JP6182806B2 - Defect inspection system and film manufacturing apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、欠陥検査システム及びフィルムの製造装置に関する。   The present invention relates to a defect inspection system and a film manufacturing apparatus.

帯状のフィルムの欠陥検査システムとして、特許文献１に記載の欠陥検査システムが知られている。特許文献１の欠陥検査システムは、フィルムの搬送ライン上に、欠陥検査装置と、欠陥情報をフィルムに記録する記録装置と、を備えている。
一方、フィルムの製造装置として、特許文献２に記載のフィルムの製造装置が知られている。特許文献２のフィルムの製造装置は、第１フィルムと第２フィルムとを貼合してフィルムを形成する貼合ロールと、貼合ロールの下流側においてフィルムが搬送される搬送ラインと、搬送ラインに設けられた欠陥検査装置と、を備えている。 As a strip-shaped film defect inspection system, a defect inspection system described in Patent Document 1 is known. The defect inspection system of Patent Document 1 includes a defect inspection device and a recording device that records defect information on a film on a film conveyance line.
On the other hand, a film manufacturing apparatus described in Patent Document 2 is known as a film manufacturing apparatus. The film manufacturing apparatus of Patent Document 2 includes a bonding roll that bonds the first film and the second film to form a film, a transport line that transports the film on the downstream side of the bonding roll, and a transport line. And a defect inspection apparatus provided in the apparatus.

例えば、フィルムの製造ラインでは、第１フィルムと第２フィルムとを貼合し、ロール状に巻き取ってフィルムの原反ロールを製造する。第１フィルムと第２フィルムとを貼合する際には、第１フィルムと第２フィルムとの間に気泡等の噛み込み異物の混入が生じることがある。欠陥検査装置は、第１フィルムと第２フィルムとの間の異物欠陥等の有無を検査する。   For example, in a film production line, a first film and a second film are bonded and wound into a roll to produce a film roll. When laminating the first film and the second film, the inclusion of foreign substances such as bubbles may occur between the first film and the second film. The defect inspection apparatus inspects for the presence or absence of foreign matter defects between the first film and the second film.

特開２０１１−７７７９号公報JP 2011-7779 A 特開２００８−４９６０４号公報JP 2008-49604 A

欠陥検査装置は、通常、搬送ラインの下流側に設けられる。欠陥検査装置を搬送ラインの上流側に設けるよりも搬送ラインの下流側に設けたほうが、搬送中にフィルムに生じるキズ等の欠陥をまとめて検査することができるからである。例えば、欠陥検査装置は、フィルムが１０〜２０のロールに接した後に、フィルムの欠陥の有無を検査する。   The defect inspection apparatus is usually provided on the downstream side of the transport line. This is because if the defect inspection apparatus is provided on the downstream side of the conveyance line rather than the upstream side of the conveyance line, defects such as scratches generated on the film during conveyance can be collectively inspected. For example, the defect inspection apparatus inspects for the presence or absence of defects in the film after the film is in contact with 10 to 20 rolls.

一方、最終製品において第２フィルムが第１フィルムから剥離される場合には、第２フィルムの表面のキズは問題とはならない。例えば、第２フィルムの表面にキズが生じていても、第１フィルムと第２フィルムとの間に異物欠陥等が存在しない場合には、フィルムを最終製品として問題無く使用することができる。   On the other hand, when the second film is peeled from the first film in the final product, scratches on the surface of the second film do not matter. For example, even if the surface of the second film is scratched, if there is no foreign matter defect between the first film and the second film, the film can be used as a final product without problems.

しかしながら、フィルムの搬送中に第２フィルムの表面にキズが生じていると、本来問題とはならない第２フィルムの表面のキズが欠陥として誤検出される場合がある。この場合、最終製品として使用可能なフィルムが欠陥品として認識されてしまう。   However, if there is a scratch on the surface of the second film while the film is being transported, a scratch on the surface of the second film that is not a problem may be erroneously detected as a defect. In this case, a film that can be used as a final product is recognized as a defective product.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、キズの検出による虚報欠陥を抑制することが可能な欠陥検査システム及びフィルムの製造装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the defect inspection system which can suppress the false information defect by detection of a crack, and the manufacturing apparatus of a film.

上記の目的を達成するために、本発明は以下の手段を採用した。
（１）すなわち、本発明の第一の態様に係る欠陥検査システムは、第１フィルムと、前記第１フィルムに剥離可能に積層された第２フィルムと、を有する帯状のフィルムの欠陥検査システムであって、前記第１フィルムと前記第２フィルムとを貼合して前記フィルムを形成する貼合ロールと、前記貼合ロールの下流側において前記フィルムが搬送される搬送ラインと、前記搬送ラインに設けられた欠陥検査装置と、前記欠陥検査装置よりも下流側の前記搬送ラインに設けられ、前記欠陥検査装置によって検出された欠陥に関する欠陥情報を前記フィルムに記録する記録装置と、を含み、前記欠陥検査装置は、前記貼合ロール以外で、前記第２フィルムの前記第１フィルムとは反対側の面に最初に接するロールよりも上流側の前記搬送ラインに配置されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention employs the following means.
(1) That is, the defect inspection system which concerns on the 1st aspect of this invention is a defect inspection system of the strip | belt-shaped film which has a 1st film and the 2nd film laminated | stacked on the said 1st film so that peeling was possible. There are a bonding roll that bonds the first film and the second film to form the film, a transport line that transports the film on the downstream side of the bonding roll, and a transport line. A defect inspection apparatus provided, and a recording apparatus that is provided in the transport line downstream of the defect inspection apparatus and records defect information on defects detected by the defect inspection apparatus on the film, The defect inspection apparatus, except for the bonding roll, in the transport line on the upstream side of the roll that first contacts the surface of the second film opposite to the first film. Characterized in that it is location.

（２）上記（１）に記載の欠陥検査システムでは、前記欠陥検査装置は、前記フィルムの前記第１フィルムの側に配置され、前記フィルムに光を照射する光源と、前記フィルムの前記第２フィルムの側に配置され、前記フィルムの透過光像を撮像する撮像装置と、前記光源と前記フィルムとの間の光路上に配置され、第１の吸収軸を有する第１偏光フィルターと、前記撮像装置と前記フィルムとの間の光路上に配置され、前記第１の吸収軸と直交する第２の吸収軸を有する第２偏光フィルターと、を含んでいてもよい。   (2) In the defect inspection system according to (1), the defect inspection apparatus is disposed on the first film side of the film, and a light source that irradiates the film with light, and the second of the film. An imaging device that is disposed on the film side and captures a transmitted light image of the film; a first polarizing filter that is disposed on an optical path between the light source and the film and that has a first absorption axis; and the imaging A second polarizing filter disposed on an optical path between the device and the film and having a second absorption axis perpendicular to the first absorption axis.

（３）本発明の第一の態様に係る欠陥検査システムは、前記第１フィルムは偏光子であり、前記欠陥検査装置は、前記フィルムの前記偏光子の側に配置され、前記フィルムに光を照射する光源と、前記フィルムの前記第２フィルムの側に配置され、前記フィルムの透過光像を撮像する撮像装置と、前記撮像装置と前記フィルムとの間の光路上に配置され、前記偏光子の吸収軸と直交する吸収軸を有する偏光フィルターと、を含んでいてもよい。   (3) In the defect inspection system according to the first aspect of the present invention, the first film is a polarizer, the defect inspection device is disposed on the polarizer side of the film, and emits light to the film. A light source for irradiating; an imaging device disposed on the second film side of the film; for capturing a transmitted light image of the film; and disposed on an optical path between the imaging device and the film; And a polarizing filter having an absorption axis perpendicular to the absorption axis.

