、前記第1のループ磁気回路を構成する磁性体間に第1のエアギャップを有すると共に前記第2のループ磁気回路を構成する磁性体間に第2のエアギャップを有し、前記第2のエアギャップにおける磁気抵抗を変化させて前記第1のエアギャップに発生させる磁束密度を変化させる磁場発生装置であって、
    前記永久磁石を含む磁路を挟んで前記第1のループ磁気回路と前記第2のループ磁気回路が並置され、
    同じ厚みでも透磁率が異なる複数の矩形状磁性体からなり、前記回転台の所定の円周上に配置され、前記回転台を回転させることで前記第2のエアギャップに進入可能にされる磁性体ユニットを有し、
    前記回転台の回転で前記磁性体ユニットを前記第2のエアギャップに進入させる、ことを特徴とする磁場発生装置。
  10. 請求項8または9記載の磁場発生装置において、
    前記回転台上の前記磁性体ユニットを回転させたとき、前記磁性体ユニット個々の磁性体が介在する磁気抵抗が前記第1のエアギャップを含む磁気回路の磁気抵抗よりも大きくなるよう設定されていることを特徴とする磁場発生装置。
  11. 請求項8または9記載の磁場発生装置において、
    前記磁性体ユニットの磁性体を囲むようにコイルが配置され、前記第2のループ磁気回路から前記磁性体ユニットが離れようとするときのみ前記コイルの励磁を行い、前記磁性体ユニット個々の磁性体を通過している磁束を打ち消すことを特徴とする磁場発生装置。
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