JP6188294B2 - Plasma processing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、プラズマ処理装置に関連し、特に真空アーク放電を用いたプラズマ処理装置に関するものである。 The present invention relates to a plasma processing apparatus, and more particularly to a plasma processing apparatus using vacuum arc discharge.
近年、真空アーク放電を応用した薄膜形成技術の実用化が進んでいる。例えば、耐酸化性、耐摩耗性に優れた保護膜を微細に成膜する成膜装置が実用化されている。真空アーク放電では、材料となるターゲットを陰極(カソード)とし、接地電位にした電極を接触させたり、電子ビームのような高エネルギー源による陰極へのエネルギー付与により、数ボルト、数十アンペア程度のアーク放電状態を作り出し、アークプラズマを発生させる。 In recent years, the practical application of thin film formation technology using vacuum arc discharge has progressed. For example, a film forming apparatus for finely forming a protective film excellent in oxidation resistance and wear resistance has been put into practical use. In vacuum arc discharge, a material target is a cathode (cathode), an electrode that is at a ground potential is brought into contact, or energy is applied to the cathode by a high energy source such as an electron beam, so that the voltage is about several volts and several tens of amperes. An arc discharge state is created and an arc plasma is generated.
アークプラズマにより、陰極材料が電子とイオンのプラズマ状態に相変化する。発生したイオンは陰極に引き寄せられ陰極に衝突する。これにより、陰極材料からさらにイオンと電子を発生させ、プラズマ状態を持続することとなる。 The arc plasma changes the phase of the cathode material into a plasma state of electrons and ions. The generated ions are attracted to the cathode and collide with the cathode. As a result, ions and electrons are further generated from the cathode material, and the plasma state is maintained.
これらの過程により発生した成膜粒子となるイオンと電子を、プラズマビームの形で輸送用のダクトに導き輸送する。さらにプラズマビームを偏向させ基板上を走査するための走査用ダクトを用いて、効率よく真空成膜処理室に導く。結果、真空成膜処理室内の、例えばステージに設置された成膜対象物(例えば基板)を均一に成膜することができる。 Ions and electrons, which become film-forming particles generated by these processes, are guided and transported to a transport duct in the form of a plasma beam. Furthermore, the plasma beam is deflected to use the scanning duct for scanning the substrate to efficiently guide the plasma beam to the vacuum film forming chamber. As a result, a film formation target (for example, a substrate) placed on, for example, a stage in the vacuum film formation processing chamber can be uniformly formed.
また、成膜対象物に対して、外部の電源から前記真空成膜処理室に対して絶縁された状態で電圧を供給し、成膜対象物を成膜し、成膜される膜の性質を制御することが行われている。 In addition, a voltage is supplied to the film formation object from an external power source in an insulated state with respect to the vacuum film formation processing chamber, the film formation object is formed, and the properties of the film to be formed are determined. To be controlled.
しかし、上記真空アーク放電では、アーク放電によるプラズマを発生させる際に、成膜対象物に悪影響を及ぼすダストとなるパーティクルが発生することが知られている。 However, it is known that, in the above vacuum arc discharge, when plasma is generated by arc discharge, particles that become dust that adversely affects the film formation target are generated.
発生するパーティクルが成膜対象物に付着すると、異物となって堆積するため、薄膜形成後に欠陥となり、大きな問題となる。発生するパーティクルの特徴としては、電荷をもたない中性粒子または、電荷をもった荷電粒子であることが知られている(非特許文献1、非特許文献2)。また、電荷をもった荷電粒子のパーティクルは負の電荷を持ちやすいことが知られている。 When the generated particles adhere to an object to be deposited, they are deposited as foreign matter, resulting in defects after the formation of the thin film, which is a serious problem. It is known that the generated particles are neutral particles having no charge or charged particles having a charge (Non-patent Documents 1 and 2). In addition, it is known that charged particles having a charge are likely to have a negative charge.
このような問題に対して、前記プラズマビームを輸送するために使用する前記ダクトの途中部に中性粒子パーティクルの進行経路を阻害するための制限板を設け、特殊なダクト形状と併せて成膜対象物に到達する中性粒子パーティクルの量を減らし、成膜対象物の汚染を防ぐ方法が知られている(例えば特許文献1)。 In order to solve such a problem, a restriction plate is provided in the middle of the duct used for transporting the plasma beam to block the traveling path of neutral particle particles, and the film is formed together with a special duct shape. A method is known in which the amount of neutral particle particles reaching an object is reduced to prevent contamination of the film formation object (for example, Patent Document 1).
また、電荷を帯びたパーティクルに対しては、前記ダクトと成膜対象物の間に、同心円筒状の電極を配置し、10V〜90Vの直流電圧または高周波電源の直流電圧成分を作用させて、前記荷電粒子パーティクルの成膜対象物へ到達する量を減らし、汚染を防ぐ方法が知られている(例えば特許文献2)。 Further, for charged particles, a concentric cylindrical electrode is disposed between the duct and the film formation target, and a DC voltage component of 10 V to 90 V or a DC voltage component of a high frequency power source is applied, A method of preventing contamination by reducing the amount of charged particle particles reaching the film formation target is known (for example, Patent Document 2).
上記のような従来技術を使う場合、例えば特許文献1の事例では、中性粒子パーティクルを除去することは可能であるが、負の電荷をもつ荷電粒子パーティクルに対しては、除去効果を得ることが難しいことが推測できる。 In the case of using the above-described conventional technology, for example, in the case of Patent Document 1, it is possible to remove neutral particle particles, but to obtain a removal effect for charged particle particles having a negative charge. Can be guessed.
輸送に用いる前記ダクトには電場、及び磁場が印加されるため、荷電粒子パーティクルがダクト内部を通過する際は、これらの影響を受けることが容易に予想できる。従って、前記輸送ダクト内での中性粒子の運動と荷電粒子の運動は、全く別種のものになり、中性粒子を除去するための構成では、荷電粒子を効率良く除去することができない。 Since an electric field and a magnetic field are applied to the duct used for transportation, when charged particle particles pass through the inside of the duct, it can be easily predicted that they will be affected. Therefore, the movement of the neutral particles and the movement of the charged particles in the transport duct are completely different, and the configuration for removing the neutral particles cannot efficiently remove the charged particles.