（４）本発明の第一の態様に係るフィルムの製造装置は、上記（１）から（３）までのいずれか一項に記載の欠陥検査システムを含むことを特徴とする。   (4) The film manufacturing apparatus according to the first aspect of the present invention includes the defect inspection system according to any one of (1) to (3) above.

本発明によれば、キズの検出による虚報欠陥を抑制することが可能な欠陥検査システム及びフィルムの製造装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the defect inspection system and the film manufacturing apparatus which can suppress the false information defect by the detection of a crack can be provided.

第１実施形態に係るフィルムの製造装置を示す側面図である。It is a side view which shows the manufacturing apparatus of the film which concerns on 1st Embodiment. 第１偏光フィルターの第１の吸収軸と第２偏光フィルターの第２の吸収軸との配置関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the arrangement | positioning relationship between the 1st absorption axis of a 1st polarizing filter, and the 2nd absorption axis of a 2nd polarizing filter. 第１実施形態に係る欠陥検査装置の平面図である。1 is a plan view of a defect inspection apparatus according to a first embodiment. 比較例１に係る欠陥検査システムによるフィルムの欠陥検査を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the defect inspection of the film by the defect inspection system which concerns on the comparative example 1. FIG. 第１実施形態に係る欠陥検査システムによるフィルムの欠陥検査を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the defect inspection of the film by the defect inspection system which concerns on 1st Embodiment. 第２実施形態に係るフィルムの製造装置を示す側面図である。It is a side view which shows the manufacturing apparatus of the film which concerns on 2nd Embodiment. 偏光子の吸収軸と偏光フィルターの吸収軸との配置関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the arrangement | positioning relationship between the absorption axis of a polarizer, and the absorption axis of a polarizing filter. 比較例２に係る欠陥検査システムによるフィルムの欠陥検査を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the defect inspection of the film by the defect inspection system which concerns on the comparative example 2. FIG. 第２実施形態に係る欠陥検査システムによるフィルムの欠陥検査を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the defect inspection of the film by the defect inspection system which concerns on 2nd Embodiment.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.

尚、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法や比率などは適宜異ならせてある。また、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   In all the drawings below, the dimensions and ratios of the respective constituent elements are appropriately changed in order to make the drawings easy to see. In the following description and drawings, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係るフィルムの製造装置１を示す側面図である。図１において、符号Ｓｆ１はフィルムＦの上面であり、第１フィルムＦ１側の面である。符号Ｓｆ２はフィルムＦの下面であり、第２フィルムＦ２側の面である。 (First embodiment)
FIG. 1 is a side view showing a film manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral Sf <b> 1 is an upper surface of the film F and is a surface on the first film F <b> 1 side. Reference numeral Sf2 is a lower surface of the film F, which is a surface on the second film F2 side.

以下の説明においては、必要に応じてＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。本実施形態においては、帯状のフィルムの搬送方向をＸ方向としており、フィルムの面内においてＸ方向に直交する方向（長尺のフィルムの幅方向）をＹ方向、Ｘ方向及びＹ方向に直交する方向をＺ方向としている。   In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set as necessary, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. In the present embodiment, the transport direction of the belt-shaped film is the X direction, and the direction orthogonal to the X direction (the width direction of the long film) is orthogonal to the Y direction, the X direction, and the Y direction in the plane of the film. The direction is the Z direction.

図１に示すように、フィルムの製造装置１は、第１フィルムＦ１を供給する第１供給部７と、第２フィルムＦ２を供給する第２供給部８と、フィルムＦの有無の欠陥の有無を検査する欠陥検査システム２と、フィルムＦの搬送経路を形成する複数のロール（例えば、本実施形態では、第１ガイドロール１０、第２ガイドロール１１及び第３ガイドロール１２）と、フィルムＦを巻き取る巻き取り部９と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the film manufacturing apparatus 1 includes a first supply unit 7 that supplies a first film F <b> 1, a second supply unit 8 that supplies a second film F <b> 2, and the presence / absence of a film F defect. A defect inspection system 2 for inspecting the film, a plurality of rolls (for example, the first guide roll 10, the second guide roll 11, and the third guide roll 12 in this embodiment) that form the transport path of the film F, and the film F And a winding unit 9 for winding

尚、本実施形態では、フィルムＦの搬送経路を形成する複数のロールとして、第１ガイドロール１０、第２ガイドロール１１及び第３ガイドロール１２の３つのガイドロールが設けられているが、これに限らない。例えば、フィルムＦの搬送経路を形成する複数のロールとして、４つ以上のガイドレールが設けられていてもよいし、ガイドロールの他にもニップロールやダンサロールが設けられていてもよい。また、このような接触ロール以外に、エアーバー等の非接触ロールが設けられていてもよい。   In the present embodiment, as the plurality of rolls forming the transport path of the film F, three guide rolls of the first guide roll 10, the second guide roll 11, and the third guide roll 12 are provided. Not limited to. For example, four or more guide rails may be provided as a plurality of rolls forming the transport path of the film F, and a nip roll or a dancer roll may be provided in addition to the guide roll. In addition to such contact rolls, non-contact rolls such as air bars may be provided.

フィルムＦは、第１フィルムＦ１と、第１フィルムＦ１に剥離可能に積層された第２フィルムＦ２と、を有する帯状のフィルムである。本実施形態で使用されるフィルムＦは、例えば、最終製品として使用されるフィルムである第１フィルムＦ１の一面が、セパレータフィルムである第２フィルムＦ２によって覆われた構造である。   The film F is a belt-like film having a first film F1 and a second film F2 laminated on the first film F1 in a peelable manner. The film F used in the present embodiment has, for example, a structure in which one surface of the first film F1 that is a film used as a final product is covered with a second film F2 that is a separator film.

第１フィルムＦ１としては、例えば、ＴＡＣ（Triacetylcellulose）フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、視野角拡大フィルムなどのフィルムが用いられる。第２フィルムＦ２としては、例えば、離型フィルム付き粘着材フィルムが用いられる。
尚、フィルムＦは、第１フィルムＦ１の他面に、位相差フィルムや輝度向上フィルム等の複数の光学フィルムを積層したものでもよい。 As the first film F1, for example, a film such as a TAC (Triacetylcellulose) film, a retardation film, a brightness enhancement film, and a viewing angle widening film is used. As the second film F2, for example, an adhesive film with a release film is used.
The film F may be a laminate of a plurality of optical films such as a retardation film and a brightness enhancement film on the other surface of the first film F1.

また、フィルムＦにおいて第２フィルムＦ２を第１フィルムＦ１から剥離する場合には、第２フィルムＦ２全体を第１フィルムＦ１から剥離するのではない。例えば、フィルムＦのうちの第２フィルムＦ２の一部（離型フィルム）を剥離して、剥離後のフィルム（第１フィルムＦ１及び粘着材）が粘着材の側からパネル等に貼合される。すなわち、第２フィルムＦ２の一部を剥離した後、第１フィルムＦ１の一面には第２フィルムＦ２の残りの部分（粘着材）が配置されている。   Moreover, when peeling the 2nd film F2 from the 1st film F1 in the film F, the 2nd film F2 whole is not peeled from the 1st film F1. For example, a part (release film) of the second film F2 of the film F is peeled off, and the peeled film (first film F1 and adhesive material) is bonded to a panel or the like from the adhesive material side. . That is, after a part of the second film F2 is peeled off, the remaining part (adhesive material) of the second film F2 is disposed on one surface of the first film F1.

第１供給部７は、帯状の第１フィルムＦ１を巻回した原反ロールＲ１を保持すると共に第１フィルムＦ１をその長手方向に沿って繰り出す。第１供給部７は、フィルムＦの供給経路の一方側（図１に示す＋Ｚ方向側）に配置されている。   The 1st supply part 7 unwinds the 1st film F1 along the longitudinal direction while hold | maintaining the original fabric roll R1 which wound the strip | belt-shaped 1st film F1. The 1st supply part 7 is arrange | positioned at the one side (+ Z direction side shown in FIG. 1) of the supply path | route of the film F. As shown in FIG.

