JP6236545B2 - Method for producing trifluoromethylthioalkyl compound - Google Patents

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Description

本発明は、トリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法、特に反応性の低いアルキル化合物を原料として用いるトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound, and more particularly to a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound using an alkyl compound having low reactivity as a raw material.

フルオロアルキルチオ基は、医薬・農薬化合物において有用な置換基である。例えば、特許文献１に開示されている有害生物防除剤は、ベンゼン環上にトリフルオロエチルスルフィニル基、アルコキシ側鎖の末端にはトリフルオロメチルチオ基を有しており、フルオロアルキルチオ基が有害生物防除活性の発現において重要な役割を有している。   The fluoroalkylthio group is a useful substituent in pharmaceutical and agrochemical compounds. For example, the pest control agent disclosed in Patent Document 1 has a trifluoroethylsulfinyl group on the benzene ring and a trifluoromethylthio group at the end of the alkoxy side chain, and the fluoroalkylthio group is pest control. It has an important role in the expression of activity.

特許文献１に記載されているアルコキシ側鎖末端のトリフルオロメチルチオ基の製造法では、まず、原料であるハロゲン化アルキル化合物と金属チオシアン酸塩を反応させ、チオシアネート化合物を合成している（本文献の「製造方法１１」）。続いて、得られたチオシアネート化合物をトリフルオロメチル化試薬と反応させることで目的のトリフルオロメチルチオアルキル化合物を製造している（本文献の「製造方法１２」）。   In the method for producing a trifluoromethylthio group at the end of an alkoxy side chain described in Patent Document 1, first, a halogenated alkyl compound as a raw material is reacted with a metal thiocyanate to synthesize a thiocyanate compound (this document) "Manufacturing method 11"). Subsequently, the target trifluoromethylthioalkyl compound is produced by reacting the obtained thiocyanate compound with a trifluoromethylating reagent (“Production Method 12” in this document).

具体的には、本文献の実施例１１に記載されているように、ブロモペンチル化合物とチオシアン酸カリウムからチオシアネート化合物を合成し、続いて実施例１２に記載されているように、チオシアネート化合物とトリフルオロメチルトリメチルシランを反応させて目的のトリフルオロメチルチオペンチルエーテル化合物を製造している。   Specifically, as described in Example 11 of this document, a thiocyanate compound was synthesized from a bromopentyl compound and potassium thiocyanate, followed by thiocyanate compound and trithane as described in Example 12. A target trifluoromethylthiopentyl ether compound is produced by reacting fluoromethyltrimethylsilane.

特許文献１の原料は反応性の低いハロゲン化アルキル化合物であるが、本文献に記載されているように、反応性の低いハロゲン化アルキル化合物のトリフルオロメチルチオ化を実施する場合、まず金属チオシアン酸塩などと反応させ硫黄化合物とした後、トリフルオロメチル化試薬によるトリフルオロメチル化を行う必要がある。しかし、このような従来の方法では目的物を得るのに複数工程を要するため、工業的製造において改善の余地があった。また、トリフルオロメチル化反応に使用される市販のトリフルオロメチル化試薬は高価であり、経済性の面においても更なるコスト低減が求められていた。   The raw material of Patent Document 1 is a halogenated alkyl compound with low reactivity. However, as described in this document, when trifluoromethylthiolation of a halogenated alkyl compound with low reactivity is performed, first, metal thiocyanic acid is used. After reacting with a salt or the like to form a sulfur compound, it is necessary to perform trifluoromethylation with a trifluoromethylating reagent. However, since such a conventional method requires a plurality of steps to obtain a target product, there is room for improvement in industrial production. Moreover, the commercially available trifluoromethylation reagent used for the trifluoromethylation reaction is expensive, and further cost reduction has been demanded in terms of economy.

一方で、トリフルオロメチルチオ基を有する化合物は、医薬・農薬分野のドラッグデザインにおいて高い有用性を有している。このため、単工程（ｓｉｎｇｌｅ ｓｔｅｐ）かつより安価な原料によってトリフルオロメチルチオ基を有する化合物を製造する方法の開発が解決すべき大きな課題とされ、これまでも種々の方法が検討されてきた。   On the other hand, a compound having a trifluoromethylthio group has high utility in drug design in the pharmaceutical / agrochemical field. For this reason, the development of a method for producing a compound having a trifluoromethylthio group with a single step and a cheaper raw material is regarded as a major problem to be solved, and various methods have been studied so far.

例えば、特許文献２では、ハロゲン化ベンジル化合物にフッ化カリウム及びチオホスゲンを反応させ、目的のトリフルオロメチルチオベンジル化合物を得ている。この方法によれば、トリフルオロメチルチオ化に使用する原料は安価に入手可能なフッ化カリウム及びチオホスゲンであり、ハロゲン化ベンジル化合物から一段階で目的のトリフルオロメチルチオベンジル化合物の製造が可能である。また、特許文献２の実施例では、スプレードライフッ化カリウム、４−ブロモメチル−４’−クロロベンゾフェノン、乾燥アセトニトリルの混合物を、窒素雰囲気下、０℃に冷却し、これにチオホスゲンを添加した後、０℃で２時間攪拌後、室温にて８時間攪拌する方法が記載されている。さらに、チオホスゲンが高温で分解しないように適度なレベルに反応温度を維持する必要がある旨も記載されている（第１３頁）。   For example, in Patent Document 2, a target trifluoromethylthiobenzyl compound is obtained by reacting a halogenated benzyl compound with potassium fluoride and thiophosgene. According to this method, the raw materials used for trifluoromethylthiolation are potassium fluoride and thiophosgene which can be obtained at low cost, and the target trifluoromethylthiobenzyl compound can be produced from the halogenated benzyl compound in one step. Moreover, in the Example of patent document 2, after cooling the mixture of spray dry potassium fluoride, 4-bromomethyl-4'-chlorobenzophenone, and dry acetonitrile to 0 degreeC in nitrogen atmosphere, and adding thiophosgene to this, A method of stirring at 0 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 8 hours is described. Furthermore, it is described that the reaction temperature must be maintained at an appropriate level so that thiophosgene does not decompose at high temperature (page 13).

しかし、特許文献２に記載の製造方法は、低温で一気にチオホスゲンを添加しているが、このような方法はハロゲン化ベンジル化合物のような反応性の高い化合物にのみ適用が可能であり、例えば非環状アルキル化合物のような反応性の低いハロゲン化アルキル化合物をトリフルオロメチルチオ化するような場合には適していない。実際に、反応性の低いハロゲン化アルキル化合物について特許文献２の実施例１を参考に目的物の製造を試みたところ、低収率であった（本明細書の「比較例１３」が該当）。   However, in the production method described in Patent Document 2, thiophosgene is added all at once at a low temperature, but such a method can be applied only to a highly reactive compound such as a halogenated benzyl compound. It is not suitable for the case of trifluoromethylthiolation of a low-reactivity alkyl halide compound such as a cyclic alkyl compound. In fact, when the production of the target product was tried with reference to Example 1 of Patent Document 2 for the halogenated alkyl compound having low reactivity, the yield was low (corresponding to “Comparative Example 13” in this specification). .

特許文献３では、ハロゲン化メチルアリール化合物にフッ化カリウム及びチオホスゲンを反応させ、目的のトリフルオロメチルチオメチルアリール化合物を得ている。特許文献３の実施例１には、無水アセトニトリル、フッ化カリウム、フッ化水素カリウム、オルトクロロベンジルクロリドを原料とする反応槽を−１５℃に冷却し、これに冷蔵されたチオホスゲンを２時間かけて添加することが記載されている。また、実施例９，１６等には、チオホスゲンを６０℃、２時間かけて添加することが記載されている。   In Patent Document 3, a target trifluoromethylthiomethylaryl compound is obtained by reacting a halogenated methylaryl compound with potassium fluoride and thiophosgene. In Example 1 of Patent Document 3, a reaction vessel using anhydrous acetonitrile, potassium fluoride, potassium hydrogen fluoride, and orthochlorobenzyl chloride as a raw material was cooled to −15 ° C., and thiophosgene refrigerated in this was taken over 2 hours. Are added. Examples 9, 16 and the like describe that thiophosgene is added at 60 ° C. over 2 hours.

しかし、特許文献３においても、ハロゲン化メチルアリール化合物のような反応性の高い化合物のみが原料として使用されており、実施例に記載されている化合物もすべて反応性の高いオルトクロロベンジルクロリドである。一方で、特許文献３には、反応性の低いハロゲン化アルキル化合物を原料とすることについては記載も示唆もされていない。さらに、特許文献３においては、撹拌効率を上げるため、ビーズと呼ばれる粒状の物体を反応系中に添加しており、特殊な反応装置の使用を必要としている。   However, also in Patent Document 3, only a highly reactive compound such as a halogenated methylaryl compound is used as a raw material, and all the compounds described in the examples are also highly reactive orthochlorobenzyl chloride. . On the other hand, Patent Document 3 neither describes nor suggests that a halogenated alkyl compound having low reactivity is used as a raw material. Furthermore, in patent document 3, in order to raise stirring efficiency, the granular object called a bead is added in the reaction system, and the use of a special reaction apparatus is required.

非特許文献１では、ハロゲン化アリール化合物に、フッ化カリウム及びチオホスゲンを反応させ、目的のトリフルオロメチルチオアリール化合物を得ている。この方法によれば、原料のハロゲン化アリール化合物から１段階で目的のトリフルオロメチルチオアリール化合物の製造が可能である。   In Non-Patent Document 1, potassium fluoride and thiophosgene are reacted with an aryl halide compound to obtain the target trifluoromethylthioaryl compound. According to this method, the target trifluoromethylthioaryl compound can be produced in one step from the starting aryl halide compound.

しかし、非特許文献１に記載の製造方法においても、反応性の高いハロゲン化アリール化合物のみが原料として用いられている。さらに、本文献にも、反応性の低いハロゲン化アルキル化合物を原料として用いるトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法についての記載も示唆もされていない。   However, even in the production method described in Non-Patent Document 1, only a highly reactive aryl halide compound is used as a raw material. Furthermore, this document neither describes nor suggests a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound using a halogenated alkyl compound having low reactivity as a raw material.

国際公開第２０１３／１５７２２９号公報（段落０２３８〜０２５６，０４０９，０４１０など）International Publication No. 2013/157229 (paragraphs 0238 to 0256, 0409, 0410, etc.) 特開２０００−５３６３８号公報（請求項１、段落００２６など）JP 2000-53638 A (Claim 1, paragraph 0026, etc.) 国際公開第２０１１／０８０７５２号公報（請求項１、第１３〜２５頁など）International Publication No. 2011/080752 (Claim 1, pages 13-25, etc.)

“Ｔｈｅ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ ａｒｙｌ ｓｕｌｆｉｄｅｓ ｕｓｉｎｇ ＫＦ ａｎｄ ｔｈｉｏｐｈｏｓｇｅｎｅ”（Ｊａｍｅｓ Ｈ．ｃｌａｒｋ，Ｓｔｅｗａｒｔ Ｊ．Ｔａｖｅｎｅｒ）Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．８５，ｐ．１６９−１７２（１９９７）“The preparation of trifluoromethylary sulfides using KF and thiophosgene” (James H. Clark, Stewart J. Tavener) Journal of Fluorine Chemistry. 85, p. 169-172 (1997)

上述したように、特許文献２，３と非特許文献１に記載された製造方法は、フッ化カリウムとチオホスゲンを使用して１段階で反応を行っているが、いずれの文献も反応性の高いハロゲン化アリール化合物を出発原料としており、反応性の低いハロゲン化アルキル化合物を原料とする製造方法については記載も示唆もされていない。   As described above, the production methods described in Patent Documents 2 and 3 and Non-Patent Document 1 use potassium fluoride and thiophosgene to perform the reaction in one step, but all the documents are highly reactive. A production method using a halogenated aryl compound as a starting material and a low-reactivity alkyl halide compound as a starting material is neither described nor suggested.

本発明の目的は、多くの工程を必要とせず、安価に入手可能な原料を用い、特殊な反応装置を用いることのない、工業的に好ましいトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an industrially preferable method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound that does not require many steps, uses inexpensively available raw materials, and does not use a special reaction apparatus. is there.

上記のような状況に鑑み、本発明者がトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、意外にも、アルキル化合物とフッ素化合物の存在下、加熱しながらチオホスゲンをある一定の条件よりもゆっくり添加することにより、目的のトリフルオロメチルチオアルキル化合物が高収率で得られることを見出した。この知見に基づき本発明を完成するに至った。   In view of the situation as described above, the present inventors have conducted extensive research on a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound. As a result, surprisingly, thiophosgene is heated under certain conditions while being heated in the presence of an alkyl compound and a fluorine compound. It was found that the target trifluoromethylthioalkyl compound can be obtained in a high yield by adding it more slowly. Based on this finding, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、下記〔１〕から〔１５〕項に記載の発明を提供することにより前記課題を解決したものである。   That is, this invention solves the said subject by providing the invention as described in the following [1] to [15].

〔１〕一般式（１）：

Figure 0006236545
（式中、Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示す。）
で表されるトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法であって、
一般式（２）：
Figure 0006236545
 （式中、Ｒは前記一般式（１）で定義したとおりであり、
Ｌは、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有していても良いＣ６〜Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基を示す。）
で表される化合物とフッ素化合物の存在下、チオホスゲンを４５℃以上の添加温度かつ０．２５時間以上の添加時間で添加することを特徴とするトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。[1] General formula (1):
Figure 0006236545
 (Wherein, R, optionally substituted C 1 -C 10 alkyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkenyl group, C 2 may be substituted by R1 ~ C 10 alkynyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, one or more identical or different may be substituted by R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more of which may be substituted by the same or different R2 C 6 -C 10 aryloxy group, or one or more identical or different R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by
R1 is, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, 1 or 2 pieces or more of the same or different may be substituted with R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more identical or different good C 6 -C 10 aryloxy group or one or two optionally substituted by R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by the same or different R 2,
R2 is hydrogen atom, halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy groups, C 1 -C 4 haloalkylthio group or an C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group. )
A process for producing a trifluoromethylthioalkyl compound represented by:
General formula (2):
Figure 0006236545
 Wherein R is as defined in the general formula (1),
L represents a halogen atom, C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group or which may have a substituent C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group. )
A method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound, comprising adding thiophosgene at an addition temperature of 45 ° C. or more and an addition time of 0.25 hours or more in the presence of a compound represented by formula (I) and a fluorine compound.

〔２〕以下の条件でチオホスゲンを添加する、〔１〕に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。
添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）≧１０[2] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to [1], wherein thiophosgene is added under the following conditions.
Addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45) ≧ 10

〔３〕前記一般式（２）で表される化合物１モルに対するチオホスゲンの添加速度が、１０モル／時間以下である、〔１〕又は〔２〕に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [3] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to [1] or [2], wherein the addition rate of thiophosgene with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (2) is 10 mol / hour or less.

〔４〕以下の条件でチオホスゲンを添加する、〔１〕から〔３〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。
１≦前記添加速度（モル／時間）×（前記添加温度（℃）−４５）≦４００[4] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of [1] to [3], wherein thiophosgene is added under the following conditions.
1 ≦ addition rate (mol / hour) × (addition temperature (° C.) − 45) ≦ 400

〔５〕フッ素化合物が、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、又はそれらの混合物である、〔１〕から〔４〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [5] The fluorine compound is tetramethylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, magnesium fluoride, calcium fluoride, or a mixture thereof from [1] [4] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of [4].

〔６〕フッ素化合物が、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、又はそれらの混合物である、〔１〕から〔４〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [6] The production of the trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of [1] to [4], wherein the fluorine compound is tetramethylammonium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, or a mixture thereof. Method.

〔７〕前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して３．０モル以上１２．０モル以下の範囲のフッ素化合物を使用する、〔１〕から〔６〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [7] Any one of [1] to [6], wherein a fluorine compound in a range of 3.0 mol to 12.0 mol is used with respect to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2). A method for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to Item 1.

〔８〕前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して４．０モル以上９．０モル以下の範囲のフッ素化合物を使用する、〔１〕から〔６〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [8] Any one of [1] to [6], wherein a fluorine compound in a range of 4.0 mol to 9.0 mol is used relative to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2) A method for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to Item 1.

〔９〕前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して１．０モル以上３．０モル以下の範囲のチオホスゲンを使用する、〔１〕から〔８〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [9] Any one of [1] to [8], wherein thiophosgene is used in a range of 1.0 mol to 3.0 mol with respect to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2). A method for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to Item.

〔１０〕前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して１．０モル以上２．０モル以下の範囲のチオホスゲンを使用する、〔１〕から〔８〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [10] Any one of [1] to [8], wherein thiophosgene is used in the range of 1.0 mol to 2.0 mol with respect to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2). A method for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to Item.

〔１１〕６０℃以上１００℃以下の範囲内の温度で行われる、〔１〕から〔１０〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [11] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of [1] to [10], which is performed at a temperature within a range of 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

〔１２〕７０℃以上９０℃以下の範囲内の温度で行われる、〔１〕から〔１０〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   [12] The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of [1] to [10], which is performed at a temperature in the range of 70 ° C. or higher and 90 ° C. or lower.

〔１３〕前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示し、
Ｌは、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有していても良いベンゼンスルホニルオキシ基で示される〔１〕から〔１２〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。[13] In the general formula (1) and the general formula (2),
R is optionally substituted by R1 C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkynyl group , C 1 -C 4 alkoxy group, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, substituted by one or more same or different R 2 An optionally substituted phenyl group, 1 or 2 or more phenoxy groups optionally substituted by the same or different R2, or a benzyloxy group optionally substituted by 1 or 2 identical or different R2;
R1 is, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, 1 or 2 A phenyl group which may be substituted by two or more identical or different R2, a phenoxy group which may be substituted by one or two or more identical or different R2, or a phenyl group which may be substituted by one or two or more identical or different R2 Good benzyloxy group,
R2 is hydrogen atom, halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy groups, C 1 -C 4 haloalkylthio group or C 1 -C 4 shows a haloalkylsulfinyl group,
L is a halogen atom, a C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, a C 1 -C 4 haloalkylsulfonyloxy group or a benzenesulfonyloxy group which may have a substituent, [1] to [12] The manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of any one of Claims.

〔１４〕前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示し、
Ｌは、ハロゲン原子で示される〔１〕から〔１２〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。[14] In the general formula (1) and the general formula (2),
R is optionally substituted by R1 C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkynyl group A phenyl group which may be substituted by one or two or more identical or different R2, or a benzyloxy group which may be substituted by one or two identical or different R2;
R1 is a substituted C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, by one or more identical or different R2 A phenyl group which may be substituted, 1 or 2 or more phenoxy groups which may be substituted by the same or different R2, or a benzyloxy group which may be substituted by 1 or 2 same or different R2;
R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkylthio group or C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group,
L is the manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of any one of [1] to [12] shown by a halogen atom.

〔１５〕前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、４−アセトキシブチル基、３−エトキシカルボニルプロピル基、４−［２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェノキシ］ブチル基、４−［２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェノキシ］ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基、フェニル基、ベンジルオキシ基、８−ノネニル基、１−ヘキシニル基、３−メトキシプロピル基、３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェノキシ］プロピル基又は３−アセトキシプロピル基を示し、
Ｌは、臭素原子又はヨウ素原子で示される〔１〕から〔１２〕のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。[15] In the general formula (1) and the general formula (2),
R is 4-acetoxybutyl group, 3-ethoxycarbonylpropyl group, 4- [2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenoxy] butyl group, 4- [2,4 -Dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenoxy] butyl group, n-hexyl group, n-decyl group, phenyl group, benzyloxy group, 8-nonenyl group, 1-hexynyl group, 3 -Methoxypropyl group, 3- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenoxy] propyl group or 3-acetoxypropyl group;
L is the manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of any one of [1] to [12] shown by a bromine atom or an iodine atom.

本発明によれば、反応性の低いアルキル化合物を出発原料とし、トリフルオロメチルチオアルキル化合物を高収率に得ることが可能となる。   According to the present invention, it is possible to obtain a trifluoromethylthioalkyl compound in a high yield using an alkyl compound having low reactivity as a starting material.

１．本明細書に記載された記号及び用語について説明する。   1. The symbols and terms described in this specification will be described.

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。   The halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

Ｃ１〜Ｃ３のような元素記号と下付きの数字による表記は、これに続いて表記されている基の元素数が下付きの数字で示される範囲であることを示している。例えば、この場合では炭素数が１〜３であることを示しており、Ｃ１〜Ｃ６の表記では、炭素数が１〜６であることを示しており、Ｃ１〜Ｃ１２の表記では、炭素数が１〜１２であることを示している。The notation by the element symbol such as C 1 to C 3 and the subscript number indicates that the number of elements of the group described subsequently is in the range indicated by the subscript number. For example, in this case, the carbon number is 1 to 3, the C 1 to C 6 notation indicates that the carbon number is 1 to 6, and the C 1 to C 12 notation is , Indicating that the carbon number is 1-12.

Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基とは、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、イソペンチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、イソヘキシル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｎ−へプチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１−プロピルブチル基、１，１，３−トリメチルブチル基、１，３，３−トリメチルブチル基、２，２，３−トリメチルブチル基、２，３，３−トリメチルブチル基、１，１，２，２−テトラメチルプロピル基、ｎ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、イソオクチル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、４−エチルヘキシル基、１，１−ジメチルヘキシル基、５，５−ジメチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、２−プロピルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、２−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、４−メチルオクチル基、５−メチルオクチル基、６−メチルオクチル基、イソノニル基、１−エチルヘプチル基、２−エチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、４−エチルヘプチル基、５−エチルヘプチル基、１，１−ジメチルヘプチル基、１，２−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、１−プロピルヘキシル基、２−プロピルヘキシル基、３−プロピルヘキシル基、１，１，５−トリメチルヘキシル基、１，３，５−トリメチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、１−エチル−１−メチルヘキシル基、１−ブチルペンチル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、２−メチルノニル基、３−メチルノニル基、４−メチルノニル基、５−メチルノニル基、６−メチルノニル基、７−メチルノニル基、イソデシル基、１−エチルオクチル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、４−エチルオクチル基、５−エチルオクチル基、６−エチルオクチル基、３，３−ジメチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、１−プロピルヘプチル基、２−プロピルヘプチル基、３−プロピルヘプチル基、１，１，５−トリメチルヘプチル基、２，２，６−トリメチルヘプチル基、２，４，６−トリメチルヘプチル基、４，６，６−トリメチルヘプチル基、１−エチル−１−メチルヘプチル基、１−ブチルヘキシル基、２−ブチルヘキシル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。The C 1 -C 10 alkyl group, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The C 1 -C 10 alkyl group, e.g., methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, an isobutyl group, tert- butyl group, n- pentyl group, 1 -Methylbutyl group, 2-methylbutyl group, isopentyl group, 1-ethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2- Methylpentyl group, 3-methylpentyl group, isohexyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1 , 2,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, n-heptyl group 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, isoheptyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 1,1-dimethyl Pentyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 1-propylbutyl group, 1,1,3-trimethylbutyl group, 1,3,3-trimethylbutyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, 2,3 , 3-trimethylbutyl group, 1,1,2,2-tetramethylpropyl group, n-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5 -Methylheptyl group, isooctyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1,1-dimethylhexyl group Sil group, 5,5-dimethylhexyl group, 1,5-dimethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 2-propylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, 1-ethyl-1-methylpentyl group N-nonyl group, 1-methyloctyl group, 2-methyloctyl group, 3-methyloctyl group, 4-methyloctyl group, 5-methyloctyl group, 6-methyloctyl group, isononyl group, 1-ethylheptyl group 2-ethylheptyl group, 3-ethylheptyl group, 4-ethylheptyl group, 5-ethylheptyl group, 1,1-dimethylheptyl group, 1,2-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 1 -Propylhexyl group, 2-propylhexyl group, 3-propylhexyl group, 1,1,5-trimethylhexyl group, 1,3,5-trimethylhexyl Sil group, 3,5,5-trimethylhexyl group, 1-ethyl-1-methylhexyl group, 1-butylpentyl group, n-decyl group, 1-methylnonyl group, 2-methylnonyl group, 3-methylnonyl group, 4 -Methylnonyl group, 5-methylnonyl group, 6-methylnonyl group, 7-methylnonyl group, isodecyl group, 1-ethyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 3-ethyloctyl group, 4-ethyloctyl group, 5-ethyloctyl group Group, 6-ethyloctyl group, 3,3-dimethyloctyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 1-propylheptyl group, 2-propylheptyl group, 3-propylheptyl group, 1,1,5-trimethylheptyl Group, 2,2,6-trimethylheptyl group, 2,4,6-trimethylheptyl group, 4,6,6-trimethylheptyl group, 1- Chill 1-methylheptyl group, 1-butyl hexyl group, 2-butylhexyl of the group and the like, but is not limited thereto.

好ましいＣ１〜Ｃ１０アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、イソペンチル基、１−エチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、イソヘキシル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｎ−へプチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１−プロピルブチル基、ｎ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、イソオクチル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、４−エチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、２−プロピルペンチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、２−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、４−メチルオクチル基、５−メチルオクチル基、６−メチルオクチル基、イソノニル基、１−エチルヘプチル基、２−エチルヘプチル基、３−エチルヘプチル基、４−エチルヘプチル基、５−エチルヘプチル基、１，２−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、１−プロピルヘキシル基、２−プロピルヘキシル基、３−プロピルヘキシル基、１−ブチルペンチル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、２−メチルノニル基、３−メチルノニル基、４−メチルノニル基、５−メチルノニル基、６−メチルノニル基、７−メチルノニル基、イソデシル基、１−エチルオクチル基、２−エチルオクチル基、３−エチルオクチル基、４−エチルオクチル基、５−エチルオクチル基、６−エチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、１−プロピルヘプチル基、２−プロピルヘプチル基、３−プロピルヘプチル基、２，４，６−トリメチルヘプチル基、１−ブチルヘキシル基、２−ブチルヘキシル基である。これらのうち、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、ｎ−へプチル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、等が挙げられる。Preferred C 1 -C 10 alkyl group, e.g., methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, an isobutyl group, tert- butyl group, n- pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, isopentyl group, 1-ethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, Isohexyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3 -Methylhexyl group, 4-methylhexyl group, isoheptyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentene Group, 1,4-dimethylpentyl group, 1-propylbutyl group, n-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group Group, isooctyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 2-propylpentyl group, n-nonyl group, 1-methyloctyl group, 2- Methyloctyl group, 3-methyloctyl group, 4-methyloctyl group, 5-methyloctyl group, 6-methyloctyl group, isononyl group, 1-ethylheptyl group, 2-ethylheptyl group, 3-ethylheptyl group, 4 -Ethylheptyl group, 5-ethylheptyl group, 1,2-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 1- Propylhexyl group, 2-propylhexyl group, 3-propylhexyl group, 1-butylpentyl group, n-decyl group, 1-methylnonyl group, 2-methylnonyl group, 3-methylnonyl group, 4-methylnonyl group, 5-methylnonyl group 6-methylnonyl group, 7-methylnonyl group, isodecyl group, 1-ethyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 3-ethyloctyl group, 4-ethyloctyl group, 5-ethyloctyl group, 6-ethyloctyl group, They are 3,7-dimethyloctyl group, 1-propylheptyl group, 2-propylheptyl group, 3-propylheptyl group, 2,4,6-trimethylheptyl group, 1-butylhexyl group and 2-butylhexyl group. Of these, more preferred are methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, 1-methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl. Group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, n-octyl group, 1-methylheptyl group, n-nonyl group, 1-methyloctyl group, n-decyl Group, 1-methylnonyl group, and the like.

Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル基とは、炭素数が２〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示す。Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１，３−ペンタジエニル基、２，４−ペンタジエニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−３−ブテニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、１，２−ジメチル−２−プロペニル基、１，２−ジメチル−１−プロペニル基、１−エチル−２−プロペニル基、１−ビニル−２−プロペニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１，３−ヘキサジエニル基、１，４−ヘキサジエニル基、１，５−ヘキサジエニル基、２，４−ヘキサジエニル基、２，５−ヘキサジエニル基、３，５−ヘキサジエニル基、１，３，５−ヘキサトリエニル基、１−メチル−１−ペンテニル基、１−メチル−２−ペンテニル基、１−メチル−３−ペンテニル基、１−メチル−４−ペンテニル基、１−メチル−５−ペンテニル基、２−メチル−１−ペンテニル基、２−メチル−２−ペンテニル基、２−メチル−３−ペンテニル基、２−メチル−４−ペンテニル基、２−メチル−５−ペンテニル基、３−メチル−１−ペンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、３−メチル−３−ペンテニル基、３−メチル−４−ペンテニル基、３−メチル−５−ペンテニル基、４−メチル−１−ペンテニル基、４−メチル−２−ペンテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、４−メチル−５−ペンテニル基、１−エチル−１−ブテニル基、１−エチル−２−ブテニル基、１−エチル−３−ブテニル基、２−エチル−１−ブテニル基、２−エチル−２−ブテニル基、２−エチル−３−ブテニル基、１，１−ジメチル−２−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、２，２−ジメチル−３−ブテニル基、３，３−ジメチル−１−ブテニル基、１，２−ジメチル−１−ブテニル基、１，２−ジメチル−２−ブテニル基、１，２−ジメチル−３−ブテニル基、１，３−ジメチル−１−ブテニル基、１，３−ジメチル−２−ブテニル基、１，３−ジメチル−３−ブテニル基、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル基、１−ヘプテニル基、２−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、４−ヘプテニル基、５−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、１，３−ヘプタジエニル基、１，４−ヘプタジエニル基、１，５−ヘプタジエニル基、１，６−ヘプタジエニル基、２，４−ヘプタジエニル基、２，５−ヘプタジエニル基、２，６−ヘプタジエニル基、３，５−ヘプタジエニル基、３，６−ヘプタジエニル基、１，３，５−ヘプタトリエニル基、１，３，６−ヘプタトリエニル基、２，４，６−ヘプタトリエニル基、１−オクテニル基、２−オクテニル基、３−オクテニル基、４−オクテニル基、５−オクテニル基、６−オクテニル基、７−オクテニル基、１，３−オクタジエニル基、１，４−オクタジエニル基、１，５−オクタジエニル基、１，６−オクタジエニル基、１，７−オクタジエニル基、２，４−オクタジエニル基、２，５−オクタジエニル基、２，６−オクタジエニル基、２，７−オクタジエニル基、３，５−オクタジエニル基、３，６−オクタジエニル基、３，７−オクタジエニル基、１，３，５−オクタトリエニル基、１，３，６−オクタトリエニル基、１，３，７−オクタトリエニル基、２，４，６−オクタトリエニル基、２，４，７−オクタトリエニル基、１，３，５，７−オクタテトラエニル基、１−ノネニル基、２−ノネニル基、３−ノネニル基、４−ノネニル基、５−ノネニル基、６−ノネニル基、７−ノネニル基、８−ノネニル基、１，３−ノナジエニル基、１，４−ノナジエニル基、１，５−ノナジエニル基、１，６−ノナジエニル基、１，７−ノナジエニル基、１，８−ノナジエニル基、２，４−ノナジエニル基、２，５−ノナジエニル基、２，６−ノナジエニル基、２，７−ノナジエニル基、２，８−ノナジエニル基、３，５−ノナジエニル基、３，６−ノナジエニル基、３，７−ノナジエニル基、３，８−ノナジエニル基、１，３，５−ノナトリエニル基、１，３，６−ノナトリエニル基、１，３，７−ノナトリエニル基、１，３，８−ノナトリエニル基、２，４，６−ノナトリエニル基、２，４，７−ノナトリエニル基、２，４，８−ノナトリエニル基、１，３，５，７−ノナテトラエニル基、１，３，５，８−ノナテトラエニル基、２，４，６，８−ノナテトラエニル基、１−デセニル基、２−デセニル基、３−デセニル基、４−デセニル基、５−デセニル基、６−デセニル基、７−デセニル基、８−デセニル基、９−デセニル基、１，３−デカジエニル基、１，４−デカジエニル基、１，５−デカジエニル基、１，６−デカジエニル基、１，７−デカジエニル基、１，８−デカジエニル基、１，９−デカジエニル基、２，４−デカジエニル基、２，５−デカジエニル基、２，６−デカジエニル基、２，７−デカジエニル基、２，８−デカジエニル基、２，９−デカジエニル基、３，５−デカジエニル基、３，６−デカジエニル基、３，７−デカジエニル基、３，８−デカジエニル基、３，９−デカジエニル基、１，３，５−デカトリエニル基、１，３，６−デカトリエニル基、１，３，７−デカトリエニル基、１，３，８−デカトリエニル基、１，３，９−デカトリエニル基、２，４，６−デカトリエニル基、２，４，７−デカトリエニル基、２，４，８−デカトリエニル基、２，４，９−デカトリエニル基、１，３，５，７−デカテトラエニル基、１，３，５，８−デカテトラエニル基、１，３，５，９−デカテトラエニル基、２，４，６，８−デカテトラエニル基、２，４，６，９−デカテトラエニル基、１，３，５，７−９−デカペンタエニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。The C 2 -C 10 alkenyl group, a straight-chain or branched alkenyl group having a carbon number of 2-10. The C 2 -C 10 alkenyl group include a vinyl group, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1,3-butadienyl group 1-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl Group, 4-pentenyl group, 1,3-pentadienyl group, 2,4-pentadienyl group, 1-methyl-1-butenyl group, 1-methyl-2-butenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 2- Methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2-methyl-3-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 3-methyl-3-butenyl group Nyl group, 1,1-dimethyl-2-propenyl group, 1,2-dimethyl-2-propenyl group, 1,2-dimethyl-1-propenyl group, 1-ethyl-2-propenyl group, 1-vinyl-2 -Propenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1,3-hexadienyl group, 1,4-hexadienyl group, 1,5-hexadienyl group, 2,4-hexadienyl group, 2,5-hexadienyl group, 3,5-hexadienyl group, 1,3,5-hexatrienyl group, 1-methyl-1-pentenyl group, 1-methyl-2-pentenyl group, 1-methyl-3-pentenyl group, 1-methyl-4-pentenyl group, 1-methyl-5-pentenyl group, 2-methyl-1-pentenyl group, 2-methyl-2-pentenyl group, -Methyl-3-pentenyl group, 2-methyl-4-pentenyl group, 2-methyl-5-pentenyl group, 3-methyl-1-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 3-methyl-3- Pentenyl group, 3-methyl-4-pentenyl group, 3-methyl-5-pentenyl group, 4-methyl-1-pentenyl group, 4-methyl-2-pentenyl group, 4-methyl-3-pentenyl group, 4- Methyl-4-pentenyl group, 4-methyl-5-pentenyl group, 1-ethyl-1-butenyl group, 1-ethyl-2-butenyl group, 1-ethyl-3-butenyl group, 2-ethyl-1-butenyl group Group, 2-ethyl-2-butenyl group, 2-ethyl-3-butenyl group, 1,1-dimethyl-2-butenyl group, 1,1-dimethyl-3-butenyl group, 2,2-dimethyl-3- Butenyl group, 3,3- Dimethyl-1-butenyl group, 1,2-dimethyl-1-butenyl group, 1,2-dimethyl-2-butenyl group, 1,2-dimethyl-3-butenyl group, 1,3-dimethyl-1-butenyl group 1,3-dimethyl-2-butenyl group, 1,3-dimethyl-3-butenyl group, 1,1,2-trimethyl-2-propenyl group, 1-heptenyl group, 2-heptenyl group, 3-heptenyl group 4-heptenyl group, 5-heptenyl group, 6-heptenyl group, 1,3-heptadienyl group, 1,4-heptadienyl group, 1,5-heptadienyl group, 1,6-heptadienyl group, 2,4-heptadienyl group 2,5-heptadienyl group, 2,6-heptadienyl group, 3,5-heptadienyl group, 3,6-heptadienyl group, 1,3,5-heptatrienyl group, 1,3,6-heptato Enyl group, 2,4,6-heptatrienyl group, 1-octenyl group, 2-octenyl group, 3-octenyl group, 4-octenyl group, 5-octenyl group, 6-octenyl group, 7-octenyl group, 1,3 -Octadienyl group, 1,4-octadienyl group, 1,5-octadienyl group, 1,6-octadienyl group, 1,7-octadienyl group, 2,4-octadienyl group, 2,5-octadienyl group, 2,6- Octadienyl group, 2,7-octadienyl group, 3,5-octadienyl group, 3,6-octadienyl group, 3,7-octadienyl group, 1,3,5-octatrienyl group, 1,3,6-octatri group Enyl group, 1,3,7-octatrienyl group, 2,4,6-octatrienyl group, 2,4,7-octatrienyl group, 1,3,5,7-octate Laenyl group, 1-nonenyl group, 2-nonenyl group, 3-nonenyl group, 4-nonenyl group, 5-nonenyl group, 6-nonenyl group, 7-nonenyl group, 8-nonenyl group, 1,3-nonadienyl group, 1,4-nonadienyl group, 1,5-nonadienyl group, 1,6-nonadienyl group, 1,7-nonadienyl group, 1,8-nonadienyl group, 2,4-nonadienyl group, 2,5-nonadienyl group, 2 , 6-nonadienyl group, 2,7-nonadienyl group, 2,8-nonadienyl group, 3,5-nonadienyl group, 3,6-nonadienyl group, 3,7-nonadienyl group, 3,8-nonadienyl group, 1, 3,5-nonatrienyl group, 1,3,6-nonatrienyl group, 1,3,7-nonatrienyl group, 1,3,8-nonatrienyl group, 2,4,6-nonatrienyl group, 2,4,7-nona Trienyl group, 2,4,8-nonatrienyl group, 1,3,5,7-nonatetraenyl group, 1,3,5,8-nonatetraenyl group, 2,4,6,8-nonatetraenyl group, 1-decenyl group, 2-decenyl group, 3-decenyl group, 4-decenyl group, 5-decenyl group, 6-decenyl group, 7-decenyl group, 8-decenyl group, 9-decenyl group, 1,3-decadienyl group, 1,4 -Decadienyl group, 1,5-decadienyl group, 1,6-decadienyl group, 1,7-decadienyl group, 1,8-decadienyl group, 1,9-decadienyl group, 2,4-decadienyl group, 2,5- Decadienyl group, 2,6-decadienyl group, 2,7-decadienyl group, 2,8-decadienyl group, 2,9-decadienyl group, 3,5-decadienyl group, 3,6-decadienyl group, 3,7-dede Dienyl group, 3,8-decadienyl group, 3,9-decadienyl group, 1,3,5-decatrienyl group, 1,3,6-decatrienyl group, 1,3,7-decatrienyl group, 1,3,8- Decatrienyl group, 1,3,9-decatrienyl group, 2,4,6-decatrienyl group, 2,4,7-decatrienyl group, 2,4,8-decatrienyl group, 2,4,9-decatrienyl group, 1, 3,5,7-decatetraenyl group, 1,3,5,8-decatetraenyl group, 1,3,5,9-decatetraenyl group, 2,4,6,8-decatetraenyl group, Examples include 2,4,6,9-decatetraenyl group and 1,3,5,7-9-decapentenyl group, but are not limited thereto.