また、例えば特許文献2の事例では、荷電粒子パーティクルは除去することが可能である。しかし、中性粒子は荷電粒子パーティクル除去のために配置された、同心円筒構造体に印加される電圧からの作用を受けないため、直接成膜対象物へ到達する可能性が高い。
For example, in the case of
さらに、成膜対象物へ電圧を印加しながら成膜される膜の性質を制御する場合、前記同心円筒構造体に印加された電圧による電界と、前記成膜対象へ印加された電圧による電界が相互作用を起こし、制御された成膜工程を実現できなくなる。 Furthermore, when controlling the properties of the film to be formed while applying a voltage to the film formation target, an electric field due to the voltage applied to the concentric cylindrical structure and an electric field due to the voltage applied to the film formation target are Interactions occur and a controlled film formation process cannot be realized.
加えて、例えば特許文献1、2においては、前記輸送ダクトの形状を複雑に工夫したり、本来真空アーク放電には具備されない構造物を装置内に組み込む必要があるため、実現する装置構成が複雑かつ大型化することが問題となる。
In addition, for example, in
従って、中性粒子及び荷電粒子パーティクルを同時または別々に除去することを、簡易で小型の装置で実現することが課題となる。 Therefore, it becomes a problem to realize removal of neutral particles and charged particle particles simultaneously or separately with a simple and small apparatus.
本発明の第1の態様のプラズマ処理装置は、真空アーク放電によりアークプラズマを発生させるプラズマ発生部と前記プラズマ発生部に連続して接続され、前記プラズマを輸送するための1つ以上の曲がり部を有する電磁場ダクトと、前記電磁場ダクトに接続され、被処理基板を保持するステージを有する処理室を備え、かつ、前記プラズマ発生部、前記電磁場ダクト、前記処理室内部が真空に保持され、前記電磁場ダクトの内部でかつ曲がり部の途中に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する構造体を有し、前記構造体は、オリフィスの開口直径が20mm以上60mm以下であり、前記プラズマ発生部のアークプラズマ流入面から35度〜45度の範囲の角度に傾けて設置されており、また、前記構造体は、前記電磁場ダクトに対して絶縁された状態で設置され、直流電圧源または高周波電圧源による電圧が印加されることを有することを特徴とする。
本発明の第2の態様のプラズマ処理装置は、真空アーク放電によりアークプラズマを発生させるプラズマ発生部と前記プラズマ発生部に連続して接続され、前記プラズマを輸送するための1つ以上の曲がり部を有する電磁場ダクトと、前記電磁場ダクトに接続され、被処理基板を保持するステージを有する処理室を備え、かつ、前記プラズマ発生部、前記電磁場ダクト、前記処理室内部が真空に保持され、前記電磁場ダクトの内部でかつ曲がり部の途中に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する第1の構造体と、前記第1の構造体とは別に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する第2の構造体とを有しており、前記第1の構造体は、オリフィスの開口直径が20mm以上60mm以下であり、前記プラズマ発生部のアークプラズマ流入面から35度〜45度の範囲の角度に傾けて設置されており、また、前記第2の構造体は、前記電磁場ダクトに対して絶縁された状態で設置されており、直流電圧源または高周波電圧源による電圧が印加されることを特徴とする。
A plasma processing apparatus according to a first aspect of the present invention includes a plasma generator that generates arc plasma by vacuum arc discharge, and one or more bent portions that are continuously connected to the plasma generator and transport the plasma. And a processing chamber connected to the electromagnetic field duct and having a stage for holding a substrate to be processed, and the plasma generating unit, the electromagnetic field duct, and the processing chamber are held in vacuum, and the electromagnetic field A structure having an orifice having a concentric hollow portion inside the duct and in the middle of the bent portion, the structure having an orifice diameter of 20 mm or more and 60 mm or less, and the arc of the plasma generating portion It is installed to be inclined angle in the range of 35 degrees to 45 degrees from the plasma inflow surface, also, the structure, pairs electromagnetic field duct It is installed in a state of being insulated Te, the voltage by the DC voltage source or a high frequency voltage source and having a Rukoto the indicia pressurized.
The plasma processing apparatus according to the second aspect of the present invention includes a plasma generator that generates arc plasma by vacuum arc discharge, and one or more bent portions that are continuously connected to the plasma generator and transport the plasma. And a processing chamber connected to the electromagnetic field duct and having a stage for holding a substrate to be processed, and the plasma generating unit, the electromagnetic field duct, and the processing chamber are held in vacuum, and the electromagnetic field A first structure having an orifice having a concentric hollow part inside the duct and in the middle of the bent part, and a second structure having an orifice having a concentric hollow part separately from the first structure. The first structure has an orifice having an opening diameter of 20 mm or more and 60 mm or less, and an arc plasma of the plasma generating unit. The second structural body is installed in an insulated state with respect to the electromagnetic field duct, and is installed at an angle of 35 to 45 degrees from the inflow surface. A voltage from a high frequency voltage source is applied.
本発明の第1の態様のプラズマ処理装置によれば、単純な輸送ダクトの曲がり構造における曲がりの効果と輸送ダクトの途中の曲がり部に、同心円状の中空部を有する構造体のオリフィスの開口部により、アークプラズマにより発生した中性粒子パーティクルを効率よく除去できる。また、同心円状の中空部を有し、直流電圧源または高周波電圧源により印加された電圧の直流成分により発生する電界により、負の電荷をもつパーティクルを効率よく除去することができる。曲がり構造が単純であり、輸送ダクト内部の途中に前記構造体を配置することで、装置構成を単純なままに、効率よく中性および荷電粒子パーティクルを除去することが可能である。 According to the plasma processing apparatus of the first aspect of the present invention, the effect of the bending in the simple bent structure of the transport duct and the opening of the orifice of the structure having the concentric hollow portion in the bent portion in the middle of the transport duct Thus, neutral particles generated by arc plasma can be efficiently removed. Moreover, it has a concentric hollow part, and negatively charged particles can be efficiently removed by an electric field generated by a DC component of a voltage applied by a DC voltage source or a high frequency voltage source. The bending structure is simple, and by disposing the structure in the middle of the transport duct, it is possible to efficiently remove neutral and charged particle particles while keeping the apparatus configuration simple.