第２供給部８は、帯状の第２フィルムＦ２を巻回した原反ロールＲ２を保持すると共に第２フィルムＦ２をその長手方向に沿って繰り出す。第２供給部８は、フィルムＦの供給経路の他方側（図１に示す−Ｚ方向側）に配置されている。   The 2nd supply part 8 draws | feeds out the 2nd film F2 along the longitudinal direction while hold | maintaining the original fabric roll R2 which wound the strip | belt-shaped 2nd film F2. The 2nd supply part 8 is arrange | positioned at the other side (-Z direction side shown in FIG. 1) of the supply path | route of the film F. As shown in FIG.

尚、第１供給部７及び第２供給部８の配置構成は、これに限らない。例えば、第１供給部７がフィルムＦの供給経路の他方側（図１に示す−Ｚ方向側）に配置され、且つ、第２供給部８がフィルムＦの供給経路の一方側（図１に示す＋Ｚ方向側）に配置されていてもよい。   The arrangement configuration of the first supply unit 7 and the second supply unit 8 is not limited to this. For example, the first supply unit 7 is disposed on the other side of the supply path of the film F (the −Z direction side shown in FIG. 1), and the second supply unit 8 is disposed on one side of the supply path of the film F (see FIG. 1). (+ Z direction side shown).

欠陥検査システム２は、第１フィルムＦ１及び第２フィルムＦ２の２枚のフィルムを貼合して１枚のフィルムＦを形成する貼合ロール３と、貼合ロール３の下流側においてフィルムＦが搬送される搬送ライン４と、搬送ライン４に設けられた欠陥検査装置５と、欠陥検査装置５よりも下流側の搬送ライン４に設けられた記録装置６と、を備えている。   In the defect inspection system 2, the film F is bonded on the downstream side of the bonding roll 3 and the bonding roll 3 in which two films of the first film F <b> 1 and the second film F <b> 2 are bonded to form one film F. A conveyance line 4 to be conveyed, a defect inspection device 5 provided in the conveyance line 4, and a recording device 6 provided in the conveyance line 4 on the downstream side of the defect inspection device 5 are provided.

貼合ロール３は、互いに軸方向を平行にして配置された一対のニップロール３ａ，３ｂを有する。一対のニップロール３ａ，３ｂの間には所定の間隙が形成され、この間隙内が第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２との貼合位置となる。間隙内には、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とが重なり合って導入される。第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とが、ニップロール３ａ，３ｂによって挟圧されつつ下流側に送り出される。これにより、第１フィルムＦ１の一方の面に第２フィルムＦ２が貼合される。   The bonding roll 3 has a pair of nip rolls 3a and 3b which are arranged with their axial directions parallel to each other. A predetermined gap is formed between the pair of nip rolls 3a and 3b, and the inside of the gap is a bonding position between the first film F1 and the second film F2. The first film F1 and the second film F2 are overlapped and introduced into the gap. The first film F1 and the second film F2 are sent downstream while being pressed by the nip rolls 3a and 3b. Thereby, the 2nd film F2 is bonded by one side of the 1st film F1.

貼合ロール３により、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とが貼合され、１枚のフィルムＦが形成される。フィルムＦは、欠陥検査装置５に向けて搬送される。   The 1st film F1 and the 2nd film F2 are bonded by the bonding roll 3, and the film F of 1 sheet is formed. The film F is conveyed toward the defect inspection apparatus 5.

欠陥検査装置５は、フィルムＦの第１フィルムＦ１の側（図１に示す＋Ｚ方向側）に配置された光源２０と、フィルムＦの第２フィルムＦ２の側（図１に示す−Ｚ方向側）に配置された撮像装置２２と、光源２０とフィルムＦとの間の光路上に配置された第１偏光フィルター２１と、撮像装置２２とフィルムＦとの間の光路上に配置された第２偏光フィルター２３と、を備えている。   The defect inspection apparatus 5 includes a light source 20 disposed on the first film F1 side of the film F (+ Z direction side shown in FIG. 1) and a second film F2 side of the film F (−Z direction side shown in FIG. 1). ), The first polarizing filter 21 arranged on the optical path between the light source 20 and the film F, and the second arranged on the optical path between the imaging apparatus 22 and the film F. And a polarizing filter 23.

欠陥検査装置５は、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の第１フィルムＦ１とは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロールよりも上流側の搬送ライン４に配置されている。本実施形態に係る欠陥検査装置５は、貼合ロール３の下流側であって第１ガイドロール１０よりも上流側の搬送ライン４に配置されている。   The defect inspection apparatus 5 is arrange | positioned in the conveyance line 4 upstream from the roll which contact | connects the surface Sf2 on the opposite side to the 1st film F1 of the 2nd film F2 except the bonding roll 3. FIG. The defect inspection apparatus 5 according to the present embodiment is disposed on the transport line 4 on the downstream side of the bonding roll 3 and on the upstream side of the first guide roll 10.

光源２０の光射出面２０ａの中心と撮像装置２２の受光面２２ａの中心とは、同軸（光軸ＣＬ上）に配置されている。   The center of the light emitting surface 20a of the light source 20 and the center of the light receiving surface 22a of the imaging device 22 are arranged coaxially (on the optical axis CL).

図２は、第１偏光フィルター２１の第１の吸収軸Ｖ１と第２偏光フィルター２３の第２の吸収軸Ｖ２との配置関係を説明するための図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining the positional relationship between the first absorption axis V1 of the first polarizing filter 21 and the second absorption axis V2 of the second polarizing filter 23. FIG.

図２に示すように、第１偏光フィルター２１は、第１の吸収軸Ｖ１を有する。第２偏光フィルター２３は、第１の吸収軸Ｖ１と直交する第２の吸収軸Ｖ２を有する。第１偏光フィルター２１は、光源２０と撮像装置２２との間の光路上において、第１偏光フィルター２１の第１の吸収軸Ｖ１と第２偏光フィルター２３の第２の吸収軸Ｖ２とが互いに直交して配置（クロスニコル配置）される。   As shown in FIG. 2, the first polarizing filter 21 has a first absorption axis V1. The second polarizing filter 23 has a second absorption axis V2 that is orthogonal to the first absorption axis V1. In the first polarizing filter 21, the first absorption axis V 1 of the first polarizing filter 21 and the second absorption axis V 2 of the second polarizing filter 23 are orthogonal to each other on the optical path between the light source 20 and the imaging device 22. Is arranged (crossed Nicols arrangement).

本実施形態の場合、フィルムＦ（図１参照）は、第１偏光フィルター２１を透過した光に対して位相差を付与しないフィルムとなっている。そのため、第１偏光フィルター２１の第１の吸収軸Ｖ１と第２偏光フィルター２３の第２の吸収軸Ｖ２とをクロスニコル配置させると、第１偏光フィルター２１と第２偏光フィルター２３との重なり部分ＳＶにおいては光を透過しない。そのため、撮像装置２２によって重なり部分ＳＶを撮像すると、第１偏光フィルター２１と第２偏光フィルター２３との間に位相差を有する欠陥等の偏光状態を乱すものが配置されていない限り、暗視野に見える。   In the case of this embodiment, the film F (see FIG. 1) is a film that does not give a phase difference to the light transmitted through the first polarizing filter 21. Therefore, when the first absorption axis V1 of the first polarizing filter 21 and the second absorption axis V2 of the second polarizing filter 23 are arranged in a crossed Nicols arrangement, the overlapping portion of the first polarizing filter 21 and the second polarizing filter 23 In SV, light is not transmitted. Therefore, when the overlapping portion SV is imaged by the imaging device 22, the dark field is not displayed unless anything that disturbs the polarization state such as a defect having a phase difference is disposed between the first polarizing filter 21 and the second polarizing filter 23. appear.

