JP6170826B2 - Organic EL display device and manufacturing method thereof - Google Patents
Organic EL display device and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP6170826B2 JP6170826B2 JP2013260062A JP2013260062A JP6170826B2 JP 6170826 B2 JP6170826 B2 JP 6170826B2 JP 2013260062 A JP2013260062 A JP 2013260062A JP 2013260062 A JP2013260062 A JP 2013260062A JP 6170826 B2 JP6170826 B2 JP 6170826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- layer
- display device
- lens member
- reflective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
本発明は、有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic EL display device and a manufacturing method thereof.
近年、ディスプレイパネルの薄型化・高輝度化・高速化などを目的として、有機ＥＬ表示装置の開発が進められている。有機ＥＬ表示装置は、各画素が有機発光ダイオードを（有機ＥＬ発光素子）から構成された有機ＥＬ表示パネルを有しており、機械的な動作がないので反応速度が速く、各画素自体が発光するため高輝度表示が可能になるとともに、バックライトを要しないため薄型化が実現できるので、次世代表示装置として期待が高い。 In recent years, organic EL display devices have been developed for the purpose of reducing the thickness, increasing the brightness, and increasing the speed of display panels. The organic EL display device has an organic EL display panel in which each pixel is composed of an organic light emitting diode (organic EL light emitting element). Since there is no mechanical operation, the reaction speed is fast and each pixel itself emits light. Therefore, a high-luminance display is possible, and since a backlight is not required, a reduction in thickness can be realized, which is highly expected as a next-generation display device.
有機ＥＬ表示装置は、基板上に各画素に対応した多数の有機ＥＬ発光素子がマトリクス状に配置される。なお、ここでいう画素とは、カラーの有機ＥＬ表示装置の場合は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）いずれかのサブピクセルを指す。各有機ＥＬ発光素子は、ＴＦＴ駆動回路、アノード電極、有機ＥＬ発光層、カソード電極などで構成される。ＴＦＴ駆動回路によってアノード電極とカソード電極との間の電流量を制御し、有機ＥＬ発光層の発光強度を調整することによって映像が表示される。ＴＦＴ駆動回路は、複数のＴＦＴ素子や容量等によって構成され、ゲート線、信号線、電源供給線等と接続され、制御される。 In an organic EL display device, a large number of organic EL light emitting elements corresponding to each pixel are arranged in a matrix on a substrate. In addition, in the case of a color organic EL display device, the pixel here refers to any subpixel of R (red), G (green), or B (blue). Each organic EL light emitting element includes a TFT drive circuit, an anode electrode, an organic EL light emitting layer, a cathode electrode, and the like. An image is displayed by controlling the amount of current between the anode electrode and the cathode electrode by the TFT drive circuit and adjusting the light emission intensity of the organic EL light emitting layer. The TFT drive circuit includes a plurality of TFT elements, capacitors, and the like, and is connected to and controlled by gate lines, signal lines, power supply lines, and the like.
有機ＥＬ表示装置では、基板上に、ＴＦＴ回路を含むＴＦＴ層（以下、「ＴＦＴ」とする。）、アノード電極、有機ＥＬ発光層、カソード電極が、この順に積層され形成される。アノード電極とカソード電極との間の有機ＥＬ発光素子は、両電極間に電圧が印加されると発光するが、有機ＥＬ表示装置の表示側方向（上方向とする）に対してのみ発光するのではなく、下、横、斜めなどあらゆる方向にまんべんなく発光する。したがって、表示側方向以外に放射される光は、無駄となっていた。 In an organic EL display device, a TFT layer including a TFT circuit (hereinafter referred to as “TFT”), an anode electrode, an organic EL light emitting layer, and a cathode electrode are laminated and formed in this order on a substrate. The organic EL light emitting element between the anode electrode and the cathode electrode emits light when a voltage is applied between both electrodes, but emits light only in the display side direction (upward direction) of the organic EL display device. Instead, it emits light uniformly in every direction, such as down, side, and diagonal. Therefore, the light emitted in directions other than the display side direction is wasted.
そこで、従来技術としては、アノード電極に光反射性を有する素材を用いて、アノード電極側（下方向とする）に放射される光を反射し、下方向の光を表示方向に利用するという方法が用いられていた。あるいは、アノード電極に光透過性を有する素材を用いて、アノード電極の下側に凹面を有する反射層を形成する方法も提案されている。 Therefore, as a conventional technique, a material having light reflectivity is used for the anode electrode, the light emitted to the anode electrode side (downward) is reflected, and the downward light is used in the display direction. Was used. Alternatively, a method of forming a reflective layer having a concave surface on the lower side of the anode electrode by using a light-transmitting material for the anode electrode has been proposed.
