JP6204654B2 - エレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法、及び、エレクトロウェッティング表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、エレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法、及び、エレクトロウェッティング表示装置の製造方法に関する。

従来より、互いに混じり合わない２種以上の液体（例えばオイルと親水性液体の２液）を含むセルを備え、電圧の印加により動作（駆動）する光学素子に関する検討が行なわれている。このような光学素子としては、例えば、光シャッターや可変焦点レンズ、画像表示装置などが知られており、近年では、特にエレクトロウェッティング現象を利用した技術が注目されている。

エレクトロウェッティング現象を利用した技術の例として、互いに対向配置された第一基板及び第二基板と、複数の画素ユニットを定義する複数の突起と、隣り合う２つの突起の間の画素ユニットに封入された非導電性の第一流体と、第一流体と互いに混和しない導電性又は極性液体である第二流体とを備えたエレクトロウェッティングディスプレイ（エレクトロウェッティング表示装置）が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

また、エレクトロウェッティング表示装置用の導電性液体として、特定の極性溶媒と、色素（顔料、染料、オリゴマー染料、又はポリマー染料）と、を含み、単原子イオンの総量が５００ｐｐｍ以下である導電性液体が知られている（例えば、特許文献２及び３参照）
また、エレクトロウェッティング表示装置用の染料に含まれる不純物が、画像表示時にバックフロー現象を引き起こすこと、及び、この問題を解決する手段として染料をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製する手段が有効であることが知られている（例えば、非特許文献１参照）。

特開２００９−８６６６８号公報 国際公開第２０１１／０１７４４６号パンフレット 国際公開第２０１１／０７５７２０号パンフレット

J.Micromech.Microeng., 2009, Vol.19, p.65029

しかしながら、エレクトロウェッティング表示用の染料組成物として、非極性溶媒及び染料を含む組成物を用いる場合には、従来の技術のみ（例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製のみ）では、応答性が低下し、バックフロー現象が顕著となる場合があることが判明した。
本発明は上記に鑑みなされたものであり、エレクトロウェッティング表示に用いたときに、応答性に優れ、バックフロー現象を抑制できるエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法を提供すること、及び、応答性に優れ、バックフロー現象が抑制されたエレクトロウェッティング表示装置の製造方法を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してエレクトロウェッティング表示用染料組成物を得る処理工程を有するエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法である。
＜２＞ 前記イオン交換樹脂が、カチオン交換樹脂である＜１＞に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法である。
＜３＞ 前記処理工程は、前記混合液を、ナトリウムイオンの含有量が１０ｐｐｍ以下となるまで処理する＜１＞又は＜２＞に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法である。
＜４＞ 前記染料が、アゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法である。

＜５＞ 少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第１の基板と、前記第１の基板の導電性の表面に対向させて配置された第２の基板と、前記第１の基板の導電性の表面を有する面側の少なくとも一部に配設された疎水性絶縁膜と、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に疎水性絶縁膜上を移動可能に設けられた非導電性のオイルと、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に、前記オイルと接して設けられた導電性の親水性液体と、を有する表示部を備え、前記親水性液体と前記第１の基板の導電性の表面との間に電圧を印加し、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状を変化させることで画像を表示するエレクトロウェッティング表示装置を製造する方法であって、非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理して前記非導電性のオイルを得る処理工程を有するエレクトロウェッティング表示装置の製造方法である。
＜６＞ 前記オイルは、ナトリウムイオンの含有量が１０ｐｐｍ以下である＜５＞に記載のエレクトロウェッティング表示装置の製造方法である。
＜７＞ 前記染料が、アゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である＜５＞又は＜６＞に記載のエレクトロウェッティング表示装置の製造方法である。

本発明によれば、エレクトロウェッティング表示に用いたときに、応答性に優れ、バックフロー現象を抑制できるエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法を提供すること、及び、応答性に優れ、バックフロー現象が抑制されたエレクトロウェッティング表示装置の製造方法を提供することができる。

本発明の実施形態に係るエレクトロウェッティング表示装置の電圧オフ時の状態を示す概略断面図である。 本発明の実施形態に係るエレクトロウェッティング表示装置の電圧オン時の状態を示す概略断面図である。

≪エレクトロウェッティング表示用染料組成物及びその製造方法≫
本発明のエレクトロウェッティング表示用染料組成物（以下、単に「染料組成物」や「オイル」ともいう）の製造方法は、非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してエレクトロウェッティング表示用染料組成物を得る処理工程を有する。
また、本発明のエレクトロウェッティング表示用染料組成物は、非極性溶媒及び染料を含む混合液がイオン交換樹脂によって処理されてなるものである。

本発明の染料組成物（本発明の染料組成物の製造方法によって得られたものを含む。以下同じ。）は染料を含むことにより着色されており、かかる着色された染料組成物（オイル）により、エレクトロウェッティング表示による着色画像が形成される。

従来から、エレクトロウェッティング技術（エレクトロウェッティング表示）に関して種々の検討がなされている。
例えば、エレクトロウェッティング表示装置用の導電性液体として、特定の極性溶媒と、色素（顔料、染料、オリゴマー染料、又はポリマー染料）と、を含み、単原子イオンの総量が５００ｐｐｍ以下である導電性液体が知られている。
また、エレクトロウェッティング表示装置用の染料に含まれる不純物が、画像表示時にバックフロー現象を引き起こすこと、及び、この問題を解決する手段として染料をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する手段が有効であることが知られている
しかしながら、エレクトロウェッティング表示用の染料組成物として、非極性溶媒及び染料を含む組成物を用いる場合には、シリカゲルカラムクロマトグラフィー精製などの従来の技術のみでは、応答性が低下し、バックフロー現象が顕著となる場合があることが判明した。
この点に関し、本発明では、非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してなる染料組成物、即ち、応答性及びバックフロー現象に悪影響を及ぼすイオンの含有量が低減された染料組成物により、画像表示時の応答性が顕著に向上し、かつ、バックフロー現象が顕著に改善される。
これらの効果は、上記の染料組成物として、組成物全量に対するナトリウムイオン（Ｎａイオン）の含有量が１０ｐｐｍ以下である染料組成物を用いた場合に、特に効果的に奏される。

ここで、バックフロー現象とは、エレクトロウェッティング表示において、電圧印加した状態で保持されたときに収縮して減少した染料組成物（オイル）の面積が、経時で広がる現象である。
また、応答性は、エレクトロウェッティング表示において、電圧印加した時点から染料組成物（オイル）の面積が最も縮んだ状態に達した時点までの時間（応答時間）や、電圧印加による染料組成物（オイル）の面積の縮みの程度によって評価される。
応答時間が短いこと、及び、電圧印加による染料組成物の面積の縮みが大きいこと（即ち、電圧印加により染料組成物の面積が小さくなること）は、応答性に優れることを意味する。

本発明におけるイオン交換樹脂としては、カチオン交換樹脂であることが好ましい。
これにより、応答性及びバックフロー現象を悪化させるカチオン（特に、ナトリウムイオンやカリウムイオン等の金属イオン、中でもナトリウムイオン）が効果的に除去されるので、本発明の効果がより効果的に奏される。

本発明における処理工程は、非極性溶媒及び染料を含む混合液を、この混合液全量に対するナトリウムイオンの含有量が１０ｐｐｍ以下（より好ましくは５ｐｐｍ以下、更に好ましくは２ｐｐｍ以下、特に好ましくは１ｐｐｍ以下）となるまで処理する工程であることが好ましい。
イオンの中でも金属イオン、特にナトリウムイオンは、染料組成物に含有されたときに、応答性及びバックフロー現象を悪化させる要因となるイオンである。このナトリウムイオンの含有量を１０ｐｐｍ以下とすることにより、応答性がより顕著に向上し、バックフロー現象がより顕著に抑制される。
同様の観点から、本発明の染料組成物全量に対するナトリウムイオンの含有量は、１０ｐｐｍ以下（より好ましくは５ｐｐｍ以下、更に好ましくは２ｐｐｍ以下、特に好ましくは１ｐｐｍ以下）であることが好ましい。

なお、本発明において、「ｐｐｍ」は、質量ｐｐｍを表す。
また、本発明におけるナトリウムイオンの含有量は、イオンクロマトグラフィーによって測定された値を指す。

カチオン交換樹脂としては、スチレン系イオン交換樹脂、スチレン―ジビニルベンゼン系イオン交換樹脂等の公知のイオン交換樹脂を用いることができる。
カチオン交換樹脂としては市販品を用いることもできる。
カチオン交換樹脂の市販品としては、シグマアルドリッチ社製のアンバーリストシリーズ、三菱化学社製のダイヤイオンシリーズ、オルガノ社製のアンバーライトシリーズ等が挙げられる。

本発明において、「混合液をイオン交換樹脂によって処理」とは、混合液とイオン交換樹脂とを接触させることにより上記混合液中のイオンの含有量を低減させる操作を指す。
この操作としては、（１）上記混合液とイオン交換樹脂とを混合し、撹拌した後、ろ過によりイオン交換樹脂の除去する操作（バッチ法）や、（２）イオン交換樹脂を充填したカラムに上記混合液を通過させる操作（フロー法）、等が挙げられる。上記（１）の操作及び上記（２）の操作において、上記混合液には、さらに補助的に溶媒（補助溶媒）を添加してもよい。その場合には、イオン交換樹脂処理をした後、減圧下、補助溶媒を留去することが好ましい。このような補助溶媒としては、ノルマルヘキサン、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどが挙げられる。