なお、フィルムＦが、第１偏光フィルター２１を透過した光に対して位相差を付与するフィルムである場合には、その位相差を相殺するような位相補償フィルムを第１偏光フィルター２１と第２偏光フィルター２３との間に配置してもよい。位相補償フィルムを配置しない場合には、第１偏光フィルター２１の透過軸と第２偏光フィルター２３の透過軸とを９０°から所定角度ずれた角度に配置し、異物欠陥等の欠陥がない状態で、撮像装置２２における受光強度が最小（暗視野）となるようにしてもよい。   When the film F is a film that gives a phase difference to the light transmitted through the first polarizing filter 21, a phase compensation film that cancels the phase difference is used as the first polarizing filter 21 and the second polarizing filter 21. You may arrange | position between the polarizing filters 23. When the phase compensation film is not arranged, the transmission axis of the first polarizing filter 21 and the transmission axis of the second polarizing filter 23 are arranged at an angle deviated from 90 ° by a predetermined angle, and there is no defect such as a foreign substance defect. The received light intensity in the imaging device 22 may be minimized (dark field).

図３は、欠陥検査装置５の平面図である。図３では、便宜上、フィルムＦを図示している。   FIG. 3 is a plan view of the defect inspection apparatus 5. In FIG. 3, the film F is shown for convenience.

図３に示すように、欠陥検査装置５を構成する光源２０の光射出面２０ａは、長方形であり、Ｙ方向に沿って長手を有している。本実施形態において、光源２０の光射出面２０ａは、フィルムＦの搬送方向と直交する幅方向に沿って長手を有している。光源２０の光射出面２０ａは、フィルムＦに対して幅方向に跨って形成されている。例えば、光源２０としては、ＬＥＤライン光源を用いることができる。   As shown in FIG. 3, the light emission surface 20a of the light source 20 constituting the defect inspection apparatus 5 is a rectangle and has a length along the Y direction. In the present embodiment, the light exit surface 20 a of the light source 20 has a length along the width direction orthogonal to the transport direction of the film F. The light emission surface 20 a of the light source 20 is formed across the width direction with respect to the film F. For example, an LED line light source can be used as the light source 20.

第１偏光フィルター２１は、光源２０の光射出面２０ａの外周部と重なるように配置されている。第１偏光フィルター２１は、光源２０の光射出面２０ａと同様に、Ｙ方向に沿って長手を有している。第１偏光フィルター２１は、Ｘ方向及びＹ方向の各々において光源２０の光射出面２０ａよりも長くなっている。   The first polarizing filter 21 is disposed so as to overlap the outer peripheral portion of the light exit surface 20 a of the light source 20. The first polarizing filter 21 has a length along the Y direction, similarly to the light exit surface 20 a of the light source 20. The first polarizing filter 21 is longer than the light exit surface 20a of the light source 20 in each of the X direction and the Y direction.

これにより、第１偏光フィルター２１が光源２０とフィルムＦとの間の光路上に配置された場合において、光源２０から射出された光はすべて第１偏光フィルター２１に入射する。   Thereby, when the first polarizing filter 21 is disposed on the optical path between the light source 20 and the film F, all the light emitted from the light source 20 enters the first polarizing filter 21.

撮像装置２２も、光源２０の光射出面２０ａと同様に、Ｙ方向に沿って長手を有している。例えば、撮像装置２２としては、ラインカメラを用いることができる。   Similarly to the light exit surface 20a of the light source 20, the imaging device 22 also has a length along the Y direction. For example, a line camera can be used as the imaging device 22.

第２偏光フィルター２３は、撮像装置２２の受光面２２ａの外周部と重なるように配置されている。第２偏光フィルター２３は、撮像装置２２の受光面２２ａと同様に、Ｙ方向に沿って長手を有している。第２偏光フィルター２３は、Ｘ方向及びＹ方向の各々において撮像装置２２の受光面２２ａよりも長くなっている。   The second polarizing filter 23 is disposed so as to overlap the outer peripheral portion of the light receiving surface 22 a of the imaging device 22. Similar to the light receiving surface 22a of the imaging device 22, the second polarizing filter 23 has a length along the Y direction. The second polarizing filter 23 is longer than the light receiving surface 22a of the imaging device 22 in each of the X direction and the Y direction.

図１に戻り、記録装置６は、第３ガイドロール１２よりも下流側の搬送ライン４に設けられている。記録装置６は、欠陥検査装置５によって検出された欠陥に関する欠陥情報をフィルムＦ（例えば本実施形態では第１フィルムＦ１）に記録する。欠陥情報には、欠陥の位置や種類に関する情報等が含まれる。   Returning to FIG. 1, the recording apparatus 6 is provided in the transport line 4 on the downstream side of the third guide roll 12. The recording device 6 records defect information related to the defect detected by the defect inspection device 5 on the film F (for example, the first film F1 in the present embodiment). The defect information includes information on the position and type of the defect.

記録装置６は、例えば、欠陥情報を識別コード（一次元バーコード、二次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）など）の形式で第１フィルムＦ１の幅方向端部に記録する。識別コードには、例えば、欠陥検査装置５によって検出された欠陥が、バーコードが付された位置からフィルム幅方向に沿ってどれだけの距離だけ離れた位置に存在するかを示す情報（欠陥の位置に関する情報）が含まれる。識別コードには、検出された欠陥の種類に関する情報が含まれていてもよい。   For example, the recording device 6 records defect information in the width direction end of the first film F1 in the form of an identification code (one-dimensional barcode, two-dimensional barcode, QR code (registered trademark), etc.). In the identification code, for example, information indicating how far the defect detected by the defect inspection apparatus 5 exists at a position along the film width direction from the position where the barcode is attached (defects). Location information). The identification code may include information regarding the type of detected defect.

記録装置６は、第１フィルムＦ１の欠陥箇所に、欠陥を包含するような大きさのドット状、ライン状もしくは枠状のマークを付すことによって、欠陥の位置を第１フィルムＦ１上に直接表示（マーキング）してもよい。この際、前記マークとともに欠陥の種類を示す記号や模様を欠陥箇所に付すことによって、欠陥の種類に関する情報を記録してもよい。   The recording device 6 directly displays the position of the defect on the first film F1 by attaching a dot-shaped, line-shaped or frame-shaped mark that includes the defect to the defective portion of the first film F1. (Marking) may be used. At this time, information on the type of defect may be recorded by attaching a symbol or pattern indicating the type of defect together with the mark to the defective part.

記録装置６によって欠陥情報が記録されたフィルムＦは、巻き取り部９に向けて搬送される。そして、巻き取り部９においてロール状に巻き取られ、フィルムＦのロール原反Ｒが製造される。   The film F on which the defect information is recorded by the recording device 6 is conveyed toward the winding unit 9. And it winds up in roll shape in the winding-up part 9, and the roll original fabric R of the film F is manufactured.

ところで、欠陥検査装置は、通常、搬送ラインの下流側に設けられる。欠陥検査装置を搬送ラインの上流側に設けるよりも搬送ラインの下流側に設けたほうが、搬送中にフィルムに生じるキズ等の欠陥をまとめて検査することができるからである。例えば、欠陥検査装置は、フィルムが１０〜２０のロールに接した後に、フィルムの欠陥の有無を検査する。   Incidentally, the defect inspection apparatus is usually provided on the downstream side of the transport line. This is because if the defect inspection apparatus is provided on the downstream side of the conveyance line rather than the upstream side of the conveyance line, defects such as scratches generated on the film during conveyance can be collectively inspected. For example, the defect inspection apparatus inspects for the presence or absence of defects in the film after the film is in contact with 10 to 20 rolls.

