JP6230986B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態に係るプラズマ処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。図2は、図1に示したグランド板の平面断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態に係るプラズマ処理装置は、グランド板32の内部の構造を除き、第1の実施形態に係るプラズマ処理装置1と同様の構成を有する。したがって、第2の実施形態では、上記第1の実施形態と共通する構成要素には、同一の参照符号を用いるとともに、その詳細な説明は省略する。
2 載置台
10 処理容器
32 グランド板
32a 貫通孔
33 絶縁体
34 ガス供給管
34a 第1のガス供給管
34b 第2のガス供給管
34c 第3のガス供給管
35 空間
36 ガス導入部材
36a 遮断部材
37 バッファ室
37a 第1のバッファ室
37b 第2のバッファ室
37c 第3のバッファ室
38 給電部材
52 第1の絶縁層
54 絶縁フィルム
56 第2の絶縁層
62、66 導体パターン
64、68 シールド層
Claims (11)
- 処理容器と、
前記処理容器の内部に設けられ、基板が載置される載置台と、
前記載置台と対向するように前記処理容器に取り付けられ、複数の貫通孔が形成されたグランド板と、
前記グランド板の前記複数の貫通孔にそれぞれ挿入される複数のガス供給管であって、当該複数のガス供給管の各々の外周面と、前記複数の貫通孔の各々の内周面との間に形成される空間に処理ガスを供給する複数のガス供給管と、
前記複数のガス供給管に設けられ、前記複数のガス供給管のうち互いに種別が異なる処理ガスを前記空間に供給するガス供給管に対して、前記処理ガスの種別に応じて周波数が異なる高周波電力を供給することによって、前記空間において前記処理ガスをプラズマ化する給電部材と
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記給電部材は、さらに、
前記複数のガス供給管のうち種別が同一である処理ガスを前記空間に供給するガス供給管に同一の高周波電力を供給することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記給電部材は、
互いに積層された複数の絶縁層であって、前記複数のガス供給管のうち互いに種別が異なる処理ガスを前記空間に供給するガス供給管に前記処理ガスの種別に応じた異なる高周波電力を供給する導体パターンがそれぞれ形成された複数の絶縁層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記給電部材は、
前記複数の絶縁層の間に介挿される絶縁フィルムをさらに有することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ処理装置。 - 前記複数の絶縁層の各々の、前記導体パターンが形成される側の面とは反対側の面に、高周波電力を遮断するシールド層が形成されることを特徴とする請求項3又は4に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数のガス供給管の各々の入口へ処理ガスを導入するためのバッファ室が内部に形成されたガス導入部材をさらに備え、
前記バッファ室には、高周波電力を遮断する遮断部材を介して、前記複数のガス供給管の各々の入口が接続されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。 - 前記遮断部材は、前記複数のガス供給管の各々よりも抵抗が高い材料により形成されることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ガス導入部材の外周面に設けられ、内部に冷媒を通流させるための流路を有する冷却ジャケットをさらに備える
ことを特徴とする請求項6又は7に記載のプラズマ処理装置。 - 処理容器と、
前記処理容器の内部に設けられ、基板が載置される載置台と、
前記載置台と対向するように前記処理容器に取り付けられ、複数の貫通孔が形成されたグランド板と、
前記グランド板の前記複数の貫通孔にそれぞれ挿入される複数のガス供給管であって、当該複数のガス供給管の各々の外周面と、前記複数の貫通孔の各々の内周面との間に形成される空間に処理ガスを供給する複数のガス供給管と、
前記複数のガス供給管に設けられ、前記複数のガス供給管のうち互いに種別が異なる処理ガスを前記空間に供給するガス供給管に対して、前記処理ガスの種別に応じて周波数が異なる高周波電力を供給することによって、前記空間において前記処理ガスをプラズマ化する給電部材と
を備え、
前記グランド板は、
前記グランド板の内部に形成された排気流路と、
前記グランド板と前記載置台とで挟まれた他の空間を前記排気流路に連通させ、前記空間に供給されて前記他の空間へ流入する前記処理ガスを前記排気流路に排気する排気孔とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記排気孔は、
前記グランド板を前記複数のガス供給管の各々の中心軸に沿う方向から見た場合に、前記中心軸を中心とした円の円周上に配置されることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ処理装置。 - 前記排気孔は、
前記グランド板を前記複数のガス供給管の各々の中心軸に沿う方向から見た場合に、前記複数のガス供給管のうち互いに隣り合う3つのガス供給管の各々の前記中心軸と、前記排気孔の中心軸との距離が等しくなる位置に配置されることを特徴とする請求項9又は10に記載のプラズマ処理装置。
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