しかしながら、アノード電極に光反射性を有する素材を用いたとしても、アノード電極とカソード電極とが平行に形成された構造では、下方向の光を反射して上方向に利用することができるものの、斜め下方向の光を上方向に反射することはできず、画素周辺の光取りだしが不十分である。さらに、斜め方向に反射する光のキャビティ効果によって、光効率が低下する可能性もある。 However, even if a material having light reflectivity is used for the anode electrode, the structure in which the anode electrode and the cathode electrode are formed in parallel can reflect light in the downward direction and use it in the upward direction. The obliquely downward light cannot be reflected upward, and the light extraction around the pixel is insufficient. Furthermore, the light efficiency may decrease due to the cavity effect of light reflected in an oblique direction.
また、アノード電極に光透過性を有する素材を用いて、アノード電極の下側に凹面を有する反射層を形成する構成をとったとしても、やはり光取り出しは不十分であり、キャビティ効果の影響に関する問題も改善されていない。 Moreover, even if a reflective layer having a concave surface is formed on the lower side of the anode electrode by using a light-transmitting material for the anode electrode, the light extraction is still insufficient, and the influence of the cavity effect is concerned. The problem has not improved.
本発明は、このような従来の有機ＥＬ表示装置の構成が有していた、画素周辺の光取り出しを改善しようとするものである。または、特定のキャビティ条件に律速されずに光効率を改善することを目的とする。 The present invention is intended to improve the light extraction around the pixel, which the configuration of such a conventional organic EL display device has. Another object is to improve the light efficiency without being limited by specific cavity conditions.
本発明の一実施形態によると、基板と、ＴＦＴと、反射層及び透明電極層を含みＴＦＴに電気的に接続されたアノード電極と、反射層と透明電極層との間に配置されたレンズ部材とを有する有機ＥＬ表示装置が提供される。 According to one embodiment of the present invention, a substrate, a TFT, an anode electrode including a reflective layer and a transparent electrode layer and electrically connected to the TFT, and a lens member disposed between the reflective layer and the transparent electrode layer An organic EL display device is provided.
また、本発明の一実施形態として、レンズ部材は、反射層に接する部分が凹面形状を有し、透明電極層に接する部分が凸面形状を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the lens member may be an organic EL display device in which a portion in contact with the reflective layer has a concave shape and a portion in contact with the transparent electrode layer has a convex shape. Good.
また、本発明の一実施形態として、レンズ部材は画素領域の形状に沿って配置されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the organic EL display device may be characterized in that the lens member is arranged along the shape of the pixel region.
また、本発明の一実施形態として、レンズ部材は画素領域よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the organic EL display device may be characterized in that the lens member is larger than the pixel region.
また、本発明の一実施形態として、レンズ部材はポリイミドで形成されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the lens member may be an organic EL display device formed of polyimide.
また、本発明の一実施形態として、反射層はコンタクトホールを介してＴＦＴに電気的に接続し、透明電極層はコンタクトホールに形成された部分を含む反射層及びレンズ部材上に形成されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the reflective layer is electrically connected to the TFT through the contact hole, and the transparent electrode layer is formed on the reflective layer including the portion formed in the contact hole and the lens member. The organic EL display device characterized by the above may be used.
また、本発明の一実施形態として、反射層はコンタクトホールを介してＴＦＴに電気的に接続し、透明電極層はコンタクトホールに形成された部分を除く反射層及びレンズ部材上に形成されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置であってもよい。 In one embodiment of the present invention, the reflective layer is electrically connected to the TFT through the contact hole, and the transparent electrode layer is formed on the reflective layer and the lens member excluding the portion formed in the contact hole. The organic EL display device characterized by the above may be used.
さらに、本発明の一実施形態によると、基板上に、ＴＦＴを形成し、ＴＦＴ上に平坦化層を形成し、平坦化層をハーフ露光して凹面形状を形成し、平坦化層上に反射膜を製膜して、凹面形状を有する反射層を形成し、反射層上に透明性樹脂を塗布し、熱流動によって上部に凸面形状を有するレンズ部材を形成し、反射層及びレンズ部材上に透明電極層を形成し、透明電極層上に有機発光層を形成し、有機発光層上にカソード電極を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法が提供される。 Further, according to one embodiment of the present invention, a TFT is formed on a substrate, a planarizing layer is formed on the TFT, the planarizing layer is half-exposed to form a concave shape, and reflected on the planarizing layer. A film is formed, a reflective layer having a concave shape is formed, a transparent resin is applied on the reflective layer, a lens member having a convex shape is formed on the upper portion by heat flow, and the reflective layer and the lens member are formed on the reflective layer. There is provided a method for producing an organic EL display device, wherein a transparent electrode layer is formed, an organic light emitting layer is formed on the transparent electrode layer, and a cathode electrode is formed on the organic light emitting layer.
また、本発明の一実施形態として、平坦化層にコンタクトホールを形成し、反射層はコンタクトホールを介してＴＦＴに電気的に接続されるように形成され、透明電極は、コンタクトホール部分をマスキングしたうえで反射層及びレンズ部材上に形成されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法であってもよい。 In one embodiment of the present invention, a contact hole is formed in the planarization layer, the reflective layer is formed so as to be electrically connected to the TFT through the contact hole, and the transparent electrode masks the contact hole portion. In addition, the organic EL display device may be formed on the reflective layer and the lens member.