上記（１）の操作の場合において、撹拌時の混合液の温度には特に制限はないが、１０℃〜８０℃であることが好ましく、１５℃〜４０℃であることがより好ましい。
上記撹拌の時間は特に制限はないが、２０分間以上が好適である。
撹拌の時間の上限には特に制限はないが、製造効率を考慮すると、撹拌の時間は１２０分間以下が好ましい。

本発明の染料組成物の製造方法は、処理工程以外のその他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、非極性溶媒及び染料を混合して混合液を得る混合工程、この混合工程の前に設けられ染料を合成する合成工程、混合工程の前に設けられ非極性溶媒中の溶存酸素を（例えばアルゴンガスバブリング等により）低減する溶存酸素低減工程、等が挙げられる。

また、本発明の染料組成物は、非導電性の染料組成物であることが好ましい。
ここで、非導電性とは、比抵抗が１０^６Ω・ｃｍ以上（好ましくは１０^７Ω・ｃｍ以上）である性質をいう。

本発明の染料組成物は、比誘電率が小さいことが好ましい。染料組成物の比誘電率は、１０．０以下の範囲が好ましく、２．０〜１０．０の範囲がより好ましい。比誘電率がこの範囲内であると、比誘電率が１０．０を超える場合と比較して、応答速度が速く、より低い電圧で駆動（動作）させ得る点で好ましい。
比誘電率は、染料組成物をセルギャップ１０μｍのＩＴＯ透明電極付きガラスセルに注入し、得られたセルの電気容量を、エヌエフ株式会社製の型式２３５３ＬＣＲメーター（測定周波数：１ｋＨｚ）を用いて２０℃、４０％ＲＨにて測定し、得られた電気容量に基づいて求められる値である。

本発明の染料組成物の粘度としては、２５℃での動的粘度で１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。中でも、粘度は、０．０１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、更には０．０１ｍＰａ・ｓ以上５ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。染料組成物の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であることで、粘度が１０ｍＰａ・ｓを超える場合と比較して、応答速度が速くより低い電圧で駆動させ得る点で好ましい。なお、動的粘度は、粘度計（５００型、東機産業（株）製）を用いて２５℃に調整して測定される値である。

本発明の染料組成物（オイル）は、エレクトロウェッティング表示において該染料組成物とともに用いられる親水性液体と、実質的に混ざり合わないことが好ましい。具体的には、染料組成物の親水性液体に対する溶解度（２５℃）が、０．１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下がより好ましく、０．００１質量％以下が特に好ましい。

本発明の染料組成物は、イオン交換樹脂による処理によってイオン（特にナトリウムイオン）の含有量が低減されているので、高い電圧保持率を示す。
本発明の染料組成物は、電極間距離を８μｍとした２枚の１０ｍｍ角の電極間に配置され、印加電圧パルス振幅５Ｖ、印加電圧パルス周波数６０Ｈｚ、及び印加電圧パルス幅１６．７ｍｓｅｃの条件で測定された電圧保持率が、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることが好ましい。
電圧保持率（％）は、上記の測定条件にて行うこと以外は、特許第４９８３６１８号公報、特許第４１５７５３９号公報等に記載の公知の方法によって測定できる。

次に、本発明の染料組成物（又は、処理工程における混合液）に含まれる各成分について説明する。

＜非極性溶媒＞
本発明の染料組成物（又は、処理工程における混合液。以下同じ）は、非極性溶媒の少なくとも一種を含む。
非極性溶媒とは、比誘電率の値が小さい溶媒（いわゆる無極性溶媒）をいう。非極性溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ−デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒（好ましくは、炭素数６〜３０の脂肪族炭化水素系溶媒）、脂肪族炭化水素系溶媒がフッ素で置換された溶媒（例えばフルオロカーボンオイル等）、シリコーン系溶媒（例えばシリコーンオイル等）などが挙げられる。中でも、脂肪族炭化水素系溶媒が好ましい。

非極性溶媒の溶存酸素は、１０ｐｐｍ以下の範囲であることが好ましい。溶存酸素量が１０ｐｐｍ以下であると、染料組成物の劣化がより抑制され、応答性がより向上する。溶存酸素量は、少ないほど好ましく、８ｐｐｍ以下であることがより好ましい。

非極性溶媒の染料組成物中に占める含有量は、染料組成物全量に対して、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましい。非極性溶媒の含有量が３０質量％以上であることで、より優れた光シャッター特性が発現される。また、染料組成物に含有される染料の溶解性がより良好に保たれる。
また、染料組成物には、非極性溶媒以外の他の溶媒が含まれてもよい。この場合、非極性溶媒の染料組成物中に占める比率は、染料組成物中の溶媒全量に対して７０質量％以上が好ましく、より好ましくは９０質量％以上である。

＜染料＞
本発明の染料組成物は、色材として、染料を少なくとも１種含有する。
染料としては、非極性溶媒に対して溶解性を有するものが好適に選択される。
染料としては、非極性溶媒に対して溶解性を有している染料であれば、特に制限されるものではなく、公知の任意な化合物を選択して用いることができる。染料は、電圧印加時の応答性の点で、２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上であり、非極性溶媒への溶解性、特に炭化水素系溶媒への溶解性に優れたものが好ましい。溶解度が１質量％以上であることで、エレクトロウェッティング表示装置に適する。前記溶解度としては、３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。溶解度は高ければ高いほど好ましいが、通常は８０質量％以下程度である。

染料の分子量として好ましい範囲は、５０〜２，０００の範囲であり、特に好ましくは１００〜１，５００の範囲であり、さらに好ましくは１００〜１，０００の範囲である。
また、染料としては、一分子内に発色団を一つ有する染料が好ましい。

本発明の染料組成物は、染料を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
前記染料の含有比率（２種以上である場合には総含有比率）は、染料組成物全量に対し、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることが好ましい。染料の含有比率が１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、画像の濃度をより高くすることができ、画像の識別性や鮮明さがより向上する。
エレクトロウェッティング表示装置のＯＤ（画像濃度）値は、高いほど画像の識別性や鮮明さがより向上する。その為、染料の極大吸収波長におけるＯＤ値は染料組成物層（オイル層）の厚みあたり、ＯＤ＝０．５／μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．８／μｍ以上、更に好ましくは１．０／μｍ以上である。
また、一般には、染料の含有比率が染料組成物全量に対し１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、電圧印加に対する染料組成物の応答性が低下しやすく、かつ、電圧印加状態でのバックフロー現象が生じやすい傾向となる。このため、本発明では、染料の含有比率が染料組成物全量に対し１０質量％以上（更には２０質量％以上）であると、本発明による応答性向上の効果及びバックフロー現象抑制の効果がより顕著に奏される。
前記染料の含有比率の上限は特に限定はないが、応答性の観点から、上限として好ましくは８０質量％であり、より好ましくは７５質量％であり、更に好ましくは７０質量％であり、特に好ましくは６０質量％である。

染料としては、炭素数６〜３０の長鎖アルキル基を有する構造を含む染料が好ましく、特に好ましくは炭素数６〜２０の長鎖アルキル基を有する構造を含む染料である。染料の構造中に炭素数６〜３０の長鎖アルキル基を有することで、非極性溶媒への溶解性が向上し、応答性がより高められる。

以下、本発明における染料の好ましい範囲について、略説する。
本発明における染料としては、本発明の効果をより効果的に奏する点で、アゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料、フタロシアニン染料、アントラキノン染料、及びポリフィリン染料からなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
本発明における染料としては、アゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。
アゾメチン染料及びメチン染料は、いわゆるドナーアクセプター型発色団を有することからイオンを取り込みやすい染料であるため、染料がアゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である場合、染料組成物中のイオンの総量が多くなる傾向がある。従って、染料がアゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である場合に、本発明の効果がより効果的に奏される。

以下、好ましい染料について、略説する。

１．アゾ染料
好ましいアゾ染料として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。

前記一般式（１）において、Ａは、芳香族基又は複素環基を表す。Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、ハロゲン原子、芳香族基、又は複素環基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立に−Ｃ（Ｒ^２）＝又は窒素原子を表し、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表し、Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合して環構造を形成してもよい。

中でも、オイル中の非極性溶媒への溶解性が高く（２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上）染料濃度の高いオイル組成とすることができる観点から、Ｒ^１、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＡの少なくとも１つが炭素数６〜３０のアルキル基を有しており、Ｒ^１、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＡがいずれも解離性基及びハロゲン原子を有しない場合が好ましい。

前記一般式（１）で表されるアゾ染料のうち、非極性溶媒に対する溶解性により優れる点で、下記一般式（１ａ）又は一般式（１ｂ）で表される化合物が好ましい。

前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）において、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表し、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、芳香族基、又は複素環基を表す。
Ｒ^３は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。中でも、Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。
Ｒ^４及びＲ^５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、芳香族基を表す。中でも、Ｒ^４及びＲ^５は、その少なくとも一方がアルキル基を表す場合が好ましく、炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基を表す場合がより好ましい。更には、Ｒ^４及びＲ^５の両方が炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基を表す場合が好ましい。
Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、芳香族基を表す。中でも、Ｒ^７は、水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基が好ましい。

前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）において、非極性溶媒に対してより良好な溶解性を示す観点から、一般式（１ａ）及び（１ｂ）の構造のうち、Ｒ^１がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ^２がアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ^３（一般式（１ａ）の場合；以下同様）が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５が水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^７（一般式（１ｂ）の場合；以下同様）が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基である場合が好ましい。更には、前記一般式（１ａ）及び（１ｂ）の構造のうち、Ｒ^１が炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ^２がシアノ基であり、Ｒ^３が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５が炭素数６〜３０（好ましくは炭素数６〜２０）のアルキル基であり、Ｒ^７が水素原子又は炭素数６〜２０のアルキル基である場合が好ましい。