好ましいＣ２〜Ｃ１０アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１，３−ペンタジエニル基、２，４−ペンタジエニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１，３−ヘキサジエニル基、１，４−ヘキサジエニル基、１，５−ヘキサジエニル基、２，４−ヘキサジエニル基、２，５−ヘキサジエニル基、３，５−ヘキサジエニル基、１，３，５−ヘキサトリエニル基、１−ヘプテニル基、２−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、４−ヘプテニル基、５−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、１，３−ヘプタジエニル基、１，４−ヘプタジエニル基、１，５−ヘプタジエニル基、１，６−ヘプタジエニル基、２，４−ヘプタジエニル基、２，５−ヘプタジエニル基、２，６−ヘプタジエニル基、３，５−ヘプタジエニル基、３，６−ヘプタジエニル基、１，３，５−ヘプタトリエニル基、１，３，６−ヘプタトリエニル基、２，４，６−ヘプタトリエニル基、１−オクテニル基、２−オクテニル基、３−オクテニル基、４−オクテニル基、５−オクテニル基、６−オクテニル基、７−オクテニル基、１，３−オクタジエニル基、１，４−オクタジエニル基、１，５−オクタジエニル基、１，６−オクタジエニル基、１，７−オクタジエニル基、２，４−オクタジエニル基、２，５−オクタジエニル基、２，６−オクタジエニル基、２，７−オクタジエニル基、３，５−オクタジエニル基、３，６−オクタジエニル基、３，７−オクタジエニル基、１，３，５−オクタトリエニル基、１，３，６−オクタトリエニル基、１，３，７−オクタトリエニル基、２，４，６−オクタトリエニル基、２，４，７−オクタトリエニル基、１，３，５，７−オクタテトラエニル基、１−ノネニル基、２−ノネニル基、３−ノネニル基、４−ノネニル基、５−ノネニル基、６−ノネニル基、７−ノネニル基、８−ノネニル基、１，３−ノナジエニル基、１，４−ノナジエニル基、１，５−ノナジエニル基、１，６−ノナジエニル基、１，７−ノナジエニル基、１，８−ノナジエニル基、２，４−ノナジエニル基、２，５−ノナジエニル基、２，６−ノナジエニル基、２，７−ノナジエニル基、２，８−ノナジエニル基、３，５−ノナジエニル基、３，６−ノナジエニル基、３，７−ノナジエニル基、３，８−ノナジエニル基、１，３，５−ノナトリエニル基、１，３，６−ノナトリエニル基、１，３，７−ノナトリエニル基、１，３，８−ノナトリエニル基、２，４，６−ノナトリエニル基、２，４，７−ノナトリエニル基、２，４，８−ノナトリエニル基、１，３，５，７−ノナテトラエニル基、１，３，５，８−ノナテトラエニル基、２，４，６，８−ノナテトラエニル基、１−デセニル基、２−デセニル基、３−デセニル基、４−デセニル基、５−デセニル基、６−デセニル基、７−デセニル基、８−デセニル基、９−デセニル基、１，３−デカジエニル基、１，４−デカジエニル基、１，５−デカジエニル基、１，６−デカジエニル基、１，７−デカジエニル基、１，８−デカジエニル基、１，９−デカジエニル基、２，４−デカジエニル基、２，５−デカジエニル基、２，６−デカジエニル基、２，７−デカジエニル基、２，８−デカジエニル基、２，９−デカジエニル基、３，５−デカジエニル基、３，６−デカジエニル基、３，７−デカジエニル基、３，８−デカジエニル基、３，９−デカジエニル基、１，３，５−デカトリエニル基、１，３，６−デカトリエニル基、１，３，７−デカトリエニル基、１，３，８−デカトリエニル基、１，３，９−デカトリエニル基、２，４，６−デカトリエニル基、２，４，７−デカトリエニル基、２，４，８−デカトリエニル基、２，４，９−デカトリエニル基、１，３，５，７−デカテトラエニル基、１，３，５，８−デカテトラエニル基、１，３，５，９−デカテトラエニル基、２，４，６，８−デカテトラエニル基、２，４，６，９−デカテトラエニル基、１，３，５，７−９−デカペンタエニル基である。これらのうち、より好ましくはビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、２−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、４−ヘプテニル基、５−ヘプテニル基、６−ヘプテニル基、１−オクテニル基、２−オクテニル基、３−オクテニル基、４−オクテニル基、５−オクテニル基、６−オクテニル基、７−オクテニル基、１−ノネニル基、２−ノネニル基、３−ノネニル基、４−ノネニル基、５−ノネニル基、６−ノネニル基、７−ノネニル基、８−ノネニル基、１−デセニル基、２−デセニル基、３−デセニル基、４−デセニル基、５−デセニル基、６−デセニル基、７−デセニル基、８−デセニル基、９−デセニル基等が挙げられる。Preferred C 2 -C 10 alkenyl group include a vinyl group, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1,3-butadienyl Group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1,3-pentadienyl group, 2,4-pentadienyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1,3-hexadienyl group, 1,4-hexadienyl group, 1,5-hexadienyl group, 2,4-hexadienyl group, 2,5-hexadienyl group, 3,5- Hexadienyl group, 1,3,5-hexatrienyl group, 1-heptenyl group, 2-heptenyl group, 3-heptenyl group, 4-heptenyl group, 5- Pthenyl group, 6-heptenyl group, 1,3-heptadienyl group, 1,4-heptadienyl group, 1,5-heptadienyl group, 1,6-heptadienyl group, 2,4-heptadienyl group, 2,5-heptadienyl group, 2,6-heptadienyl group, 3,5-heptadienyl group, 3,6-heptadienyl group, 1,3,5-heptatrienyl group, 1,3,6-heptatrienyl group, 2,4,6-heptatrienyl group, 1- Octenyl group, 2-octenyl group, 3-octenyl group, 4-octenyl group, 5-octenyl group, 6-octenyl group, 7-octenyl group, 1,3-octadienyl group, 1,4-octadienyl group, 1,5 -Octadienyl group, 1,6-octadienyl group, 1,7-octadienyl group, 2,4-octadienyl group, 2,5-octadienyl 2,6-octadienyl group, 2,7-octadienyl group, 3,5-octadienyl group, 3,6-octadienyl group, 3,7-octadienyl group, 1,3,5-octatrienyl group, 1,3 , 6-octatrienyl group, 1,3,7-octatrienyl group, 2,4,6-octatrienyl group, 2,4,7-octatrienyl group, 1,3,5,7-octa Tetraenyl group, 1-nonenyl group, 2-nonenyl group, 3-nonenyl group, 4-nonenyl group, 5-nonenyl group, 6-nonenyl group, 7-nonenyl group, 8-nonenyl group, 1,3-nonadienyl group 1,4-nonadienyl group, 1,5-nonadienyl group, 1,6-nonadienyl group, 1,7-nonadienyl group, 1,8-nonadienyl group, 2,4-nonadienyl group, 2,5-nonadienyl group, 2,6-nonajie Nyl group, 2,7-nonadienyl group, 2,8-nonadienyl group, 3,5-nonadienyl group, 3,6-nonadienyl group, 3,7-nonadienyl group, 3,8-nonadienyl group, 1,3,5 -Nonatrienyl group, 1,3,6-nonatrienyl group, 1,3,7-nonatrienyl group, 1,3,8-nonatrienyl group, 2,4,6-nonatrienyl group, 2,4,7-nonatrienyl group, 2 , 4,8-nonatrienyl group, 1,3,5,7-nonatetraenyl group, 1,3,5,8-nonatetraenyl group, 2,4,6,8-nonatetraenyl group, 1-decenyl group, 2-decenyl group 3-decenyl group, 4-decenyl group, 5-decenyl group, 6-decenyl group, 7-decenyl group, 8-decenyl group, 9-decenyl group, 1,3-decadienyl group, 1,4-decadienyl group, 1, -Decadienyl group, 1,6-decadienyl group, 1,7-decadienyl group, 1,8-decadienyl group, 1,9-decadienyl group, 2,4-decadienyl group, 2,5-decadienyl group, 2,6- Decadienyl group, 2,7-decadienyl group, 2,8-decadienyl group, 2,9-decadienyl group, 3,5-decadienyl group, 3,6-decadienyl group, 3,7-decadienyl group, 3,8-decadienyl Group, 3,9-decadienyl group, 1,3,5-decatrienyl group, 1,3,6-decatrienyl group, 1,3,7-decatrienyl group, 1,3,8-decatrienyl group, 1,3,9 -Decatrienyl group, 2,4,6-decatrienyl group, 2,4,7-decatrienyl group, 2,4,8-decatrienyl group, 2,4,9-decatrienyl group, 1,3,5,7- Cataenyl group, 1,3,5,8-decatetraenyl group, 1,3,5,9-decatetraenyl group, 2,4,6,8-decatetraenyl group, 2,4,6,9- A decatetraenyl group and a 1,3,5,7-9-decapentaenyl group; Among these, more preferably, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1-heptenyl group, 2-heptenyl group, 3-heptenyl group, 4-heptenyl group, 5-heptenyl group, 6-heptenyl group, 1-octenyl group, 2-octenyl group, 3-octenyl group, 4-octenyl group, 5-octenyl group, 6-octenyl group, 7-octenyl group, 1-nonenyl group, 2-nonenyl group, 3-nonenyl group, 4-nonenyl group, 5-nonenyl group, 6-nonenyl group, 7-nonenyl group, 8-nonenyl group, 1-decenyl group, 2- Seniru group, 3-decenyl, 4-decenyl, 5-decenyl, 6-decenyl, 7-decenyl, 8-decenyl, 9-decenyl group and the like.

Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル基とは、炭素数が２〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示す。Ｃ２〜Ｃ１０アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１，３−ブタジイニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１，３−ペンタジイニル基、３−メチル−１−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ブチニル基、１−エチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、１，３−ヘキサジイニル基、２，４−ヘキサジイニル基、３，５−ヘキサジイニル基、１，３，５−ヘキサトリイニル基、３−メチル−１−ペンチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、１−メチル−２−ペンチニル基、４−メチル−２−ペンチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−４−ペンチニル基、２−メチル−４−ペンチニル基、３−メチル−４−ペンチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１−エチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−３−ブチニル基、２，２−ジメチル−３−ブチニル基、１，２−ジメチル−３−ブチニル基、１−エチル−３−ブチニル基、２−エチル−３−ブチニル基、１−（ｎ−プロピル）−２−プロピニル基、１−（イソプロピル）−２−プロピニル基、１−エチル−１−メチル−２−プロピニル基、１−ヘプチニル基、２−ヘプチニル基、３−ヘプチニル基、４−ヘプチニル基、５−ヘプチニル基、６−ヘプチニル基、１，３−ヘプタジイニル基、１，６−ヘプタジイニル基、１，３，５−ヘプタトリイニル基、２，４，６−ヘプタトリイニル基、３−メチル−１−ヘキシニル基、４−メチル−１−ヘキシニル基、５−メチル−１−ヘキシニル基、１−メチル−２−ヘキシニル基、４−メチル−２−ヘキシニル基、５−メチル−２−ヘキシニル基、１−メチル−３−ヘキシニル基、２−メチル−３−ヘキシニル基、５−メチル−３−ヘキシニル基、１−メチル−４−ヘキシニル基、２−メチル−４−ヘキシニル基、３−メチル−４−ヘキシニル基、１−メチル−５−ヘキシニル基、２−メチル−５−ヘキシニル基、３−メチル−５−ヘキシニル基、４−メチル−５−ヘキシニル基、３，３−ジメチル−１−ペンチニル基、４，４−ジメチル−１−ペンチニル基、３，４−ジメチル−１−ペンチニル基、３−エチル−１−ペンチニル基、１，１−ジメチル−２−ペンチニル基、４，４−ジメチル−２−ペンチニル基、１，４−ジメチル−２−ペンチニル基、１−エチル−２−ペンチニル基、１，１−ジメチル−３−ペンチニル基、２，２−ジメチル−３−ペンチニル基、１，２−ジメチル−３−ペンチニル基、１−エチル−３−ペンチル基、２−エチル−３−ペンチニル基、１，１−ジメチル−４−ペンチニル基、２，２−ジメチル−４−ペンチニル基、３，３−ジメチル−４−ペンチニル基、１−エチル−４−ペンチニル基、２−エチル−４−ペンチニル基、３−エチル−４−ペンチニル基、１−（ｎ−プロピル）−１−メチル−２−プロピニル基、１−（イソプロピル）−１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジエチル−２−プロピニル基、１−（ｎ−ブチル）−２−プロピニル基、１−オクチニル基、２−オクチニル基、３−オクチニル基、４−オクチニル基、５−オクチニル基、６−オクチニル基、７−オクチニル基、１，３−オクタジイニル基、１，７−オクタジイニル基、１，３，５−オクタトリイニル基、１，３，５，７−オクタテトライニル基、３−メチル−１−ヘプチニル基、４−メチル−１−ヘプチニル基、５−メチル−１−ヘプチニル基、６−メチル−１−ヘプチニル基、１−メチル−２−ヘプチニル基、４−メチル−２−ヘプチニル基、５−メチル−２−ヘプチニル基、６−メチル−２−ヘプチニル基、１−メチル−３−ヘプチニル基、２−メチル−３−ヘプチニル基、５−メチル−３−ヘプチニル基、６−メチル−３−ヘプチニル基、１−メチル−４−ヘプチニル基、２−メチル−４−ヘプチニル基、３−メチル−４−ヘプチニル基、６−メチル−４−ヘプチニル基、１−メチル−５−ヘプチニル基、２−メチル−５−ヘプチニル基、３−メチル−５−ヘプチニル基、４−メチル−５−ヘプチニル基、１−メチル−６−ヘプチニル基、２−メチル−６−ヘプチニル基、３−メチル−６−ヘプチニル基、４−メチル−６−ヘプチニル基、５−メチル−６−ヘプチニル基、１−ノニニル基、２−ノニニル基、３−ノニニル基、４−ノニニル基、５−ノニニル基、６−ノニニル基、７−ノニニル基、８−ノニニル基、２，４−ノナジイニル基、３−メチル−１−オクチニル基、４−メチル−１−オクチニル基、５−メチル−１−オクチニル基、６−メチル−１−オクチニル基、７−メチル−１−オクチニル基、１−メチル−２−オクチニル基、４−メチル−２−オクチニル基、５−メチル−２−オクチニル基、６−メチル−２−オクチニル基、７−メチル−２−オクチニル基、１−メチル−３−オクチニル基、２−メチル−３−オクチニル基、５−メチル−３−オクチニル基、６−メチル−３−オクチニル基、７−メチル−３−オクチニル基、１−メチル−４−オクチニル基、２−メチル−４−オクチニル基、３−メチル−４−オクチニル基、６−メチル−４−オクチニル基、７−メチル−４−オクチニル基、１−メチル−５−オクチニル基、２−メチル−５−オクチニル基、３−メチル−５−オクチニル基、４−メチル−５−オクチニル基、７−メチル−５−オクチニル基、１−メチル−６−オクチニル基、２−メチル−６−オクチニル基、３−メチル−６−オクチニル基、４−メチル−６−オクチニル基、５−メチル−６−オクチニル基、１−メチル−７−オクチニル基、２−メチル−７−オクチニル基、３−メチル−７−オクチニル基、４−メチル−７−オクチニル基、５−メチル−７−オクチニル基、６−メチル−７−オクチニル基、１−デシニル基、２−デシニル基、３−デシニル基、４−デシニル基、５−デシニル基、６−デシニル基、７−デシニル基、８−デシニル基、９−デシニル基、１，３−デカジイニル基、１，７−デカジイニル基、３−メチル−１−ノニニル基、４−メチル−１−ノニニル基、５−メチル−１−ノニニル基、６−メチル−１−ノニニル基、７−メチル−１−ノニニル基、８−メチル−１−ノニニル基、１−メチル−２−ノニニル基、４−メチル−２−ノニニル基、５−メチル−２−ノニニル基、６−メチル−２−ノニニル基、７−メチル−２−ノニニル基、８−メチル−２−ノニニル基、１−メチル−３−ノニニル基、２−メチル−３−ノニニル基、５−メチル−３−ノニニル基、６−メチル−３−ノニニル基、７−メチル−３−ノニニル基、８−メチル−３−ノニニル基、１−メチル−４−ノニニル基、２−メチル−４−ノニニル基、３−メチル−４−ノニニル基、６−メチル−４−ノニニル基、７−メチル−４−ノニニル基、８−メチル−４−ノニニル基、１−メチル−５−ノニニル基、２−メチル−５−ノニニル基、３−メチル−５−ノニニル基、４−メチル−５−ノニニル基、７−メチル−５−ノニニル基、８−メチル−５−ノニニル基、１−メチル−６−ノニニル基、２−メチル−６−ノニニル基、３−メチル−６−ノニニル基、４−メチル−６−ノニニル基、５−メチル−６−ノニニル基、８−メチル−６−ノニニル基、１−メチル−７−ノニニル基、２−メチル−７−ノニニル基、３−メチル−７−ノニニル基、４−メチル−７−ノニニル基、５−メチル−７−ノニニル基、６−メチル−７−ノニニル基、１−メチル−８−ノニニル基、２−メチル−８−ノニニル基、３−メチル−８−ノニニル基、４−メチル−８−ノニニル基、５−メチル−８−ノニニル基、６−メチル−８−ノニニル基、７−メチル−８−ノニニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。The C 2 -C 10 alkynyl group, a straight or branched chain alkynyl group having a carbon number of 2-10. The C 2 -C 10 alkynyl group include an ethynyl group, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl group, 2-butynyl, 3-butynyl, 1,3-butadiynyl group, 1-methyl 2-propynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1,3-pentadiynyl group, 3-methyl-1-butynyl group, 1-methyl-2-butynyl group 1-methyl-3-butynyl group, 2-methyl-3-butynyl group, 1-ethyl-2-propynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3 -Hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group, 1,3-hexadiynyl group, 2,4-hexadiynyl group, 3,5-hexadiynyl group, 1,3,5-hexatriynyl 3-methyl-1-pentynyl group, 4-methyl-1-pentynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 4-methyl-2-pentynyl group, 1-methyl-3-pentynyl group, 2-methyl- 3-pentynyl group, 1-methyl-4-pentynyl group, 2-methyl-4-pentynyl group, 3-methyl-4-pentynyl group, 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 1,1-dimethyl-2 -Butynyl group, 1-ethyl-2-butynyl group, 1,1-dimethyl-3-butynyl group, 2,2-dimethyl-3-butynyl group, 1,2-dimethyl-3-butynyl group, 1-ethyl- 3-butynyl group, 2-ethyl-3-butynyl group, 1- (n-propyl) -2-propynyl group, 1- (isopropyl) -2-propynyl group, 1-ethyl-1-methyl-2-propynyl group 1-heptynyl group 2-heptynyl group, 3-heptynyl group, 4-heptynyl group, 5-heptynyl group, 6-heptynyl group, 1,3-heptadiynyl group, 1,6-heptadiynyl group, 1,3,5-heptatriynyl group, 2, 4,6-heptatriynyl group, 3-methyl-1-hexynyl group, 4-methyl-1-hexynyl group, 5-methyl-1-hexynyl group, 1-methyl-2-hexynyl group, 4-methyl-2-hexynyl group Group, 5-methyl-2-hexynyl group, 1-methyl-3-hexynyl group, 2-methyl-3-hexynyl group, 5-methyl-3-hexynyl group, 1-methyl-4-hexynyl group, 2-methyl -4-hexynyl group, 3-methyl-4-hexynyl group, 1-methyl-5-hexynyl group, 2-methyl-5-hexynyl group, 3-methyl-5-hexynyl group, 4-methyl -5-hexynyl group, 3,3-dimethyl-1-pentynyl group, 4,4-dimethyl-1-pentynyl group, 3,4-dimethyl-1-pentynyl group, 3-ethyl-1-pentynyl group, 1, 1-dimethyl-2-pentynyl group, 4,4-dimethyl-2-pentynyl group, 1,4-dimethyl-2-pentynyl group, 1-ethyl-2-pentynyl group, 1,1-dimethyl-3-pentynyl group 2,2-dimethyl-3-pentynyl group, 1,2-dimethyl-3-pentynyl group, 1-ethyl-3-pentyl group, 2-ethyl-3-pentynyl group, 1,1-dimethyl-4-pentynyl Group, 2,2-dimethyl-4-pentynyl group, 3,3-dimethyl-4-pentynyl group, 1-ethyl-4-pentynyl group, 2-ethyl-4-pentynyl group, 3-ethyl-4-pentynyl group , 1- ( -Propyl) -1-methyl-2-propynyl group, 1- (isopropyl) -1-methyl-2-propynyl group, 1,1-diethyl-2-propynyl group, 1- (n-butyl) -2-propynyl Group, 1-octynyl group, 2-octynyl group, 3-octynyl group, 4-octynyl group, 5-octynyl group, 6-octynyl group, 7-octynyl group, 1,3-octadiynyl group, 1,7-octadiynyl group 1,3,5-octatriynyl group, 1,3,5,7-octatetrinyl group, 3-methyl-1-heptynyl group, 4-methyl-1-heptynyl group, 5-methyl-1- Heptynyl group, 6-methyl-1-heptynyl group, 1-methyl-2-heptynyl group, 4-methyl-2-heptynyl group, 5-methyl-2-heptynyl group, 6-methyl-2-heptynyl group, 1- Me Ru-3-heptynyl, 2-methyl-3-heptynyl, 5-methyl-3-heptynyl, 6-methyl-3-heptynyl, 1-methyl-4-heptynyl, 2-methyl-4-heptynyl Group, 3-methyl-4-heptynyl group, 6-methyl-4-heptynyl group, 1-methyl-5-heptynyl group, 2-methyl-5-heptynyl group, 3-methyl-5-heptynyl group, 4-methyl -5-heptynyl group, 1-methyl-6-heptynyl group, 2-methyl-6-heptynyl group, 3-methyl-6-heptynyl group, 4-methyl-6-heptynyl group, 5-methyl-6-heptynyl group 1-noninyl group, 2-noninyl group, 3-noninyl group, 4-noninyl group, 5-noninyl group, 6-noninyl group, 7-noninyl group, 8-noninyl group, 2,4-nonadiynyl group, 3- Methyl 1-octynyl group, 4-methyl-1-octynyl group, 5-methyl-1-octynyl group, 6-methyl-1-octynyl group, 7-methyl-1-octynyl group, 1-methyl-2-octynyl group, 4-methyl-2-octynyl group, 5-methyl-2-octynyl group, 6-methyl-2-octynyl group, 7-methyl-2-octynyl group, 1-methyl-3-octynyl group, 2-methyl-3 -Octynyl group, 5-methyl-3-octynyl group, 6-methyl-3-octynyl group, 7-methyl-3-octynyl group, 1-methyl-4-octynyl group, 2-methyl-4-octynyl group, 3 -Methyl-4-octynyl group, 6-methyl-4-octynyl group, 7-methyl-4-octynyl group, 1-methyl-5-octynyl group, 2-methyl-5-octynyl group, 3-methyl-5- Oh Tinyl group, 4-methyl-5-octynyl group, 7-methyl-5-octynyl group, 1-methyl-6-octynyl group, 2-methyl-6-octynyl group, 3-methyl-6-octynyl group, 4- Methyl-6-octynyl group, 5-methyl-6-octynyl group, 1-methyl-7-octynyl group, 2-methyl-7-octynyl group, 3-methyl-7-octynyl group, 4-methyl-7-octynyl Group, 5-methyl-7-octynyl group, 6-methyl-7-octynyl group, 1-decynyl group, 2-decynyl group, 3-decynyl group, 4-decynyl group, 5-decynyl group, 6-decynyl group, 7-decynyl group, 8-decynyl group, 9-decynyl group, 1,3-decadiynyl group, 1,7-decadiynyl group, 3-methyl-1-noninyl group, 4-methyl-1-noninyl group, 5-methyl -1- Ninyl group, 6-methyl-1-noninyl group, 7-methyl-1-noninyl group, 8-methyl-1-noninyl group, 1-methyl-2-noninyl group, 4-methyl-2-noninyl group, 5- Methyl-2-noninyl group, 6-methyl-2-noninyl group, 7-methyl-2-noninyl group, 8-methyl-2-noninyl group, 1-methyl-3-noninyl group, 2-methyl-3-noninyl group Group, 5-methyl-3-noninyl group, 6-methyl-3-noninyl group, 7-methyl-3-noninyl group, 8-methyl-3-noninyl group, 1-methyl-4-noninyl group, 2-methyl -4-noninyl group, 3-methyl-4-noninyl group, 6-methyl-4-noninyl group, 7-methyl-4-noninyl group, 8-methyl-4-noninyl group, 1-methyl-5-noninyl group 2-methyl-5-noninyl group, 3-methyl- 5-noninyl group, 4-methyl-5-noninyl group, 7-methyl-5-noninyl group, 8-methyl-5-noninyl group, 1-methyl-6-noninyl group, 2-methyl-6-noninyl group, 3-methyl-6-noninyl group, 4-methyl-6-noninyl group, 5-methyl-6-noninyl group, 8-methyl-6-noninyl group, 1-methyl-7-noninyl group, 2-methyl-7 -Nonynyl group, 3-methyl-7-noninyl group, 4-methyl-7-noninyl group, 5-methyl-7-noninyl group, 6-methyl-7-noninyl group, 1-methyl-8-noninyl group, 2 -Methyl-8-noninyl group, 3-methyl-8-noninyl group, 4-methyl-8-noninyl group, 5-methyl-8-noninyl group, 6-methyl-8-noninyl group, 7-methyl-8- Nonynyl group etc. can be mentioned, but it is not limited to these Not intended to be.