一方、最終製品において第２フィルムが第１フィルムから剥離される場合には、第２フィルムの表面のキズは問題とはならない。例えば、第２フィルムの表面にキズが生じていても、第１フィルムと第２フィルムとの間に異物欠陥等が存在しない場合には、フィルムを最終製品として問題無く使用することができる。   On the other hand, when the second film is peeled from the first film in the final product, scratches on the surface of the second film do not matter. For example, even if the surface of the second film is scratched, if there is no foreign matter defect between the first film and the second film, the film can be used as a final product without problems.

しかしながら、フィルムの搬送中に第２フィルムの表面にキズが生じていると、本来問題とはならない第２フィルムの表面のキズが欠陥として誤検出される場合がある。この場合、最終製品として使用可能なフィルムが欠陥品として認識されてしまう。   However, if there is a scratch on the surface of the second film while the film is being transported, a scratch on the surface of the second film that is not a problem may be erroneously detected as a defect. In this case, a film that can be used as a final product is recognized as a defective product.

そこで本発明は、このような問題を解消するために、以下の構成を採用している。
本発明の第１実施形態に係る欠陥検査システム２は、第１フィルムＦ１と、第１フィルムＦ１に剥離可能に積層された第２フィルムＦ２と、を有する帯状のフィルムＦの欠陥検査システムであって、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とを貼合してフィルムＦを形成する貼合ロール３と、貼合ロール３の下流側においてフィルムＦが搬送される搬送ライン４と、搬送ライン４に設けられた欠陥検査装置５と、欠陥検査装置５よりも下流側の搬送ライン４に設けられ、欠陥検査装置５によって検出された欠陥に関する欠陥情報をフィルムＦに記録する記録装置６と、を含み、欠陥検査装置５は、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の第１フィルムＦ１とは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロール１０よりも上流側の搬送ライン４に配置されていることを特徴とする。 Therefore, the present invention employs the following configuration in order to solve such problems.
The defect inspection system 2 according to the first embodiment of the present invention is a defect inspection system for a strip-shaped film F having a first film F1 and a second film F2 that is detachably laminated on the first film F1. And the 1st film F1 and the 2nd film F2 are bonded, the bonding roll 3 which forms the film F, the conveyance line 4 in which the film F is conveyed in the downstream of the bonding roll 3, and the conveyance line 4 A defect inspection apparatus 5 provided on the recording line, and a recording apparatus 6 provided on the transport line 4 on the downstream side of the defect inspection apparatus 5 for recording defect information relating to defects detected by the defect inspection apparatus 5 on the film F. In addition, the defect inspection apparatus 5 is disposed on the transport line 4 on the upstream side of the roll 10 that is first in contact with the surface Sf2 opposite to the first film F1 of the second film F2 other than the bonding roll 3. And wherein the are.

以下、図４及び図５を用いて本実施形態に係る欠陥検査システム２の作用効果について説明する。   Hereinafter, the effect of the defect inspection system 2 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

図４は、比較例１に係る欠陥検査システムによるフィルムＦの欠陥検査を説明するための図である。
比較例１に係る欠陥検査システムにおいては、欠陥検査装置５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の第１フィルムＦ１とは反対側の面Ｓｆ２に接するロール（例えば複数のガイドロールのうち面Ｓｆ２に最後に接するガイドロール）よりも下流側の搬送ライン４に配置されている。図４は、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とを貼合する際の気泡等の噛み込み等によりフィルムＦに欠陥Ｅ１が存在しており、且つ、フィルムＦの搬送中における第２フィルムＦ２とガイドロールとの摩擦により第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が生じている場合の図である。 FIG. 4 is a diagram for explaining defect inspection of the film F by the defect inspection system according to Comparative Example 1.
In the defect inspection system according to Comparative Example 1, the defect inspection apparatus 5 is a roll that is in contact with the surface Sf2 on the opposite side of the first film F1 of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, a plurality of guide rolls). Of these, it is disposed on the transport line 4 on the downstream side of the guide roll that comes into contact with the surface Sf2 last. FIG. 4 shows that a defect E1 is present in the film F due to entrapment of bubbles or the like when the first film F1 and the second film F2 are bonded together, and the second film F2 is being conveyed. It is a figure in case the crack E2 has arisen on the surface of the 2nd film F2 by the friction with a guide roll.

図４に示すように、光源２０からフィルムＦに向けて射出された光Ｌ１は、第１偏光フィルター２１によって直線偏光Ｌ２とされる。第１偏光フィルター２１により得られた直線偏光Ｌ２は、第１フィルムＦ１に入射する。すると、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２との間に存在する欠陥Ｅ１により直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ３）が第２偏光フィルター２３を透過する。   As shown in FIG. 4, the light L <b> 1 emitted from the light source 20 toward the film F is converted into linearly polarized light L <b> 2 by the first polarizing filter 21. The linearly polarized light L2 obtained by the first polarizing filter 21 is incident on the first film F1. Then, the polarization state of the linearly polarized light L2 is disturbed by the defect E1 existing between the first film F1 and the second film F2, and a part of the light (light L3) whose polarization state is disturbed is the second polarizing filter 23. Transparent.

一方、第２フィルムＦ２の表面に存在するキズＥ２によっても直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ４）が第２偏光フィルタ−２３を透過する。   On the other hand, the polarization state of the linearly polarized light L2 is also disturbed by the scratch E2 present on the surface of the second film F2, and a part of the light (light L4) whose polarization state is disturbed passes through the second polarizing filter-23.

その結果、第２偏光フィルター２３を透過した光Ｌ３と光Ｌ４とが撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ１と欠陥Ｅ２とが輝点として明るく撮像される。   As a result, the light L3 and the light L4 transmitted through the second polarizing filter 23 are incident on the imaging device 22, and the defect E1 and the defect E2 are brightly imaged as bright spots by the imaging device 22.

また、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２との間に欠陥Ｅ１が存在しなくても、第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が存在する場合には、第２偏光フィルター２３を透過した光Ｌ４が撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ２が輝点として明るく撮像される。   In addition, even if there is no defect E1 between the first film F1 and the second film F2, if there is a scratch E2 on the surface of the second film F2, the light L4 transmitted through the second polarizing filter 23 Enters the imaging device 22 and the imaging device 22 picks up the defect E2 brightly as a bright spot.

このように、比較例１においては、フィルムＦの搬送中におけるガイドロールとの摩擦により第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が生じていると、最終製品において第２フィルムＦ２が第１フィルムＦ１から剥離される場合に本来問題とはならない第２フィルムＦ２の表面のキズが欠陥として誤検出されてしまう。   Thus, in Comparative Example 1, when scratch E2 is generated on the surface of the second film F2 due to friction with the guide roll during the conveyance of the film F, the second film F2 is removed from the first film F1 in the final product. When the film is peeled off, a scratch on the surface of the second film F2 that does not originally become a problem is erroneously detected as a defect.

図５は、本実施形態に係る欠陥検査システム２によるフィルムＦの欠陥検査を説明するための図である。
本実施形態に係る欠陥検査システム２においては、欠陥検査装置５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の第１フィルムＦ１とは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロール（例えば本実施形態では第１ガイドロール１０）よりも上流側の搬送ライン４に配置されている。図５は、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２とを貼合する際の気泡等の噛み込み等によりフィルムＦに欠陥Ｅ１が存在している場合の図である。尚、第２フィルムＦ２にキズが付く前にフィルムＦの欠陥が検査されるため、第２フィルムＦ２の表面にキズは生じていない。 FIG. 5 is a view for explaining defect inspection of the film F by the defect inspection system 2 according to the present embodiment.
In the defect inspection system 2 according to the present embodiment, the defect inspection device 5 is a roll that first contacts the surface Sf2 opposite to the first film F1 of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, the present embodiment). In the form, it is arranged in the transport line 4 upstream of the first guide roll 10). FIG. 5 is a diagram in the case where a defect E1 is present in the film F due to entrapment of bubbles or the like when the first film F1 and the second film F2 are bonded. In addition, since the defect of the film F is inspected before the second film F2 is scratched, the surface of the second film F2 is not scratched.