また、本発明の第1の態様のプラズマ処理装置によれば、輸送ダクトの途中の曲がり部に同心円状の中空部を持つオリフィスを有する構造体を前記プラズマビーム発生面に対して、35度〜45度の角度に取り付けることにより効率よく中性粒子パーティクルを除去することが可能になる。 Further, according to the plasma processing apparatus of the first aspect of the present invention, a structure having an orifice having a concentric hollow portion at a bent portion in the middle of the transport duct is 35 degrees to the plasma beam generation surface. By attaching at an angle of 45 degrees, neutral particles can be efficiently removed.
さらに、本発明の第1の態様のプラズマ処理装置によれば、前記オリフィスの開口部直径を20mm以上60mm以下にしているので、装置構造を単純化した状態で効率よく中性パーティクルを除去することが可能である。 Further, according to the plasma processing apparatus of the first aspect of the present invention, the orifice diameter is set to 20 mm or more and 60 mm or less, so that neutral particles are efficiently removed with the apparatus structure simplified. It is possible.
また、本発明の第2の態様のプラズマ処理装置によれば、上記第1の態様の効果に加え、輸送ダクトの構造体の前記輸送ダクトに対する配置角度と、印加された前記電圧の直流成分により発生する電界により、中性パーティクル及び電荷粒子パーティクルを効率よく除去することができる。
Further, the DC component of the second, according to the plasma processing apparatus according to one embodiment, in addition to the effect of the first embodiment, the arrangement angle with respect to the transport duct of the structure of transportation duct, applied the voltage of the present invention Neutral particles and charged particle particles can be efficiently removed by the electric field generated by.
真空アーク放電を用いたプラズマ処理装置の成膜原理について説明する。 The film forming principle of the plasma processing apparatus using vacuum arc discharge will be described.
図1に真空アーク放電を用いたプラズマ処理装置に関する概念図を示す。真空アーク放電を用いたプラズマ処理装置では、アーク放電用チャンバー6の内部に、ターゲット2を配置し、カソード用電源1を接続して陰極とする。また、アーク放電着火源24にアノード構成回路23を接続し陽極とする。ターゲット2及び、それ以外を接地電位とする。
FIG. 1 is a conceptual diagram related to a plasma processing apparatus using vacuum arc discharge. In a plasma processing apparatus using vacuum arc discharge, a
ターゲット2とアーク放電着火源24を接触させることにより、絶縁破壊が発生し、アーク放電に至りアークプラズマ3が発生する。アークプラズマ3でイオン化したターゲット2は、陰極に印加された電圧による電界で引き寄せられ、陰極材料であるターゲット2をスパッタする。アークプラズマ3を維持し、アークプラズマ3による熱でさらにターゲット2がイオン化する。
By bringing the
一方で、輸送ダクト(電磁場ダクト)7のダクト構造体に輸送ダクトバイアス電源22を接続し電圧を印加する。また輸送ダクト7の周囲に配置された電磁コイル9に電磁コイル用電源8を接続し電流を流すことで、輸送ダクト7内部に輸送ダクト7の長さ方向に平行な磁場を発生させる。
On the other hand, a transport duct
アークプラズマ3の電子4はこの磁場に沿って抽出される。それに伴い、発生したイオン5も輸送ダクト7の内部を輸送され、プラズマビーム13として進行する。輸送ダクト7に連続する形でプラズマビーム13を走査するためのプラズマビーム走査ダクト15が取り付けられる。
The
さらに、プラズマビーム走査ダクト15の周囲にプラズマビーム走査コイル14が配置される。プラズマビーム走査コイル14には、プラズマビーム13を走査するためにプラズマ走査コイル14に走査コイル動作電源21が配置される。
Further, a plasma
プラズマビーム走査ダクト15に連続して、真空排気ポンプ17を有する成膜処理室19が接続される。アーク放電チャンバー6、輸送ダクト7、プラズマビーム走査ダクト15、成膜処理室19は、真空排気ポンプ17により所定の圧力に減圧される。
A
成膜処理室19の内部には、ステージ18が具備され、成膜対象物(被処理基板)16を保持する。輸送ダクト7及び、プラズマビーム走査ダクト15により輸送されたプラズマビーム13中のイオン5を照射することにより、成膜対象物16を成膜することができる。
A
成膜対象物16は成膜処理室19およびステージ18と絶縁された状態で設置され、かつ、成膜対象物バイアス電源20により、電圧を印加できるようにする場合がある。
In some cases, the
輸送ダクト7の内部には、通常、数ミリの突起または、繊維状の複雑な表面形状を有する円筒状の防着板12を内面に沿うように取り付ける。同時にアークプラズマ3によりスパッタリングを受けたターゲットから中性パーティクル10、または電荷を帯びたパーティクル11が発生する。中性パーティクル10は装置内部の壁面で反射しながら装置内部をランダムに飛翔する。電荷を帯びたパーティクル11は、装置内部に発生している電場
及び磁場の影響を受け装置内部を飛翔する。
In the inside of the
[第1の実施の形態]
図2に本発明の第1の実施の形態に関する、真空アーク放電を用いたプラズマ処理装置の断面図を示す。なお、以降の図において、図2と同じ符号は、図2と同じ内容を表す。
[First Embodiment]
FIG. 2 shows a cross-sectional view of a plasma processing apparatus using vacuum arc discharge according to the first embodiment of the present invention. In the following drawings, the same reference numerals as those in FIG. 2 represent the same contents as those in FIG.