好ましいＣ２〜Ｃ１０アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１，３−ブタジイニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１，３−ペンタジイニル基、３−メチル−１−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ブチニル基、１−エチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、１，３−ヘキサジイニル基、２，４−ヘキサジイニル基、３，５−ヘキサジイニル基、１，３，５−ヘキサトリイニル基、３−メチル−１−ペンチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、１−メチル−２−ペンチニル基、４−メチル−２−ペンチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−４−ペンチニル基、２−メチル−４−ペンチニル基、３−メチル−４−ペンチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１−エチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−３−ブチニル基、２，２−ジメチル−３−ブチニル基、１，２−ジメチル−３−ブチニル基、１−エチル−３−ブチニル基、２−エチル−３−ブチニル基、１−（ｎ−プロピル）−２−プロピニル基、１−（イソプロピル）−２−プロピニル基、１−エチル−１−メチル−２−プロピニル基、１−ヘプチニル基、２−ヘプチニル基、３−ヘプチニル基、４−ヘプチニル基、５−ヘプチニル基、６−ヘプチニル基、１，３−ヘプタジイニル基、１，６−ヘプタジイニル基、１，３，５−ヘプタトリイニル基、２，４，６−ヘプタトリイニル基、１−オクチニル基、２−オクチニル基、３−オクチニル基、４−オクチニル基、５−オクチニル基、６−オクチニル基、７−オクチニル基、１，３−オクタジイニル基、１，７−オクタジイニル基、１，３，５−オクタトリイニル基、１，３，５，７−オクタテトライニル基、１−ノニニル基、２−ノニニル基、３−ノニニル基、４−ノニニル基、５−ノニニル基、６−ノニニル基、７−ノニニル基、８−ノニニル基、２，４−ノナジイニル基、１−デシニル基、２−デシニル基、３−デシニル基、４−デシニル基、５−デシニル基、６−デシニル基、７−デシニル基、８−デシニル基、９−デシニル基、１，３−デカジイニル基、１，７−デカジイニル基である。これらのうち、より好ましくはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、１−ヘプチニル基、２−ヘプチニル基、３−ヘプチニル基、４−ヘプチニル基、５−ヘプチニル基、６−ヘプチニル基、１−オクチニル基、２−オクチニル基、３−オクチニル基、４−オクチニル基、５−オクチニル基、６−オクチニル基、７−オクチニル基、１−ノニニル基、２−ノニニル基、３−ノニニル基、４−ノニニル基、５−ノニニル基、６−ノニニル基、７−ノニニル基、８−ノニニル基、１−デシニル基、２−デシニル基、３−デシニル基、４−デシニル基、５−デシニル基、６−デシニル基、７−デシニル基、８−デシニル基、９−デシニル基等が挙げられる。Preferred examples of the C 2 -C 10 alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1,3-butadiynyl group, 1- Methyl-2-propynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1,3-pentadiynyl group, 3-methyl-1-butynyl group, 1-methyl-2-butynyl group Group, 1-methyl-3-butynyl group, 2-methyl-3-butynyl group, 1-ethyl-2-propynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group, 1,3-hexadiynyl group, 2,4-hexadiynyl group, 3,5-hexadiynyl group, 1,3,5-hexato Inyl group, 3-methyl-1-pentynyl group, 4-methyl-1-pentynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 4-methyl-2-pentynyl group, 1-methyl-3-pentynyl group, 2- Methyl-3-pentynyl group, 1-methyl-4-pentynyl group, 2-methyl-4-pentynyl group, 3-methyl-4-pentynyl group, 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 1,1-dimethyl 2-butynyl group, 1-ethyl-2-butynyl group, 1,1-dimethyl-3-butynyl group, 2,2-dimethyl-3-butynyl group, 1,2-dimethyl-3-butynyl group, 1- Ethyl-3-butynyl group, 2-ethyl-3-butynyl group, 1- (n-propyl) -2-propynyl group, 1- (isopropyl) -2-propynyl group, 1-ethyl-1-methyl-2- Propynyl group, 1-hept Nyl group, 2-heptynyl group, 3-heptynyl group, 4-heptynyl group, 5-heptynyl group, 6-heptynyl group, 1,3-heptadiynyl group, 1,6-heptadiynyl group, 1,3,5-heptatriinyl group 2,4,6-heptatriynyl group, 1-octynyl group, 2-octynyl group, 3-octynyl group, 4-octynyl group, 5-octynyl group, 6-octynyl group, 7-octynyl group, 1,3-octadiynyl Group, 1,7-octadiynyl group, 1,3,5-octatriynyl group, 1,3,5,7-octatetrinyl group, 1-noninyl group, 2-noninyl group, 3-noninyl group, 4 -Noninyl group, 5-noninyl group, 6-noninyl group, 7-noninyl group, 8-noninyl group, 2,4-nonadiynyl group, 1-decynyl group, 2-decynyl group, 3-decynyl group, 4- A decynyl group, a 5-decynyl group, a 6-decynyl group, a 7-decynyl group, an 8-decynyl group, a 9-decynyl group, a 1,3-decadiynyl group, and a 1,7-decadiynyl group. Of these, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group, 1-heptynyl group, 2-heptynyl group, 3-heptynyl group, 4-heptynyl group, 5-heptynyl group, 6-heptynyl group, 1-octynyl group, 2-octynyl group, 3-octynyl group, 4-octynyl group, 5-octynyl group, 6-octynyl group, 7-octynyl group, 1-nonynyl group, 2-noninyl group, 3-noninyl group, 4-noninyl group, 5-noninyl group, 6-noninyl group, 7-noninyl group, 8-noninyl group, 1-decynyl group, 2 Decynyl group, 3-decynyl group, 4-decynyl group, a 5-decynyl group, 6-decynyl group, 7-decynyl group, 8-decynyl group, 9-decynyl group, and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルキル基とは、炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｃ１〜Ｃ４アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を挙げることができる。The C 1 -C 4 alkyl group, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The C 1 -C 4 alkyl group, for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, an isobutyl group, a tert- butyl group.

好ましいＣ１〜Ｃ４アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。Preferable C 1 -C 4 alkyl groups include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基とは、炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を示す。Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができる。The C 1 -C 4 alkoxy group, a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. The C 1 -C 4 alkoxy groups include, for example, methoxy, ethoxy, n- propoxy, isopropoxy, n- butoxy group, sec- butoxy group, isobutoxy group, etc. t- butoxy .

好ましいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, n- propoxy group, isopropoxy group and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基とは、アルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜４の（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−基を示す。Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基（アセチル基）、エチルカルボニル基（プロピオニル基）、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基（ピバロイル基）等を挙げることができる。The C 1 -C 4 alkylcarbonyl group means an (alkyl) -C (═O) — group having 1 to 4 carbon atoms, in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning. The C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, e.g., methylcarbonyl group (an acetyl group), an ethylcarbonyl group (propionyl group), n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group , Isobutylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group (pivaloyl group) and the like.

好ましいＣ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基（アセチル基）、エチルカルボニル基（プロピオニル基）、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基（ピバロイル基）等が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, e.g., methylcarbonyl group (an acetyl group), an ethylcarbonyl group (propionyl group), n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, t- butyl carbonyl Group (pivaloyl group) and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基とは、アルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜４の（アルコキシ）−Ｃ（＝Ｏ）−基を示す。Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。The C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group represents an (alkoxy) -C (═O) — group having 1 to 4 carbon atoms in which the alkoxy moiety has the above-mentioned meaning. The C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n- propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n- butoxycarbonyl group, sec- butoxycarbonyl group, isobutoxycarbonyl group, t -Butoxycarbonyl group etc. can be mentioned.

好ましいＣ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。Preferable C 1 -C 4 alkoxycarbonyl groups include, for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基とは、アルキルカルボニル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜４の（アルキルカルボニル）−Ｏ−基を示す。Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、メチルカルボニルオキシ基（アセトキシ基）、エチルカルボニルオキシ基（プロピオニルオキシ基）、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基（ピバロイルオキシ基）等を挙げることができる。The C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group means an (alkylcarbonyl) -O— group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the alkylcarbonyl moiety has the above-mentioned meaning. The C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, e.g., methyl carbonyloxy group (an acetoxy group), an ethylcarbonyl group (propionyloxy group), n- propyl carbonyloxy group, isopropyl carbonyloxy group, n- butyl carbonyloxy Group, sec-butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group (pivaloyloxy group) and the like.

好ましいＣ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、メチルカルボニルオキシ基（アセトキシ基）、エチルカルボニルオキシ基（プロピオニルオキシ基）、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基（ピバロイルオキシ基）等が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, e.g., methyl carbonyloxy group (an acetoxy group), an ethylcarbonyl group (propionyloxy group), n- propyl carbonyloxy group, isopropyl carbonyloxy group, n- butylcarbonyl Examples thereof include an oxy group and a t-butylcarbonyloxy group (pivaloyloxy group).

Ｃ６〜Ｃ１０アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。Examples of the C 6 to C 10 aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

Ｃ６〜Ｃ１０アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等が挙げられる。Examples of the C 6 -C 10 aryloxy group include a phenoxy group, a 1-naphthoxy group, a 2-naphthoxy group, and the like.

Ｃ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基とは、アリール部分及びアルコキシ部分が前記の意味を有する、炭素数が６〜１０のアリール基により置換された炭素数が１〜４のアルコキシ基を示す。Ｃ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、１−フェニルエトキシ基、２−フェニルエトキシ基、３−フェニルプロポキシ基、４−フェニルブトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。The C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group has 1 to 4 carbon atoms substituted by an aryl group having 6 to 10 carbon atoms in which the aryl moiety and the alkoxy moiety have the above-mentioned meanings. An alkoxy group is shown. Examples of the C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group include a benzyloxy group, a 1-phenylethoxy group, a 2-phenylethoxy group, a 3-phenylpropoxy group, and a 4-phenylbutoxy group. However, it is not limited to these.

好ましいＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、２−フェニルエトキシ基等が挙げられる。Preferable examples of the C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group include a benzyloxy group and a 2-phenylethoxy group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基とは、同一又は異なる１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。The C 1 -C 4 haloalkyl group represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which is substituted with the same or different 1 to 9 halogen atoms.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、２−クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１−クロロ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、２，３−ジクロロ−１，１，２，３，３−ペンタフルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，３−トリフルオロ−１−メチルプロピル基、３，３，３−トリフルオロ−２−メチルプロピル基、４−クロロ−４，４−ジフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−メチル−１−トリフルオロメチルエチル基、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブチル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブチル基、４−クロロ−１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。Examples of the C 1 -C 4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and 2,2,2- Trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 2-chloro-1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, 1-chloro-1,2,2, 2-tetrafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl Group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, heptafluoropropyl group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethyl Ethyl group, 2,3-dichloro-1,1,2,3,3-pentafluoropropyl group, 4-fluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 3,3,3-trifluoro- 1-methylpropyl group, 3,3,3-trifluoro-2-methylpropyl group, 4-chloro-4,4-difluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl group, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl group, 2,2,2-trifluoro-1-methyl-1-trifluoromethylethyl group, 3,3,3-trifluoro-2-tri Fluoromethylpropyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 2,3,3,3-tetrafluoro-2-trifluoromethylpropyl group, 1,1,2, 2,3,3,4,4-octafluorobutyl group 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutyl group, 4-chloro-1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, etc. However, it is not limited to these.

好ましいＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、４−フルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−メチル−１−トリフルオロメチルエチル基、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブチル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブチル基等が挙げられる。Preferred examples of the C 1 -C 4 haloalkyl group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group. 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2 , 2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, heptafluoropropyl group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-tri Fluoromethylethyl group, 4-fluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl group, 2,2 2-trifluoro-1-methyl-1-trifluoromethylethyl group, 3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropyl group, 2,2,3,3,4,4,4-hepta Fluorobutyl group, 2,3,3,3-tetrafluoro-2-trifluoromethylpropyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, 1,1,2, Examples include 2,3,3,4,4,4-nonafluorobutyl group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が前記の意味を有する、同一又は異なる１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状の（アルキル）−Ｏ−基を示す。The C 1 -C 4 haloalkoxy group is a linear or branched (alkyl having 1 to 4 carbon atoms substituted with 1 to 9 halogen atoms having the same or different haloalkyl moieties as defined above. ) —O— group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基としては、例えば、ジフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、３−フルオロプロポキシ基、３，３−ジフルオロプロポキシ基、３，３，３−トリフルオロプロポキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロ−２−プロポキシ基、４−フルオロブトキシ基、４，４，４−トリフルオロブトキシ基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブトキシ基、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロポキシ基、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブトキシ基、２，３，３，３−テトラフルオロ−２−トリフルオロメチルプロポキシ基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブトキシ基、ノナフルオロブトキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。Examples of the C 1 -C 4 haloalkoxy group include a difluoromethoxy group, a chlorodifluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2-fluoroethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group. Group, pentafluoroethoxy group, 3-fluoropropoxy group, 3,3-difluoropropoxy group, 3,3,3-trifluoropropoxy group, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy group, 2,2,3 , 3,3-pentafluoropropoxy group, heptafluoropropoxy group, heptafluoro-2-propoxy group, 4-fluorobutoxy group, 4,4,4-trifluorobutoxy group, 2,2,3,3,4 4-hexafluorobutoxy group, 3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropoxy group, 2,2, , 3,4,4,4-Heptafluorobutoxy group, 2,3,3,3-tetrafluoro-2-trifluoromethylpropoxy group, 1,1,2,2,3,3,4,4- An octafluorobutoxy group, a nonafluorobutoxy group, etc. can be mentioned, but it is not limited to these.

好ましいＣ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基としては、例えば、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロ−２−プロポキシ基、４−フルオロブトキシ基、４，４，４−トリフルオロブトキシ基、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロポキシ基、２，２，３，３，４，４，４−へプタフルオロブトキシ基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブトキシ基、ノナフルオロブトキシ基等が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 haloalkoxy groups, for example, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 3,3,3-trifluoro propoxy group, Heptafluoropropoxy group, heptafluoro-2-propoxy group, 4-fluorobutoxy group, 4,4,4-trifluorobutoxy group, 3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropoxy group, 2,2 3,3,4,4,4-heptafluorobutoxy group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutoxy group, nonafluorobutoxy group and the like.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部分が前記の意味を有する、同一又は異なる１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状の（アルキル）−Ｓ−基を示す。Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基としては、例えば、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２−フルオロエチルチオ基、２，２−ジフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、３−フルオロプロピルチオ基、３，３−ジフルオロプロピルチオ基、３，３，３−トリフルオロプロピルチオ基、４−フルオロブチルチオ基、４，４−ジフルオロブチルチオ基、４，４，４−トリフルオロブチルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。The C 1 -C 4 haloalkylthio group is a linear or branched (alkyl having 1 to 4 carbon atoms substituted by 1 to 9 halogen atoms having the same or different meanings as described above, ) -S-group. Examples of the C 1 -C 4 haloalkylthio group include a fluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, a trifluoromethylthio group, a 2-fluoroethylthio group, a 2,2-difluoroethylthio group, and a 2,2,2-trifluoro group. Ethylthio group, 3-fluoropropylthio group, 3,3-difluoropropylthio group, 3,3,3-trifluoropropylthio group, 4-fluorobutylthio group, 4,4-difluorobutylthio group, 4, Examples include 4,4-trifluorobutylthio group, but are not limited thereto.

好ましいＣ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基としては、例えば、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２−ジフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、３，３，３−トリフルオロプロピルチオ基等が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 haloalkylthio group, for example, trifluoromethylthio group, difluoromethylthio group, trifluoromethylthio group, 2,2-difluoroethylthio group, a 2,2,2-trifluoroethyl thio group, 3, Examples include 3,3-trifluoropropylthio group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基とは、ハロアルキル部分が前記の意味を有する、同一又は異なる１〜９個のハロゲン原子で置換された炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状の（アルキル）−ＳＯ−基を示す。The C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group is a linear or branched (alkyl having 1 to 4 carbon atoms substituted with the same or different 1 to 9 halogen atoms, the haloalkyl moiety having the above-mentioned meaning. ) —SO— group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基としては、例えば、フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、２−フルオロエチルスルフィニル基、２，２−ジフルオロエチルスルフィニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル基、３−フルオロプロピルスルフィニル基、３，３−ジフルオロプロピルスルフィニル基、３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル基、４−フルオロブチルスルフィニル基、４，４−ジフルオロブチルスルフィニル基、４，４，４−トリフルオロブチルスルフィニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。Examples of the C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group include a fluoromethylsulfinyl group, a difluoromethylsulfinyl group, a trifluoromethylsulfinyl group, a 2-fluoroethylsulfinyl group, a 2,2-difluoroethylsulfinyl group, 2,2,2 -Trifluoroethylsulfinyl group, 3-fluoropropylsulfinyl group, 3,3-difluoropropylsulfinyl group, 3,3,3-trifluoropropylsulfinyl group, 4-fluorobutylsulfinyl group, 4,4-difluorobutylsulfinyl group 4,4,4-trifluorobutylsulfinyl group and the like, but are not limited thereto.

好ましいＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基としては、例えば、フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、２，２−ジフルオロエチルスルフィニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル基、３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル基等が挙げられる。Preferred examples of the C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group include a fluoromethylsulfinyl group, a difluoromethylsulfinyl group, a trifluoromethylsulfinyl group, a 2,2-difluoroethylsulfinyl group, and a 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl group. 3,3,3-trifluoropropylsulfinyl group and the like.

Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキル部分が前記の意味を有する、炭素数が１〜４の（アルキル）−ＳＯ２−Ｏ−基を示す。The C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group refers to an (alkyl) -SO 2 —O— group having 1 to 4 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning.

Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、ｎ−プロパンスルホニルオキシ基、ｎ−ブタンスルホニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。Examples of the C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group include, but are not limited to, a methanesulfonyloxy group, an ethanesulfonyloxy group, an n-propanesulfonyloxy group, an n-butanesulfonyloxy group, and the like. It is not a thing.

好ましいＣ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。Preferred C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, for example, methanesulfonyloxy group.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）−ＳＯ２−Ｏ−基を示す。The C 1 -C 4 haloalkylsulfonyloxy group refers to a (haloalkyl) -SO 2 —O— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl moiety is as defined above.

Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニルオキシ基、３，３，３−トリフルオロプロパンスルホニルオキシ基、４，４，４−トリフルオロブタンスルホニルオキシ基、ノナフルオロブタンスルホニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。Examples of the C 1 -C 4 haloalkylsulfonyloxy group include a trifluoromethanesulfonyloxy group, a 2,2,2-trifluoroethanesulfonyloxy group, a 3,3,3-trifluoropropanesulfonyloxy group, 4,4, Examples thereof include, but are not limited to, 4-trifluorobutanesulfonyloxy group and nonafluorobutanesulfonyloxy group.

好ましいＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ノナフルオロブタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。Preferred examples of the C 1 -C 4 haloalkylsulfonyloxy group include a trifluoromethanesulfonyloxy group and a nonafluorobutanesulfonyloxy group.

Ｃ６〜Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基とは、Ｃ６〜Ｃ１０アリール部分が上記の意味である炭素数が６〜１０の（アリール）−ＳＯ２−Ｏ−基を示す。The C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group refers to an (aryl) -SO 2 —O— group having 6 to 10 carbon atoms in which the C 6 -C 10 aryl moiety has the above meaning.

Ｃ６〜Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基としては、例えば、フェニルスルホニルオキシ基が挙げられる。The C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group, e.g., phenyl sulfonyloxy group.

２．本発明のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法
本発明は、一般式（２）で表されるアルキル化合物を原料化合物とし、この原料化合物とフッ素化合物とを混合した原料混合物にチオホスゲンを添加して原料化合物のＬ基をトリフルオロチオメチル化反応により反応させることで、トリフルオロメチルチオアルキル化合物を製造する方法である。以下、本発明で使用する化合物や反応条件等について詳細に説明する。2. Process for Producing Trifluoromethylthioalkyl Compound of the Present Invention The present invention uses an alkyl compound represented by the general formula (2) as a raw material compound, and adds thiophosgene to a raw material mixture obtained by mixing this raw material compound and a fluorine compound. This is a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound by reacting the L group of the compound by a trifluorothiomethylation reaction. Hereinafter, the compounds and reaction conditions used in the present invention will be described in detail.

（原料化合物）
本発明において使用される原料は、
一般式（２）：

Figure 0006236545
（式中、Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示し、
Ｌは、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有していても良いＣ６〜Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基を示す。）で表されるアルキル化合物であり、従来技術において用いられている反応性の高いアルキル化合物ではなく、反応性の低いアルキル化合物である。(Raw compound)
The raw materials used in the present invention are:
General formula (2):
Figure 0006236545
 (Wherein, R, optionally substituted C 1 -C 10 alkyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkenyl group, C 2 may be substituted by R1 ~ C 10 alkynyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, one or more identical or different may be substituted by R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more of which may be substituted by the same or different R2 C 6 -C 10 aryloxy group, or one or more identical or different R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by
R1 is, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, 1 or 2 pieces or more of the same or different may be substituted with R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more identical or different good C 6 -C 10 aryloxy group or one or two optionally substituted by R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by the same or different R 2,
R2 is hydrogen atom, halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy groups, C 1 -C 4 haloalkylthio group or C 1 -C 4 shows a haloalkylsulfinyl group,
L represents a halogen atom, C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group or which may have a substituent C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group. It is an alkyl compound with a low reactivity, not an alkyl compound with high reactivity used in the prior art.

反応性の高いアルキル化合物とは、例えば、ベンジル位、カルボニル炭素のアルファ位、アリル位又はプロパルギル位等にハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基等の脱離基を有しているアルキル化合物を示す。ベンジル位に脱離基を有するアルキル化合物とは、具体的には上記特許文献２及び３で使用される原料化合物であり、加熱しない条件下でも速やかにトリフルオロメチルチオ化反応が進行する。   The highly reactive alkyl compound is, for example, an alkyl having a leaving group such as a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group, or an arylsulfonyloxy group at the benzyl position, the alpha position, the allyl position, or the propargyl position of the carbonyl carbon. Compounds are shown. Specifically, the alkyl compound having a leaving group at the benzyl position is a raw material compound used in Patent Documents 2 and 3 described above, and the trifluoromethylthiolation reaction proceeds promptly even under non-heating conditions.

アリル位、プロパルギル位に脱離基を有しているアルキル化合物についても、上記特許文献２の反応条件を適用したところ、室温にて速やかに反応が進行し、高収率で目的化合物が得られた（後述する参考例１，２）。したがって、本明細書中においては、アリル位、プロパルギル位に脱離基を有しているアルキル化合物も反応性の高いアルキル化合物群に含まれる。   As for the alkyl compound having a leaving group at the allylic position or the propargyl position, when the reaction conditions of Patent Document 2 are applied, the reaction proceeds rapidly at room temperature, and the target compound is obtained in a high yield. (Reference examples 1 and 2 described later). Therefore, in the present specification, alkyl compounds having a leaving group at the allyl position or the propargyl position are also included in the highly reactive alkyl compound group.

反応性の低いアルキル化合物とは、上記反応性の高いアルキル化合物を含まない化合物群を意味する。また、反応性の低いアルキル化合物の側鎖及び主鎖にアルケン、アルキンを含んでいても、一般式（２）を指して広義の意味で反応性の低いアルキル化合物と呼ぶことがある。   A low-reactivity alkyl compound means a group of compounds that do not contain the high-reactivity alkyl compound. In addition, even if an alkene or alkyne is contained in the side chain and main chain of an alkyl compound having low reactivity, the general formula (2) may be referred to as an alkyl compound having low reactivity in a broad sense.

前記一般式（２）のアルキル化合物としては、具体的に例えば、（２−ブロモエチル）ベンゼン、ベンジル＝２−ブロモエチル＝エーテル、１−クロロプロパン、１−ブロモプロパン、１−ヨードプロパン、１−ブロモブタン、４−ブロモ−１−ブテン、４−ヨード−１−ブチン、１−ブロモ−５−メトキシペンタン、５−ブロモペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル、５−ブロモペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル、酢酸５−ブロモペンチル、６−ブロモヘキサン酸エチル、１−クロロヘキサン、１−ブロモヘキサン、１−ヨードヘキサン、酢酸６−ブロモヘキシル、６−ブロモヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル、６−ブロモヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル、１−ブロモヘプタン、１−ブロモ−３−ヘプテン、１−ブロモ−３−ヘプチン、１−ヨードオクタン、メタンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、１−ブロモ−３−オクチン、１−ブロモノナン、１−ブロモ−４−ノネン、１−ヨード−４−ノニン、１−ブロモデカン、１０−ブロモ−４−デセン、１０−ヨード−４−デシン、１−ブロモウンデカン、１１−ブロモ−５−ウンデセン、１１−ヨード−５−ウンデシン、１１−ブロモ−１−ウンデセン、１−ブロモドデカン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the alkyl compound represented by the general formula (2) include (2-bromoethyl) benzene, benzyl = 2-bromoethyl = ether, 1-chloropropane, 1-bromopropane, 1-iodopropane, 1-bromobutane, 4-bromo-1-butene, 4-iodo-1-butyne, 1-bromo-5-methoxypentane, 5-bromopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethyl) Thio) phenyl ether, 5-bromopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl ether, 5-bromopentyl acetate, ethyl 6-bromohexanoate, 1-chlorohexane, 1-bromohexane, 1-iodohexane, 6-bromohexyl acetate, 6-bromohexyl = , 4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether, 6-bromohexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl = Ether, 1-bromoheptane, 1-bromo-3-heptene, 1-bromo-3-heptine, 1-iodooctane, octyl methanesulfonate, octyl p-toluenesulfonate, 1-bromo-3-octyne, 1- Bromononane, 1-bromo-4-nonene, 1-iodo-4-nonine, 1-bromodecane, 10-bromo-4-decene, 10-iodo-4-decyne, 1-bromoundecane, 11-bromo-5-undecene , 11-iodo-5-undecyne, 11-bromo-1-undecene, 1-bromododecane and the like, but are not limited thereto. Not to.

（フッ素化合物）
本発明で使用されるフッ素化合物としては、例えば、フッ化テトラアルキルアンモニウム塩類；フッ化アルカリ金属塩類；フッ化アルカリ土類金属類；及びそれらの混合物を挙げることができる。これらのうち、より好ましくはフッ化テトラアルキルアンモニウム塩類；フッ化アルカリ金属塩類；及びそれらの混合物が挙げられる。(Fluorine compound)
Examples of the fluorine compound used in the present invention include tetraalkylammonium fluoride salts; alkali metal fluoride salts; alkaline earth metal fluorides; and mixtures thereof. Of these, tetraalkylammonium fluoride salts; alkali metal fluoride salts; and mixtures thereof are more preferable.

これらのフッ素化合物の具体例としては、好ましくはフッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム及びいかなる割合のそれらのいかなる混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。より好ましいフッ素化合物の具体例としては、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、及びいかなる割合のそれらのいかなる混合物が挙げられる。更に好ましいフッ素化合物の具体例としては、フッ化カリウムが挙げられる。当該フッ素化合物の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよく、当業者が適宜に選択することができる。   Specific examples of these fluorine compounds are preferably tetramethylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, magnesium fluoride, calcium fluoride and any proportion of any of them. Although a mixture is mentioned, it is not limited to these. Specific examples of more preferred fluorine compounds include tetramethylammonium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, and any mixture thereof in any proportion. More specific examples of the fluorine compound include potassium fluoride. The form of the fluorine compound may be any form as long as the reaction proceeds, and can be appropriately selected by those skilled in the art.

（フッ化カリウム）
本発明で使用されるフッ化カリウムの形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよく、当業者が適宜に選択することができる。フッ化カリウムは通常に市販されているフッ化カリウムを直接用いることができ、溶媒に均一に溶解した状態、あるいは一部が溶解した状態でも使用可能である。当該フッ化カリウムには、反応有機溶媒への溶解、分散性の面から微粉体で比表面積が大きいスプレードライ製法によるフッ化カリウムが含まれる。(Potassium fluoride)
The form of potassium fluoride used in the present invention may be any form as long as the reaction proceeds, and can be appropriately selected by those skilled in the art. As potassium fluoride, commercially available potassium fluoride can be used directly, and it can be used evenly dissolved in a solvent or partially dissolved. The potassium fluoride includes potassium fluoride produced by a spray-drying method with a fine powder and a large specific surface area in terms of dissolution and dispersibility in a reaction organic solvent.

（フッ素化合物の使用量）
本発明におけるフッ素化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよく、当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、フッ素化合物の使用量は、一般式（２）で表されるアルキル化合物１．０モルに対して３．０モル以上の範囲、好ましくは３．０モル以上１５．０モル以下の範囲、より好ましくは３．０モル以上１２．０モル以下の範囲、更に好ましくは４．０モル以上９．０モル以下の範囲を例示できる。(Amount of fluorine compound used)
The amount of the fluorine compound used in the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds, and can be appropriately adjusted by those skilled in the art. From the viewpoint of yield, by-product suppression, economic efficiency, etc., the amount of fluorine compound used is preferably in the range of 3.0 mol or more, preferably 1.0 mol relative to 1.0 mol of the alkyl compound represented by the general formula (2). A range of 3.0 mol to 15.0 mol, more preferably a range of 3.0 mol to 12.0 mol, and still more preferably a range of 4.0 mol to 9.0 mol.

（チオホスゲンの使用量）
本発明におけるチオホスゲンの使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよく、当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、チオホスゲンの使用量は、一般式（２）で表されるアルキル化合物１．０モルに対して０．９モル以上５．０モル以下の範囲、好ましくは１．０モル以上３．０モル以下の範囲、より好ましくは１．０モル以上２．０モル以下の範囲を例示できる。(Amount of thiophosgene used)
The amount of thiophosgene used in the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds, and can be appropriately adjusted by those skilled in the art. From the viewpoints of yield, by-product suppression and economic efficiency, the amount of thiophosgene used is 0.9 mol or more and 5.0 mol or less with respect to 1.0 mol of the alkyl compound represented by the general formula (2). A range, preferably a range of 1.0 mol or more and 3.0 mol or less, more preferably a range of 1.0 mol or more and 2.0 mol or less can be exemplified.

（溶媒）
本発明は、好ましくは溶媒を使用して行われる。本発明において使用される溶媒としては、例えば、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）；エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等）；ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等）；芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン等）；アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）；イミダゾリノン類（例えば、１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン（ＤＭＩ）等）；スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）；及びいかなる割合のそれらの混合溶媒が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これら溶媒の好ましい例としては、アセトニトリルを挙げることができる。
本発明で使用されるアセトニトリルは、脱水されていることが好ましいが、脱水方法は当業者が適宜に調整することができる。(solvent)
The present invention is preferably carried out using a solvent. Examples of the solvent used in the present invention include nitriles (eg, acetonitrile); ethers (eg, diethyl ether, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), tetrahydrofuran (THF), dioxane, monoglyme, diglyme, etc. Halogenated hydrocarbons (eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, tetrachloroethane, etc.); aromatic hydrocarbons (eg, benzene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, toluene, xylene, etc.); amides (eg, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP), etc.); imidazolinones (for example, 1,3-dimethyl-2-imidazolinone) DMI), etc.); sulfoxides (e.g., dimethyl sulfoxide (DMSO), etc.); and although a mixed solvent thereof in any proportion are exemplified, but the invention is not limited thereto. A preferred example of these solvents is acetonitrile.
The acetonitrile used in the present invention is preferably dehydrated, but a person skilled in the art can appropriately adjust the dehydration method.

（溶媒の使用量）
本発明における溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。本発明における溶媒の使用量は、当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、溶媒の使用量としては、例えば、一般式（２）の化合物１．０モルに対して、０．０１〜５０Ｌ（リットル）であり、好ましくは０．１〜１５Ｌであり、より好ましくは０．１〜１０Ｌである。(Amount of solvent used)
The amount of the solvent used in the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds. The amount of the solvent used in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art. From the viewpoint of yield, byproduct suppression, economic efficiency, etc., the amount of the solvent used is, for example, 0.01 to 50 L (liter) with respect to 1.0 mol of the compound of the general formula (2), Preferably it is 0.1-15L, More preferably, it is 0.1-10L.

（反応温度）
本発明におけるトリフルオロチオメチル化反応の反応温度は、当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応温度としては、通常は５０℃以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲内であり、好ましくは５０℃以上１１０℃以下の範囲、より好ましくは６０℃以上１００℃以下の範囲、更に好ましくは７０℃以上９０℃以下の範囲を例示できる。(Reaction temperature)
The reaction temperature of the trifluorothiomethylation reaction in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art. From the viewpoints of yield, byproduct suppression, economic efficiency, etc., the reaction temperature is usually within the range of 50 ° C. or higher and the boiling point of the solvent used, preferably 50 ° C. or higher and 110 ° C. or lower. More preferably, the range of 60 degreeC or more and 100 degrees C or less can be illustrated, More preferably, the range of 70 degreeC or more and 90 degrees C or less can be illustrated.

（反応時間）
本発明におけるトリフルオロチオメチル化反応の反応時間は、特に制限されない。本発明における反応時間は、当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応時間として、通常は０．５時間〜４８時間、好ましくは１時間〜３６時間、より好ましくは１時間〜２４時間の範囲を例示できる。ここで、「反応時間」とは、全量のチオホスゲンを添加した直後から反応を終了するまでの時間を意味する。本発明における反応時間は、未反応の原料が消費されるための熟成期間のことであり、チオホスゲンの添加時間とは区別される。(Reaction time)
The reaction time of the trifluorothiomethylation reaction in the present invention is not particularly limited. The reaction time in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art. From the viewpoint of yield, by-product suppression, economic efficiency, etc., the reaction time is usually 0.5 hours to 48 hours, preferably 1 hour to 36 hours, more preferably 1 hour to 24 hours. . Here, “reaction time” means the time from immediately after the addition of the entire amount of thiophosgene to the end of the reaction. The reaction time in the present invention is an aging period for consuming unreacted raw materials, and is distinguished from the addition time of thiophosgene.

（生成物）
本発明により製造される生成物は、
一般式（１）：

Figure 0006236545
（式中、Ｒは上記一般式（２）で定義した通りである。）
で表されるトリフルオロメチルチオアルキル化合物である。(Product)
The product produced according to the invention is
General formula (1):
Figure 0006236545
 (In the formula, R is as defined in the general formula (2).)
The trifluoromethylthioalkyl compound represented by these.

前記一般式（１）のトリフルオロメチルチオアルキル化合物としては、具体的に例えば、［２−（トリフルオロメチルチオ）エチル］ベンゼン、ベンジル＝２−（トリフルオロメチルチオ）エチル＝エーテル、１−トリフルオロメチルチオプロパン、１−トリフルオロメチルチオブタン、４−トリフルオロメチルチオ−１−ブテン、４−トリフルオロメチルチオ−１−ブチン、５−トリフルオロメチルチオペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル、５−トリフルオロメチルチオペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル、６−トリフルオロメチルチオヘキサン酸エチル、酢酸５−（トリフルオロメチルチオ）ペンチル、１−メトキシ−５−トリフルオロメチルチオペンタン、１−トリフルオロメチルチオヘキサン、酢酸６−トリフルオロメチルチオヘキシル、６−トリフルオロメチルチオヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル、６−トリフルオロメチルチオヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル、１−トリフルオロメチルチオヘプタン、１−トリフルオロメチルチオ−３−ヘプテン、１−トリフルオロメチルチオ−３−ヘプチン、１−トリフルオロメチルチオオクタン、１−（トリフルオロメチルチオ）−３−オクチン、１−トリフルオロメチルチオノナン、１−トリフルオロメチルチオ−４−ノネン、１−トリフルオロメチルチオ−４−ノニン、１−トリフルオロメチルチオデカン、１０−トリフルオロメチルチオ−４−デセン、１０−トリフルオロメチルチオ−４−デシン、１−トリフルオロメチルチオウンデカン、１１−トリフルオロメチルチオ−５−ウンデセン、１１−トリフルオロメチルチオ−５−ウンデシン、１１−（トリフルオロメチルチオ）−１−ウンデセン、１−トリフルオロメチルチオドデカン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the trifluoromethylthioalkyl compound represented by the general formula (1) include [2- (trifluoromethylthio) ethyl] benzene, benzyl = 2 (trifluoromethylthio) ethyl = ether, 1-trifluoromethylthio. Propane, 1-trifluoromethylthiobutane, 4-trifluoromethylthio-1-butene, 4-trifluoromethylthio-1-butyne, 5-trifluoromethylthiopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2 , 2-trifluoroethylthio) phenyl = ether, 5-trifluoromethylthiopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl = ether, 6-trifluoromethylthio Ethyl hexanoate, acetic acid 5- (trifluoromethyl E) Pentyl, 1-methoxy-5-trifluoromethylthiopentane, 1-trifluoromethylthiohexane, 6-trifluoromethylthiohexyl acetate, 6-trifluoromethylthiohexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2, 2-trifluoroethylthio) phenyl = ether, 6-trifluoromethylthiohexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl = ether, 1-trifluoromethylthioheptane, 1 -Trifluoromethylthio-3-heptene, 1-trifluoromethylthio-3-heptine, 1-trifluoromethylthiooctane, 1- (trifluoromethylthio) -3-octyne, 1-trifluoromethylthiononane, 1-trifluoromethylthio -4-Nonene, 1-tri Fluoromethylthio-4-nonine, 1-trifluoromethylthiodecane, 10-trifluoromethylthio-4-decene, 10-trifluoromethylthio-4-decyne, 1-trifluoromethylthioundecane, 11-trifluoromethylthio-5- Examples include, but are not limited to, undecene, 11-trifluoromethylthio-5-undecine, 11- (trifluoromethylthio) -1-undecene, 1-trifluoromethylthiododecane, and the like.

３．チオホスゲンの添加条件
本発明は、一般式（２）の原料化合物とフッ素化合物とを含む原料混合物にチオホスゲンを４５℃以上の添加温度かつ０．２５時間以上の添加時間で添加することを特徴とする。以下、チオホスゲンの添加条件について詳細に説明する。3. Addition conditions of thiophosgene The present invention is characterized in that thiophosgene is added to a raw material mixture containing the raw material compound of general formula (2) and a fluorine compound at an addition temperature of 45 ° C. or more and an addition time of 0.25 hours or more. . Hereinafter, conditions for adding thiophosgene will be described in detail.