また、本発明の一実施形態として、平坦化層にコンタクトホールを形成し、反射層はコンタクトホールを介してＴＦＴに電気的に接続されるように形成され、透明電極は、コンタクトホール部分を含む反射層上及びレンズ部材上に形成されることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法であってもよい。 In one embodiment of the present invention, a contact hole is formed in the planarization layer, the reflective layer is formed to be electrically connected to the TFT through the contact hole, and the transparent electrode includes a contact hole portion. The organic EL display device may be formed on a reflective layer and a lens member.
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の趣旨を保っての適宜変更について容易に想到しうるものについては、当然に欲発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の長さ、幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the spirit of the invention are naturally included in the scope of the invention of desire. Further, in order to make the description clearer, the length, width, thickness, shape, and the like of each part may be schematically represented as compared to the actual mode, but it is merely an example, and the present invention The interpretation of is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, elements similar to those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate.
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について、図面を参照しながら説明する。
(First embodiment)
An organic EL display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
［全体構成］
図１は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の、有機ＥＬ表示パネルの全体平面概略図である。有機ＥＬ表示装置１００は、画像を表示する表示領域１０１が有機ＥＬ表示装置１００の中央部分に配置され、外部駆動回路との接続を行う端子領域１０３と、表示慮いう気１０１から有機ＥＬ表示パネルの外周までの間の領域である額縁領域１０２とで構成される。図１には図示しないが、表示領域１０１の内部には、横方向に走る複数のゲート線と、縦方向に走る複数のデータ線及び電源供給線、さらに、ゲート線とデータ線との交差部分にＴＦＴ回路等が格子状に複数配置される。各ＴＦＴ回路に対応した画素が格子状に配置され、全体として表示領域１０１を構成する。
[overall structure]
FIG. 1 is an overall schematic plan view of an organic EL display panel of an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention. In the organic EL display device 100, a display region 101 for displaying an image is disposed in the center of the organic EL display device 100, and a terminal region 103 for connection with an external drive circuit, and an organic EL display panel from a display device 101. Frame region 102 which is a region up to the outer periphery of the frame. Although not shown in FIG. 1, a plurality of gate lines that run in the horizontal direction, a plurality of data lines and power supply lines that run in the vertical direction, and intersections between the gate lines and the data lines are included in the display area 101. A plurality of TFT circuits and the like are arranged in a grid pattern. Pixels corresponding to each TFT circuit are arranged in a grid pattern, and constitute a display area 101 as a whole.
図２は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の、有機ＥＬ表示パネルの平面透視概略図である。カソード電極１９は、一枚の透明な導電体で形成され、表示領域１０１の全体を覆っている。アノード電極１６は、表示領域１０１の全体に格子状に形成される。図２では図示しないが、各アノード電極１６に対応するＴＦＴ駆動回路も格子状に配置される。ＴＦＴ駆動回路を制御するゲート線は図２の水平方向に複数配線され、水平方向の一列のＴＦＴ駆動回路と各々接続される。また、ＴＦＴ駆動回路を制御するデータ線及び電源供給線は垂直方向に複数配線されており、垂直方向の一列のＴＦＴ駆動回路と各々接続される。 FIG. 2 is a schematic transparent plan view of an organic EL display panel of the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention. The cathode electrode 19 is formed of a single transparent conductor and covers the entire display area 101. The anode electrode 16 is formed in a lattice shape over the entire display area 101. Although not shown in FIG. 2, the TFT drive circuits corresponding to the anode electrodes 16 are also arranged in a grid pattern. A plurality of gate lines for controlling the TFT drive circuit are wired in the horizontal direction in FIG. 2, and are connected to a row of TFT drive circuits in the horizontal direction. In addition, a plurality of data lines and power supply lines for controlling the TFT drive circuit are wired in the vertical direction, and are connected to the TFT drive circuits in one column in the vertical direction.
図３は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の、画素２００の構成を示す回路図である。図３で示す回路は、有機ＥＬ表示装置１００の表示領域１０１に格子状に配置されており、全体でマトリクス状の回路となって表示領域１０１の回路を構成する。なお、図３で示す回路は有機ＥＬ表示装置の最も基本的な回路構成例であり、他の回路構成も取りうる。画素２００は、カラー表示機能を有するＯＬＥＤ表示装置の場合には、副画素（サブピクセル）を示し、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかとなる。 FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the pixel 200 of the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention. The circuits shown in FIG. 3 are arranged in a grid pattern in the display area 101 of the organic EL display device 100, and constitute a circuit in the form of a matrix as a whole and constitute the circuit of the display area 101. Note that the circuit shown in FIG. 3 is the most basic circuit configuration example of the organic EL display device, and other circuit configurations are possible. In the case of an OLED display device having a color display function, the pixel 200 represents a sub-pixel (sub-pixel) and is, for example, any one of R (red), G (green), and B (blue).