輸送ダクト(電磁場ダクト)7は、1つ以上の曲がり部を有し、その内部でかつ曲がり部の途中に、図3で示す同心円状の中空部31を持つオリフィスの板を有する構造体25を配置する。
The transport duct (electromagnetic field duct) 7 has one or more bent portions, and a
この構造体25は、前記輸送ダクト7に対して、絶縁状態に設置している。この構造体25の材質は、金属または絶縁材で構成される。構造体の材質が金属の場合、輸送ダクト7との絶縁には絶縁性のある物質からなる絶縁構造体26を介して前記輸送ダクト7と接続される。
The
前記構造体25には直流電圧源27または高周波電圧源28を接続できる構成をとる。前記構造体25が金属の場合には直流電圧源27を使用し、絶縁材の場合は高周波電圧源28を使用する。
The
アークプラズマ(プラズマ発生部)3により発生した中性パーティクル10は、前記輸送ダクト7の曲がり形状および内部の防着板12の効果により、一部それらに捕集される。残りの大部分の前記中性パーティクル10は輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中に配置された、同心円状の中空部を持つオリフィスの構造体25に捕集される。
曲がり形状による前記中性パーティクル10の衝突・反射に対し、その進路を妨害するように前記構造体25を配置することで、効率よく前記中性パーティクル10を除去することができる。
The
前記アークプラズマ3から前記電子4および前記イオン5が前記プラズマビーム13状に取出される面を基準面(アークプラズマ流入面)30として、前記構造体25は前記基準面30に対して任意の取付角度29に取り付けることができる。前記中性パーティクル10の除去効果が最も高いのは、取付角度29が35度〜45度の範囲に設置した場合である。
The surface from which the
また、電荷を持つ前記電荷を帯びた荷電粒子パーティクル11は、前記構造体25に前記直流電圧源27または前記高周波電圧源28から印加される電圧の直流成分によって生じる電界により、飛翔経路を偏向される。前記構造体25に100V以上の電圧を印加することにより、電荷を帯びた荷電粒子パーティクル11を効率よく除去できる。
The charged charged
検証を行った結果について以下に示す。 The results of the verification are shown below.
図5に中性パーティクル10の挙動をシミュレーションした輸送ダクト7の計算モデルを示す。図5に示す計算モデルは、図2で示した中性パーティクルの挙動シミュレーション用に簡易に構成したものである。シミュレーションでは、前記中性パーティクル10の発生場所37、前記成膜処理室19を模した粒子到達評価面40を用意した。
FIG. 5 shows a calculation model of the
前記輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中に、図3に示す同心円状の中空部を持つオリフィスの板を有する前記構造体25に相当するオリフィス付き構造体39を配置した。前記輸送ダクト7の輸送ダクト構造体壁面38には一定の吸着率を設定し、オリフィス付き構造体39および輸送ダクト構造体壁面38の部分に対応した吸着率を設定し、値を変えて計算を行った。
A
図6に中性パーティクルの挙動をシミュレーションするフローチャートを示す。輸送ダクトの内部が真空であることから、希薄気体解析を用いて計算を行った。シミュレーションは、ペガサスソフトウエア株式会社のRGS3Dを使用した。シミュレーションの内部変数を一様乱数を使って初期化後、前記中性パーティクル10の発生場所37に、ランダムな速度分布をもつ前記中性パーティクル10に相当する粒子を、一様乱数を使ってランダムに配置し、時間の経過とともにその位置を追跡した。
FIG. 6 shows a flowchart for simulating the behavior of neutral particles. Since the inside of the transport duct is vacuum, calculations were performed using a rare gas analysis. The simulation used RGS3D from Pegasus Software Co., Ltd. After initializing the internal variables of the simulation using uniform random numbers, particles corresponding to the
各前記中性パーティクル10は希薄気体理論に基づく運動を仮想的に行った。前記輸送ダクト構造体壁面38及び前記オリフィス付き構造体39に到達した前記中性パーティクル10は、各部に設定された吸着率に従って、確率的に吸着された。各前記中性パーティクル10の位置を追跡した結果、前記粒子到達評価面40に到達した、前記中性パーティクル10の数を集計した。計算対象となる数すべての粒子について計算が終了した時点で、シミュレーションを終了し評価を行った。前記中性パーティクル発生場所37に配置した粒子数により、前記粒子到達評価面40に到達した数を除することで算出される割合を、粒子到達率と定義し、評価した。このシミュレーションを前記オリフィス付き構造体39のオリフィス開口直径とオリフィス取付角度を変数として計算を行った。
Each of the
図7に中性パーティクルの到達率をオリフィスの開口に対して評価した結果を示す。結果は、前記オリフィス付き構造体38の、図2に示した前記取付角度29を前記基準面30から45度とした時の結果である。
FIG. 7 shows the result of evaluating the arrival rate of neutral particles with respect to the opening of the orifice. The result is a result when the
図は、横軸にオリフィスの開口直径を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。図中の点42は、実際のシミュレーション結果を示し、実線41は近似曲線を示している。図中の近似式43における変数xは、オリフィス開口直径に相当し、値yは粒子到達率を示している。また、Eは指数表示を簡略表示した記号である。
In the figure, the horizontal axis represents the orifice diameter, and the vertical axis represents the particle arrival rate.