また、アゾ染料は、色素の非極性溶媒への溶解性が更に向上し粘度をより低減できる点で、光学活性な炭素原子を有する化合物であってもよい。中でも、１分子中に光学活性な部位（光学活性点）が複数存在することが好ましく、光学活性な部位（光学活性点）が分子内に３個以上有することが、非極性溶媒への溶解性向上にさらに効果が高い。また、色素における光学活性点を有する置換基としては、光学活性点を有する炭素数６〜３０の分岐アルキル基、光学活性点を有する炭素数６〜３０の脂環アルキル基が挙げられる。
分子中に光学活性点を有することは、分子の化学構造を解析し、化学構造において、同一の炭素原子が有する４つの置換基が全て異なる基であるかを調べることからわかる。立体異性体の混合物であることは、対象となる光学活性点を有する色素化合物の溶液を調製して、該溶液の旋光度を測定したときに旋光度を示さない（すなわち旋光度が０°）ことから、容易に判断することができる。

以下、アゾ染料の具体例を示す。但し、本発明においては、これらの具体例に制限されるものではない。なお、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。

また、好ましいアゾ染料として、下記一般式（２）で表されるものが挙げられる。

前記一般式（２）において、Ａは、５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ_２の残基を表す。Ｂ^１及びＢ^２は、各々独立に、−ＣＲ^１＝、−ＣＲ^２＝、又は窒素原子を表し、Ｂ^１及びＢ^２が同時に窒素原子を表すことはい。Ｒ^５及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表す。Ｇ、Ｒ^１、及びＲ^２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル基又はアリール基又は複素環基で置換された置換アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、又はヘテロ環チオ基を表す。Ｒ^１とＲ^５、及び／又は、Ｒ^５とＲ^６は互いに結合して５員又は６員環を形成してもよい。

前記一般式（２）で表されるアゾ染料については、特開２００６−１２６６４９号公報の段落番号００３３〜００７１の記載を参照することができる。

アゾ系色素の合成は、細田豊著「新染料化学」（昭和４８年１２月２１日技報堂発行）、Ａ．Ｖ．Ｉｖａｓｈｃｈｅｎｋｏ著、Ｄｉｃｈｒｏｉｃ Ｄｙｅｓ ｆｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙｓ、ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ、１９９４年、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ， 第７６巻、第６０７−６１２頁、２００３年、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，第７２巻、第１２７−１３２頁、１９９９年、に記載されている方法により行なうことができる。

２．アゾメチン染料
好ましいアゾメチン染料として、下記一般式（３）で表されるものが挙げられる。

前記一般式（３）において、Ｈｅｔ^１は、解離性基を有しない環を表し、Ａｒは、解離性基を有しない芳香環又は飽和複素環を表す。
中でも、アゾメチン染料は、オイル中の非極性溶媒への溶解性が高く（２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上）染料濃度の高いオイル組成とすることができる観点から、染料分子中に炭素数が６〜３０である比較的炭素数の多い直鎖又は分岐のアルキル基を少なくとも１つ有している場合が好ましい。

以下、一般式（３）で表されるアゾメチン色素について詳述する。
一般式（３）で表されるアゾメチン色素は、分子中に−ＳＯ_３Ｈ、−ＰＯ_３Ｈ_２、−ＣＯ_２Ｈ、−ＯＨ等の解離性基（ＮＨ基を含まない）を有しない染料であることが好ましい。これにより、非極性溶媒に対する溶解性がより向上する。
非極性溶媒への溶解性により優れる観点からは、このアゾメチン色素は、その分子中に炭素数６〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基を有していることが好ましい。
上記アゾメチン色素が分子中に前記直鎖又は分岐のアルキル基を有している場合、該アルキル基は、前記同様の理由から、炭素数６〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、該炭素数は６〜１０が更に好ましい。

前記一般式（３）において、Ｈｅｔ^１で表される環としては、５員もしくは６員の炭化水素環、又は５員もしくは６員の複素環が挙げられる。該環の例として、ベンゼン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピロロトリアゾール環、ナフタレン環、ピリドン環、バルビツール環などが挙げられる。

Ｈｅｔ^１で表される環は、無置換でも置換されていてもよい。Ｈｅｔ^１が置換されている場合の置換基としては、解離性基を除く置換基の中から適宜選択することができる。該置換基の具体例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、−ＣＯＯＲ^１１、−ＣＯＮＲ^１１Ｒ^１２〔Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ^１１及びＲ^１２は互いに結合して５員環、６員環、又は７員環を形成してもよい。〕が挙げられる。
この置換基における、アルキル基、アルコキシ基、及びアリール基は、後述する一般式（３−２）のＲ^１におけるアルキル基、アルコキシ基、及びアリール基とそれぞれ同義であり、これらの好ましい態様も同様である。

Ａｒで表される芳香環、飽和複素環としては、５員又は６員の環が好ましく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピロール環、インドール環、ピリジン環、キノリン環、ピラジン環、キノキサリン環、チアゾール環、チアゾリン環、オキサゾール環、オキサゾリン環、イミダゾール環等の芳香環、並びにピロリジン環、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリン、オキサゾリン、イミダゾリン等の飽和複素環が好適に挙げられる。
中でも、Ａｒとしては、ベンゼン環、ピロール環、インドール環がより好ましい。

Ａｒで表される芳香環、飽和複素環は、無置換でも置換されていてもよい。Ａｒが置換されている場合の置換基としては、解離性基を除く置換基の中から適宜選択することができ、具体例として、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。アルキル基、アルコキシ基、及びアリール基は、後述する一般式（３−２）のＲ^１におけるアルキル基、アルコキシ基、及びアリール基とそれぞれ同義であり、これらの好ましい態様も同様である。

前記一般式（３）で表されるアゾメチン色素の中でも、下記一般式（３−２）で表されるアゾメチン色素が好ましい。

前記一般式（３−２）において、Ｈｅｔ^２は、解離性基を有しないカプラー母核を表す。Ｈｅｔ^２で表されるカプラー母核は、色素が色を呈するために必要な分子構造（発色団（母体骨格））のことである。すなわち、カプラー母核は、化合物中において連続する不飽和結合により構成された部分構造（共役系を形成するに必要な部分構造）であり、例えば、芳香族、＞Ｃ＝Ｃ＜、＞Ｃ＝Ｏ、＞Ｃ＝Ｎ−、＞Ｎ＝Ｎ＜、等が連結した構造部分である。カプラー母核の具体的な例として、イソオキサゾロン骨格、ピラゾロン骨格、ピラゾロトリアゾール骨格、ピロロトリアゾール骨格、ベンゾキノン骨格、ナフトキノン骨格、ピリドン骨格、バルビツール骨格、ピリミジン骨格、チオバルビツール骨格、アニリド骨格等が挙げられる。

具体的には、カプラー母核として、５員もしくは６員の炭化水素環、又は５員もしくは６員の複素環を含む分子骨格が好適であり、炭化水素環又は複素環の例として、ベンゼン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピロロトリアゾール環、ナフタレン環、ピリドン環、バルビツール環、チオバルビツール環、ピリミジン環などが挙げられる。中でも、カプラー母核としては、例えば、ベンゼン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピロロトリアゾール環、ナフタレン環が好適に挙げられる。

一般式（３−２）中、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を表す。Ｒ^１で表される基には、解離性基は含まれない。

一般式（３−２）中、Ｒ^１で表されるアルキル基は、無置換でも置換基を有してもよく、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ノルマルブチル基、第３ブチル基、１−メチルシクロプロピル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ノルマルノニル基、ノルマルウンデシル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、エトキシカルボニルメチル基、パーフルオロアルキル基（例えばパーフルオロメチル基）などが好適に挙げられる。中でも、炭素数１〜１５（更には炭素数１〜１０）のアルキル基がより好ましく、特に好ましくはメチル基、エチル基、第３ブチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基である。

一般式（３−２）中、Ｒ^１で表されるアルコキシ基は、無置換でも置換基を有してもよく、炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルブトキシ基、第３ブトキシ基、３−ヘプチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノルマルノニルオキシ基、ノルマルウンデシルオキシ基、クロロメチルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、パーフルオロアルキルオキシ基（例えばパーフルオロメトキシ基）などが好適に挙げられる。中でも、炭素数１〜１５（更には炭素数１〜１０）のアルコキシ基がより好ましく、特に好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基である。

一般式（３−２）中、Ｒ^１で表されるアリール基は、無置換でも置換基を有してもよく、炭素数６〜２０のアリール基が好ましい。アリール基の例としては、フェニル基、４−メトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、４−ジブチルアミノフェニル基、４−（２−エチルヘキサノイルアミノフェニル基、４−ヘキシルフェニル基などが好適に挙げられる。中でも、炭素数６〜１６（更には炭素数６〜１２）のアリール基がより好ましく、特に好ましくはフェニル基である。

一般式（３−２）中、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立にアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３で表される基には、解離性基は含まれない。

一般式（３−２）中、Ｒ^２、Ｒ^３で表されるアルキル基は、無置換でも置換基を有してもよく、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ノルマルブチル基、第３ブチル基、１−メチルシクロプロピル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ノルマルノニル基、ノルマルウンデシル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、エトキシカルボニルメチル基、パーフルオロアルキル基（例えばパーフルオロメチル基）などが好適に挙げられる。中でも、炭素数６〜３０のアルキル基がより好ましく、更に好ましくは炭素数６〜２０のアルキル基であり、特に好ましくはヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基等である。

一般式（３−２）中、Ｒ^２、Ｒ^３で表されるアリール基は、無置換でも置換基を有してもよく、炭素数６〜１６のアリール基が好ましい。アリール基の例としては、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ジブチルアミノフェニル基、４−（２−エチルヘキサノイルアミノフェニル基、４−ヘキシルフェニル基などが好適に挙げられる。中でも、炭素数６〜１２のアリール基がより好ましく、特に好ましくはフェニル基である。

一般式（３−２）中、Ｒ^１〜Ｒ^３で表される各基が置換基を有する場合、該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等を挙げることができる。

前記一般式（３−２）においては、分子中のＨｅｔ^２及びＲ^１〜Ｒ^３における基の少なくとも１つが、炭素数６〜３０の比較的炭素数の多い直鎖又は分岐のアルキル基を有していることが好ましい。これより、アゾメチン色素は、非極性溶媒に対してより良好な溶解性を示す。
かかる観点から、一般式（３−２）の構造のうち、Ｒ^１が水素原子、メチル基、メトキシ基であり、Ｒ^２及びＲ^３の一方又は両方が、炭素数６〜２０（更には炭素数６〜１２）の直鎖又は分岐のアルキル基を表す構造が特に好ましい。

アゾメチン染料の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。なお、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。

前記ＥＳＴ１は、下記の構造を表す。

また、アゾメチン染料の具体例としては、後述の実施例における染料２も挙げられる。

本発明におけるアゾメチン染料の合成は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），１９５７年、７９巻、５８３頁、特開平９−１００４１７号公報、特開２０１１−１１６８９８号公報、特開２０１１−１２２３１号公報、 特開２０１０−２６０９４１号公報、特開２００７−２６２１６５号公報に記載の方法に準じて行なうことができる。

３．メチン染料
好ましいメチン染料として、下記一般式（４）で表されるものが挙げられる。

一般式（４）において、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、−ＣＯＯＲ^１１、又は−ＣＯＮＲ^１１Ｒ^１２を表し、Ａｒは芳香族基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３は、各々独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ^１１、Ｒ^１２は、互いに結合して５員環、６員環、又は７員環を形成してもよい。ｎは、０〜２の整数を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＡｒは、解離性基を有しない。Ｘは、酸素原子もしくはＮ−Ｒ^１３であり、Ｒ^１３は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
一般式（４）におけるアルキル基又はアルコキシ基の炭素数は、それぞれ、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜２０であり、更に好ましくは１〜１５であり、特に好ましくは１〜１０である。
一般式（４）におけるアリール基の炭素数は、好ましくは６〜３０であり、より好ましくは６〜２０であり、更に好ましくは６〜１６であり、特に好ましくは６〜１２である。
但し、メチン染料は、オイル中の非極性溶媒への溶解性が高く（２５℃、０．１ＭＰａにおけるｎ−ヘキサンへの溶解度が１質量％以上）染料濃度の高いオイル組成とすることができる観点から、染料分子中に炭素数が６〜３０（好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２）である比較的炭素数の多い直鎖又は分岐のアルキル基を少なくとも１つ有している場合が好ましい。

一般式（４）で表されるメチン染料としては、下記一般式（４−２）で表されるメチン染料が好ましい。

一般式（４−２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｘ、及びｎは、それぞれ、一般式（４）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｘ、及びｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（４−２）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ、前述の一般式（３−２）（アゾメチン染料）におけるＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（４−２）において、分子中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^２１、Ｒ^２２、及びＲ^２３から選ばれる基の少なくとも１つが、炭素数６〜３０の比較的炭素数の多い直鎖又は分岐のアルキル基を有していることが好ましい。これより、メチン色素は、非極性溶媒に対して良好な溶解性を示す。

一般式（４−２）の構造のうち、Ｘが酸素原子であり、Ｒ^１が水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）又はアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基）であり、ｎが０であり、Ｒ^２１が水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）又はアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基）であり、Ｒ^２２及びＲ^２３の一方又は両方が、炭素数６〜１６（更には炭素数６〜１２）の直鎖又は分岐のアルキル基である場合が好ましい。

メチン染料の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限される物ではない。なお、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチルを、Ｂｕはブチルを、Ｐｈはフェニルをそれぞれ表す。

前記ＥＴ１は、下記の構造を表す。

また、メチン染料の具体例としては、後述の実施例における染料１も挙げられる。

これらの化合物は、特許第２７０７３７１号、並びに特開平５−４５７８９号、特開２００９−２６３５１７号、及び特開平３−７２３４０号の各公報などに示す公知の方法で製造することができる。

４．フタロシアニン染料
フタロシアニン染料としては、炭素数６以上のアルキル基を有するものが好ましい。具体例としては、例えば、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｅｘｐｒｅｓｓ、第４巻、第２１６０４頁、２０１１年、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ，第１８３巻、第４１１頁、１９９０年、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ，第２６０巻、第２５５頁、１９９５年に記載されているものや、特開２００６−１３３５０８号公報に記載の一般式（Ｃ１）で表される色素などが適宜用いられる。

５．アントラキノン染料
好ましいアントラキノン染料として、下記一般式（５）で表されるものが挙げられる。

前記一般式（５）において、Ｒ^１，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^８は、各々独立に、水素原子、ＮＲ^１１Ｒ^１２、アルキルチオ、アリールチオ、アルコキシ、アリールオキシ基を表し、Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^６，Ｒ^７は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表すが、Ｒ^１１とＲ^１２とが同時に水素原子を表すことはない。一般式（５）では、炭素数４以上のアルキル基を有する形態が好ましい。具体例としては、ＷＯ２００８／１４２０８６号記載のものが挙げられる。
アントラキノン染料の合成は、細田豊著「新染料化学」（昭和４８年１２月２１日技報堂発行）、Ａ．Ｖ．Ｉｖａｓｈｃｈｅｎｋｏ著、Ｄｉｃｈｒｏｉｃ Ｄｙｅｓ ｆｏｒ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙｓ、ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ、１９９４年に記載されている方法により行なうことができる。

６．ポルフィリン染料
好ましいポルフィリン染料として、下記一般式（６）で表されるものが挙げられる。

一般式（６）中、Ａ^１〜Ａ^４は、それぞれ独立に、窒素原子、又は−Ｃ（Ｒ^１）＝を表し、Ｍは、金属原子、金属酸化物、金属水酸化物、金属ハロゲン化物、又は、２個の水素原子を表し、−Ｘ−Ｒは、ピロール環に置換する一価の基を表す。
一般式（６）中、Ｒは、炭素数４〜３０のアルキル基を表し、Ｘは、単結合、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｎは、１〜８の整数を表す。
一般式（６）中、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は−Ｘ^１１−Ｒ^１１を表し、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
一般式（６）中、Ｒ^１１は、炭素数４〜３０のアルキル基を表し、Ｘ^１１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ^１２）−を表す。
一般式（６）中、Ｒ^１２は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。

一般式（６）中、Ａ^１〜Ａ^４は、それぞれ独立に、窒素原子（−Ｎ＝）、又は−Ｃ（Ｒ^１）＝を表す。
ここで、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アリール基、又は−Ｘ^１１−Ｒ^１１を表す。
前記Ｒ^１がアルキル基である場合における該アルキル基としては、炭素数１〜２０（より好ましくは１〜１５）のアルキル基が好ましい。前記アルキル基は、直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であっても環状アルキル基であってもよい。また、前記アルキル基は、必要に応じ、後述する置換基によって置換されていてもよい。
前記Ｒ^１がアリール基である場合における該アリール基としては、炭素数６〜２０（より好ましくは６〜１５）のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。前記アリール基は、必要に応じ、後述する置換基によって置換されていてもよい。
前記Ｒ^１が−Ｘ^１１−Ｒ^１１である場合における該Ｘ^１１及び該Ｒ^１１については後述する。
前記特定ポルフィリン系染料のうち、前記Ａ^１〜前記Ａ^４が窒素原子（−Ｎ＝）である染料は、紫〜シアンの色相の染料として好適であり、前記Ａ^１〜前記Ａ^４が−Ｃ（Ｒ^１）＝である染料は、イエローの色相の染料として好適である。

一般式（６）中、Ａ^１〜Ａ^４は、本発明の効果をより効果的に奏する観点より、窒素原子が好ましい。

一般式（６）中、Ｍは、金属原子、金属酸化物、金属水酸化物、金属ハロゲン化物、又は、２個の水素原子を表す。
前記金属原子としては、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、等が挙げられる。
前記金属酸化物としては、ＶＯ、ＴｉＯ、等が挙げられる。
前記金属水酸化物としては、Ｓｉ（ＯＨ）_２等が挙げられる。
前記金属ハロゲン化物としては、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ_２、ＳｎＣｌ_２、ＳｉＣｌ_２、ＧｅＣｌ_２、等が挙げられる。
前記Ｍとしては、色相及びモル吸光係数の観点からは、金属原子、金属ハロゲン化物、又は、２個の水素原子が好ましく、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＡｌＣｌ、又は、２個の水素原子がより好ましく、Ｍｇ又は２個の水素原子が特に好ましい。