画素２００の回路は、ゲート線１１１とデータ線１１３に接続したスイッチング用の薄膜トランジスタ１２１、ゲート線１１１で選択されたスイッチング用薄膜トランジスタ１２１のオンでデータ線１１３から供給される表示データを電荷として蓄積する蓄積容量ＣＰＲ、有機ＥＬ発光素子ＯＬＥＤの駆動用薄膜トランジスタ１２２、及び電源供給線１１２から構成される。なお、図３では蓄積容量ＣＰＲの図示は省略し、薄膜トランジスタ１２１及び１２２の詳細な図示も省略し、おおよその位置と構成を示した。 The circuit of the pixel 200 stores display data supplied from the data line 113 as electric charges when the switching thin film transistor 121 connected to the gate line 111 and the data line 113 and the switching thin film transistor 121 selected by the gate line 111 are turned on. The storage capacitor CPR, the driving thin film transistor 122 of the organic EL light emitting element OLED, and the power supply line 112 are included. In FIG. 3, the storage capacitor CPR is not shown, and the thin film transistors 121 and 122 are not shown in detail, and an approximate position and configuration are shown.
薄膜トランジスタ１２１のゲート電極はゲート線１１１に、ドレイン電極はデータ線１１３に接続される。また、薄膜トランジスタ１２２のゲート電極は薄膜トランジスタ１２１のソース電極に接続され、この接続点に蓄積容量ＣＰＲの陽極が接続されている。薄膜トランジスタ１２２のドレイン電極は電源供給線１１２に接続され、ソース電極はアノード電極１６に接続される。 The thin film transistor 121 has a gate electrode connected to the gate line 111 and a drain electrode connected to the data line 113. The gate electrode of the thin film transistor 122 is connected to the source electrode of the thin film transistor 121, and the anode of the storage capacitor CPR is connected to this connection point. The drain electrode of the thin film transistor 122 is connected to the power supply line 112, and the source electrode is connected to the anode electrode 16.
画素２００がゲート線１１１で選択されて薄膜トランジスタ１２１がオンになると、データ線１１３から供給される表示データが蓄積容量ＣＰＲに蓄積される。そして、薄膜トランジスタ１２１がオフした時点で薄膜トランジスタ１２２がオンとなり、電源供給線１１２から有機ＥＬ素子ＯＬＥＤに電流が流れ、ほぼ１フレームの周期（または、１フィールド期間）にわたってこの電流を持続させる。このとき流れる電流は、蓄積容量ＣＰＲに蓄積されているデータ信号に対応する電荷で規定される。 When the pixel 200 is selected by the gate line 111 and the thin film transistor 121 is turned on, display data supplied from the data line 113 is stored in the storage capacitor CPR. When the thin film transistor 121 is turned off, the thin film transistor 122 is turned on, a current flows from the power supply line 112 to the organic EL element OLED, and this current is maintained over a period of one frame (or one field period). The current flowing at this time is defined by the charge corresponding to the data signal stored in the storage capacitor CPR.
電源供給線１１２及びデータ線１１３は垂直方向に配線され、ゲート線１１１は水平方向に配線される。上下をゲート線１１１、左側をデータ線１１３、右側を電源供給線１１２で囲まれた部分が、有機ＥＬ表示装置１００の一つの画素領域に相当する。ただし、図３で示すように、アノード電極１６の平面形状は、上記範囲と完全に一致しておらず、またその必要もないので、上記の囲まれた部分が一つの画素と完全に一致しているわけではない。本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置全体をみると、電源供給線１１２及びデータ線１１３は水平方向の画素数分だけ配置され、ゲート線１７は垂直方向の画素数分だけ配置される。 The power supply line 112 and the data line 113 are wired in the vertical direction, and the gate line 111 is wired in the horizontal direction. A portion surrounded by the gate line 111 on the upper and lower sides, the data line 113 on the left side, and the power supply line 112 on the right side corresponds to one pixel region of the organic EL display device 100. However, as shown in FIG. 3, the planar shape of the anode electrode 16 does not completely coincide with the above range, and it is not necessary, so that the enclosed portion completely coincides with one pixel. I don't mean. Looking at the entire organic EL display device according to the first embodiment of the present invention, the power supply lines 112 and the data lines 113 are arranged by the number of pixels in the horizontal direction, and the gate lines 17 are arranged by the number of pixels in the vertical direction. The
図４は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の断面図であり、図３のＡ−Ａ’線の断面図を示したものである。なお、ここでは、蓄積容量ＣＰＲ、薄膜トランジスタ１２１、１２２、ゲート線１１１、電源供給線１１２及びデータ線１１３の図示を省略し、ＴＦＴ１１として示している。 FIG. 4 is a cross-sectional view of the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention, and shows a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 3. Here, the storage capacitor CPR, the thin film transistors 121 and 122, the gate line 111, the power supply line 112, and the data line 113 are not shown and are shown as TFTs 11.