図５に示すように、光源２０からフィルムＦに向けて射出された光Ｌ１は、第１偏光フィルター２１によって直線偏光Ｌ２とされる。第１偏光フィルター２１により得られた直線偏光Ｌ２は、第１フィルムＦ１に入射する。すると、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２との間に存在する欠陥Ｅ１により直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ３）が第２偏光フィルター２３を透過する。その結果、第２偏光フィルター２３を透過した光Ｌ３が撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ１が輝点として明るく撮像される。   As shown in FIG. 5, the light L <b> 1 emitted from the light source 20 toward the film F is converted into linearly polarized light L <b> 2 by the first polarizing filter 21. The linearly polarized light L2 obtained by the first polarizing filter 21 is incident on the first film F1. Then, the polarization state of the linearly polarized light L2 is disturbed by the defect E1 existing between the first film F1 and the second film F2, and a part of the light (light L3) whose polarization state is disturbed is the second polarizing filter 23. Transparent. As a result, the light L3 transmitted through the second polarizing filter 23 enters the image pickup device 22, and the image pickup device 22 picks up the defect E1 brightly as a bright spot.

一方、第１フィルムＦ１と第２フィルムＦ２との間に欠陥Ｅ１が存在しない場合には、直線偏光Ｌ２は第２偏光フィルター２３を透過することができない。その結果、撮像装置２２には光が入射しないため、撮像装置２２では黒い画像が撮像される。   On the other hand, when the defect E1 does not exist between the first film F1 and the second film F2, the linearly polarized light L2 cannot pass through the second polarizing filter 23. As a result, since no light is incident on the imaging device 22, the imaging device 22 captures a black image.

このように、本実施形態においては、第２フィルムＦ２の表面にキズが生じていないため、第２フィルムＦ２の表面のキズが欠陥として誤検出されることがない。   Thus, in this embodiment, since no scratch is generated on the surface of the second film F2, a scratch on the surface of the second film F2 is not erroneously detected as a defect.

以上説明したように、本実施形態によれば、欠陥検査装置５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の第１フィルムＦ１とは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロール（例えば本実施形態では第１ガイドロール１０）よりも上流側の搬送ライン４に配置されているため、第２フィルムＦ２にキズが付く前にフィルムＦの欠陥が検査される。すなわち、フィルムＦの搬送中に、第２フィルムＦ２とガイドロールとの摩擦が生じないため、第２フィルムＦ２の表面にキズが生じない。従って、キズの検出による虚報欠陥を抑制することができる。   As described above, according to the present embodiment, the defect inspection device 5 is a roll that first contacts the surface Sf2 opposite to the first film F1 of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, a book) In the embodiment, the film F is inspected for defects before being scratched on the second film F2 because it is disposed on the transport line 4 upstream of the first guide roll 10). That is, since the friction between the second film F2 and the guide roll does not occur during the conveyance of the film F, the surface of the second film F2 is not scratched. Accordingly, it is possible to suppress false alarm defects due to detection of scratches.

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について図６〜図９を用いて説明する。
図６は、本発明の第２実施形態に係るフィルムの製造装置１０１を示す側面図である。
図６に示すように、本実施形態に係るフィルムの製造装置１０１は、第１フィルムＦ１ａが偏光子であり、欠陥検査装置１０５が、フィルムＦａの偏光子Ｆ１ａの側に配置された光源２０と、フィルムＦａの第２フィルムＦ２の側に配置された撮像装置２２と、撮像装置２２とフィルムＦａとの間の光路上に配置された偏光フィルター１２３と、を備えている点で、第１実施形態に係るフィルムの製造装置１と異なる。その他の第１実施形態と同一構成には同一符号を付し、詳細説明は省略する。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 6 is a side view showing a film manufacturing apparatus 101 according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 6, in the film manufacturing apparatus 101 according to this embodiment, the first film F <b> 1 a is a polarizer, and the defect inspection apparatus 105 includes a light source 20 disposed on the polarizer F <b> 1 a side of the film Fa. First, in that the image pickup device 22 disposed on the second film F2 side of the film Fa and the polarizing filter 123 disposed on the optical path between the image pickup device 22 and the film Fa are provided. Different from the film manufacturing apparatus 1 according to the embodiment. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

フィルムＦａは、偏光子Ｆ１ａと、偏光子Ｆ１ａに剥離可能に積層された第２フィルムＦ２と、を有する帯状のフィルムである。本実施形態で使用されるフィルムＦは、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等からなる偏光子Ｆ１ａの一面が、セパレータフィルムである第２フィルムＦ２によって覆われた構造である。   The film Fa is a band-shaped film having a polarizer F1a and a second film F2 laminated on the polarizer F1a so as to be peelable. The film F used in this embodiment has a structure in which, for example, one surface of a polarizer F1a made of PVA (polyvinyl alcohol) or the like is covered with a second film F2 that is a separator film.

尚、フィルムＦａは、偏光子Ｆ１ａの他面に、位相差フィルムや輝度向上フィルム等の複数の光学フィルムを積層したものでもよい。   The film Fa may be a laminate of a plurality of optical films such as a retardation film and a brightness enhancement film on the other surface of the polarizer F1a.

本実施形態の場合、フィルムＦａは、偏光子Ｆ１ａを透過した光に対して位相差を付与しないフィルムとなっているが、フィルムＦａが、偏光子Ｆ１ａを透過した光に対して位相差を付与するフィルムである場合には、その位相差を相殺するような位相補償フィルムをフィルムＦａと偏光フィルター１２３との間に配置してもよい。位相補償フィルムを配置しない場合には、偏光子Ｆ１ａの透過軸と偏光フィルター１２３の透過軸とを９０°から所定角度ずれた角度に配置し、異物欠陥等の欠陥がない状態で、撮像装置２２における受光強度が最小（暗視野）となるようにしてもよい。   In the case of this embodiment, the film Fa is a film that does not give a phase difference to the light that has passed through the polarizer F1a, but the film Fa gives a phase difference to the light that has passed through the polarizer F1a. In the case of a film to be used, a phase compensation film that cancels out the phase difference may be disposed between the film Fa and the polarizing filter 123. When the phase compensation film is not arranged, the imaging device 22 is arranged in a state where the transmission axis of the polarizer F1a and the transmission axis of the polarizing filter 123 are arranged at an angle deviated from 90 ° by a predetermined angle and there is no defect such as a foreign substance defect. The received light intensity at may be minimized (dark field).

欠陥検査装置１０５は、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の偏光子Ｆ１ａとは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロールよりも上流側の搬送ライン４に配置されている。本実施形態に係る欠陥検査装置１０５は、貼合ロール３の下流側であって第１ガイドロール１０よりも上流側の搬送ライン４に配置されている。   The defect inspection apparatus 105 is arrange | positioned in the conveyance line 4 upstream from the roll which contact | connects the surface Sf2 on the opposite side to the polarizer F1a of the 2nd film F2 except the bonding roll 3. FIG. The defect inspection apparatus 105 according to this embodiment is disposed on the conveyance line 4 on the downstream side of the bonding roll 3 and on the upstream side of the first guide roll 10.

図７は、偏光子Ｆ１ａの吸収軸Ｖａと偏光フィルター１２３の吸収軸Ｖとの配置関係を説明するための図である。   FIG. 7 is a diagram for explaining the positional relationship between the absorption axis Va of the polarizer F1a and the absorption axis V of the polarizing filter 123. FIG.