近似式43に示す通り、中性パーティクルの到達率はオリフィスの開口の二乗に比例して増加する。従って、オリフィス開口直径を小さくすることで、前記中性パーティクル10が前記成膜対象物16に到達することを効率よく防ぐことができる。
As shown in
図8に中性パーティクルの到達率を、オリフィスの取付角度に対して評価した結果を示す。結果はオリフィス付き構造体の開口直径を50mmとした場合の結果である。図は、横軸に図2に示したオリフィス付き構造体25の基準面30からの取付角度29を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。図から、粒子到達率は前記取付角度29が35度〜45度の範囲で極小値をとることが分かる。従って、前記オリフィス付き構造体25の前記基準面30からの前記取付角度29は35度〜45度の範囲で、前記中性パーティクル10が前記成膜対象物16に到達することを効率よく防ぐことができる。
FIG. 8 shows the result of evaluating the arrival rate of neutral particles with respect to the mounting angle of the orifice. The results are the results when the opening diameter of the structure with an orifice is 50 mm. In the figure, the horizontal axis shows the mounting
また、図8の結果を以って、図7を見た場合、粒子到達率0.025%以下であれば、前記中性パーティクル10を効率よく除去できる。従って、オリフィス開口直径は60mm以下に設定すればよいことが分かる。オリフィス開口直径の二乗に比例して、前記中性パーティクルの到達率は増加するため、オリフィス開口直径は60mm以下でかつ、成膜に寄与する前記電子4またはイオン5が通過できる微少な穴が空いていればよい。ただし成膜レートを考慮すると、オリフィス開口直径は20mm以上が好ましい。
Moreover, when FIG. 7 is seen with the result of FIG. 8, if the particle arrival rate is 0.025% or less, the
図9に電荷を持つ荷電粒子パーティクルの挙動をシミュレーションした輸送ダクトの計算モデルを示す。図2で示した図を荷電粒子パーティクル11の挙動シミュレーション用に簡略化した構成で表現した。シミュレーションでは、荷電粒子パーティクル11の発生場所50、前記成膜処理室19を模した粒子到達評価面45を用意した。荷電粒子パーティクル11は電界および磁場の影響を受けるため、電界及び磁場の解析空間を輸送ダクトの形状を包括する領域44として用意した。
FIG. 9 shows a calculation model of a transport duct that simulates the behavior of charged particle particles having a charge. The diagram shown in FIG. 2 is expressed by a simplified configuration for simulation of the behavior of the charged
電界解析を行うために、輸送ダクトバイアス電源46をモデル化した。さらに、前記オリフィス付き構造体25を模したオリフィス付き構造体47をモデル化し、直流電圧源51または高周波電圧源52を接続し電圧を印加できるようにした。また磁場解析のために電磁コイル48と電磁コイルバイアス電源49をモデル化した。
The transport duct
図10に電荷を持つ荷電粒子パーティクルの挙動をシミュレーションするフローチャートを示す。計算する輸送ダクトの形状を設定した後、輸送ダクトの形状を包括する領域44において、前記輸送ダクトバイアス電源46及び前記オリフィス付き構造体47に電圧を印加し、電界を発生させる条件を設定して電界解析を行った。
FIG. 10 shows a flowchart for simulating the behavior of charged particle particles having a charge. After setting the shape of the transport duct to be calculated, a voltage is applied to the transport duct
同じ形状に対して、前記輸送ダクトの電磁コイル48に前記電磁コイルバイアス電源49を介して電流を流し、磁場を発生させる条件を設定して磁場解析を行った。解析は、株式会社エルフの電磁界解析ソフトELF−magic/ELFINを使用した。これら二つの解析から算出される、電界及び磁場の情報を使用し荷電粒子パーティクル11の挙動をシミュレーションした。前記荷電粒子パーティクル11の発生場所50に、前記アークプラズマ3で発生する荷電粒子相当エネルギーを正規乱数を用いてランダムに与えた仮想粒子を、一様乱数を用いてランダムな場所に配置した。
For the same shape, a magnetic field analysis was performed by setting a condition for generating a magnetic field by supplying a current to the
荷電粒子パーティクル11の運動はローレンツの式により決定されると仮定する。ローレンツの式における電荷は、素電荷として扱い、負の極性を持つと仮定した。先に計算された、電界及び磁場の情報は、一定の格子上節点に存在する。
It is assumed that the motion of the charged
一方、計算対象の粒子は、格子に依存しない位置に毎時刻存在する。このため、粒子位置が移動するごとに、近傍8点の各格子節点からの位置と、電界、磁場の寄与を直線近似で計算した。直線近似で求めた電界、磁場の寄与をその点における電界、磁場とし、ローレンツの式を解いた。 On the other hand, the particle to be calculated exists every time at a position independent of the lattice. For this reason, every time the particle position moves, the positions of the neighboring eight points from each lattice node and the contribution of the electric and magnetic fields are calculated by linear approximation. The Lorentz equation was solved with the electric and magnetic field contributions obtained by linear approximation as the electric and magnetic fields at that point.
このような環境下で、仮想の荷電粒子パーティクルの運動を一定時刻ごとに追跡を行い、前記輸送ダクト7の壁面、前記オリフィス付き構造体47及び前記粒子到達評価面45に到達した粒子はそこで追跡を終了した。
Under such an environment, the movement of virtual charged particle particles is tracked at fixed time intervals, and the particles that have reached the wall surface of the
この行程を配置した全仮想電荷粒子パーティクルに対して行い、前記粒子到達評価面45に到達した仮想電荷粒子パーティクルの総数を集計した。前記荷電粒子パーティクル11発生場所50に配置した粒子数により、粒子到達評価面に到達した数を除することで算出される割合を、粒子到達率と定義し、評価した。このシミュレーションを前記オリフィス付き構造体47の前記取付角度29と前記オリフィス付き構造体47に印加する電圧を変数として行った。
This process was performed for all virtual charged particle particles arranged, and the total number of virtual charged particle particles that reached the particle
図11に電荷粒子パーティクルの到達率を図9に示したオリフィス付き構造体47の取付角度29、及び印加電圧に対して評価した結果を示す。図は結果は前記オリフィス付き構造体47の開口直径を50mmとした場合の結果である。図は、横軸に前記オリフィス付き構造体47の前記基準面30からの取付角度29を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。各凡例は前記オリフィス付き構造体47へ印加した電圧を示す。粒子到達率は前記基準面30からの前記取付角度29が45度のとき、極大値をとる。
FIG. 11 shows the result of evaluating the arrival rate of the charged particle particles with respect to the
一方で、印加電圧が100Vを超えると、各取付角度共に、粒子到達率が減少する。この理由は、ローレンツの式における、電界と磁場の関係が計算モデルの形状および幾何学的な大きさでは、100Vを境に逆転するからである。 On the other hand, when the applied voltage exceeds 100 V, the particle arrival rate decreases at each mounting angle. This is because the relationship between the electric field and the magnetic field in the Lorentz equation is reversed at 100 V in the shape and geometric size of the calculation model.
具体的には、電界の値を印加電圧と電極間距離で算出し、アンペールの法則から磁場の値を算出したのち、アーク放電により与えられる荷電粒子の初速度の外積を計算し比較すると、およそ103Vとなる。この値が電界と磁場の影響を逆転させる閾値となっている。 Specifically, after calculating the value of the electric field by the applied voltage and the distance between the electrodes, calculating the value of the magnetic field from Ampere's law, calculating and comparing the outer product of the initial velocities of the charged particles given by the arc discharge, 103V. This value is a threshold value that reverses the influence of the electric and magnetic fields.