本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置は、基板（図示せず）上に、ＴＦＴ１１、平坦化層１２が形成される。平坦化層１２上にはアノード電極１６が形成され、平坦化層１２に形成されたコンタクトホールを介してＴＦＴ１１のＴＦＴ回路に電気的に接続される。アノード電極１６上には有機発光層１８が形成される。平坦化層１２及びアノード電極１６の一部の上に、バンク層１７が形成される。有機発光層１８は、バンク層１７が積層されていないアノード電極１６上と、バンク層１７のバンク部及びバンク層１７の上面の一部に形成される。有機発光層１８上に、カソード電極１９、ＳｉＮ層２０、フィル材２１、ガラス２２がこの順に積層される。 In the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention, a TFT 11 and a planarizing layer 12 are formed on a substrate (not shown). An anode electrode 16 is formed on the planarizing layer 12 and is electrically connected to the TFT circuit of the TFT 11 through a contact hole formed in the planarizing layer 12. An organic light emitting layer 18 is formed on the anode electrode 16. A bank layer 17 is formed on the planarization layer 12 and part of the anode electrode 16. The organic light emitting layer 18 is formed on the anode electrode 16 on which the bank layer 17 is not stacked, and on the bank portion of the bank layer 17 and a part of the upper surface of the bank layer 17. On the organic light emitting layer 18, the cathode electrode 19, the SiN layer 20, the fill material 21, and the glass 22 are laminated in this order.
有機発光層１８は、アノード電極１６とカソード電極１９との間に電圧が印加されると発光する。有機発光層１８アノード電極１６とカソード電極１９との間に挟まれた部分が、画素領域となる。図４では図示しないが、隣り合う画素間で光が混同することを防ぐために、ガラス２２にブラックマトリックスが形成される。逆に言うと、ブラックマトリックスが形成されていない部分が、画素領域となる。 The organic light emitting layer 18 emits light when a voltage is applied between the anode electrode 16 and the cathode electrode 19. The portion sandwiched between the organic light emitting layer 18 anode electrode 16 and the cathode electrode 19 is a pixel region. Although not shown in FIG. 4, a black matrix is formed on the glass 22 in order to prevent light from being confused between adjacent pixels. In other words, a portion where the black matrix is not formed becomes a pixel region.
アノード電極１６は、下部の反射層１３と上部の透明電極層１５で形成される。反射層１３はＡｇ、Ａｌ等の光反射性を有する素材で形成され、透明電極層１５は光透過性を有する素材で形成される。反射層１３と透明電極層１５との間には、レンズ部材１４が配置される。レンズ部材１４はポリイミド材等の透明性樹脂が用いられ、凸型レンズ形状を有する。透明電極層１５のレンズ部材１４に接する部分は凸型形状を有し、反射層１３のレンズ部材１４に接する部分は凹型形状を有する。 The anode electrode 16 is formed of a lower reflective layer 13 and an upper transparent electrode layer 15. The reflective layer 13 is made of a light reflective material such as Ag or Al, and the transparent electrode layer 15 is made of a light transmissive material. A lens member 14 is disposed between the reflective layer 13 and the transparent electrode layer 15. The lens member 14 is made of a transparent resin such as a polyimide material and has a convex lens shape. The portion of the transparent electrode layer 15 that contacts the lens member 14 has a convex shape, and the portion of the reflective layer 13 that contacts the lens member 14 has a concave shape.
ここで、有機発光層１８が発光し、透明電極層１５を通過してレンズ部材１５に入射する光があるとする。レンズ部材１５はカソード電極側に凸状の形状を有しており、効率的に入射光を吸収することができる。入射光は凹面形状を有する反射層１３で反射する。レンズ部材１５は凸型レンズ構造を有するため、反射層１３で反射する光を、画素領域の内側に向かって集光するように射出することができる。 Here, it is assumed that there is light that is emitted from the organic light emitting layer 18 and passes through the transparent electrode layer 15 and enters the lens member 15. The lens member 15 has a convex shape on the cathode electrode side, and can efficiently absorb incident light. Incident light is reflected by the reflective layer 13 having a concave shape. Since the lens member 15 has a convex lens structure, the light reflected by the reflective layer 13 can be emitted so as to be condensed toward the inside of the pixel region.
このように、レンズ部材１５を有することによって、反射層１５で反射する光を画素領域の内側に向かって射光することができ、従来無駄になっていた下側及び斜め方向の放射光を有効活用することが可能となる。また、レンズ部材１５が凸型レンズ構造を有することによって、キャビティ条件に律速されずに光効率を改善し、有機ＥＬ表示装置の少消費電力・輝度向上・長寿命化を実現することができる。 Thus, by having the lens member 15, the light reflected by the reflective layer 15 can be emitted toward the inner side of the pixel region, and the lower side and oblique direction radiated light that has conventionally been wasted can be effectively utilized. It becomes possible to do. Further, since the lens member 15 has a convex lens structure, the light efficiency can be improved without being controlled by the cavity condition, and the low power consumption, the luminance can be improved, and the life of the organic EL display device can be realized.