一般式（６）中、−Ｘ−Ｒは、一般式（６）中に４つ含まれるピロール環に置換する一価の基を表す。一般式（６）で表されるポルフィリン系染料において、−Ｘ−Ｒによって置換可能な位置は８箇所（各ピロール環の３位及び４位）である。
一般式（６）において、ｎは、−Ｘ−Ｒの数を表す。
前記ｎは、１〜８の整数を表すが、本発明の効果をより効果的に奏する観点からは、４〜８の整数が好ましく、６〜８の整数がより好ましく、８が最も好ましい。
前記ｎが２以上の整数である場合、２以上存在する−Ｘ−Ｒは、同一であっても異なっていてもよい。

前記−Ｘ−Ｒにおいて、Ｒは、炭素数４〜３０のアルキル基を表す。
Ｒで表されるアルキル基の炭素数が３未満であると、染料の溶解性が不足する場合や、応答性が低下する場合、バックフロー現象が顕著となる場合がある。
Ｒで表されるアルキル基の炭素数が３０を超えると、染料の分子量が大きくなり、染料の溶解性やモル吸光係数が低下する場合がある。
前記Ｒで表されるアルキル基の炭素数は、４〜２０が好ましく、８〜１０が特に好ましい。
前記Ｒで表されるアルキル基は、直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であっても環状アルキル基であってもよいが、染料の溶解性の観点からは、分岐アルキル基であることが好ましい。更には、炭素数４〜２０（より好ましくは炭素数８〜１０）の分岐アルキル基であることが特に好ましい。
前記Ｒで表されるアルキル基は、必要に応じ、後述の置換基によって置換されていてもよい。例えば、応答性向上及びバックフロー抑制の観点からは、前記Ｒで表されるアルキル基が、フッ化アルキル基であることも好ましい。

前記−Ｘ−Ｒにおいて、Ｘは、単結合、酸素原子（−Ｏ−）、硫黄原子（−Ｓ−）、又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表す。
前記Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
前記Ｒ^２がアリール基である場合における該アリール基は、前記Ｒ^１の説明で述べたアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
前記Ｒ^２がアルキル基である場合における該アルキル基は、前記Ｒ^１の説明で述べたアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
前記Ｘとしては特に限定はないが、色相の観点からは、単結合、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、単結合又は硫黄原子が特に好ましい。

前記Ｒ^１が−Ｘ^１１−Ｒ^１１である場合において、該Ｒ^１１は、炭素数４〜３０のアルキル基を表し、該Ｘ^１１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ^１２）−を表す。該Ｒ^１２は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
前記Ｒ^１１及び前記Ｒ^１２は、それぞれ、前記Ｒ及び前記Ｒ^２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、前記Ｘ^１１の好ましい範囲は、前記Ｘの好ましい範囲と同様である。

前記一般式（６）で表されるポルフィリン系染料（特定ポルフィリン系染料）は、必要に応じ、置換基によって置換されていてもよい。該置換基による置換位置には特に制限はないが、例えば、前記Ｒ、前記Ｒ^１、前記Ｒ^２が挙げられる。更には、４つのピロール環のうち前記−Ｘ−Ｒによって置換されていない箇所が挙げられる。
特に、応答性向上及びバックフロー抑制の観点からは、前記特定ポルフィリン系染料が、フッ素原子によって置換されていることも好ましい。

＜その他の成分＞
本発明の染料組成物（又は混合液）は、必要に応じて、他の成分として、上記の各染料以外の他の着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分を含有する場合、その含有量は特に制限されるものではないが、通常は染料組成物の全質量に対して２０質量％以下程度で用いられる。

以上で説明した、本発明の染料組成物は、エレクトロウェッティング表示に用いられるものである。
本発明の染料組成物は、エレクトロウェッティング表示装置のオイルとして特に好適に用いられる。
このエレクトロウェッティング表示装置の特に好ましい形態としては、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第１の基板と、前記第１の基板の導電性の表面に対向させて配置された第２の基板と、前記第１の基板の導電性の表面を有する面側の少なくとも一部に配設された疎水性絶縁膜と、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に疎水性絶縁膜上を移動可能に設けられ、非極性溶媒及び染料を含む混合液がイオン交換樹脂によって処理されてなる非導電性のオイルと、前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に、前記オイルと接して設けられた導電性の親水性液体と、を有する表示部を備え、前記親水性液体と前記第１の基板の導電性の表面との間に電圧を印加し、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状を変化させることで画像を表示するエレクトロウェッティング表示装置の形態が挙げられる。
かかる好ましい形態については、以下の「エレクトロウェッティング表示装置」の項で説明する。

≪エレクトロウェッティング表示装置≫
以下、図面を参照して、本発明のエレクトロウェッティング表示装置の実施形態について詳細に説明する。但し、本発明においては、下記の実施形態に制限されるものではない。

本発明のエレクトロウェッティング表示装置の実施形態を、図１〜図２を参照して説明する。本実施形態は、導電性を有する第１の基板としてＩＴＯ付ガラス基板を用い、オイルを構成する非極性溶媒としてデカンを、親水性液体として電解質水溶液を用いた構成となっている。

図１に示すように、本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００は、導電性を有する基板（第１の基板）１１と、基板１１に対向させて配置された導電性を有する基板（第２の基板）１２と、基板１１上に配設された疎水性絶縁膜２０と、疎水性絶縁膜２０及び基板１２間のシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとにより区画された領域に充填された親水性液体１４及びオイル１６とを備えている。疎水性絶縁膜２０と基板１２との間がシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとで区画された領域は、オイル１６の移動により画像表示を行なう表示部（表示セル）として構成されている。
このオイル１６は染料組成物であり、非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してなるものである。
これにより、前述のとおり、応答性が向上し、バックフロー現象が抑制される。
オイル１６としての染料組成物の好ましい範囲は、前述の「エレクトロウェッティング表示用染料組成物及びその製造方法」の項で説明したとおりである。

基板１１は、基材１１ａと、基材１１ａに設けられ、導電性を有する導電膜１１ｂとを有しており、基板表面の全面が導電性を示すように構成されている。また、基板１２は、基板１１と対向する位置に配設されている。基板１２は、基板１１と同様に、基材１２ａと、基板１２ａに設けられ、導電性を有する導電膜１２ｂとを有しており、基板表面の全面が導電性を示すように構成されている。本実施形態では、基板１１及び基板１２は、透明性のガラス基板と、その上に設けられた透明性のＩＴＯ膜とで構成されている。

基材１１ａ及び基材１２ａは、装置の表示形態に応じて、透明性材料又は不透明材料のいずれを用いて形成されたものでもよい。画像を表示する観点からは、基材１１ａ及び基材１２ａの少なくとも一方は、光透過性を有していることが好ましい。具体的には、基材１１ａ及び基板１２の少なくとも一方が、３８０ｎｍ〜７７０ｎｍの波長領域全域において８０％以上（より好ましくは９０％以上）の透過率を有していることが好ましい。

基材１１ａ及び基材１２ａに用いる材料の例としては、ガラス基板（例えば、無アルカリガラス基板、ソーダガラス基板、パイレックス（登録商標）ガラス基板、石英ガラス基板等）、プラスチック基板（例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板、ポリカーボネート（ＰＣ）基板、ポリイミド（ＰＩ）基板等）、アルミ基板やステンレス基板等の金属基板、シリコン基板等の半導体基板等を用いることができる。中でも、光透過性の観点から、ガラス基板又はプラスチック基板が好ましい。
また、基材として、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が設けられたＴＦＴ基板を用いることもできる。この場合、導電膜がＴＦＴに接続された形態（すなわち、導電膜がＴＦＴに接続された画素電極である形態）が好適である。これにより、画素ごとに独立して電圧を印加できるようになり、ＴＦＴを備えた公知の液晶表示装置と同様に、画像表示装置全体のアクティブ駆動が可能となる。
ＴＦＴ基板における、ＴＦＴ、各種配線、積蓄容量等の配置については、公知の配置とすることができ、例えば、特開２００９−８６６６８号公報に記載された配置を参照することができる。

導電膜１１ｂ及び導電膜１２ｂは、装置の表示形態に応じて、透明性の膜又は不透明膜のいずれであってもよい。導電膜は、導電性を有する膜のことであり、導電性とは、電圧を印加できる程度の電気伝導性を有していればよく、表面抵抗が５００Ω／□以下（好ましくは７０Ω／□以下、より好ましくは６０Ω／以下、更に好ましくは５０Ω／□以下）の性質を有していることをいう。

導電膜は、銅膜などの不透明な金属膜、又は透明膜のいずれでもよいが、光透過性を与えて画像表示を行なう観点からは、透明導電膜が好ましい。透明導電膜は、３８０ｎｍ〜７７０ｎｍの波長領域全域において８０％以上（より好ましくは９０％以上）の透過率を有していることが好ましい。透明導電膜の例としては、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、及び酸化マグネシウムの少なくとも１種を含む膜が挙げられる。中でも、透明導電膜としては、光透過性及び導電性の点で、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含む膜が好ましい。
ＩＴＯを含む膜における酸化スズの含有量は、抵抗値を小さくする点で、５〜１５質量％の範囲が好ましく、８〜１２質量％の範囲がより好ましい。

導電膜の比抵抗としては、特に制限はなく、例えば、１．０×１０^−３Ω・ｃｍ以下とすることができる。

好ましい形態として、基板１２の導電膜１２ｂに表示画素をなす複数の表示セルに対して共通の電位を付与する一方、基板１１の導電膜１１ｂには表示画素（表示セル）毎に独立した電位を付与することで、各表示セル（画素）に独立した電圧を印加する形態が挙げられる。この形態については、公知の液晶表示装置の形態を参照することができる。

本実施形態では、基板１２は、基板１１と同様に導電性を有する基板として配設されているが、基板１２は導電膜を設けずに導電性を有しない態様でもよく、導電膜１１ｂと親水性液体１４との間で電圧印加するようにしてもよい。この場合、基板１２の構成に特に制限はなく、例えば上記の基材１２ａに用いられる例として挙げた材料を用いることができる。

疎水性絶縁膜２０は、基板１１の導電膜１１ｂの全面に亘って設けられており、少なくともオイル１６と接している。この疎水性絶縁膜は、電圧が印加されていないときは（画像非表示時）、主としてオイルと接触した状態にあり、電圧が印加されたときは（画像表示時）、オイルがその表面を移動し、オイルが存在しなくなった領域は親水性液体と接触している状態となる。

疎水性とは、水を接触させたときの接触角が６０°以上である性質をいう。この接触角は、好ましくは接触角が７０°以上（より好ましくは８０°以上）である。
接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさの水滴をつくり、針先から水滴を出して、疎水性絶縁膜に接触させて水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴から水滴の形状を観察したときの接触角θ（２５℃）から求められる。

絶縁膜の「絶縁」とは、比抵抗が１０^７Ω・ｃｍ以上である性質をいい、好ましくは比抵抗が１０^８Ω・ｃｍ以上（より好ましくは１０^９Ω・ｃｍ以上）である性質をいう。

疎水性絶縁膜は、オイル１６との間で親和性を示し、親水性液体１４との親和性が低い絶縁膜を用いることができるが、電圧印加を繰り返すことでオイルを移動させることにより生じる膜劣化を抑制する観点から、多官能性化合物に由来する架橋構造を有する膜が好ましい。中でも、疎水性絶縁膜は、重合性基を２つ以上有する多官能性化合物に由来する架橋構造を有する膜がより好ましい。架橋構造は、多官能性化合物の少なくとも１種を（必要に応じ他のモノマーとともに）重合させることにより好適に形成される。
本実施形態では、５員環状パーフルオロジエンを共重合した共重合体で構成されている。

多官能性化合物は、分子中に重合性基を２つ以上有する化合物である。重合性基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、縮合重合性基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２等が好ましい。また、多官能性化合物に含まれる２つ以上の重合性基は、同一であっても互いに異なっていてもよい。
架橋構造の形成において、多官能性化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。

多官能性化合物としては、公知の多官能の重合性化合物（ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、縮合重合性化合物等）を用いることができる。多官能性化合物としては、例えば、多官能アクリレートとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。

多官能性化合物としては、上記以外にも、例えば、特開２００８−１８１０６７号公報の段落００３１〜００３５、特開２００８−１３９３７８号公報の段落０１４９〜０１５５、特開２０１０−１３４１３７号公報の段落０１４２〜０１４６等に記載の公知の重合性化合物の中から、多官能の重合性化合物を適宜選択して用いることができる。

多官能性化合物は、分子中に重合性基を３つ以上（好ましくは４つ以上、より好ましくは５つ以上）有することが好ましい。これにより、膜中における架橋構造の密度を更に増加させることができるので、電圧印加を繰り返したときの疎水性絶縁膜の劣化がさらに抑制される。

多官能性化合物としては、含フッ素化合物が好ましく、フッ素含有率が分子量の３５質量％以上（好ましくは４０質量％以上、より好ましくは４５質量％以上）である多官能性化合物がより好ましい。多官能性化合物がフッ素原子を（特にフッ素含有率が分子量の３５質量％以上）含むことにより、疎水性絶縁膜の疎水性がより向上する。多官能性化合物におけるフッ素含有率の上限には特に制限はないが、上限は、例えば分子量の６０質量％（好ましくは５５質量％、より好ましくは５０質量％）とすることができる。
多官能性化合物である含フッ素化合物としては、例えば、特開２００６−２８２８０号公報の段落０００７〜００３２に記載された含フッ素化合物を用いることができる。

多官能性化合物の重合方法は、好ましくは塊状重合又は溶液重合である。
重合の開始方法は、重合開始剤（例えばラジカル開始剤）を用いる方法、光又は放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法、加熱により脱水縮合させる方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版（日刊工業新聞社刊、１９７１年）や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和４７年、１２４〜１５４頁に記載されている。

疎水性絶縁膜は、多官能性化合物を含有する硬化性組成物を用いて好適に作製される。硬化性組成物に含まれる多官能性化合物は、１種又は２種以上のいずれでもよく、硬化性組成物は、さらに単官能性化合物を含んでもよい。単官能性化合物としては、公知の単官能モノマーを用いることができる。

硬化性組成物中における多官能性化合物の含有量（２種以上である場合には総含有量；以下同じ）は特に制限はないが、硬化性の観点からは、硬化性組成物の全固形分に対し、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。全固形分とは、溶剤を除いた全成分をいう。

硬化性組成物は、さらに溶剤の少なくとも１種を含むことが好ましい。溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタムなどが挙げられる。
硬化性組成物中における溶剤の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、硬化性組成物の全質量に対して、２０〜９０質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましい。

硬化性組成物は、さらに重合開始剤の少なくとも１種を含むことが好ましい。重合開始剤としては、熱及び光の少なくとも一方の作用によりラジカルを発生する重合開始剤が好ましい。
熱の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、ジアゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロペルオキシドが挙げられる。無機過酸化物としては、例えば、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、有機アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等が、ジアゾ化合物としては、例えばジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。

光の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、ヒドロキシアルキルフェノン類、アミノアルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類などの化合物が挙げられる。
ヒドロキシアルキルフェノン類の例には、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが含まれる。
アミノアルキルフェノン類の例には、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが含まれる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノンが含まれる。
ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
また、これらの重合開始剤と併用して増感色素を用いることもできる。

重合開始剤の含有量は特に制限されないが、硬化性組成物の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜１０質量％であり、特に好ましくは２〜５質量％である。

硬化性組成物は、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、無機酸化物微粒子、シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤等が挙げられる。
その他の成分を含有する場合、その含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０〜３０質量％の範囲であることが好ましく、０〜２０質量％の範囲であることがより好ましく、０〜１０質量％の範囲であることが特に好ましい。

疎水性絶縁膜の膜厚は、特に制限されるものではないが、５０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。疎水性絶縁膜の膜厚が上記範囲であると、絶縁性と駆動電圧とのバランスの点で好ましい。

〜疎水性絶縁膜の形成方法〜
疎水性絶縁膜は、下記の方法により好適に作製できる。すなわち、
基板１１の導電性が付与されている面（本実施形態では基板１１の導電膜１１ｂの表面）に、多官能性化合物を含有する硬化性組成物を付与して硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層中の多官能性化合物を重合させて該硬化性層を硬化させる硬化工程とを有する方法である。このような方法により、架橋構造を有する疎水性絶縁膜が形成される。

基板１１上に硬化性層である疎水性絶縁膜２０を形成する場合、公知の塗布法又は転写法により行なうことができる。
塗布法による場合、基板１１上に硬化性組成物を塗布し（好ましくは乾燥させて）硬化性層を形成する。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の方法を用いることができる。
転写法による場合、あらかじめ硬化性組成物を用いて形成された硬化性層を有する転写材料を準備しておき、該転写材料の硬化性層を基板１１上に転写することにより、基板１１上に硬化性層を形成する。転写法の詳細については、例えば、特開２００８−２０２００６号公報の段落００９４〜０１２１や特開２００８−１３９３７８号公報の段落００７６〜００９０を参照することができる。

硬化性層の硬化（多官能性化合物の重合）は、例えば、活性エネルギー線の照射（以下、露光ともいう）及び加熱の少なくとも一方を施すことにより行なえる。
露光に用いられる活性エネルギー線としては、例えば、紫外線（ｇ線、ｈ線、ｉ線等）、電子線、Ｘ線が好ましく用いられる。露光は、プロキシミティ方式、ミラープロジェクション方式、ステッパー方式等の公知の露光装置を用いて行なってもよい。露光時の露光量は、例えば、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることができ、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。
露光の際には、所定のフォトマスクを介して露光し、次いでアルカリ溶液などの現像液を用いて現像することにより、所望とするパターンにパターニングされた疎水性絶縁膜を得ることも可能である。
また、加熱は、例えば、ホットプレートや炉を用いた公知の方法により行なうことができる。加熱温度は適宜設定できるが、例えば１００℃〜２８０℃とすることができ、１５０℃〜２５０℃が好ましい。加熱時間も適宜設定できるが、例えば、２分〜１２０分とすることができ、５分〜６０分が好ましい。

本実施形態において、疎水性絶縁膜２０と基板１２との間には、親水性液体１４とオイル１６とが注入されている。

親水性液体１４とオイル１６とは、互いに混じり合わない液体であり、図１〜図２に示すように、界面１７Ａ又は界面１７Ｂを境に互いに分離して存在している。なお、図１〜図２において、界面１７Ａは、電圧オフ状態での親水性液体１４とオイル１６との界面を表し、界面１７Ｂは、電圧オン状態における親水性液体１４とオイル１６との界面を表す。

次に、親水性液体１４について説明する。
親水性液体１４は、導電性の親水性液体である。導電性とは、比抵抗１０^５Ω・ｃｍ以下（好ましくは１０^４Ω・ｃｍ以下）の性質をいう。

親水性液体は、水性溶媒を含み、必要に応じ、更に電解質を含んで構成される。
電解質としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、テトラブチルアンモニウムクロリド等の塩が挙げられる。親水性液体中における電解質の濃度は、０．１〜１０ｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１〜５ｍｏｌ／Ｌがより好ましい。
水性溶媒としては、水及びアルコールの少なくとも一方を含むことが好適である。アルコールとしては、エタノール、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
水性溶媒は、水及びアルコール以外のその他の成分を含んでいてもよい。
水性溶媒は、界面活性剤を実質的に含まない方が応答性の観点から好ましい。

エレクトロウェッティング表示装置１００には、導電膜１１ｂと親水性液体１４を介して導電膜１２ｂとの間に電圧を印加するための電源２５（電圧印加手段）及びこの電圧をオン／オフするためのスイッチ２６が電気的に接続されている。

本実施形態では、基板１２に設けられている導電膜１２ｂに電圧印加することで、親水性液体１４への電圧（電位）の印加が行なえるようになっている。このように、本実施形態では、基板１２の親水性液体１４に接する側の表面が導電性を有する構成（基材１２ａの親水性液体１４に接する側に導電膜としてＩＴＯ膜が存在する構成）となっているが、この形態に限られるものではない。例えば、基板１２に導電膜１２ｂを設けずに親水性液体１４中に電極を差し込んで、差し込まれた電極によって親水性液体１４に電圧（電位）を印加するようにしてもよい。

次に、エレクトロウェッティング表示装置１００の動作（電圧オフ状態及び電圧オン状態）について説明する。

図１に示すように、電圧オフ状態では、疎水性絶縁膜２０とオイル１６との親和性が高いことから、疎水性絶縁膜２０の全面にオイル１６が接した状態となっている。エレクトロウェッティング表示装置１００のスイッチ２６をオンして電圧が印加されると、親水性液体１４とオイル１６との界面は、図１の界面１７Ａから図２に示す界面１７Ｂに変形する。このとき、疎水性絶縁膜２０とオイル１６との接触面積が減少し、図２に示すようにオイル１６がセルの端に移動する。この現象は、電圧印加により疎水性絶縁膜２０の表面に電荷が発生し、この電荷によって、親水性液体１４が、疎水性絶縁膜２０に接していたオイル１６を押しのけて疎水性絶縁膜２０に接触するために生じる現象である。
エレクトロウェッティング表示装置１００のスイッチ２６をオフし、電圧の印加をオフ状態とすると、再び図１の状態に戻る。
エレクトロウェッティング表示装置１００では、図１及び図２に示す動作が繰り返し行なわれる。

上記では、エレクトロウェッティング表示装置の実施形態について、図１及び図２を参照して説明したが、本実施形態に限定されるものではない。
例えば、図１及び図２では、基板１１において、導電膜１１ｂが基材１１ａの表面全体に亘って設けられているが、導電膜１１ｂが基材１１ａの表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。また、基板１２では、導電膜１２ｂが基材１２ａの表面全体に亘って設けられているが、導電膜１２ｂが基材１２ａの表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。

また、実施形態において、オイル１６に染料を含めて所望の色（例えば、黒、赤、緑、青、シアン、紫、マゼンタ、イエロー等；好ましくは、シアン、紫、又はイエロー）に着色することにより、エレクトロウェッティング表示装置の画像表示を担う画素として機能させることができる。この場合、オイル１６が、例えば、画素のオン状態及びオフ状態を切り替える光シャッターとして機能する。この場合、エレクトロウェッティング表示装置は、透過型、反射型、半透過型のいずれの方式に構成されてもよい。

また、本実施形態におけるエレクトロウェッティング表示装置は、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方の外側（オイルに対向する面の反対側）に、紫外線カット層を有していてもよい。これにより、表示装置の耐光性を更に向上させることができる。
紫外線カット層としては公知のものを用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する紫外線カット層（例えば紫外線カットフィルム）を用いることができる。紫外線カット層は、波長３８０ｎｍの光を９０％以上吸収することが好ましい。
紫外線カット層は、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方の外側に接着剤を用いて貼り付ける方法等、公知の方法により設けることができる。

エレクトロウェッティング表示装置では、図１に示す構造（疎水性絶縁膜２０と基板１２との間がシリコーンゴム壁２２ａとシリコーンゴム壁２２ｂとで例えば格子状に区画された領域（表示セル））を表示部となる一画素とし、この表示セルを複数個２次元方向に配列することによって、画像表示が可能になる。このとき、導電膜１１ｂは、一画素（表示セル）毎に独立してパターニングされた膜であってもよいし（例えばアクティブマトリクス型の画像表示装置の場合など）、複数の画素（表示セル）に跨るストライプ状にパターニングされた膜であってもよい（例えばパッシブマトリクス型の画像表示装置の場合など）。

エレクトロウェッティング表示装置１００は、基材１１ａ及び基材１２ａとして、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）等の光透過性を有する基板を用い、かつ導電膜１１ｂ、１２ｂ及び疎水性絶縁膜２０として光透過性を有する膜を用いることにより、透過型の表示装置とすることができる。この透過型の表示装置の画素において、表示セルの外部に反射板を設けることで、反射型の表示装置とすることもできる。
また、例えば、導電膜１１ｂとして、反射板としての機能を兼ね備えた膜（例えばＡｌ膜、Ａｌ合金膜などの金属膜）を用いたり、基材１１ａとして、反射板としての機能を兼ね備えた基板（例えばＡｌ基板、Ａｌ合金基板などの金属基板）を用いたりすることで、反射型の画像表示装置の画素とすることもできる。

本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００を構成する表示セルや画像表示装置のその他の構成は、例えば、特開２００９−８６６６８号公報、特開平１０−３９８００、特表２００５−５１７９９３、特開２００４−２５２４４４、特開２００４−２８７００８、特表２００５−５０６７７８、特表２００７−５３１９１７号公報、特開２００９−８６６６８号公報等に記載の公知の構成とすることができる。また、公知のアクティブマトリクス型又はパッシブマトリクス型の液晶表示装置の構成も参照することができる。

エレクトロウェッティング表示装置は、表示セル（表示画素）に加え、必要に応じてバックライト、セルギャップ調整用のスペーサ、封止用のシール材等、公知の液晶表示装置と同様の部材を用いて構成することができる。このとき、オイル及び親水性液体は、例えば、基板１１上のシリコーンゴム壁によって区画された領域にインクジェット法により付与することで設けられてもよい。

本実施形態のエレクトロウェッティング表示装置１００は、例えば、基板１１を準備する基板準備工程と、基板１１の導電性表面側に疎水性絶縁膜２０を形成する工程と、基板１１の疎水性絶縁膜２０形成面上を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、隔壁により区画された領域に（例えばインクジェット法により）オイル１６及び親水性液体１４を付与する付与工程と、付与工程後の基板１１のオイル１６及び親水性液体１４が付与された側に基板１２を重ねてセル（表示部）を形成するセル形成工程と、必要に応じて基板１１と基板１２とをセルの周囲で接着することでセルを封止する封止工程とを有する方法が挙げられる。基板１１と基板１２との接着は、液晶表示装置の作製に通常用いられるシール材を用いて行なうことができる。
また、隔壁形成工程の後であってセル形成工程の前に、セルギャップ調整用のスペーサを形成するスペーサ形成工程が設けられていてもよい。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

〔実施例１〕
＜染料１（メチン染料）の合成＞
下記スキームに従って、メチン染料である染料１を合成した。

上記スキームの詳細は以下のとおりである。
原料としての上記化合物Ｍ−１（２．８ｇ）と原料としての上記化合物Ｍ−２（７．１ｇ）とを、エタノール（２０ｍｌ）及び酢酸（２ｍｌ）の混合溶液中に添加し、攪拌下、加熱還流を２時間行った。次に、加熱還流後の溶液を冷却した。
次に、冷却後の溶液に水を加え、更に酢酸エチルエステルにて有機物を抽出した。
抽出液（有機相）を硫酸ナトリウムによって乾燥させた後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン＋酢酸エチルエステル）にて精製し、メチン染料である上記染料１を得た。

＜インク１（染料組成物）の調製及びナトリウムイオン（Ｎａイオン）の定量＞
上記で得られた染料１（４００ｍｇ）をノルマルデカン６００ｍｇに溶解させた。
得られた混合液に、室温下でカチオン交換樹脂としてアンバーリスト１５（アルドリッチ社製）（２００ｍｇ）を添加し、室温下で攪拌を３０分間行った。
次いで、ろ過により、撹拌後の混合液からカチオン交換樹脂を除去し、本発明の染料組成物（オイル）の一例であるインク１を得た。
上記インク１について、イオンクロマトグラフィー分析を行ってＮａイオンの定量を行なったところ、インク１全量中におけるＮａイオンの含有量は１ｐｐｍ未満であった。

＜インク２（比較用染料組成物）の調製及びＮａイオンの定量＞
カチオン交換樹脂の添加以下の操作を行わなかったこと以外はインク１の調製と同様にして、比較用染料組成物（オイル）であるインク２を調製した。
得られたインク２について、イオンクロマトグラフィー分析を行ってＮａイオンの定量を行なったところ、インク２全量中におけるＮａイオンの含有量は１２０ｐｐｍであった。

＜インク１及び２の電圧保持率の測定＞
１０ｍｍ角のインジウムスズオキサイド（ＩＴＯ）電極（厚み１００ｎｍ）が形成されたガラス基板のこのＩＴＯ電極上にポリイミド配向膜を塗布形成し、塗布形成されたポリイミド配向膜上に８μｍのスペーサーを散布した。
次に、このスペーサーが散布されたガラス基板に、１０ｍｍ角のＩＴＯ電極が形成された基板（対抗基板）を、ＩＴＯ電極がスペーサー側となる向きで貼りあわせることにより、電圧保持率測定用セルを作製した。
得られた電圧保持率測定用セルに上記インク１又はインク２を注入し、電圧保持率（％）を測定した。
電圧保持率（％）の測定条件は、印加電圧パルス振幅：５Ｖ、印加電圧パルス周波数：６０Ｈｚ、印加電圧パルス幅１６．７ｍｓｅｃとした。
測定の結果、インク１の電圧保持率は８９％であり、インク２の電圧保持率は２１％であった。