つまり、前記オリフィス付き構造体47に印加する電圧を増加させると、ローレンツの式における磁場の作用よりも電界の作用が顕著になり、荷電粒子パーティクルの軌道を偏向させる力となるためである。従って、前記オリフィス付き構造体47に印加する電圧を100V以上とすることで、荷電粒子パーティクルを効率よく除去することが可能となる。
That is, when the voltage applied to the
[第2の実施の形態]
図4(a)および(b)は、本発明の第2の実施の形態を示した輸送ダクトの形状に関する断面図である。輸送ダクト7は、1つ以上の曲がり部を有し、その内部でかつ曲がり部の途中に、図3で示す同心円状の中空部31を持つオリフィスの板を有する構造体(第1の構造体)36を配置する。この構造体36は、前記輸送ダクト7に対して、絶縁状態に設置している。この構造体36の材質は、金属または絶縁材で構成される。
[Second Embodiment]
4 (a) and 4 (b) are cross-sectional views relating to the shape of the transport duct according to the second embodiment of the present invention. The
アークプラズマ3により発生した中性パーティクル10は、前記輸送ダクト7の曲がり形状および内部の前記防着板12の効果により一部それらに捕集される。残りの大部分の前記中性パーティクル10は前記輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中に配置された、同心円状の中空部を持つオリフィスの板を有する構造体36に捕集される。
曲がり形状による前記中性パーティクル10の衝突・反射に対し、その進路を妨害するように前記構造体36を配置することで、効率よく前記中性パーティクル10を除去することができる。
The
アークプラズマ3から電子4およびイオン5がプラズマビーム13状に取出される面を基準面(アークプラズマ流入面)30として、前記構造体36は前記基準面30に対して任意の取付角度29に取り付けることができる。前記中性パーティクル10の除去効果が最も高いのは、前記基準面30に対して前記取付角度29が35度〜45度の範囲に設置した場合である。
The surface from which the
また、電荷を持つパーティクルの除去機構は、前記構造体36とは別構造体として配置する。電荷を持つパーティクルを除去するための構造体は、前記輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中に、図3に示す同心円状の中空部を持つオリフィスを有する構造体(第2の構造体)32からなる。このオリフィス付き構造体32は、前記輸送ダクト7および中性パーティクル10を除去する前記構造体36に対して、絶縁状態に設置している。
Further, the mechanism for removing charged particles is arranged as a separate structure from the
構造体の材質が金属の場合、輸送ダクトとの絶縁には絶縁性のある物質からなる絶縁構造体33を介して前記輸送ダクト7と接続される。前記オリフィス付き構造体32には直流電圧源34または高周波電圧源35を接続できる構成をとる。前記オリフィス付き構造体32が金属の場合には直流電圧源34を使用し、絶縁材の場合は高周波電圧源35を使用する。電荷を持つパーティクルは直流電圧源34または高周波電圧源35に印加される電圧によって生じる電界により、飛翔経路を偏向される。
When the material of the structure is metal, it is connected to the
前記除去機構を有するオリフィス付き構造体32は、前記輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中で、前記輸送ダクト7の入り口または出口近傍に設置することで効果を最大にすることができる。図4(a)は前記除去機構を有するオリフィス付き構造体32を前記輸送ダクト7の出口側に配置した一例を示している。図4(b)は前記除去機構を有するオリフィス付き構造体32を前記輸送ダクト7の入り口側に配置した一例を示している。前記除去機構を有するオリフィス付き構造体32に100V以上の電圧を印加することにより、電荷を持つパーティクル効率よく除去できる。
The
図12(a)及び図12(b)に前記中性パーティクル10の挙動をシミュレーションした前記輸送ダクト7の計算モデルを示す。図12(a)及び図12(b)に示す計算モデルは、図2で示した前記中性パーティクル10の挙動シミュレーション用に簡易に構成したものである。図12(a)は第2の実施の形態の代表図、図4(a)の形態に対応し、図12(b)は第2の実施の形態の代表図、図4(b)に対応している。
12A and 12B show calculation models of the
シミュレーションでは、前記中性パーティクル10の発生場所37、前記成膜処理室19を模した粒子到達評価面40を用意した。前記輸送ダクト7の内部でかつ曲がり部の途中に、図3に示す同心円状の中空部を持つオリフィスの板を有する前記構造体36に相当するオリフィス付き構造体53を配置した。また、前記構造体32に相当するオリフィス付き構造体54を別に配置した。
In the simulation, a particle
図12(a)では、前記パーティクル発生場所37に対する前記構造体54の角度を80度の位置に設定して解析を行った。図12(b)では、前記パーティクル発生場所37に対する前記構造体54の角度を10度の位置に設定して解析を行った。前記輸送ダクト7の輸送ダクト構造体壁面38には一定の吸着率を設定し、オリフィス付き構造体53および輸送ダクト構造体壁面38の部分に対応した吸着率を設定し、値を変えて計算を行った。シミュレーションには、ペガサスソフトウエア株式会社のRGS3Dを用いた。シミュレーションは図6に示すフローチャートに従って行った。
In FIG. 12A, the analysis was performed by setting the angle of the
図13に中性パーティクルの到達率をオリフィスの開口に対して評価した結果を示す。結果は、図4(a)または4(b)に示す前記オリフィス付き構造体36の前記取付角度29を前記基準面30から45度とした時の結果である。図は、横軸にオリフィスの開口直径を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。図中の点55、56はそれぞれ、図4(a)の形態、図4(b)の形態による実際のシミュレーション結果を示す。実線57、58は、シミュレーション結果55、56に対応する近似曲線を示している。
FIG. 13 shows the result of evaluating the arrival rate of neutral particles with respect to the orifice opening. The result is a result when the
図中の近似式59、60における変数xは、オリフィス開口直径に相当し、値yは粒子到達率を示している。また、E指数表示を簡略表示した記号である。近似式59、60に示す通り、中性パーティクルの到達率はオリフィスの開口の二乗に比例して増加する。従って、オリフィス開口直径を小さくすることで、前記中性パーティクル10が前記成膜対象物16に到達することを効率よく防ぐことができる。
The variable x in the
図14に中性パーティクル10の到達率を、オリフィスの取付角度に対して評価した結果を示す。結果は前記オリフィス付き構造体36の開口直径を50mmとした場合の結果である。図14は、横軸に前記オリフィス付き構造体36の前記基準面30からの前記取付角度29を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。また、図中のひし形の示すものは、図4(a)の形態について解析した結果である。また、丸形の示すものは、図4(b)の形態について解析した結果である。
FIG. 14 shows the result of evaluating the arrival rate of the
図14から、実施例2において、前記中性パーティクル10を除去する前記構造体36と前記荷電粒子パーティクル11を除去する前記構造32を分離して構成しても、粒子到達率は前記取付角度29が35度〜45度の範囲で極小値をとることが分かる。従って、前記オリフィス付き構造体36の前記基準面30からの前記取付角度29は35度〜45度の範囲で、前記中性パーティクル10が前記成膜対象物16に到達することを効率よく防ぐことができる。
From FIG. 14, even in the second embodiment, the
図15に電荷を持つ荷電粒子パーティクルの挙動をシミュレーションした輸送ダクトの計算モデルを示す。図4(a)または図4(b)で示した図を荷電粒子パーティクル11の挙動シミュレーション用に簡略化した構成で表現した。シミュレーションでは、荷電粒子パーティクル11の発生場所50、成膜処理室19を模した粒子到達評価面45を用意した。荷電粒子パーティクル11は電界および磁場の影響を受けるため、電界及び磁場の解析空間を輸送ダクトの形状を包括する領域44として用意した。
FIG. 15 shows a calculation model of a transport duct that simulates the behavior of charged particle particles having a charge. The diagram shown in FIG. 4A or FIG. 4B is expressed with a simplified configuration for simulation of the behavior of the charged
電界解析を行うために、輸送ダクトバイアス電源46をモデル化した。さらに、前記オリフィス付き構造体36を模したオリフィス付き構造体63をモデル化した。前記構造体63は、前記パーティクル発生場所50に対し45度の角度で固定して取りつけた。構造体63とは別に、前記オリフィス付き構造体32を模したオリフィス付き構造体64をモデル化した。
The transport duct
前記構造体64は、前記パーティクル発生場所50に対する取付け角度を任意に設定できる。前記構造体64は直流電圧源51または高周波電圧源52を接続し電圧を印加できるようにした。また磁場解析のために電磁コイル48と電磁コイルバイアス電源49をモデル化した。
The
図16に電荷粒子パーティクルの到達率を前記オリフィス付き構造体64(図15)の前記取付角度29(図4(a)、(b))及び印加電圧に対して評価した結果を示す。図は、前記オリフィス付き構造体64の開口直径を50mmとした場合の結果である。図は、横軸に前記オリフィス付き構造体64の前記基準面30からの前記取付角度29を、縦軸に粒子到達率を図示したものである。各凡例は前記オリフィス付き構造体64へ印加した電圧を示す。
FIG. 16 shows the results of evaluating the arrival rate of charged particle particles with respect to the mounting angle 29 (FIGS. 4A and 4B) and the applied voltage of the
図16から、前記オリフィス付き構造体32(図4(a)、(b))を前記輸送ダクト7の内部でかつ途中の内、前記輸送ダクト7の入り口また出口付近に取り付けることで、荷電粒子パーティクル11の粒子到達率が低くなることが分かる。一方で、印加電圧が100Vを超えると、各取付角度共に、粒子到達率が減少する。
From FIG. 16, by attaching the orifice-equipped structure 32 (FIGS. 4A and 4B) inside and on the way of the
この理由は、ローレンツの式における、電界と磁場の関係が計算モデルの形状および幾何学的な大きさでは、100Vを境に逆転するからである。具体的には、電界の値を印加電圧と電極間距離で算出し、アンペールの法則から磁場の値を算出したのち、アーク放電により与えられる速度の外積を計算し比較すると、およそ103Vとなる。この値が電界と磁場の影響を逆転させる閾値となる。 This is because the relationship between the electric field and the magnetic field in the Lorentz equation is reversed at 100 V in the shape and geometric size of the calculation model. Specifically, when the value of the electric field is calculated from the applied voltage and the distance between the electrodes, the value of the magnetic field is calculated from Ampere's law, and the outer product of the speeds given by the arc discharge is calculated and compared, it is about 103V. This value is a threshold value that reverses the influence of the electric and magnetic fields.
つまり、前記オリフィス付き構造体32に印加する電圧を増加させると、ローレンツの式における磁場の作用に対し、電界の作用が顕著になり、荷電粒子パーティクルの軌道を偏向させる力となるためである。従って、前記オリフィス付き構造体32(図4(a)、(b))の配置を、前記輸送ダクト7の入り口または出口近傍に配置し、印加する電圧を100V以上とすることで、荷電粒子パーティクルを効率よく除去することが可能となる。
That is, when the voltage applied to the orifice-equipped
1 カソード用電源
2 ターゲット
3 アークプラズマ
4 電子
5 イオン
6 アーク放電チャンバー
7 輸送ダクト
8 電磁コイル用電源
9 電磁コイル
10 パーティクル
11 荷電粒子パーティクル
12 防着板
13 プラズマビーム
14 プラズマビーム走査用コイル
15 プラズマビーム走査ダクト
16 成膜対象物
17 真空排気ポンプ
18 ステージ
19 成膜処理室
20 成膜対象物バイアス電源
21 走査コイル動作電源
22 輸送ダクトバイアス電源
23 アノード構成回路
24 アーク放電着火源
25 オリフィス付き構造体
26 絶縁物質
27 直流電圧源
28 高周波電圧源
29 取付角度
30 基準面
31 中空部
32 オリフィス付き構造体
33 絶縁物質
34 直流電圧源
35 高周波電圧源
36 オリフィス付き構造体
37 中性粒子パーティクル発生場所
38 輸送ダクト構造体壁面
39 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
40 粒子到達評価面
41 近似曲線
42 粒子到達率計算結果
43 近似式
44 輸送ダクトの形状を包括する領域
45 粒子到達評価面
46 輸送ダクトバイアス電源
47 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
48 電磁コイル
49 電磁コイルバイアス電源
50 荷電粒子パーティクルの発生場所
51 直流電圧源
52 高周波電圧源
53 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
54 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
55 粒子到達計算結果
56 粒子到達計算結果
57 近似曲線
58 近似曲線
59 近似式
60 近似式
61 荷電粒子パーティクル粒子到達計算結果
62 荷電粒子パーティクル粒子到達計算結果
63 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
64 シミュレーションにおけるオリフィス付き構造体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cathode power supply 2 Target 3 Arc plasma 4 Electron 5 Ion 6 Arc discharge chamber 7 Transport duct 8 Electromagnetic coil power supply 9 Electromagnetic coil 10 Particle 11 Charged particle particle 12 Deposit plate 13 Plasma beam 14 Plasma beam scanning coil 15 Plasma beam Scanning duct 16 Deposition object 17 Vacuum exhaust pump 18 Stage 19 Deposition processing chamber 20 Deposition object bias power supply 21 Scan coil operating power supply 22 Transport duct bias power supply 23 Anode constituent circuit 24 Arc discharge ignition source 25 Structure with orifice 26 Insulating material 27 DC voltage source 28 High frequency voltage source 29 Mounting angle 30 Reference surface 31 Hollow portion 32 Structure with orifice 33 Insulating material 34 DC voltage source 35 High frequency voltage source 36 Structure with orifice 37 Neutral particle generation place 3 8 Transport duct structure wall surface 39 Structure with orifice in simulation 40 Particle arrival evaluation surface 41 Approximate curve 42 Particle arrival rate calculation result 43 Approximation formula 44 Region encompassing the shape of the transport duct 45 Particle arrival evaluation surface 46 Transport duct bias power supply 47 Structure 48 with orifice in simulation Electromagnetic coil 49 Electromagnetic coil bias power supply 50 Generation location 51 of charged particle particles DC voltage source 52 High-frequency voltage source 53 Structure 54 with orifice in simulation 55 Structure with orifice in simulation 55 Particle arrival calculation result 56 Particles Arrival calculation result 57 Approximation curve 58 Approximation curve 59 Approximation expression 60 Approximation expression 61 Charge particle particle particle arrival calculation result 62 Charge particle particle particle arrival calculation result 63 In simulation Orifice with structures at the orifice with structure 64 Simulation
Claims (2)
前記電磁場ダクトに流入する前記アークプラズマの輸送方向において、前記プラズマ発生部から見て最初の前記曲がり部の内部に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する構造体が配置されており、
