JP6232476B2 - サブ光学解像度によるcadレイアウトへのチップの自動配向システムおよび方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2010年9月29日出願の米国仮特許出願第61/387,872号明細書の利益を請求し、そのすべての内容がここに参考文献として援用される。
本出願は、半導体チップの検査およびデバッグに関し、特に、デバイスの光子放出を用いた検査といった検査およびデバッグを可能にするチップ画像の配向/位置合わせに関する。
2.関連技術
Claims (18)
- 計算機システムを用いて半導体チップの画像を配向させる方法であって、
赤外線カメラを用いて、前記半導体チップの裏側から該半導体チップの光学画像を取得することと、
前記半導体チップの複数のCAD(computer aided design)レイヤを持つCADデータを取得することと、
前記CADレイヤのうちの一レイヤに焦点を合わせ、他のレイヤには焦点を外し、前記CADレイヤのそれぞれに独立して光学点広がり関数(PSF)を適用することと、
前記PSFの適用後に前記CADレイヤの全てを重ね合わせて前記半導体チップの合成画像を構築することと、
前記光学画像と前記合成画像とを比較して差分画像を生成することと、
前記差分画像を最小化するように前記合成画像の変換、回転及びスケール値の少なくとも1つを変化させて、前記合成画像を前記半導体チップの画像の方向に合わせることと、を含み、
前記PSFの適用において、前記PSFは焦点が最も合ったレイヤからCADレイヤの距離に比例することを特徴とする、方法。 - 前記合成画像を構築することにおいて、前記合成画像の全体的な明るさを変化させることをさらに含み、前記CADレイヤのそれぞれの相対的な明るさ値があらかじめ決められる、請求項1の方法。
- 前記合成画像を構築することにおいて、前記合成画像における前記CADレイヤのそれぞれの隠れジオメトリを取り除くことをさらに含む、請求項1の方法。
- 前記差分画像を最小化するように前記合成画像の変換、回転及びスケール値の少なくとも1つを変化させて、前記合成画像を前記半導体チップの画像の方向に合わせることにおいて、前記光学画像の中心の画素により大きな重み付けをすることをさらに含む、請求項1の方法。
- 前記合成画像を構築することにおいて、前記合成画像におけるダミージオメトリを取り除くことをさらに含む、請求項1の方法。
- 前記PSFはガウスPSFであり、該PSFの広がり及び閾値は前記CADレイヤのそれぞれにおいて異なるように設定されるパラメータである、請求項1の方法。
- 前記差分画像を生成した後に、前記差分画像に統計処理を行って前記差分画像を統計的に定量化する、請求項1の方法。
- 前記差分画像の各画素値の2乗和およびカイ2乗値の少なくとも一つを計算することで前記統計処理を行う、請求項7の方法。
- 前記差分画像の各画素値の2乗和およびカイ2乗値の少なくとも一つを最小化することで前記差分画像を最小化する、請求項8の方法。
- 前記半導体チップの複数のCAD(computer aided design)レイヤを持つCADデータを取得した後に、分解すべき前記半導体チップの領域を選択することと、
前記選択した領域における各活性デバイスについて金属線の発光反射を計算することと、
各計算された金属線の発光反射の減衰を実行することとをさらに含む、請求項1の方法。 - 光学軸に対する前記金属線の発光反射の入射角による強度変化をシミュレートする補正、前記金属線の発光反射が伝播する材料の屈折率の変化による強度変化をシミュレートする補正、および光学システムの集光効率による強度変化をシミュレートする減衰、の一または複数により前記減衰を実行する、請求項10の方法。
- 前記CADデータを用いて各金属線の発光反射を追跡し、前記CADデータの少なくとも一つのレイヤに示された金属線と交差しない各金属線の発光反射を除外する、請求項11の方法。
- 各金属線の発光反射を追跡し、前記光学システムの所定の開口数以内を通過しない各金属線の発光反射を除外する、請求項11の方法。
- 前記光学システムの点広がり関数を適用することで前記減衰を実行する、請求項11の方法。
- 半導体チップの画像を配向するシステムであって、
規定された焦点深度を有し、前記半導体チップの裏側から該半導体チップの光学画像を取得するために前記半導体チップの第1レイヤに焦点が合わされる赤外線カメラと、
光学システムから前記半導体チップの光学画像を取得する手段と、
前記半導体チップのCAD(computer aided design)レイヤを持つCADデータを取得する手段と、
前記CADレイヤのうちの一レイヤに焦点を合わせ、他のレイヤには焦点を外し、前記CADレイヤのそれぞれに独立して光学点広がり関数(PSF)を適用し、その後に前記CADレイヤを重ね合わせることにより、前記半導体チップの合成画像を構築する計算エンジンと、
前記光学画像と前記合成画像を比較して差分画像を生成する比較器と、
前記合成画像のパラメータを繰り返し修正して前記差分画像を最小化する位置合わせ器と、
前記光学画像への前記合成画像の適した位置合わせを判定する判定モジュールとを備え、
前記PSFの適用において、前記PSFは焦点が最も合ったレイヤからCADレイヤの距離に比例することを特徴とする、システム。 - 前記差分画像を定量化する統計モジュールを備えた、請求項15のシステム。
- 前記光学画像への前記合成画像の最適な位置合わせの出力パラメータを提供する出力ポートを備えた、請求項15のシステム。
- 前記位置合わせのパラメータが変換、回転、スケール値の少なくとも一つを含む、請求項17のシステム。
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