図５は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置のレンズ部材の、平面上の形状を示したものである。点線で囲まれた部分が画素領域２３であり、実線で囲まれた部分がレンズ部材１４である。レンズ部材１４の平面上の形状は必ずしも円形を形成しなくてもよく、図５で示すように、画素領域２３に対応する形状を有してもよい。また、レンズ部材１４の平面上の範囲は、画素領域２３を全て含むように画素領域２３よりも広いほうがより好ましいが、これに限られるものではない。 FIG. 5 shows a planar shape of the lens member of the organic EL display device according to the embodiment of the present invention. A portion surrounded by a dotted line is a pixel region 23, and a portion surrounded by a solid line is a lens member 14. The shape of the lens member 14 on the plane does not necessarily need to form a circle, and may have a shape corresponding to the pixel region 23 as shown in FIG. Further, the range on the plane of the lens member 14 is preferably wider than the pixel region 23 so as to include the entire pixel region 23, but is not limited thereto.
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について、図６を参照しながら説明する。本発明の第２実施形態は、透明電極層１５が、反射層１３のコンタクトホール部分の上にも形成されており、この点において本発明の第１実施形態と異なる。その他の構成については、第１実施形態と同じであり、本発明の効果も変わるところはない。
(Second Embodiment)
An organic EL display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The second embodiment of the present invention is different from the first embodiment of the present invention in that the transparent electrode layer 15 is also formed on the contact hole portion of the reflective layer 13. Other configurations are the same as those in the first embodiment, and the effects of the present invention are not changed.
（製造方法）
次に、図７Ａ〜図７Ｅを参照しながら、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明する。
(Production method)
Next, a method for manufacturing an organic EL display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A to 7E.
図７Ａは、ＴＦＴ１１及び平坦化層１２が形成された状態を示す図である。まず、基板上に（図示せず）、ＴＦＴ１１及び平坦化層１２が形成される。平坦化層１２の上部に、ハーフ露光によって凹面形状３０が形成される。また、平坦化層１２にコンタクトホール３１が形成される。 FIG. 7A is a diagram illustrating a state in which the TFT 11 and the planarization layer 12 are formed. First, a TFT 11 and a planarizing layer 12 are formed on a substrate (not shown). A concave shape 30 is formed on the planarizing layer 12 by half exposure. A contact hole 31 is formed in the planarization layer 12.
図７Ｂは、図７Ａからさらに反射層１３が形成された状態を示している。反射層１３は、平坦化層１２のハーフ露光によって形成された凹面形状３０と、コンタクトホール３１を含む部分に、Ａｇ、Ａｌ等の光反射性の金属材料を用いて製膜する。凹面形状３０に形成された反射層１３は、凹面形状を有する。 FIG. 7B shows a state in which the reflective layer 13 is further formed from FIG. 7A. The reflective layer 13 is formed by using a light reflective metal material such as Ag or Al on a portion including the concave shape 30 formed by half exposure of the planarizing layer 12 and the contact hole 31. The reflective layer 13 formed in the concave shape 30 has a concave shape.
図７Ｃは、図７Ｂからさらにレンズ部材１４が形成された状態を示す図である。反射層１３の凹面形状を有する部分に、ポリイミド材等の透明性樹脂を塗布する。塗布されたポリイミド材等は、熱流動によって上側に凸型形状を形成する。反射層１３に接する下側の凸型形状とあわせて、全体として凸型レンズ形状を有するレンズ部材１４が形成される。 FIG. 7C is a diagram illustrating a state in which the lens member 14 is further formed from FIG. 7B. A transparent resin such as a polyimide material is applied to the concave portion of the reflective layer 13. The applied polyimide material or the like forms a convex shape on the upper side by heat flow. A lens member 14 having a convex lens shape as a whole is formed together with the lower convex shape in contact with the reflective layer 13.
図７Ｄは、図７Ｃからさらに透明電極層１５が形成された状態を示す図である。透明電極層１５は、透明電極材を用いて、レンズ部材１４及び反射層１３上に製膜され、レンズ部材１４の凸型形状に沿って凸型形状が形成される。ここでは、透明電極材を製膜する前に、コンタクトホール部３１をマスキングし、透明電極層１５がコンタクトホール部３１に形成されないようにしている。 FIG. 7D is a diagram showing a state in which the transparent electrode layer 15 is further formed from FIG. 7C. The transparent electrode layer 15 is formed on the lens member 14 and the reflective layer 13 using a transparent electrode material, and a convex shape is formed along the convex shape of the lens member 14. Here, before forming the transparent electrode material, the contact hole portion 31 is masked so that the transparent electrode layer 15 is not formed in the contact hole portion 31.
図７Ｅは、図７Ｄで説明した透明電極層１５の形成方法と異なり、コンタクトホール部３１のマスキングを行わず、コンタクトホール部３１にも透明電極層１５が形成されていることを示している。それ以外の形成方法は、図７Ａ〜図７Ｃで示したものと同様である。 FIG. 7E shows that the transparent electrode layer 15 is also formed in the contact hole portion 31 without masking the contact hole portion 31 unlike the method for forming the transparent electrode layer 15 described in FIG. 7D. Other formation methods are the same as those shown in FIGS. 7A to 7C.