前記構造体は、オリフィスの開口直径が20mm以上60mm以下であり、前記プラズマ発生部のアークプラズマ流入面から35度〜45度の範囲の角度に傾けて設置されており、
前記構造体は、前記電磁場ダクトに対して電気的に絶縁された状態で設置されており、かつ、直流電圧源または高周波電圧源に接続されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 Wherein the plasma generating unit for generating arc plasma by vacuum arc discharge is connected to the plasma generating portion, and the electromagnetic field duct having one or more bends for transporting said arc plasma, is connected to the electromagnetic field duct, the In a plasma processing apparatus comprising a processing chamber having a stage for holding a processing substrate , and an exhaust means for exhausting the plasma generating unit, the electromagnetic field duct, and the processing chamber ,
In the transport direction of the arc plasma which flows before Symbol field duct, wherein when viewed from the plasma generating portion within the first of the curved portion, there is disposed a structure having an orifice having a concentric hollow portion,
The structure has an orifice having an opening diameter of 20 mm or more and 60 mm or less, and is installed to be inclined at an angle in a range of 35 degrees to 45 degrees from an arc plasma inflow surface of the plasma generation unit,
The plasma processing apparatus, wherein the structure is installed in a state of being electrically insulated from the electromagnetic field duct and is connected to a direct current voltage source or a high frequency voltage source.
前記電磁場ダクトに流入する前記アークプラズマの輸送方向において、前記プラズマ発生部から見て最初の前記曲がり部の内部に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する第1の構造体と、
前記第1の構造体とは別に、同心円状の中空部を持つオリフィスを有する第2の構造体と、を有しており、
前記第1の構造体は、オリフィスの開口直径が20mm以上60mm以下であり、前記プラズマ発生部のアークプラズマ流入面から35度〜45度の範囲の角度に傾けて設置されており、
前記第2の構造体は、前記電磁場ダクトに対して電気的に絶縁された状態で設置されており、かつ、直流電圧源または高周波電圧源に接続されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 Wherein the plasma generating unit for generating arc plasma by vacuum arc discharge is connected to the plasma generating portion, and the electromagnetic field duct having one or more bends for transporting said arc plasma, is connected to the electromagnetic field duct, the In a plasma processing apparatus comprising a processing chamber having a stage for holding a processing substrate , and an exhaust means for exhausting the plasma generating unit, the electromagnetic field duct, and the processing chamber ,
In the transport direction of the arc plasma which flows before Symbol field ducts, the inside of the first of said curved portion when viewed from the plasma generating portion, a first structure having an orifice having a concentric hollow portion,
A second structure having an orifice having a concentric hollow part separately from the first structure;
The first structure has an orifice having an opening diameter of 20 mm or more and 60 mm or less, and is inclined at an angle in a range of 35 degrees to 45 degrees from an arc plasma inflow surface of the plasma generation unit,
The plasma processing apparatus, wherein the second structure is installed in an electrically insulated state with respect to the electromagnetic field duct and is connected to a direct current voltage source or a high frequency voltage source.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109295414A (en) * | 2018-12-11 | 2019-02-01 | 北京师范大学 | The technology and equipment of plated film in a kind of deep hole |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3727047B2 (en) * | 1999-07-30 | 2005-12-14 | 住友イートンノバ株式会社 | Ion implanter |
JP3860954B2 (en) * | 2000-07-07 | 2006-12-20 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | Plasma processing apparatus with real-time particle filter |
JP4126901B2 (en) * | 2001-11-27 | 2008-07-30 | 株式会社島津製作所 | Cathodic arc deposition system |
JP2004244667A (en) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | Vacuum arc vapor-deposition apparatus and magnetic recording medium |
JP4319556B2 (en) * | 2004-01-28 | 2009-08-26 | 浩史 滝川 | Plasma generator |
JP2010287268A (en) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | Filtered cathodic arc device and carbon protective film produced using the same |
JP5644085B2 (en) * | 2009-06-10 | 2014-12-24 | 富士通株式会社 | Film forming apparatus and film forming method |
JP2012067352A (en) * | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Ferrotec Corp | Plasma generation apparatus having terminal reflection wall filter and plasma processing apparatus |
-
2012
- 2012-08-21 JP JP2012182501A patent/JP6188294B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109295414A (en) * | 2018-12-11 | 2019-02-01 | 北京师范大学 | The technology and equipment of plated film in a kind of deep hole |
CN109295414B (en) * | 2018-12-11 | 2020-11-20 | 北京师范大学 | Technology and equipment for coating film in deep hole |
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