図７に示すように、偏光子Ｆ１ａは、吸収軸Ｖａを有する。偏光フィルター１２３は、吸収軸Ｖａと直交する吸収軸Ｖを有する。偏光フィルター１２３は、光源２０と撮像装置２２との間の光路上において、偏光子Ｆ１ａの吸収軸Ｖａと偏光フィルター１２３の吸収軸Ｖとが互いに直交して配置（クロスニコル配置）される。   As shown in FIG. 7, the polarizer F1a has an absorption axis Va. The polarizing filter 123 has an absorption axis V orthogonal to the absorption axis Va. In the polarizing filter 123, the absorption axis Va of the polarizer F1a and the absorption axis V of the polarizing filter 123 are arranged orthogonal to each other (crossed Nicols arrangement) on the optical path between the light source 20 and the imaging device 22.

偏光子Ｆ１ａの吸収軸Ｖａと偏光フィルター１２３の吸収軸Ｖとをクロスニコル配置させると、偏光子Ｆ１ａと偏光フィルター１２３との重なり部分ＳＶにおいては光を透過しない。そのため、撮像装置２２によって重なり部分ＳＶを撮像すると、偏光子Ｆ１ａと偏光フィルター１２３との間に位相差を有する欠陥等の偏光状態を乱すものが配置されていない限り、暗視野に見える。   When the absorption axis Va of the polarizer F1a and the absorption axis V of the polarizing filter 123 are arranged in a crossed Nicol arrangement, light does not pass through the overlapping portion SV between the polarizer F1a and the polarizing filter 123. Therefore, when the overlapping portion SV is imaged by the imaging device 22, it appears as a dark field unless an object that disturbs the polarization state such as a defect having a phase difference is disposed between the polarizer F1a and the polarizing filter 123.

以下、図８及び図９を用いて本実施形態に係る欠陥検査システム１０２の作用効果について説明する。   Hereinafter, the effect of the defect inspection system 102 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 8 and 9.

図８は、比較例２に係る欠陥検査システムによるフィルムＦａの欠陥検査を説明するための図である。
比較例２に係る欠陥検査システムにおいては、欠陥検査装置１０５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の偏光子Ｆ１ａとは反対側の面Ｓｆ２に接するロール（例えば複数のガイドロールのうち面Ｓｆ２に最後に接するガイドロール）よりも下流側の搬送ライン４に配置されている。図８は、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２とを貼合する際の気泡等の噛み込み等によりフィルムＦａに欠陥Ｅ１が存在しており、且つ、フィルムＦａの搬送中における第２フィルムＦ２とガイドロールとの摩擦により第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が生じている場合の図である。 FIG. 8 is a diagram for explaining defect inspection of the film Fa by the defect inspection system according to the comparative example 2.
In the defect inspection system according to Comparative Example 2, the defect inspection apparatus 105 is a roll that is in contact with the surface Sf2 opposite to the polarizer F1a of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, among a plurality of guide rolls) It is disposed on the transport line 4 on the downstream side of the guide roll that comes into contact with the surface Sf2 last. FIG. 8 shows that a defect E1 is present in the film Fa due to entrapment of bubbles or the like when the polarizer F1a and the second film F2 are bonded together, and the second film F2 is being transported while the film Fa is being conveyed. It is a figure in case the crack E2 has arisen on the surface of the 2nd film F2 by friction with a guide roll.

図８に示すように、光源２０からフィルムＦａに向けて射出された光Ｌ１は、偏光子Ｆ１ａによって直線偏光Ｌ２とされる。偏光子Ｆ１ａにより得られた直線偏光Ｌ２は、第２フィルムＦ２に入射する。すると、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２との間に存在する欠陥Ｅ１により直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ３）が偏光フィルター１２３を透過する。   As shown in FIG. 8, the light L1 emitted from the light source 20 toward the film Fa is converted into linearly polarized light L2 by the polarizer F1a. The linearly polarized light L2 obtained by the polarizer F1a is incident on the second film F2. Then, the polarization state of the linearly polarized light L2 is disturbed by the defect E1 existing between the polarizer F1a and the second film F2, and a part of the light whose polarization state is disturbed (light L3) passes through the polarizing filter 123. .

一方、第２フィルムＦ２の表面に存在するキズＥ２によっても直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ４）が偏光フィルタ−１２３を透過する。   On the other hand, the polarization state of the linearly polarized light L2 is also disturbed by the scratch E2 present on the surface of the second film F2, and a part of the light (light L4) whose polarization state is disturbed is transmitted through the polarizing filter-123.

その結果、偏光フィルター１２３を透過した光Ｌ３と光Ｌ４とが撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ１と欠陥Ｅ２とが輝点として明るく撮像される。   As a result, the light L3 and the light L4 that have been transmitted through the polarizing filter 123 are incident on the imaging device 22, and the defect E1 and the defect E2 are brightly imaged as bright spots by the imaging device 22.

また、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２との間に欠陥Ｅ１が存在しなくても、第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が存在する場合には、偏光フィルター１２３を透過した光Ｌ４が撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ２が輝点として明るく撮像される。   In addition, even if there is no defect E1 between the polarizer F1a and the second film F2, if there is a scratch E2 on the surface of the second film F2, the light L4 transmitted through the polarizing filter 123 is captured by the imaging device. The defect E2 is brightly imaged as a bright spot by the imaging device 22.

このように、比較例２においては、フィルムＦａの搬送中におけるガイドロールとの摩擦により第２フィルムＦ２の表面にキズＥ２が生じていると、最終製品において第２フィルムＦ２が偏光子Ｆ１ａから剥離される場合に本来問題とはならない第２フィルムＦ２の表面のキズが欠陥として誤検出されてしまう。   As described above, in Comparative Example 2, when scratches E2 are generated on the surface of the second film F2 due to friction with the guide roll during conveyance of the film Fa, the second film F2 is peeled from the polarizer F1a in the final product. In such a case, a scratch on the surface of the second film F2 that does not originally become a problem is erroneously detected as a defect.

図９は、本実施形態に係る欠陥検査システム１０２によるフィルムＦａの欠陥検査を説明するための図である。
本実施形態に係る欠陥検査システム１０２においては、欠陥検査装置１０５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の偏光子Ｆ１ａとは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロール（例えば本実施形態では第１ガイドロール１０）よりも上流側の搬送ライン４に配置されている。図９は、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２とを貼合する際の気泡等の噛み込み等によりフィルムＦａに欠陥Ｅ１が存在している場合の図である。尚、第２フィルムＦ２にキズが付く前にフィルムＦａの欠陥が検査されるため、第２フィルムＦ２の表面にキズは生じていない。 FIG. 9 is a view for explaining defect inspection of the film Fa by the defect inspection system 102 according to the present embodiment.
In the defect inspection system 102 according to the present embodiment, the defect inspection apparatus 105 is a roll that first contacts the surface Sf2 opposite to the polarizer F1a of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, the present embodiment). Then, it is arrange | positioned in the conveyance line 4 upstream from the 1st guide roll 10). FIG. 9 is a diagram in the case where a defect E1 is present in the film Fa due to the entrapment of bubbles or the like when the polarizer F1a and the second film F2 are bonded. In addition, since the defect of the film Fa is inspected before the second film F2 is scratched, the surface of the second film F2 is not scratched.

図９に示すように、光源２０からフィルムＦａに向けて射出された光Ｌ１は、偏光子Ｆ１ａによって直線偏光Ｌ２とされる。偏光子Ｆ１ａにより得られた直線偏光Ｌ２は、第２フィルムＦ２に入射する。すると、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２との間に存在する欠陥Ｅ１により直線偏光Ｌ２の偏光状態が乱され、偏光状態が乱された光の一部（光Ｌ３）が偏光フィルター１２３を透過する。   As shown in FIG. 9, the light L1 emitted toward the film Fa from the light source 20 is converted into linearly polarized light L2 by the polarizer F1a. The linearly polarized light L2 obtained by the polarizer F1a is incident on the second film F2. Then, the polarization state of the linearly polarized light L2 is disturbed by the defect E1 existing between the polarizer F1a and the second film F2, and a part of the light whose polarization state is disturbed (light L3) passes through the polarizing filter 123. .

その結果、偏光フィルター１２３を透過した光Ｌ３が撮像装置２２に入射し、撮像装置２２によって欠陥Ｅ１が輝点として明るく撮像される。   As a result, the light L3 transmitted through the polarizing filter 123 enters the imaging device 22, and the defect E1 is brightly imaged as a bright spot by the imaging device 22.

一方、偏光子Ｆ１ａと第２フィルムＦ２との間に欠陥Ｅ１が存在しない場合には、直線偏光Ｌ２は偏光フィルター１２３を透過することができない。その結果、撮像装置２２には光が入射しないため、撮像装置２２では黒い画像が撮像される。   On the other hand, when there is no defect E1 between the polarizer F1a and the second film F2, the linearly polarized light L2 cannot pass through the polarizing filter 123. As a result, since no light is incident on the imaging device 22, the imaging device 22 captures a black image.

このように、本実施形態においては、第２フィルムＦ２の表面にキズが生じていないため、第２フィルムＦ２の表面のキズが欠陥として誤検出されることがない。   Thus, in this embodiment, since no scratch is generated on the surface of the second film F2, a scratch on the surface of the second film F2 is not erroneously detected as a defect.

以上説明したように、本実施形態によれば、欠陥検査装置１０５が、貼合ロール３以外で、第２フィルムＦ２の偏光子Ｆ１ａとは反対側の面Ｓｆ２に最初に接するロール（例えば本実施形態では第１ガイドロール１０）よりも上流側の搬送ライン４に配置されているため、第２フィルムＦ２にキズが付く前にフィルムＦａの欠陥が検査される。すなわち、フィルムＦａの搬送中に、第２フィルムＦ２とガイドロールとの摩擦が生じないため、第２フィルムＦ２の表面にキズが生じない。従って、キズの検出による虚報欠陥を抑制することができる。   As described above, according to the present embodiment, the defect inspection apparatus 105 is a roll that first contacts the surface Sf2 opposite to the polarizer F1a of the second film F2 other than the bonding roll 3 (for example, the present embodiment). In the embodiment, the film Fa is disposed on the transport line 4 upstream of the first guide roll 10), so the film Fa is inspected for defects before the second film F2 is scratched. That is, since the friction between the second film F2 and the guide roll does not occur during the conveyance of the film Fa, the surface of the second film F2 is not scratched. Accordingly, it is possible to suppress false alarm defects due to detection of scratches.

以上、添付図面を参照しながら本実施形態に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   As mentioned above, although the suitable embodiment example which concerns on this embodiment was demonstrated referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

１…フィルムの製造装置、２，１０２…欠陥検査システム、３…貼合ロール、４…搬送ライン、５，１０５…欠陥検査装置、６…記録装置、１０…第１ガイドロール（第２フィルムの第１フィルムとは反対側の面に最初に接するロール）、２０…光源、２１…第１偏光フィルター、２２…撮像装置、２３…第２偏光フィルター、１２３…偏光フィルター、Ｆ…フィルム、Ｆ１…第１フィルム、Ｆ１ａ…偏光子、Ｆ２…第２フィルム、Ｓｆ２…第２フィルムの第１フィルムとは反対側の面、Ｖ１…第１の吸収軸、Ｖ２…第２の吸収軸、Ｖａ…偏光子の吸収軸、Ｖ…偏光フィルターの吸収軸 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film manufacturing apparatus, 2,102 ... Defect inspection system, 3 ... Bonding roll, 4 ... Conveyance line, 5,105 ... Defect inspection apparatus, 6 ... Recording apparatus, 10 ... 1st guide roll (of 2nd film) First roll in contact with the surface opposite to the first film), 20 ... light source, 21 ... first polarizing filter, 22 ... imaging device, 23 ... second polarizing filter, 123 ... polarizing filter, F ... film, F1 ... First film, F1a: Polarizer, F2: Second film, Sf2: Surface of the second film opposite to the first film, V1: First absorption axis, V2: Second absorption axis, Va: Polarized light Absorption axis of child, V ... Absorption axis of polarizing filter

Claims (4)

第１フィルムと、前記第１フィルムに剥離可能に積層された第２フィルムと、を有する帯状のフィルムの欠陥検査システムであって、
前記第１フィルムと前記第２フィルムとを貼合して前記フィルムを形成する貼合ロールと、
前記貼合ロールの下流側において前記フィルムが搬送される搬送ラインと、
前記搬送ラインに設けられた欠陥検査装置と、
前記欠陥検査装置よりも下流側の前記搬送ラインに設けられ、前記欠陥検査装置によって検出された欠陥に関する欠陥情報を前記フィルムに記録する記録装置と、を含み、
前記欠陥検査装置は、前記貼合ロール以外で、前記第２フィルムの前記第１フィルムとは反対側の面に最初に接するロールよりも上流側の前記搬送ラインに配置されている欠陥検査システム。 A strip-shaped film defect inspection system having a first film and a second film peelably laminated on the first film,
A laminating roll for laminating the first film and the second film to form the film;
A transport line on which the film is transported on the downstream side of the bonding roll;
A defect inspection apparatus provided in the transfer line;
A recording device that is provided in the transport line downstream of the defect inspection device and records defect information on the defect detected by the defect inspection device on the film;
The said defect inspection apparatus is a defect inspection system arrange | positioned in the said conveyance line upstream from the roll which touches the surface on the opposite side to the said 1st film of the said 2nd film except the said bonding roll. 前記欠陥検査装置は、
前記フィルムの前記第１フィルムの側に配置され、前記フィルムに光を照射する光源と、
前記フィルムの前記第２フィルムの側に配置され、前記フィルムの透過光像を撮像する撮像装置と、
前記光源と前記フィルムとの間の光路上に配置され、第１の吸収軸を有する第１偏光フィルターと、
前記撮像装置と前記フィルムとの間の光路上に配置され、前記第１の吸収軸と直交する第２の吸収軸を有する第２偏光フィルターと、
を含む請求項１に記載の欠陥検査システム。 The defect inspection apparatus includes:
A light source disposed on the first film side of the film and irradiating the film with light;
An imaging device that is disposed on the second film side of the film and captures a transmitted light image of the film;
A first polarizing filter disposed on an optical path between the light source and the film and having a first absorption axis;
A second polarizing filter disposed on an optical path between the imaging device and the film and having a second absorption axis perpendicular to the first absorption axis;
The defect inspection system according to claim 1, comprising: 前記第１フィルムは偏光子であり、
前記欠陥検査装置は、
前記フィルムの前記偏光子の側に配置され、前記フィルムに光を照射する光源と、
前記フィルムの前記第２フィルムの側に配置され、前記フィルムの透過光像を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置と前記フィルムとの間の光路上に配置され、前記偏光子の吸収軸と直交する吸収軸を有する偏光フィルターと、
を含む請求項１に記載の欠陥検査システム。 The first film is a polarizer;
The defect inspection apparatus includes:
A light source disposed on the polarizer side of the film and irradiating the film with light;
An imaging device that is disposed on the second film side of the film and captures a transmitted light image of the film;
A polarizing filter disposed on an optical path between the imaging device and the film and having an absorption axis perpendicular to the absorption axis of the polarizer;
The defect inspection system according to claim 1, comprising: 請求項１から３までのいずれか一項に記載の欠陥検査システムを含むフィルムの製造装置。

The manufacturing apparatus of the film containing the defect inspection system as described in any one of Claim 1 to 3.

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