以下、図７Ｄ又は図７Ｅの状態から、バンク層１７、有機発光層１８、カソード電極１９、ＳｉＮ層２０、フィル材２１及びガラス２２が順に形成される。図７Ｄからバンク層１７等が順次積層された場合は、図４で示される有機ＥＬ表示装置が形成される。また、図７Ｅからバンク層１７が順次積層された場合には、図６で示される有機ＥＬ表示装置が形成される。 7D or 7E, the bank layer 17, the organic light emitting layer 18, the cathode electrode 19, the SiN layer 20, the fill material 21, and the glass 22 are formed in this order. When the bank layer 17 and the like are sequentially stacked from FIG. 7D, the organic EL display device shown in FIG. 4 is formed. When the bank layers 17 are sequentially stacked from FIG. 7E, the organic EL display device shown in FIG. 6 is formed.
本実施形態においては、開示例として有機ＥＬ表示装置の場合を例示したが、その他に、液晶表示装置、その他の自発光型表示装置、あるいは電気泳動素子等を有する電子ペーパー型表示装置等のフラット型パネルに適用しうる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用可能であることはいうまでもない。 In this embodiment, the case of an organic EL display device is illustrated as an example of disclosure, but in addition, a flat such as a liquid crystal display device, another self-luminous display device, or an electronic paper display device having an electrophoretic element or the like. Applicable to mold panels. Needless to say, the present invention can be applied without any particular limitation from small to medium size.
１１…ＴＦＴ、１２…平坦化層、１３…反射層、１４…レンズ部材、１５…透明電極層、１６…アノード電極、１７…バンク層、１８…有機発光層、１９…カソード電極、２０…ＳｉＮ層、２１…フィル材、２２…ガラス、３０…凹面形状、３１…コンタクトホール部、１００…有機ＥＬ表示装置、１０１…表示領域、１０２…額縁領域、１０３…接続領域、１１１…ゲート線、１１２…電源供給線、１１３…データ線、１２１…薄膜トランジスタ、１２２…薄膜トランジスタ、２００…画素
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... TFT, 12 ... Planarization layer, 13 ... Reflection layer, 14 ... Lens member, 15 ... Transparent electrode layer, 16 ... Anode electrode, 17 ... Bank layer, 18 ... Organic light emitting layer, 19 ... Cathode electrode, 20 ... SiN Layer ... 21: Fill material, 22 ... Glass, 30 ... Concave shape, 31 ... Contact hole part, 100 ... Organic EL display device, 101 ... Display area, 102 ... Frame area, 103 ... Connection area, 111 ... Gate line, 112 ... Power supply line, 113 ... Data line, 121 ... Thin film transistor, 122 ... Thin film transistor, 200 ... Pixel
Claims (9)
ＴＦＴと、
反射層及び透明電極層を含み、前記ＴＦＴに電気的に接続されたアノード電極と、
前記反射層と前記透明電極層との間に配置されたレンズ部材と、
を有し、
前記レンズ部材は、前記反射層に接する部分が凹面形状を有し、前記透明電極層に接する部分が凸面形状を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 A substrate,
TFT,
An anode electrode including a reflective layer and a transparent electrode layer and electrically connected to the TFT;
A lens member disposed between the reflective layer and the transparent electrode layer;
I have a,
2. The organic EL display device according to claim 1, wherein the lens member has a concave shape at a portion in contact with the reflective layer and a convex shape at a portion in contact with the transparent electrode layer .
前記透明電極層は前記コンタクトホールに形成された部分を含む前記反射層及び前記レンズ部材上に位置することを特徴とする、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。 The reflective layer is electrically connected to the TFT through a contact hole,
5. The organic EL display device according to claim 4 , wherein the transparent electrode layer is located on the reflective layer including the portion formed in the contact hole and the lens member.
前記透明電極層は前記コンタクトホールに形成された部分を除く前記反射層及び前記レンズ部材上に位置することを特徴とする、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。 The reflective layer is electrically connected to the TFT through a contact hole,
5. The organic EL display device according to claim 4 , wherein the transparent electrode layer is positioned on the reflective layer and the lens member excluding a portion formed in the contact hole.
前記ＴＦＴ上に平坦化層を形成し、
前記平坦化層をハーフ露光して凹面形状を形成し、
前記平坦化層上に反射膜を形成して、凹面形状を有する反射層を形成し、
前記反射層上に、透明性樹脂を含み、上部に凸面形状を有するレンズ部材を形成し、
前記反射層及び前記レンズ部材上に透明電極層を形成し、
前記透明電極層上に有機発光層を形成し、
前記有機発光層上にカソード電極を形成する、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。 TFT is formed on the substrate,
Forming a planarization layer on the TFT;
The flattening layer is half-exposed to form a concave shape,
Forming a reflective film on the planarizing layer to form a reflective layer having a concave shape;
On the reflective layer, a transparent resin is formed, and a lens member having a convex shape on the top is formed,
Forming a transparent electrode layer on the reflective layer and the lens member;
Forming an organic light emitting layer on the transparent electrode layer;
Forming a cathode electrode on the organic light emitting layer;
An organic EL display device manufacturing method characterized by the above.