（添加方法）
原料混合物へのチオホスゲンの添加は、公知の方法で行うことができる。例えば、分液ロート、滴下ロート、ビュレット、シリンジ等を使用して反応系に滴下する方法などを挙げることができる。少量のチオホスゲンを時間かけて添加する場合は、シリンジとシリンジポンプを組み合わせて使用することが好ましい。大量のチオホスゲンを反応缶等に時間をかけて添加する場合は、定量ポンプ、滴下槽等を使用して反応系に滴下する方法などを挙げることができる。また、チオホスゲンの添加の際は、反応を進行させるためにスターラーなどで原料混合物を攪拌することが好ましい。(Addition method)
Addition of thiophosgene to the raw material mixture can be performed by a known method. For example, the method etc. which are dripped at a reaction system using a separating funnel, a dropping funnel, a burette, a syringe, etc. can be mentioned. When a small amount of thiophosgene is added over time, it is preferable to use a combination of a syringe and a syringe pump. In the case where a large amount of thiophosgene is added to a reaction can or the like over time, a method of dropping it into the reaction system using a metering pump, a dropping tank or the like can be mentioned. Moreover, when adding thiophosgene, in order to advance reaction, it is preferable to stir a raw material mixture with a stirrer.

（添加温度）
本発明におけるチオホスゲンの添加温度は、４５℃以上であれば当業者が適宜に調整することができる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、添加温度としては、通常は４５℃以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲内であり、好ましくは５０℃以上１１０℃以下の範囲、より好ましくは６０℃以上１００℃以下の範囲、更に好ましくは７０℃以上９０℃以下の範囲を例示できる。ここで、「添加温度」とは、チオホスゲンを添加した直後の反応系の温度を意味する。なお、原料混合物に対して一度に添加するチオホスゲンの量が相対的に少なければ、チオホスゲンの温度が反応系に与える影響が少ないと考えられるため、添加時の原料混合物の温度を添加温度とすることもできる。(Addition temperature)
The addition temperature of thiophosgene in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art if it is 45 ° C. or higher. From the viewpoints of yield, by-product suppression, economic efficiency, etc., the addition temperature is usually in the range of 45 ° C. or higher and the boiling point of the solvent used, preferably 50 ° C. or higher and 110 ° C. or lower. More preferably, the range of 60 degreeC or more and 100 degrees C or less can be illustrated, More preferably, the range of 70 degreeC or more and 90 degrees C or less can be illustrated. Here, “addition temperature” means the temperature of the reaction system immediately after the addition of thiophosgene. Note that if the amount of thiophosgene added to the raw material mixture at a time is relatively small, the temperature of the thiophosgene is considered to have little effect on the reaction system, so the temperature of the raw material mixture at the time of addition should be the addition temperature. You can also.

（添加時間）
本発明におけるチオホスゲンの添加時間は、０．２５時間（すなわち、１５分間）以上であれば当業者が適宜に調整することができる。特に収率向上の観点から、本発明における添加時間の下限として、好ましくは０．５時間以上、より好ましくは１．０時間以上、更に好ましくは２．０時間以上、特に好ましくは３．５時間以上を例示できる。加えて、特に副生成物抑制及び経済効率等の観点から、本発明における添加時間の上限として、好ましくは４８時間以下、より好ましくは３６時間以下、更に好ましくは２４時間以下、特に好ましくは１２時間以下を例示できる。本発明における添加時間の範囲は、上記の下限と上限を組み合わせて当業者が適宜に調整することができる。添加時間の上限と下限の組み合わせとしては、例えば、好ましくは０．５時間〜４８時間、より好ましくは１．０時間〜３６時間、更に好ましくは２．０時間〜２４時間、特に好ましくは３．５時間〜１２時間を例示できる。しかし、本発明はこれら組みあわせによって何ら限定されるものではない。ここで、「添加時間」とは、チオホスゲンを反応系に添加し始めてから、全量を反応系に添加し終わるまでの時間を意味する。(Addition time)
The addition time of thiophosgene in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art as long as it is 0.25 hours (that is, 15 minutes) or longer. In particular, from the viewpoint of yield improvement, the lower limit of the addition time in the present invention is preferably 0.5 hours or more, more preferably 1.0 hours or more, still more preferably 2.0 hours or more, and particularly preferably 3.5 hours. The above can be illustrated. In addition, particularly from the viewpoints of suppressing by-products and economic efficiency, the upper limit of the addition time in the present invention is preferably 48 hours or less, more preferably 36 hours or less, still more preferably 24 hours or less, and particularly preferably 12 hours. The following can be illustrated. The range of addition time in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art by combining the above lower limit and upper limit. The combination of the upper limit and the lower limit of the addition time is, for example, preferably 0.5 hours to 48 hours, more preferably 1.0 hours to 36 hours, still more preferably 2.0 hours to 24 hours, and particularly preferably 3. Examples are 5 hours to 12 hours. However, the present invention is not limited by these combinations. Here, the “addition time” means the time from the start of adding thiophosgene to the reaction system until the completion of the addition of the entire amount to the reaction system.

一般式（２）で表される化合物１モルに対するチオホスゲンの添加速度（以下、「モル添加速度」という）としては、通常１０モル／時間以下であることが好ましい。モル添加速度が１０モル／時間以下であると、目的物質の収率が高くなる傾向がある。モル添加速度は、５モル／時間以下であることが好ましく、２モル／時間以下であることがより好ましく、１モル／時間以下であることが更に好ましい。加えて、特に副生成物抑制及び経済効率等の観点から、本発明におけるモル添加速度の下限として、好ましくは０．０２８モル／時間以上、より好ましくは０．０４２モル／時間以上、更に好ましくは０．０８３モル／時間以上を例示できる。本発明におけるモル添加速度の範囲は、上記の上限と下限を組み合わせて当業者が適宜に調整することができる。モル添加速度の上限と下限の組み合わせとしては、例えば、好ましくは０．０２８〜５モル／時間、より好ましくは０．０４２〜２モル／時間、更に好ましくは０．０８３〜１モル／時間を例示できる。しかし、本発明はこれら組みあわせによって何ら限定されるものではない。なお、モル添加速度は以下の式で表される。
モル添加速度＝（添加開始から終了までのチオホスゲンの全添加量（ｍｏｌ）／添加時間（ｈ））／添加前の原料混合物中に含まれる一般式（２）のモル数（ｍｏｌ）The addition rate of thiophosgene per mole of the compound represented by the general formula (2) (hereinafter referred to as “mole addition rate”) is usually preferably 10 mol / hour or less. When the molar addition rate is 10 mol / hour or less, the yield of the target substance tends to increase. The molar addition rate is preferably 5 mol / hour or less, more preferably 2 mol / hour or less, and still more preferably 1 mol / hour or less. In addition, particularly from the viewpoint of suppression of by-products and economic efficiency, the lower limit of the molar addition rate in the present invention is preferably 0.028 mol / hour or more, more preferably 0.042 mol / hour or more, still more preferably An example is 0.083 mol / hour or more. The range of the molar addition rate in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art by combining the above upper limit and lower limit. Examples of the combination of the upper limit and the lower limit of the molar addition rate are preferably 0.028 to 5 mol / hour, more preferably 0.042 to 2 mol / hour, and further preferably 0.083 to 1 mol / hour. it can. However, the present invention is not limited by these combinations. The molar addition rate is represented by the following formula.
Mole addition rate = (total addition amount of thiophosgene from start to end of addition (mol) / addition time (h)) / number of moles of general formula (2) contained in the raw material mixture before addition (mol)

チオホスゲンの添加は、添加開始から終了までほぼ一定の速度で行うことが好ましいが、添加時間の間に添加速度に多少の変動があっても許容される。許容されるモル添加速度の変動幅としては、モル添加速度に対して−２０〜＋２０％の範囲内であり、−１０〜＋１０％の範囲内が好ましく、−５〜＋５％の範囲内がより好ましい。   The addition of thiophosgene is preferably performed at a substantially constant rate from the start to the end of the addition, but even a slight variation in the addition rate during the addition time is allowed. The allowable fluctuation range of the molar addition rate is within a range of -20 to + 20% with respect to the molar addition rate, preferably within a range of -10 to + 10%, and more preferably within a range of -5 to + 5%. preferable.

（添加温度と添加時間の組み合わせ）
本発明において目的物を高収率で得るためには、アルキル化合物とフッ素化合物の存在下、加熱しながらチオホスゲンをゆっくりと添加することが重要である。本発明者が詳細に条件検討を行ったところ、好ましい添加時間は、添加温度により影響を受けることが明らかとなった。以下、実施例及び参考例について詳細に説明する。(Combination of addition temperature and addition time)
In order to obtain the desired product in a high yield in the present invention, it is important to slowly add thiophosgene while heating in the presence of an alkyl compound and a fluorine compound. As a result of detailed examination by the inventor of the present invention, it was found that the preferred addition time is affected by the addition temperature. Examples and reference examples will be described in detail below.

チオホスゲンの添加温度が４０℃である場合、チオホスゲンを３．５時間かけて添加しても目的物を高収率で得ることはできなかった。チオホスゲンの添加温度が５０℃である場合、チオホスゲンを３．５時間かけて添加した場合に中程度の収率で目的物が得られた。チオホスゲンの添加温度が６０℃である場合、チオホスゲンを１時間かけて添加した場合に中程度の収率で目的物が得られ、２時間かけて添加した場合に高収率で目的物が得られ、３．５時間かけて添加した場合に更に高収率で目的物が得られた。チオホスゲンの添加温度が８０℃である場合、チオホスゲンを０．５時間かけて添加した場合に中程度の収率で目的物が得られ、１時間かけて添加した場合に高収率で目的物が得られた。   When the addition temperature of thiophosgene was 40 ° C., the target product could not be obtained in high yield even when thiophosgene was added over 3.5 hours. When the addition temperature of thiophosgene was 50 ° C., the desired product was obtained in a moderate yield when thiophosgene was added over 3.5 hours. When the addition temperature of thiophosgene is 60 ° C., the target product is obtained in a moderate yield when thiophosgene is added over 1 hour, and the target product is obtained in a high yield when added over 2 hours. When added over 3.5 hours, the desired product was obtained in a higher yield. When the addition temperature of thiophosgene is 80 ° C., the target product is obtained in a moderate yield when thiophosgene is added over 0.5 hours, and the target product is obtained in a high yield when added over 1 hour. Obtained.

したがって、添加温度と添加時間の組み合わせは、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、添加温度が４５〜５５℃である場合、通常は３．５時間〜４８時間、好ましくは３．５時間〜３６時間、より好ましくは３．５時間〜２４時間の添加時間を例示できる。添加温度が５５〜７０℃である場合、通常は１．０時間〜４８時間、好ましくは２．０時間〜３６時間、より好ましくは３．５時間〜２４時間を例示できる。添加温度が７０〜９０℃である場合、通常は０．５時間〜４８時間、好ましくは１．０時間〜３６時間、より好ましくは１．０時間〜２４時間、更に好ましくは２．０時間〜１２時間を例示できる。しかし、本発明はこれら組み合わせによって何ら限定されるものではなく、添加温度と添加時間の組み合わせは当業者が適宜に調整することができる。   Therefore, the combination of the addition temperature and the addition time is usually 3.5 hours to 48 hours, preferably 3 when the addition temperature is 45 to 55 ° C. from the viewpoint of yield, by-product suppression, economic efficiency, and the like. An addition time of 5 hours to 36 hours, more preferably 3.5 hours to 24 hours can be exemplified. When the addition temperature is 55 to 70 ° C., it is usually 1.0 hour to 48 hours, preferably 2.0 hours to 36 hours, more preferably 3.5 hours to 24 hours. When the addition temperature is 70 to 90 ° C., it is usually 0.5 to 48 hours, preferably 1.0 to 36 hours, more preferably 1.0 to 24 hours, still more preferably 2.0 hours to 12 hours can be illustrated. However, the present invention is not limited to these combinations, and the combination of the addition temperature and the addition time can be appropriately adjusted by those skilled in the art.

また、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、添加温度と添加時間の組み合わせの条件として、以下の範囲内となるように設定することが好ましい。
添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）≧１０
上記「添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）」が１０を下回ると、収率が低くなる傾向がある。目的物質の収率の観点から、「添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）」の値としては、１５以上であることが好ましく、２５以上であることがより好ましく、５０以上であることが更に好ましい。加えて、特に副生成物抑制及び経済効率等の観点から、本発明における「添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）」の上限として、好ましくは２３４０以下、より好ましくは１３２０以下、更に好ましくは５４０以下を例示できる。本発明における「添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）」の範囲は、上記の上限と下限を組み合わせて当業者が適宜に調整することができる。「添加時間（ｈ）×（添加温度（℃）−４５）」の上限と下限の組み合わせとしては、例えば、好ましくは１５〜２３４０、より好ましくは２５〜１３２０、更に好ましくは５０〜５４０を例示できる。しかし、本発明はこれら組みあわせによって何ら限定されるものではない。Further, from the viewpoint of yield, by-product suppression, economic efficiency, etc., it is preferable to set the conditions for the combination of the addition temperature and the addition time so that they are within the following ranges.
Addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45) ≧ 10
When the “addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45)” is less than 10, the yield tends to be low. From the viewpoint of the yield of the target substance, the value of “addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45)” is preferably 15 or more, more preferably 25 or more, and 50 or more. More preferably. In addition, particularly from the viewpoint of byproduct suppression and economic efficiency, the upper limit of “addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45)” in the present invention is preferably 2340 or less, more preferably 1320 or less. More preferably, 540 or less can be exemplified. The range of “addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45)” in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art by combining the above upper limit and lower limit. As a combination of the upper limit and the lower limit of “addition time (h) × (addition temperature (° C.) − 45)”, for example, preferably 15 to 2340, more preferably 25 to 1320, and further preferably 50 to 540 can be exemplified. . However, the present invention is not limited by these combinations.

さらに、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、モル添加速度と添加温度との関係が以下の範囲内となるように設定することが好ましい。
１≦モル添加速度（モル／時間）×（添加温度（℃）−４５）≦４００
上記範囲は、１．２以上３００以下であることが好ましく、２以上１００以下であることがより好ましく、５以上５０以下であることが更に好ましい。Furthermore, from the viewpoint of yield, by-product suppression, economic efficiency, etc., it is preferable to set the relationship between the molar addition rate and the addition temperature within the following range.
1 ≦ mole addition rate (mole / hour) × (addition temperature (° C.) − 45) ≦ 400
The above range is preferably from 1.2 to 300, more preferably from 2 to 100, and still more preferably from 5 to 50.

以上、本発明によれば、特許文献１のように複数の工程を要することなく、かつチオホスゲンなど安価に入手可能な原料を用いて目的物質であるトリフルオロメチルチオアルキル化合物を得ることができるため、生産性やコストの面から工業的に好ましい。また、特許文献３に記載されたビーズ攪拌など特殊な反応装置を用いる必要もないため、この点からも工業的に好ましいといえる。   As described above, according to the present invention, a trifluoromethylthioalkyl compound as a target substance can be obtained without using a plurality of steps as in Patent Document 1 and using a raw material that can be obtained at low cost such as thiophosgene. Industrially preferable in terms of productivity and cost. Moreover, since it is not necessary to use a special reaction apparatus such as bead stirring described in Patent Document 3, it can be said that it is industrially preferable from this point.

本発明の製造方法で製造されるトリフルオロメチルチオアルキル化合物は、医農薬（医薬品及び農薬）やその中間体として有用である。具体的には、特許文献１にも記載されているように、殺虫剤や殺ダニ剤などの有害生物防除剤やその中間体として有用である。   The trifluoromethylthioalkyl compound produced by the production method of the present invention is useful as a medical pesticide (pharmaceuticals and pesticides) or an intermediate thereof. Specifically, as described in Patent Document 1, it is useful as a pest control agent such as an insecticide or an acaricide or an intermediate thereof.

次に、実施例を挙げて本発明の製造方法を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。   Next, the production method of the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下の実施例において、室温とは、通常１０℃〜３５℃の範囲である。
本明細書中、実施例、比較例及び参考例のチオホスゲンの添加には、特に記載のない限り次の機器を用いた。
滴下装置；フローマイクロ反応用シリンジポンプ（ＹＳＰ−１０１ ＹＭＣ社製）
注射器；ｇｌａｓｓ Ｓｙｒｉｎｇｅ １０ｍｌ Ｈａｍｉｌｔｏｎ ｇａｓｔｉｇｈｔ＃１０１０，ｔｅｆｌоｎ ｌｕｅｒ ａｎｄ ｐｌｕｎｇｅｒ ｓｅａｌ（ＨＡＭＩＬＴＯＮ製）
本明細書中、実施例、比較例及び参考例の各物性の測定には次の機器を用いた。
１Ｈ核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）；ＪＥＯＬ ＪＭＮ−ＥＣＳ３００又はＪＥＯＬ ＪＭＮ−Ｌａｍｂｄａ−４００（日本電子株式会社製）、内部基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
ガスクロマトグラフィー分析（ＧＣ分析）；６８５０ Ｎｅｔｗｏｒｋ ＧＣ Ｓｙｓｔｅｍ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ製）、検出方法：ＦＩＤ
ＧＣ分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献（ａ）：（社）日本化学会編、「新実験化学講座９ 分析化学 ＩＩ」、第６０〜８６頁（１９７７年）、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社（例えば、カラムに使用可能な固定相液体に関しては、第６６頁を参照できる。）
文献（ｂ）：（社）日本化学会編、「実験化学講座２０−１ 分析化学」第５版、第１２１〜１２９頁（２００７年）、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社（例えば、中空キャピラリー分離カラムの具体的な使用方法に関しては、第１２４〜１２５頁を参照できる。）In the following examples, room temperature is usually in the range of 10 ° C to 35 ° C.
In the present specification, the following equipment was used for addition of thiophosgene in Examples, Comparative Examples and Reference Examples unless otherwise specified.
Dropping device; syringe pump for flow micro reaction (manufactured by YSP-101 YMC)
Syringe; glass Syringe 10 ml Hamilton gastight # 1010, teflon luer and plunger seal (manufactured by HAMILTON)
In this specification, the following apparatus was used for measurement of physical properties of Examples, Comparative Examples, and Reference Examples.
1 H nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR); JEOL JMN-ECS300 or JEOL JMN-Lambda-400 (manufactured by JEOL Ltd.), internal reference substance: tetramethylsilane (TMS)
Gas chromatography analysis (GC analysis); 6850 Network GC System (manufactured by Agilent Technologies), detection method: FID
Regarding the GC analysis method, the following documents can be referred to as necessary.
Literature (a): (Corporation) The Chemical Society of Japan, “New Experimental Chemistry Lecture 9 Analytical Chemistry II”, pp. 60-86 (1977), publisher Shingo Iizumi, Maruzen Co., Ltd. (See page 66 for stationary phase liquids.)
Document (b): The Chemical Society of Japan, “Experimental Chemistry Course 20-1 Analytical Chemistry”, 5th edition, pages 121-129 (2007), publisher Seishiro Murata, Maruzen Co., Ltd. (for example, Hollow (Refer to pages 124 to 125 for the specific use of the capillary separation column.)

（実施例１）
酢酸６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシルの製造

Figure 0006236545
Example 1
Preparation of 6- (trifluoromethylthio) hexyl acetate
Figure 0006236545

酢酸６−ブロモヘキシル１５．０ｇ（６７．２ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム２３．４ｇ（４０３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４００ｍＬ溶液に、チオホスゲン７．２ｍＬ（９４ｍｍｏｌ）を加熱還流下１時間かけて滴下ロートにて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、反応混合物を室温になるまで放冷し、不溶物を濾別した。ろ液に水を加えジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留（２０ｈＰａ、沸点１２２−１２４℃）により精製し、淡黄色液体の酢酸６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシル１５．６ｇを得た（収率９５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３５−１．５０（ｍ，４Ｈ），１．５９−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．８８（ｔ，２Ｈ），４．０６（ｔ，２Ｈ）To a solution of 15.0 g (67.2 mmol) of 6-bromohexyl acetate and 23.4 g (403 mmol) of potassium fluoride in 400 mL of acetonitrile, 7.2 mL (94 mmol) of thiophosgene was added dropwise with a dropping funnel over 1 hour while heating under reflux. (The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour, then the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, and the insoluble material was filtered off. After adding water to the filtrate and extracting with diisopropyl ether, the organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by distillation under reduced pressure (20 hPa, boiling point 122-124 ° C.) to obtain 15.6 g of light yellow liquid 6- (trifluoromethylthio) hexyl acetate (yield 95%).
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.35 to 1.50 (m, 4H), 1.59-1.73 (m, 4H), 2.05 (s, 3H), 2.88 (t, 2H), 4.06 (t, 2H)

実施例１の結果を、原料（酢酸６−ブロモヘキシル）のモル数（表中の「原料（ｍｍｏｌ）」）、チオホスゲンの全添加モル数（表中の「チオホスゲン（ｍｍｏｌ）」）、添加時間（表中の「添加時間（ｈ）」）、添加温度（表中の「添加温度（℃）」）、反応時間（表中の「反応時間（ｈ）」）、原料１モルあたりのチオホスゲンの添加速度（表中の「モル添加速度（ｍｏｌ／ｈ）」）、「添加時間×（添加温度−４５）」の値（表中の「Ｔ＊（Ｃ−４５）（ｈ・℃）」）、「モル添加速度×（添加温度−４５）」の値（表中の「Ｖ＊（Ｃ−４５）（ｍｏｌ・℃／ｈ）」）、収率（表中の「収率（％）」）の順に表１にまとめた。   The result of Example 1 is the number of moles of raw material (6-bromohexyl acetate) (“raw material (mmol)” in the table), the total number of moles of thiophosgene added (“thiophosgene (mmol)” in the table), and the addition time. ("Addition time (h)" in the table), addition temperature ("addition temperature (° C)" in the table), reaction time ("reaction time (h)" in the table), thiophosgene per mole of raw material Addition rate (“mole addition rate (mol / h)” in the table), “addition time × (addition temperature−45)” (“T * (C-45) (h · ° C.)” in the table) , “Mole addition rate × (addition temperature−45)” value (“V * (C-45) (mol · ° C./h)” in the table)), yield (“yield (%)” in the table) ) Are summarized in Table 1.

（実施例２〜４）
酢酸６−ブロモヘキシル１．２ｇ（５．５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム１．９ｇ（３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、添加温度、添加時間をそれぞれ変化させチオホスゲン０．６０ｍＬ（７．７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．５ｍＬ溶液を滴下した。１時間撹拌した後、反応混合物の一部をＧＣにより分析し、目的物の収率を全面積百分率法により算出した。結果を実施例１と同様に表１にまとめた。なお、実施例２〜４のＧＣ分析において、目的物以外は未反応の原料化合物（酢酸６−ブロモヘキシル）が検出された。(Examples 2 to 4)
To a solution of 1.2 g (5.5 mmol) of 6-bromohexyl acetate and 1.9 g (33 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile, the addition temperature and the addition time were changed, respectively, and 0.60 mL (7.7 mmol) of thiophosgene in acetonitrile 4 .5 mL solution was added dropwise. After stirring for 1 hour, a part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield of the target product was calculated by the total area percentage method. The results are summarized in Table 1 as in Example 1. In the GC analysis of Examples 2 to 4, an unreacted raw material compound (6-bromohexyl acetate) other than the target product was detected.

Figure 0006236545
Figure 0006236545

（実施例５）
６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキサン酸エチルの製造

Figure 0006236545
(Example 5)
Preparation of ethyl 6- (trifluoromethylthio) hexanoate
Figure 0006236545

６−ブロモヘキサン酸エチル２．４ｇ（１１ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム３．８ｇ（６５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル６２ｍＬ溶液に、チオホスゲン１．２ｍＬ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３．８ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより、赤褐色液体の６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキサン酸エチル２．５ｇを得た（収率９６％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，３Ｈ），１．４１−１．４８（ｍ，２Ｈ），１．６２−１．７５（ｍ，４Ｈ），２．３１（ｔ，２Ｈ），２．８８（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ）To a solution of 2.4 g (11 mmol) of ethyl 6-bromohexanoate and 3.8 g (65 mmol) of potassium fluoride in 62 mL of acetonitrile, a solution of 1.2 mL (15 mmol) of thiophosgene in acetonitrile of 3.8 mL was added dropwise over 1 hour with heating under reflux. (The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.5 g of red-brown liquid ethyl 6- (trifluoromethylthio) hexanoate (yield). Rate 96%). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.26 (t, 3H), 1.41-1.48 (m, 2H), 1.62-1.75 (m, 4H), 2.31 (t, 2H), 2.88 (t, 2H), 4.13 (t, 2H)

（実施例６）
６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテルの製法

Figure 0006236545
(Example 6)
Process for producing 6- (trifluoromethylthio) hexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether
Figure 0006236545

６−ブロモヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル１．０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム０．８７ｇ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル１５ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．２７ｍＬ（３．５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２．０ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、反応混合物を室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色液体の６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル０．８７ｇを得た（収率８３％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４８−１．５３（ｍ，４Ｈ），１．６９−１．８５（ｍ，４Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｔ，２Ｈ），３．３１（ｑ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），６．９６（ｓ，１Ｈ），７．００（ｓ，１Ｈ）A solution of 6-bromohexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether 1.0 g (2.5 mmol) and potassium fluoride 0.87 g (15 mmol) in acetonitrile 15 mL A solution of 0.27 mL (3.5 mmol) of thiophosgene in 2.0 mL of acetonitrile was added dropwise with heating under reflux for 1 hour (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour, and then the reaction mixture was allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography, and colorless liquid 6- (trifluoromethylthio) hexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl = 0.87 g of ether was obtained (83% yield). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.48-1.53 (m, 4H), 1.69-1.85 (m, 4H), 2.17 (s, 3H), 2.38 (s, 3H), 2.90 (t, 2H), 3.31 (q, 2H), 3.94 (t, 2H), 6.96 (s, 1H), 7.00 (s , 1H)

（実施例７）
６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテルの製法

Figure 0006236545
(Example 7)
Process for producing 6- (trifluoromethylthio) hexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl ether
Figure 0006236545

６−ブロモヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル０．３０ｇ（０．７２ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム０．２５ｇ（４．３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル５．０ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．０８０ｍＬ（１．０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル１．０ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、淡褐色液体の６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシル＝２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル＝エーテル０．２９ｇを得た（収率９１％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４９−１．５２（ｍ，４Ｈ），１．７１−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．７８−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．２３（ｓ，３Ｈ），２．２８（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｔ，２Ｈ），３．３２−３．４４（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．３７（ｓ，１Ｈ）6-bromohexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl ether 0.30 g (0.72 mmol) and potassium fluoride 0.25 g (4.3 mmol) in acetonitrile A solution of 0.080 mL (1.0 mmol) of thiophosgene in 1.0 mL of acetonitrile was added dropwise to the 5.0 mL solution over 1 hour with heating under reflux (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography, and light brown liquid 6- (trifluoromethylthio) hexyl = 2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl = 0.29 g of ether was obtained (91% yield). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.49-1.52 (m, 4H), 1.71-1.76 (m, 2H), 1.78-1.85 (m , 2H), 2.23 (s, 3H), 2.28 (s, 3H), 2.90 (t, 2H), 3.32-3.44 (m, 2H), 4.04 (t, 2H), 7.01 (s, 1H), 7.37 (s, 1H)

（実施例８）
１−（トリフルオロメチルチオ）オクタンの製造

Figure 0006236545
(Example 8)
Production of 1- (trifluoromethylthio) octane
Figure 0006236545

１−ヨードオクタン２．６ｇ（１１ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム３．８ｇ（６５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル６２ｍＬ溶液に、チオホスゲン１．２ｍＬ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３．８ｍｌ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより赤褐色液体の１−（トリフルオロメチルチオ）オクタン２．２ｇを得た（収率９５％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８９（ｔ，３Ｈ），１．２７−１．４３（ｍ，１０Ｈ），１．６５−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．８７（ｔ，２Ｈ）To a solution of 2.6 g (11 mmol) of 1-iodooctane and 3.8 g (65 mmol) of potassium fluoride in 62 mL of acetonitrile, a solution of 1.2 mL (15 mmol) of thiophosgene in 3.8 ml of acetonitrile was added dropwise over 1 hour with heating under reflux ( The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with hexane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.2 g of reddish brown liquid 1- (trifluoromethylthio) octane (yield 95%). ). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 0.89 (t, 3H), 1.27 to 1.43 (m, 10H), 1.65-1.72 (m, 2H), 2.87 (t, 2H)

（実施例９）
１−（トリフルオロメチルチオ）ドデカンの製造

Figure 0006236545
Example 9
Production of 1- (trifluoromethylthio) dodecane
Figure 0006236545

１−ブロモドデカン２．７ｇ（１１ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム３．８ｇ（６５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル６２ｍＬ溶液に、チオホスゲン１．２ｍＬ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３．８ｍｌ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより赤褐色液体の１−（トリフルオロメチルチオ）ドデカン２．９ｇを得た（９９％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｔ，３Ｈ），１．２３−１．４３（ｍ，１６Ｈ），１．６４−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．８７（ｔ，２Ｈ）To a solution of 2.7 g (11 mmol) of 1-bromododecane and 3.8 g (65 mmol) of potassium fluoride in 62 mL of acetonitrile, a solution of 1.2 mL (15 mmol) of thiophosgene in 3.8 ml of acetonitrile was added dropwise with heating under reflux for 1 hour ( The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with hexane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.9 g of reddish brown liquid 1- (trifluoromethylthio) dodecane (99%). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 0.88 (t, 3H), 1.23-1.43 (m, 16H), 1.64-1.72 (m, 2H), 2.87 (t, 2H)

（実施例１０）
［２−（トリフルオロメチルチオ）エチル］ベンゼンの製法

Figure 0006236545
(Example 10)
[2- (Trifluoromethylthio) ethyl] benzene production method
Figure 0006236545

（２−ブロモエチル）ベンゼン２．００ｇ（１１ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム３．８ｇ（６５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル６２ｍＬ溶液に、チオホスゲン１．２ｍＬ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３．８ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した。分液した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無機物を濾別後、減圧下溶媒を留去することで、褐色液体の［２−（トリフルオロメチルチオ）エチル］ベンゼン２．２ｇを得た（収率９８％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．９７−３．０２（ｍ，２Ｈ），３．１１−３．１６（ｍ，２Ｈ），７．１８−７．３５（ｍ，５Ｈ）To a 62 mL acetonitrile solution of 2.00 g (11 mmol) of (2-bromoethyl) benzene and 3.8 g (65 mmol) of potassium fluoride, a 3.8 mL solution of thiophosgene 1.2 mL (15 mmol) is added dropwise over 1 hour while heating under reflux. (The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The separated organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The inorganic substance was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.2 g of brown liquid [2- (trifluoromethylthio) ethyl] benzene (yield 98%). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.97-3.02 (m, 2H), 3.11-3.16 (m, 2H), 7.18-7.35 (m , 5H)

（実施例１１）
ベンジル＝２−（トリフルオロメチルチオ）エチル＝エーテルの製法

Figure 0006236545
(Example 11)
Preparation of benzyl = 2 (trifluoromethylthio) ethyl ether
Figure 0006236545

ベンジル＝２−ブロモエチル＝エーテル０．９０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．５ｇ（２５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２４ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．４５ｍＬ（５．９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．５ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色液体のベンジル＝２−（トリフルオロメチルチオ）エチル＝エーテル０．８０ｇを得た（収率８１％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．１０（ｔ，２Ｈ），３．７２（ｔ，２Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），７．２９−７．３８（ｍ，５Ｈ）To a solution of benzyl 2-bromoethyl ether 0.90 g (4.2 mmol) and potassium fluoride 1.5 g (25 mmol) in acetonitrile 24 mL, thiophosgene 0.45 mL (5.9 mmol) in acetonitrile 4.5 mL was heated under reflux. The solution was added dropwise over 1 hour (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.80 g of colorless liquid benzyl = 2- (trifluoromethylthio) ethyl = ether (yield 81%). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.10 (t, 2H), 3.72 (t, 2H), 4.56 (s, 2H), 7.29-7.38 ( m, 5H)

（実施例１２）
１１−（トリフルオロメチルチオ）−１−ウンデセンの製法

Figure 0006236545
(Example 12)
Process for producing 11- (trifluoromethylthio) -1-undecene
Figure 0006236545

１１−ブロモ−１−ウンデセン１．３ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．９ｇ（３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．５９ｍＬ（７．７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．４ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することで、褐色液体の１１−（トリフルオロメチルチオ）−１−ウンデセン１．３０ｇを得た（収率９３％）。なお、１Ｈ−ＮＭＲより得られた生成物には原料である１１−ブロモ−１−ウンデセンが１５％含まれていたため、純度より算出した収率を７９％として表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２６−１．４３（ｍ，１２Ｈ），１．６５−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．０１−２．０７（ｍ，２Ｈ），２．８７（ｔ，２Ｈ），４．９１−５．０２（ｍ，２Ｈ），５．７６−５．８６（ｍ，１Ｈ）In a solution of 11-bromo-1-undecene 1.3 g (5.5 mmol) and potassium fluoride 1.9 g (33 mmol) in acetonitrile 32 mL, thiophosgene 0.59 mL (7.7 mmol) in acetonitrile 4.4 mL was heated under reflux. The solution was added dropwise over 1 hour (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.30 g of brown liquid 11- (trifluoromethylthio) -1-undecene ( Yield 93%). Since the product obtained from 1 H-NMR contained 15% of 11-bromo-1-undecene as a raw material, the yield calculated from purity was summarized as 79% in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.26 to 1.43 (m, 12H), 1.65-1.72 (m, 2H), 2.01 to 2.07 (m) , 2H), 2.87 (t, 2H), 4.91-5.02 (m, 2H), 5.76-5.86 (m, 1H)

（実施例１３）
１−（トリフルオロメチルチオ）−３−オクチンの製法

Figure 0006236545
(Example 13)
Process for producing 1- (trifluoromethylthio) -3-octyne
Figure 0006236545

１−ブロモ−３−オクチン１．００ｇ（５．３ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．８ｇ（３２ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．５６ｍＬ（７．４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２．０ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することで、褐色液体の１−（トリフルオロメチルチオ）−３−オクチン１．１ｇを得た（収率９５％）。なお、１Ｈ−ＮＭＲより、得られた生成物には原料である１−ブロモ−３−オクチンが１４％含まれていたため、純度より算出した収率を８２％として表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．９１（ｔ，３Ｈ），１．３８−１．５２（ｍ，４Ｈ），２．１２−２．１８（ｍ，２Ｈ），２．５３−２．５９（ｍ，２Ｈ），３．０１（ｔ，２Ｈ）To a solution of 1-bromo-3-octyne (1.00 g, 5.3 mmol) and potassium fluoride (1.8 g, 32 mmol) in acetonitrile (30 mL) was added thiophosgene (0.56 mL, 7.4 mmol) in acetonitrile (2.0 mL) with heating under reflux. The solution was added dropwise over 1 hour (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.1 g of brown liquid 1- (trifluoromethylthio) -3-octyne ( Yield 95%). From 1 H-NMR, since the obtained product contained 14% of 1-bromo-3-octyne as a raw material, the yield calculated from purity was summarized as 82% in Table 2.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 0.91 (t, 3H), 1.38-1.52 (m, 4H), 2.12-2.18 (m, 2H), 2.53-2.59 (m, 2H), 3.01 (t, 2H)

（実施例１４）
１−メトキシ−５−（トリフルオロメチルチオ）ペンタンの製造

Figure 0006236545
(Example 14)
Production of 1-methoxy-5- (trifluoromethylthio) pentane
Figure 0006236545

１−ブロモ−５−メトキシペンタン１０．０ｇ（５５．２ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１９．２ｇ（３３１ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２０ｍＬ溶液に、チオホスゲン５．９ｍＬ（７７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．０ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下ロートにて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、反応溶液を室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留（６０ｈＰａ、沸点８９−９２℃）により精製し、黄色液体の１−メトキシ−５−（トリフルオロメチルチオ）ペンタン９．６ｇを得た（収率８６％）。結果を表２にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４３−１．５１（ｍ，２Ｈ），１．５６−１．６４（ｍ，２Ｈ），１．６８−１．７６（ｍ，２Ｈ），２．８９（ｔ，２Ｈ），３．３３（ｓ，３Ｈ），３．３８（ｔ，２Ｈ）To a solution of 10.0 g (55.2 mmol) of 1-bromo-5-methoxypentane and 19.2 g (331 mmol) of potassium fluoride in 320 mL of acetonitrile, a solution of 5.9 mL (77 mmol) of thiophosgene in 4.0 mL of acetonitrile was heated under reflux. It dropped by the dropping funnel over time (The temperature in the reaction system at this time was 80 degreeC). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour, and then the reaction solution was allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by distillation under reduced pressure (60 hPa, boiling point 89-92 ° C.) to obtain 9.6 g of 1-methoxy-5- (trifluoromethylthio) pentane as a yellow liquid (yield 86%). The results are summarized in Table 2.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.43-1.51 (m, 2H), 1.56-1.64 (m, 2H), 1.68-1.76 (m , 2H), 2.89 (t, 2H), 3.33 (s, 3H), 3.38 (t, 2H)

Figure 0006236545
Figure 0006236545

（比較例１〜１２、実施例１５〜１７，１９，２１，２３〜２６）
１−ブロモ−５−メトキシペンタン１．０ｇ（５．５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム１．４ｇ（２３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、添加温度、添加時間をそれぞれ変化させチオホスゲン０．５１ｍＬ（６．６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．５ｍＬ溶液を滴下し比較実験を行った。反応混合物の一部をＧＣにより分析し、目的物の収率を全面積百分率法により算出した。結果を表３にまとめた。表中のチオホスゲンの添加時間について、数値「０」の箇所はチオホスゲンの全量を一度に加えたことを示している。また、数値「∞」は無限大を意味する。なお、比較例１〜１２、実施例１５〜１７，１９，２１，２３〜２６のＧＣ分析において、目的物以外は未反応の原料化合物（１−ブロモ−５−メトキシペンタン）が検出された。(Comparative Examples 1-12, Examples 15-17, 19, 21, 23-26)
To a solution of 1-bromo-5-methoxypentane (1.0 g, 5.5 mmol) and potassium fluoride (1.4 g, 23 mmol) in acetonitrile (32 mL), the addition temperature and the addition time were changed, respectively, and thiophosgene (0.51 mL, 6.6 mmol) was added. A 4.5 mL acetonitrile solution was added dropwise to conduct a comparative experiment. A part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield of the target product was calculated by the total area percentage method. The results are summarized in Table 3. Regarding the addition time of thiophosgene in the table, the location of the numerical value “0” indicates that the entire amount of thiophosgene was added at once. The numerical value “∞” means infinity. In the GC analysis of Comparative Examples 1 to 12 and Examples 15 to 17, 19, 21, 23 to 26, an unreacted raw material compound (1-bromo-5-methoxypentane) other than the target product was detected.

（実施例１８，２０，２２，２７）
１−ブロモ−５−メトキシペンタン２．０ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム２．７ｇ（４６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル６４ｍＬ溶液に、滴下温度、滴下時間をそれぞれ変化させチオホスゲン１．０ｍＬ（１３．３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．０ｍＬ溶液を滴下し比較実験を行った。反応混合物の一部をＧＣにより分析し、目的物の収率を全面積百分率法により算出した。結果を表３にまとめた。なお、実施例１８，２０，２２，２７のＧＣ分析において、目的物以外は未反応の原料化合物（１−ブロモ−５−メトキシペンタン）が検出された。(Examples 18, 20, 22, and 27)
To a 64 mL acetonitrile solution of 2.0 g (11.0 mmol) of 1-bromo-5-methoxypentane and 2.7 g (46 mmol) of potassium fluoride, thiophosgene 1.0 mL (13.3 mmol) was obtained by changing the dropping temperature and dropping time. A 4.0 mL solution of acetonitrile was added dropwise to conduct a comparative experiment. A part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield of the target product was calculated by the total area percentage method. The results are summarized in Table 3. In the GC analysis of Examples 18, 20, 22, and 27, an unreacted raw material compound (1-bromo-5-methoxypentane) other than the target product was detected.

Figure 0006236545
Figure 0006236545

（実施例２８）
５−（トリフルオロメチルチオ）ペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテルの製法

Figure 0006236545
(Example 28)
Preparation of 5- (trifluoromethylthio) pentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether
Figure 0006236545

５−ブロモペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル１．０ｇ（２．４ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム０．８５ｇ（１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル１４ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．２６ｍＬ（３．４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル２．０ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、室温になるまで放冷した。反応混合物に水を加え、ジイソプロピルエーテルにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより褐色液体の５−（トリフルオロメチルチオ）ペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル１．０ｇを得た（収率９５％）。結果を表４にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．５８−１．６６（ｍ，２Ｈ），２．９２（ｔ，２Ｈ），３．４１（ｑ，２Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ），７．１９−７．２４（ｍ，２Ｈ）5-Bromopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether 1.0 g (2.4 mmol) and potassium fluoride 0.85 g (15 mmol) acetonitrile To a 14 mL solution, a solution of 0.26 mL (3.4 mmol) of thiophosgene in 2.0 mL of acetonitrile was added dropwise over 1 hour with heating under reflux (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and then allowed to cool to room temperature. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with diisopropyl ether. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer is dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter is filtered off, and the solvent is distilled off under reduced pressure to give brown liquid 5- (trifluoromethylthio) pentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- 1.0 g of (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether was obtained (yield 95%). The results are summarized in Table 4.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.58-1.66 (m, 2H), 2.92 (t, 2H), 3.41 (q, 2H), 4.03 ( t, 2H), 7.19-7.24 (m, 2H)

（実施例２９〜３１）
５−ブロモペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル０．３５ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム０．３０ｇ（５．１ｍｍｏｌ）のアセトニトリル５．０ｍＬ溶液に、添加温度、添加時間をそれぞれ変化させチオホスゲン９１μＬ（１．２ｍｍｏｌ）のアセトニトリル０．５０ｍＬ溶液を滴下した。１時間撹拌した後、反応混合物の一部をＧＣにより分析し、目的物の収率を全面積百分率法により算出した。結果を表４にまとめた。なお、実施例２９〜３１のＧＣ分析において、目的物以外は未反応の原料化合物（５−ブロモペンチル＝４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェニル＝エーテル）が検出された。(Examples 29 to 31)
5-bromopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl ether 0.35 g (0.85 mmol), potassium fluoride 0.30 g (5.1 mmol) A solution of thiophosgene (91 μL, 1.2 mmol) in acetonitrile (0.50 mL) was added dropwise to a solution of styrene in 5.0 mL of acetonitrile. After stirring for 1 hour, a part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield of the target product was calculated by the total area percentage method. The results are summarized in Table 4. In the GC analysis of Examples 29 to 31, unreacted raw material compound (5-bromopentyl = 4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl other than the target product) = Ether) was detected.

（実施例３２）
酢酸５−（トリフルオロメチルチオ）ペンチルの製造

Figure 0006236545
(Example 32)
Production of 5- (trifluoromethylthio) pentyl acetate
Figure 0006236545

酢酸５−ブロモペンチル１．２ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．９ｇ（３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、チオホスゲン０．６ｍＬ（７．７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．５ｍＬ溶液を加熱還流下１時間かけて滴下した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物を加熱還流下１時間撹拌した後、反応混合物を室温になるまで放冷し、不溶物を濾別した。ろ液に水を加えヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより、赤褐色液体の酢酸５−（トリフルオロメチルチオ）ペンチル１．２ｇを得た（収率９４％）。結果を表４にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４３−１．５３（ｍ，２Ｈ），１．６２−１．７９（ｍ，４Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．８９（ｔ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ）To a solution of 1.2 g (5.5 mmol) of 5-bromopentyl acetate and 1.9 g (33 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile, a solution of 0.6 mL (7.7 mmol) of thiophosgene in 4.5 mL of acetonitrile is heated under reflux for 1 hour. (The temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour, then the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, and the insoluble material was filtered off. After adding water to the filtrate and extracting with hexane, the organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g of red-brown liquid 5- (trifluoromethylthio) pentyl acetate (yield). 94%). The results are summarized in Table 4.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 1.43-1.53 (m, 2H), 1.62-1.79 (m, 4H), 2.05 (s, 3H), 2.89 (t, 2H), 4.07 (t, 2H)

（実施例３３〜３５）
酢酸５−ブロモペンチル１．２ｇ（５．５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム１．９ｇ（３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、添加温度、添加時間をそれぞれ変化させチオホスゲン０．６０ｍＬ（７．７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル４．５ｍＬ溶液を滴下した。１時間撹拌した後、反応混合物の一部をＧＣにより分析し、目的物の収率を全面積百分率法により算出した。結果を表４にまとめた。なお、実施例３３〜３５のＧＣ分析において、目的物以外は未反応の原料化合物（酢酸５−ブロモペンチル）が検出された。(Examples 33 to 35)
To a solution of 1.2 g (5.5 mmol) of 5-bromopentyl acetate and 1.9 g (33 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile, the addition temperature and the addition time were changed, respectively, and 0.60 mL (7.7 mmol) of thiophosgene in acetonitrile 4 .5 mL solution was added dropwise. After stirring for 1 hour, a part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield of the target product was calculated by the total area percentage method. The results are summarized in Table 4. In the GC analysis of Examples 33 to 35, an unreacted raw material compound (5-bromopentyl acetate) other than the target product was detected.

Figure 0006236545
Figure 0006236545

（比較例１３）
１−メトキシ−５−（トリフルオロメチルチオ）ペンタンの製造

Figure 0006236545
(Comparative Example 13)
Production of 1-methoxy-5- (trifluoromethylthio) pentane
Figure 0006236545

１−ブロモ−５−メトキシペンタン１．０ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．４ｇ（２３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、０℃でチオホスゲン０．５１ｍＬ（６．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃で２時間撹拌した後、室温にて６時間撹拌した。反応混合物の一部をＧＣにより分析し、収率を全面積百分率法により算出した結果、目的の１−メトキシ−５−（トリフルオロメチルチオ）ペンタンが９％、原料である１−ブロモ−５−メトキシペンタンが９０％検出された（収率９％）。結果を表５にまとめた。   To a solution of 1.0 g (5.5 mmol) of 1-bromo-5-methoxypentane and 1.4 g (23 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile was added 0.51 mL (6.6 mmol) of thiophosgene at 0 ° C. The reaction mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 6 hours. A part of the reaction mixture was analyzed by GC, and the yield was calculated by the total area percentage method. As a result, the target 1-methoxy-5- (trifluoromethylthio) pentane was 9% and the starting material, 1-bromo-5-5 90% of methoxypentane was detected (9% yield). The results are summarized in Table 5.

実施例１４の原料化合物（１−ブロモ−５−メトキシペンタン）に特開２０００−５３６３８号公報（特許文献２）の方法を試みたところ、反応はほとんど進行しなかった（比較例１３）。したがって、特許文献２に記載の製造方法はハロゲン化ベンジル化合物のような反応性の高い化合物にのみ適用が可能であり、反応性の低いアルキル化合物のトリフルオロメチルチオ化には適していない。   When the method of Japanese Patent Laid-Open No. 2000-53638 (Patent Document 2) was attempted on the starting compound (1-bromo-5-methoxypentane) of Example 14, the reaction hardly proceeded (Comparative Example 13). Therefore, the production method described in Patent Document 2 can be applied only to a highly reactive compound such as a benzyl halide compound, and is not suitable for trifluoromethylthiolation of an alkyl compound having low reactivity.

（参考例１）
１−フェニル−３−（トリフルオロメチルチオ）プロペンの製造

Figure 0006236545
(Reference Example 1)
Preparation of 1-phenyl-3- (trifluoromethylthio) propene
Figure 0006236545

シンナミルブロミド（３−ブロモ−１−フェニルプロペン）１．０ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．４ｇ（２３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、０℃でチオホスゲン０．５１ｍＬ（６．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃で２時間撹拌した後、室温にて１７時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することで褐色液体の１−フェニル−３−（トリフルオロメチルチオ）プロペン１．２ｇを得た（収率１００％）。結果を表５にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．７２（ｄ，２Ｈ），６．１９−６．２６（ｍ，１Ｈ），６．６０（ｄ，１Ｈ），７．２５−７．３９（ｍ，５Ｈ）To a solution of cinnamyl bromide (3-bromo-1-phenylpropene) (1.0 g, 5.5 mmol) and potassium fluoride (1.4 g, 23 mmol) in acetonitrile (32 mL) at 0 ° C. was added thiophosgene (0.51 mL, 6.6 mmol). added. The reaction mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 17 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with hexane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g of 1-phenyl-3- (trifluoromethylthio) propene as a brown liquid ( Yield 100%). The results are summarized in Table 5.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.72 (d, 2H), 6.19-6.26 (m, 1H), 6.60 (d, 1H), 7.25- 7.39 (m, 5H)

（参考例２）
１−（トリフルオロメチルチオ）−２−オクチンの製造

Figure 0006236545
(Reference Example 2)
Production of 1- (trifluoromethylthio) -2-octyne
Figure 0006236545

１−ブロモ−２−オクチン１．１ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．４ｇ（２３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、０℃でチオホスゲン０．５１ｍＬ（６．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃で２時間撹拌した後、室温にて１７時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することにより褐色液体の１−（トリフルオロメチルチオ）−２−オクチン１．２ｇを得た（収率１００％）。結果を表５にまとめた。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｔ，３Ｈ），１．２６−１．３９（ｍ，４Ｈ），１．４６−１．５４（ｍ，２Ｈ），２．１６−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．６５（ｔ，２Ｈ）To a solution of 1.1 g (5.5 mmol) of 1-bromo-2-octyne and 1.4 g (23 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile, 0.51 mL (6.6 mmol) of thiophosgene was added at 0 ° C. The reaction mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 17 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with hexane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g of brown liquid 1- (trifluoromethylthio) -2-octyne (recovery). Rate 100%). The results are summarized in Table 5.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 0.90 (t, 3H), 1.26-1.39 (m, 4H), 1.46-1.54 (m, 2H), 2.16-2.21 (m, 2H), 3.65 (t, 2H)

アリル位、プロパルギル位に脱離基を有しているアルキル化合物について、特許文献２の反応条件を適用したところ、室温にて速やかに反応が進行し、高収率で目的化合物が得られた（参考例１，２）。したがって、本明細書中においては、アリル位、プロパルギル位に脱離基を有しているアルキル化合物も反応性の高いアルキル化合物群に含まれる。   When the reaction conditions of Patent Document 2 were applied to the alkyl compound having a leaving group at the allylic position or the propargyl position, the reaction proceeded rapidly at room temperature, and the target compound was obtained in high yield ( Reference examples 1, 2). Therefore, in the present specification, alkyl compounds having a leaving group at the allyl position or the propargyl position are also included in the highly reactive alkyl compound group.

（参考例３）
２−クロロベンジル＝トリフルオロメチル＝チオエーテルの製造（反応性が高いアルキル化合物を原料として用いる製造方法）

Figure 0006236545
(Reference Example 3)
Production of 2-chlorobenzyl = trifluoromethyl = thioether (production method using a highly reactive alkyl compound as a raw material)
Figure 0006236545

１−クロロ−２−（クロロメチル）ベンゼン０．９ｇ（５．５ｍｍｏｌ）とフッ化カリウム１．９ｇ（３３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３２ｍＬ溶液に、０℃でチオホスゲン０．６０ｍＬ（７．７ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を０℃で２時間撹拌した後、加熱還流下１時間撹拌した（この時の反応系内の温度は８０℃であった）。反応混合物に水を加え、ヘキサンにて抽出した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾別し、減圧下溶媒を留去することで褐色液体の２−クロロベンジル＝トリフルオロメチル＝チオエーテル１．２ｇを得た（収率９８％）。なお１Ｈ−ＮＭＲより、得られた生成物には原料である１−クロロ−２−（クロロメチル）ベンゼンが１３％含まれていたため、純度より算出した収率を８５％として表５にまとめた。0.60 mL (7.7 mmol) of thiophosgene was added to a solution of 0.9 g (5.5 mmol) of 1-chloro-2- (chloromethyl) benzene and 1.9 g (33 mmol) of potassium fluoride in 32 mL of acetonitrile at 0 ° C. . The reaction mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours and then stirred for 1 hour under heating to reflux (the temperature in the reaction system at this time was 80 ° C.). Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with hexane. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the inorganic matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g of 2-chlorobenzyl = trifluoromethyl = thioether as a brown liquid (yield). 98%). From 1 H-NMR, the obtained product contained 13% of the starting material 1-chloro-2- (chloromethyl) benzene, and therefore the yield calculated from the purity was 85% and summarized in Table 5. It was.

Figure 0006236545
Figure 0006236545

本発明によれば、反応性の低いアルキル化合物を原料として用いるトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法が提供される。
本発明によれば、多くの工程を必要とせず、安価に入手可能な原料を用い、特殊な反応装置を用いずに、工業的に好ましいトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法が提供される。
更に本発明によれば、医農薬及びその中間体として有用なトリフルオロメチルチオアルキル化合物を工業的規模で製造できる。
例えば、実施例６、７及び２８で製造した化合物群は、国際公開第２０１３／１５７２２９号公報に開示されているように優れた有害生物防除活性を有し、産業上有用である。
例えば、実施例１〜４で製造した酢酸６−（トリフルオロメチルチオ）ヘキシルは、脱アセチル化を行いアルコール化合物とした後、国際公開第２０１３／１５７２２９号公報に開示されている製造方法７に従って優れた有害生物防除活性を有する化合物へと誘導できる。
したがって、本発明は、高い工業的利用価値を有する。According to the present invention, a method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound using an alkyl compound having low reactivity as a raw material is provided.
According to the present invention, an industrially preferable method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound is provided that does not require many steps, uses inexpensively available raw materials, and does not use a special reaction apparatus.
Furthermore, according to the present invention, trifluoromethylthioalkyl compounds useful as medical pesticides and intermediates thereof can be produced on an industrial scale.
For example, the compounds produced in Examples 6, 7 and 28 have excellent pest control activity as disclosed in International Publication No. 2013/157229 and are industrially useful.
For example, 6- (trifluoromethylthio) hexyl acetate produced in Examples 1 to 4 is excellent in accordance with Production Method 7 disclosed in International Publication No. 2013/157229 after deacetylation to obtain an alcohol compound. It can be derived into a compound having a pest control activity.
Therefore, the present invention has a high industrial utility value.

Claims (12)

一般式（１）：
Figure 0006236545
 （式中、Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリールオキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いＣ６〜Ｃ１０アリール（Ｃ１〜Ｃ４）アルコキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示す。）
で表されるトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）：
Figure 0006236545
 （式中、Ｒは前記一般式（１）で定義したとおりであり、
Ｌは、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有していても良いＣ６〜Ｃ１０アリールスルホニルオキシ基を示す。）
で表される化合物とフッ素化合物の存在下、チオホスゲンを４５℃以上の添加温度かつ０．２５時間以上の添加時間で添加することを特徴とするトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。General formula (1):
Figure 0006236545
 (Wherein, R, optionally substituted C 1 -C 10 alkyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkenyl group, C 2 may be substituted by R1 ~ C 10 alkynyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, one or more identical or different may be substituted by R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more of which may be substituted by the same or different R2 C 6 -C 10 aryloxy group, or one or more identical or different R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by
R1 is, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, 1 or 2 pieces or more of the same or different may be substituted with R2 C 6 -C 10 aryl group, 1 or 2 or more identical or different good C 6 -C 10 aryloxy group or one or two optionally substituted by R2 A C 6 -C 10 aryl (C 1 -C 4 ) alkoxy group optionally substituted by the same or different R 2,
R2 is hydrogen atom, halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy groups, C 1 -C 4 haloalkylthio group or an C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group. )
A process for producing a trifluoromethylthioalkyl compound represented by:
The following general formula (2):
Figure 0006236545
 Wherein R is as defined in the general formula (1),
L represents a halogen atom, C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group or which may have a substituent C 6 -C 10 arylsulfonyloxy group. )
A method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound, comprising adding thiophosgene at an addition temperature of 45 ° C. or more and an addition time of 0.25 hours or more in the presence of a compound represented by formula (I) and a fluorine compound. 以下の条件でチオホスゲンを添加する、請求項１に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。
前記添加時間（ｈ）×（前記添加温度（℃）−４５）≧１０The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to claim 1, wherein thiophosgene is added under the following conditions.
The addition time (h) × (the addition temperature (° C.) − 45) ≧ 10 前記一般式（２）で表される化合物１モルに対するチオホスゲンの添加速度が、１０モル／時間以下である、請求項１に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   The manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of Claim 1 whose addition rate of thiophosgene with respect to 1 mol of compounds represented by the said General formula (2) is 10 mol / hour or less. 以下の条件でチオホスゲンを添加する、請求項３に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。
１≦前記添加速度（モル／時間）×（前記添加温度（℃）−４５）≦４００The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to claim 3, wherein thiophosgene is added under the following conditions.
1 ≦ addition rate (mol / hour) × (addition temperature (° C.) − 45) ≦ 400 フッ素化合物が、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、又はそれらの混合物である、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   The fluorine compound is any of tetramethylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, magnesium fluoride, calcium fluoride, or a mixture thereof. A process for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to claim 1. フッ素化合物が、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、又はそれらの混合物である、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the fluorine compound is tetramethylammonium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, or a mixture thereof. 前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して３．０モル以上１２．０モル以下の範囲のフッ素化合物を使用する、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   5. The fluorine compound in a range of 3.0 mol or more and 12.0 mol or less with respect to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2), according to claim 1. A method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound. 前記一般式（２）で表される化合物１．０モルに対して１．０モル以上３．０モル以下の範囲のチオホスゲンを使用する、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   The trithiophene according to any one of claims 1 to 4, wherein thiophosgene in a range of 1.0 mol or more and 3.0 mol or less is used with respect to 1.0 mol of the compound represented by the general formula (2). A method for producing a fluoromethylthioalkyl compound. ６０℃以上１００℃以下の範囲内の添加温度で行われる、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。   The manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of any one of Claim 1 to 4 performed at the addition temperature within the range of 60 degreeC or more and 100 degrees C or less. 前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示し、
Ｌは、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基又は置換基を有していても良いベンゼンスルホニルオキシ基で示される、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。In the general formula (1) and the general formula (2),
R is optionally substituted by R1 C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkynyl group , C 1 -C 4 alkoxy group, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, substituted by one or more same or different R 2 An optionally substituted phenyl group, 1 or 2 or more phenoxy groups optionally substituted by the same or different R2, or a benzyloxy group optionally substituted by 1 or 2 identical or different R2;
R1 is, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkylcarbonyl group, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, 1 or 2 A phenyl group which may be substituted by two or more identical or different R2, a phenoxy group which may be substituted by one or two or more identical or different R2, or a phenyl group which may be substituted by one or two or more identical or different R2 Good benzyloxy group,
R2 is hydrogen atom, halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy groups, C 1 -C 4 haloalkylthio group or C 1 -C 4 shows a haloalkylsulfinyl group,
L is a halogen atom, represented by C 1 -C 4 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group or which may have a substituent benzenesulfonyloxy group, any of claims 1 to 4 A process for producing the trifluoromethylthioalkyl compound according to claim 1. 前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、Ｒ１により置換されていても良いＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、Ｒ１により置換されていても良いＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキルカルボニルオキシ基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェニル基、１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いフェノキシ基又は１又は２個以上の同一又は異なるＲ２により置換されても良いベンジルオキシ基を示し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基を示し、
Ｌは、ハロゲン原子で示される請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。In the general formula (1) and the general formula (2),
R is optionally substituted by R1 C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 10 alkenyl group by R1, optionally substituted by R1 C 2 -C 10 alkynyl group A phenyl group which may be substituted by one or two or more identical or different R2, or a benzyloxy group which may be substituted by one or two identical or different R2;
R1 is a substituted C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 alkoxy, C 1 -C 4 alkoxycarbonyl group, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy group, by one or more identical or different R2 A phenyl group which may be substituted, 1 or 2 or more phenoxy groups which may be substituted by the same or different R2, or a benzyloxy group which may be substituted by 1 or 2 same or different R2;
R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkylthio group or C 1 -C 4 haloalkylsulfinyl group,
The method for producing a trifluoromethylthioalkyl compound according to any one of claims 1 to 4, wherein L is a halogen atom. 前記一般式（１）及び前記一般式（２）において、
Ｒは、４−アセトキシブチル基、３−エトキシカルボニルプロピル基、４−［２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェノキシ］ブチル基、４−［２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェノキシ］ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基、フェニル基、ベンジルオキシ基、８−ノネニル基、１−ヘキシニル基、３−メトキシプロピル基、３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２，２，２−トリフルオロエチルチオ）フェノキシ］プロピル基又は３−アセトキシプロピル基を示し、
Ｌは、臭素原子又はヨウ素原子で示される、請求項１から４のいずれか１項に記載のトリフルオロメチルチオアルキル化合物の製造方法。In the general formula (1) and the general formula (2),
R is 4-acetoxybutyl group, 3-ethoxycarbonylpropyl group, 4- [2,4-dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenoxy] butyl group, 4- [2,4 -Dimethyl-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenoxy] butyl group, n-hexyl group, n-decyl group, phenyl group, benzyloxy group, 8-nonenyl group, 1-hexynyl group, 3 -Methoxypropyl group, 3- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenoxy] propyl group or 3-acetoxypropyl group;
L is a bromine atom or an iodine atom, The manufacturing method of the trifluoromethylthioalkyl compound of any one of Claim 1 to 4.
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