＜テストセルの作製＞
透明電極として厚み１００ｎｍのインジウムスズオキサイド（ＩＴＯ）膜が付いたガラス基板（１０ｍｍ×１０ｍｍ）のＩＴＯ膜の表面に、フッ素系ポリマー（商品名：サイトップ、旭硝子社製、型番ＣＴＬ−８０９Ｍ）を厚み６００ｎｍとなるように塗布し、フッ素ポリマー層を形成して疎水性絶縁膜とした。続いて、このフッ素ポリマー層上に、１ｃｍ×１ｃｍサイズのシリコーンゴム（厚み５０μｍのシール材；扶桑ゴム社製のシリウス（商品名））の中心部から８ｍｍ×８ｍｍ×５０μｍサイズの四面体を切り抜いて作製した額縁状のシリコーンゴム壁を置いて表示部を形成した。このシリコーンゴム壁で取り囲まれた中に、上記のようにして調製したインク１又はインク２を厚み４μｍとなるように注入した。注入されたインクの上に、エチレングリコール（親水性液体）を厚み４６μｍとなるように注入した。その上部からさらにＩＴＯ膜付ガラス基板を、ＩＴＯ膜が染料インクやエチレングリコールと向き合うようにして置き、固定化した。このようにして、図１に示す構造を有するエレクトロウェッティングテストセルを作製した。

＜評価＞
２枚のＩＴＯ膜付ガラス基板の各ＩＴＯ膜（透明電極）に、信号発生器にて１００Ｖ直流電圧を印加（フッ素ポリマー層（疎水性絶縁膜）が形成されている側のＩＴＯ電極にマイナス電圧を印加）し、表示セル（図２中の表示セル３０）を観察したところ、染料インクがフッ素ポリマー層の表面を一方向に移動し、フッ素ポリマー層上を覆う面積が縮小していることを確認した。
このときの染料インクの応答性（下記の応答時間及び面積収縮率）、及び、電圧を印加したままの状態で保持したときのバックフロー現象の程度（下記のバックフロー比率）を評価した。
評価結果を下記表１に示す。

電圧印加による面積の縮小については、下記式（1）で算出される面積収縮率［％］により、バックフロー現象については、下記式（2）で算出されるバックフロー比率［％］により、それぞれ評価した。
ａ）応答時間［ｍｓｅｃ］＝電圧未印加状態から電圧印加を開始し、印加時点から最も縮んだ状態に達するまでに要した時間
ｂ）面積収縮率［％］＝（最も縮んだ時の染料インクの面積）／（電圧印加前の染料インクの面積）×１００ ・・・（1）
ｃ）バックフロー比率［％］＝（電圧印加状態で５秒経過した後の染料インクの面積）／（最も縮んだ時の染料インクの面積）×１００ ・・・（2）

表１に示すように、本発明の染料組成物であるインク１では、比較用染料組成物であるインク２と比較して、応答性に顕著に優れ、バックフロー現象が顕著に抑制されていた。

〔実施例２〕
＜染料２（アゾメチン染料）の合成＞
下記スキームに従って、アゾメチン染料である染料２を合成した。

上記スキームの詳細は以下のとおりである。
原料としての上記化合物Ｍ−３（３．３ｇ）及び炭酸ナトリウム（１５ｇ）を、酢酸エチルエステル（６０ｍｌ）及び水（５０ｍｌ）の混合溶液中に添加した。得られた溶液に、更に、原料としての上記化合物Ｍ−４（４．５ｇ）及び過硫酸アンモニウム（２．８ｇ）を添加し、室温下攪拌を３時間行った。撹拌後の溶液に水を添加して、更に、酢酸エチルエステルで有機物を抽出した。
抽出液（有機相）を硫酸ナトリウムによって乾燥させた後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン＋酢酸エチルエステル）にて精製し、アゾメチン染料である上記染料２を得た。

＜インク３（染料組成物）の調製及びＮａイオンの定量＞
実施例１のインク１の調製において、染料１を上記で得られた染料２に変更したこと以外はインク１の調製と同様にして、本発明の染料組成物（オイル）の一例であるインク３を得た。
上記インク３について、イオンクロマトグラフィー分析を行ってＮａイオンの定量を行なったところ、インク３全量中におけるＮａイオンの含有量は１ｐｐｍ未満であった。

＜インク４（比較用染料組成物）の調製及びＮａイオンの定量＞
カチオン交換樹脂の添加以下の操作を行わなかったこと以外はインク３の調製と同様にして、比較用染料組成物（オイル）であるインク４を調製した。
得られたインク４について、イオンクロマトグラフィー分析を行ってＮａイオンの定量を行なったところ、インク４全量中におけるＮａイオンの含有量は１６０ｐｐｍであった。

＜インク３及び４の電圧保持率の測定＞
インク３及び４のそれぞれについて、実施例１のインク１及び２の電圧保持率の測定と同様にして、電圧保持率を測定した。
測定の結果、インク３の電圧保持率は９５％であり、インク４の電圧保持率は１８％であった。

＜テストセルの作製及び評価＞
実施例１におけるテストセルの作製において、インクを、インク３又はインク４に変更したこと以外は実施例１と同様にしてテストセルを作製し、実施例１と同様の評価を行った。
評価結果を下記表２に示す。

表２に示すように、本発明の染料組成物であるインク３では、比較用染料組成物であるインク４と比較して、応答性に顕著に優れ、バックフロー現象が顕著に抑制されていた。

〔参考例１〕
インク中のＮａイオン含有量と、電圧保持率、応答性及びバックフロー現象と、の関係を調べる目的で、以下のようにして、液体試料中のＮａイオン含有量と、電圧保持率、応答性及びバックフロー現象と、の関係を調べた。
ノルマルデカンに種々の添加量のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを添加し、超音波分散処理（室温、３０分間）を施し、１日放置させて、液体試料１〜４をそれぞれ得た。
また、ノルマルデカン（ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム無添加）を液体試料５として準備した。

各液体試料のそれぞれについて、上澄み液を採取し、イオンクロマトグラフィーによってＮａイオン含有量を測定した。
更に、各液体試料のそれぞれについて、実施例１のインク１及び２の電圧保持率の測定と同様にして、電圧保持率を測定した。
更に、実施例１におけるテストセルの作製において、インクを、各液体試料のうちのいずれか１つに変更したこと以外は実施例１と同様にしてテストセルを作製し、実施例１と同様の評価を行った。
以上の結果を下記表３に示す。

表３に示すように、液体全量に対するＮａイオン含有量が１０ｐｐｍ以下である液体試料４及び５は、液体全量に対するＮａイオン含有量が１０ｐｐｍを超える液体試料１〜３と比較して、電圧保持率及び応答性に優れ、バックフロー現象が抑制されていた。
以上の結果から、非極性溶媒及び染料を含む染料組成物においても、Ｎａイオン含有量を１０ｐｐｍ以下とすることにより、電圧保持率及び応答性が向上し、バックフロー現象が抑制されることが示唆される。

１１・・・第１の基板
１１ａ，１２ａ・・・基材
１１ｂ，１２ｂ・・・ＩＴＯ膜
１２・・・第２の基板
１４・・・親水性液体
１６・・・オイル
１７Ａ、１７Ｂ・・・親水性液体とオイルとの界面
２０・・・疎水性絶縁膜
２２ａ、２２ｂ・・・シリコーンゴム壁
３０・・・表示セル
１００・・・エレクトロウェッティング表示装置

Claims (7)

1. 非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してエレクトロウェッティング表示用染料組成物を得る処理工程を有するエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法であって、前記処理工程は、前記混合液を、ナトリウムイオンの含有量が１０ｐｐｍ以下となるまで処理するエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法。
2. 前記イオン交換樹脂が、カチオン交換樹脂である請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法。
3. 前記処理工程は、前記混合液を、ナトリウムイオンの含有量が５ｐｐｍ以下となるまで処理する請求項１又は請求項２に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法。
4. 前記染料が、アゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のエレクトロウェッティング表示用染料組成物の製造方法。
5. 少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第１の基板と、
   前記第１の基板の導電性の表面に対向させて配置された第２の基板と、
   前記第１の基板の導電性の表面を有する面側の少なくとも一部に配設された疎水性絶縁膜と、
   前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に疎水性絶縁膜上を移動可能に設けられた非導電性のオイルと、
   前記疎水性絶縁膜と前記第２の基板との間に、前記オイルと接して設けられた導電性の親水性液体と、
   を有する表示部を備え、
   前記親水性液体と前記第１の基板の導電性の表面との間に電圧を印加し、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状を変化させることで画像を表示するエレクトロウェッティング表示装置を製造する方法であって、
   非極性溶媒及び染料を含む混合液をイオン交換樹脂によって処理してナトリウムイオンの含有量が１０ｐｐｍ以下である前記非導電性のオイルを得る処理工程を有するエレクトロウェッティング表示装置の製造方法。
6. 前記オイルは、ナトリウムイオンの含有量が５ｐｐｍ以下である請求項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置の製造方法。
7. 前記染料が、アゾメチン染料及びメチン染料からなる群から選択される少なくとも１種である請求項５又は請求項６に記載のエレクトロウェッティング表示装置の製造方法。