前記反射層は前記コンタクトホールを介して前記ＴＦＴに電気的に接続されるように形成され、
前記透明電極層は、前記コンタクトホール部分をマスキングしたうえで前記反射層及び前記レンズ部材上に形成される、
ことを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。 Forming a contact hole in the planarizing layer;
The reflective layer is formed to be electrically connected to the TFT through the contact hole;
The transparent electrode layer is formed on the reflective layer and the lens member after masking the contact hole portion.
The method for producing an organic EL display device according to claim 7 .
前記反射層は前記コンタクトホールを介して前記ＴＦＴに電気的に接続されるように形成され、
前記透明電極層は、前記コンタクトホール部分を含む前記反射層上及び前記レンズ部材上に形成される、
ことを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
Forming a contact hole in the planarizing layer;
The reflective layer is formed to be electrically connected to the TFT through the contact hole;
The transparent electrode layer is formed on the reflective layer including the contact hole portion and on the lens member.
The method for producing an organic EL display device according to claim 7 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013260062A JP6170826B2 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Organic EL display device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013260062A JP6170826B2 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Organic EL display device and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015118761A JP2015118761A (en) | 2015-06-25 |
| JP6170826B2 true JP6170826B2 (en) | 2017-07-26 |
Family
ID=53531351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013260062A Active JP6170826B2 (en) | 2013-12-17 | 2013-12-17 | Organic EL display device and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6170826B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102589906B1 (en) * | 2016-10-31 | 2023-10-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting display device |
| KR102540135B1 (en) * | 2017-12-19 | 2023-06-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting diodes display |
| JP7057147B2 (en) | 2018-01-31 | 2022-04-19 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Light emitting element and display device |
| CN111584566A (en) | 2020-05-11 | 2020-08-25 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Display panel, manufacturing method thereof and mask set |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002170663A (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Canon Inc | Organic luminescent element and its manufacturing method |
| JP2003115377A (en) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Nec Corp | Light emitting element, its manufacturing method, and display equipment using this |
| US7511419B2 (en) * | 2002-05-14 | 2009-03-31 | Casio Computer Co., Ltd. | Luminescent panel having a reflecting film to reflect light outwardly which is shaped to condense the reflected light |
| JP4639642B2 (en) * | 2004-05-24 | 2011-02-23 | 東芝ライテック株式会社 | Surface emitting device |
| JP5286719B2 (en) * | 2007-09-10 | 2013-09-11 | セイコーエプソン株式会社 | Film forming method, optical element forming method, conductive film forming method, optical element and wiring |
| JP2010198907A (en) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | Organic electroluminescent display device |
| JP2011228229A (en) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Seiko Epson Corp | Organic electroluminescent device |
| JP2013140679A (en) * | 2011-12-28 | 2013-07-18 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | Organic el light source |
-
2013
- 2013-12-17 JP JP2013260062A patent/JP6170826B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015118761A (en) | 2015-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10504976B2 (en) | OLED display device and method of manufacturing the same | |
| JP6577224B2 (en) | Display device | |
| JP6056082B2 (en) | Display device and electronic device | |
| US10453901B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
| US10749143B2 (en) | Organic light emitting diode panel | |
| US9691793B2 (en) | Array substrate and display panel | |
| KR102383928B1 (en) | Electroluminescent Display Device | |
| JP2005196167A (en) | Organic electroluminescent device | |
| KR20130093187A (en) | Organic light emitting display device and method for manufacturing thereof | |
| JP2014154354A (en) | Light-emitting element display device | |
| KR101972306B1 (en) | Organic light emitting display device | |
| WO2016043255A1 (en) | Electroluminescence device, electronic device, and method for manufacturing electroluminescence device | |
| JP2017146463A (en) | Display device | |
| JP6170826B2 (en) | Organic EL display device and manufacturing method thereof | |
| JP2015026508A (en) | Light emitting element display device | |
| JP6223070B2 (en) | Organic EL display device and method of manufacturing organic EL display device | |
| JP7478521B2 (en) | Organic EL display device | |
| JP6258047B2 (en) | Light emitting element display device | |
| US10658623B2 (en) | Electroluminescent display device having a plurality of low-refractive members | |
| JP2015069758A (en) | Organic el display device | |
| JP2015072761A (en) | Oled display device | |
| JP2007286212A (en) | Organic el display device | |
| WO2019073680A1 (en) | Display device | |
| JP2008234933A (en) | Organic electroluminescent display apparatus | |
| KR101663743B1 (en) | Organic Electroluminescent Display Device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160316 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170112 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170620 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170703 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6170826 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |