JP6199023B2 - イリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法 - Google Patents
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2.前記一般式(1)において、B 11 〜B 15 で表される環が、前記イミダゾール環を表すことを特徴とする第1項に記載のイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法。
本発明に係る一般式(1)で表されるイリジウム錯体について説明する。下記一般式(1)で表されるイリジウム錯体はリン光ドーパントとして好ましく用いることができる。
本発明においては、前記一般式(1)で表されるイリジウム錯体のmer体を光照射し、フェイシャル体に幾何異性化した後、残存するメリジオナル体を弱酸としてカルボン酸で分解する。光照射により、8面型6配位錯体のイリジウム錯体をmer体からfac体へ異性化することができる。光の波長は、紫外線、可視光領域のものを用いることができる。好ましくは波長200〜500nmの範囲内の光であり、更に好ましくは波長250〜400nmの範囲内の紫外(UV)光である。この範囲の波長の光を用いることで、mer体からfac体への幾何異性化を効率的に行うことができる。
本発明で用いられる弱酸は光照射後に残存した未反応のmer体を選択的に分解する目的で用いられる。弱酸により、未反応のmer体が選択的に分解されるので、後の精製が容易になり、高収率で高純度のfac体を得ることができる。
《製造例1:例示化合物1−4〔fac体〕の製造(比較例)》
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−4〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ40時間、室温で照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−4〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ40時間室温で照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=8.05(d,2H),7.96(dd,2H),7.98−7.76(m,4H),7.75−7.65(m,5H),7.38(d,1H),7.35−7.20(m,4H),7.15−6.93(m,4H),6.90−6.65(m,6H),6.60−6.40(m,3H),3.30−3.14(m,3H),2.80−2.63(m,3H),1.65−1.52(m,12H),1.48(d,3H),1.42(d,3H),1.40−1.26(m,15H),1.22(t,3H).
例示化合物1−4〔fac体〕
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=8.05(d,2H),7.93(dd,2H),7.82(t,2H),7.77(t,2H),7.68(t,5H),7.32(d,3H),7.15−7.07(m,6H),6.83−6.75(m,3H),6.73−6.59(m,4H),6.46(d,2H),3.20−3.06(m,3H),2.80−2.63(m,3H),1.62(d,3H),1.55(d,6H),1.41(d,3H),1.38−1.26(m,18H),1.23(d,3H),1.21(d,3H).
実施例2
《例示化合物1−4〔mer体〕と例示化合物1−4〔fac体〕の酢酸に対する安定性》
例示化合物1−4〔mer体〕1g(0.848mmol)を酢酸エチル30mlに溶解し酢酸0.16g(イリジウム錯体に対して3倍mol量)を加え室温で撹拌した。同様に例示化合物1−4〔fac体〕1g(0.848mmol)を酢酸エチル30mlに溶解し酢酸0.16g(イリジウム錯体に対して3倍mol量)を加え室温で撹拌した。それぞれの残存率をHPLCで測定した結果を図1のグラフに示す。図1は、酢酸エチル溶液中における、例示化合物1−4のmer体とfac体の酢酸に対する安定性を表す。mer体は4時間で消失するのに対してfac体において全く分解が見られなかった。
《製造例3:例示化合物1−19〔fac体〕の製造(比較例)》
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−19〔mer体〕4.0g(3.35mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で43時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−19〔mer体〕4.0g(3.35mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で40時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ=8.47(d,1H),8.43(d,1H),7.98(dd,1H),7.90−7.80(m,4H),7.75−7.63(m,5H),7.38(t,1H),7.30−7.20(m,4H),7.18−6.96(m,2H),6.95−6.77(m,4H),6.75−6.40(m,6H),3.70−3.30(m,3H),2.60−2.30(m,3H),1.65−1.52(m,15H),1.50−1.24(m,21H).
例示化合物1−19〔fac体〕
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.44(dd,1H),8.40(d,1H),7.98(dd,1H),7.90−7.80(m,3H),7.75−7.65(m,5H),7.39(d,1H),7.33(d,1H),7.16−7.05(m,7H),6.83−6.73(m,3H),6.66−6.50(m,3H),6.50−6.43(m,3H),3.50−3.20(m,3H),2.60−2.30(m,3H),1.67−1.52(m,15H),1.48−1.18(m,21H).
実施例4
《製造例5:例示化合物1−5〔fac体〕の製造(比較例)》
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−5〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で40時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−5〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で40時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
《製造例7:例示化合物1−10〔fac体〕の製造(比較例)》
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−10〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で40時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
セン特殊光源製光化学反応装置VG500(500ml、100W高圧水銀灯)に窒素導入管、温度計、ジムロートを装着した。例示化合物1−10〔mer体〕4.0g(3.39mmol)THF200ml、MeOH300mlを投入した後、窒素で30分間バブリングした。高圧水銀灯のスイッチを入れ室温で40時間照射した。反応液を減圧蒸留で濃縮した。
Claims (5)
- 下記一般式(1)で表されるイリジウム錯体のフェイシャル体を製造するイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法であって、該イリジウム錯体のメリジオナル体を光照射し、フェイシャル体に幾何異性化した後、残存するメリジオナル体を弱酸としてカルボン酸を用いて分解することを特徴とするイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法。
- 前記一般式(1)において、B 11 〜B15で表される環が、前記イミダゾール環を表すことを特徴とする請求項1に記載のイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法。
- 前記光照射の手段として波長250〜400nmの範囲内の紫外(UV)光を使用することを特徴とする請求項1から3までのいずれか一項に記載のイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法。
- 前記弱酸として、酢酸を使用することを特徴とする請求項1から4までのいずれか一項に記載のイリジウム錯体のフェイシャル体の製造方法。
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