JP6229344B2 - メタルマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
11 メタルマスク本体(基材)
11a 第1面
11b 第2面
12 開口部
13 凹部
14 孔部
15 穴部
18 有孔領域
19 無孔領域
20 蒸着マスク装置
25 フレーム
31 レジスト膜
32 レジスト開口
33 パルスレーザ
35 封止剤
90 蒸着装置
91 チャンバ
92 ガラス基板
94 坩堝
96 ヒータ
97 蒸着材料
Claims (5)
- 金属材料からなる板状の基材の第1面をエッチングして当該第1面に局所的に有底の凹部を形成する工程と、
1ナノ秒より短いパルス幅のパルスレーザを前記基材の前記凹部の底面または当該底面の裏面に照射して、当該底面から当該底面の裏面までを貫通する孔部を形成する工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 金属材料からなる板状の基材の第2面に、1ナノ秒より短いパルス幅のパルスレーザを照射して、当該第2面に有底の穴部を形成する工程と、
前記基材の前記有底の穴部の裏面をエッチングして、前記穴部に連通する凹部を局所的に形成する工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 前記有底の穴部を形成する工程の後、前記凹部を形成する工程の前に、前記有底の穴部に封止剤を充填する工程と、
前記凹部を形成する工程の後に、前記穴部から前記封止剤を除去する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項2に記載のメタルマスクの製造方法。 - 前記パルスレーザは、四角形状の断面を有する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のメタルマスクの製造方法。 - 前記断面の各辺は、10μm〜150μmである
ことを特徴とする請求項4に記載のメタルマスクの製造方法。
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