JP6158270B2 - めっき皮膜付樹脂製品及びその製造方法 - Google Patents
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樹脂製品の表面にめっき皮膜が形成されためっき皮膜付樹脂製品の製造方法であって、
平面状の樹脂製品の表面を改質する改質工程と、
前記樹脂製品を立体状に形成する立体化工程と、
前記立体状に形成された樹脂製品の表面をさらに改質する再改質工程と、
前記再改質された樹脂製品に触媒付与及び無電解めっきを行うことにより、前記改質された部分にめっき皮膜を析出させるめっき工程と、
を有することを特徴とする。
本実施形態に係るめっき皮膜付物品の製造方法は、改質工程と、立体化工程と、紫外線照射工程と、めっき工程とを含む。以下、これらの工程について、図2のフローチャートを参照しながら詳しく説明する。
改質工程(S210)においては、無電解めっき皮膜が析出するように樹脂の表面の一部分が選択的に改質される。図1(A)に示されるように、改質工程においては、樹脂製品110上の無電解めっき皮膜を析出させる部分120が改質される。
E=Nhc/λ(KJ・mol−1)
N=6.022×1023mol−1(アボガドロ数)
h=6.626×10−37KJ・s(プランク定数)
c=2.988×108m・s−1(光速)
λ=光の波長(nm)
O2+hν(243nm以下)→O(3P)+O(3P)
O2+O(3P)→O3(オゾン)
O3+hν(310nm以下)→O2+O(1D)(活性酸素)
O(3P):基底状態酸素原子
O(1D):励起酸素原子(活性酸素)
Xe2エキシマランプ :波長172nm
KrBrエキシマランプ:波長206nm
KrClエキシマランプ:波長222nm
立体化工程(S220)では、改質工程において改質された樹脂製品110が、立体状に形成される。例えば、一実施形態においては、樹脂製品110を加熱することで形状を変化させた後、樹脂製品110を冷却することにより立体状に形成する。例えば、樹脂製品110を加熱により軟化させ、この状態で加圧することにより樹脂製品110を変形させることができる。その後樹脂製品110を冷却することにより、樹脂製品110を立体状に形成することができる。別の実施形態においては、樹脂製品110を加熱により軟化させることなく、加圧することにより樹脂製品110を変形させ、樹脂製品110を立体状に形成する。具体的な形成方法は特に限定されないが、一実施形態においては、樹脂製品110に対して熱プレスまたはプレスを行うことにより形成が行われる。立体状に形成された樹脂製品110の一例を図1(B)に示す。
照射工程(S230)においては、立体状に形成された樹脂製品110の表面の所望の改質部分120を含む領域に、追加で改質工程が行われる。改質方法は特に限定されないが、本実施例では改質が容易な243nm以下の波長を有する紫外線が照射される。このとき、所望の改質部分120のみに、めっき皮膜が形成されるよう照射量は適宜調整される。
無電解めっき工程(S240)においては、照射工程において紫外線が照射された樹脂製品110に無電解めっきが行われる。無電解めっきにより、樹脂製品110の改質部分120上にめっき皮膜を設けることができる。無電解めっき工程では、樹脂に対する無電解めっきにおいて既に用いられている方法と同様の方法を用いることができる。例えば、無電解めっき工程はJCU社製Cu−Niめっき液セット「AISL」等の無電解めっき液セットを用いて行うことができる。
1.樹脂製品をアルカリ溶液に浸漬し、脱脂を行い、親水性を高める。
2.カチオンポリマーのような、樹脂製品と触媒イオンとのバインダーを含有する溶液に浸漬する。
3.樹脂製品を触媒イオン入りの溶液に浸漬する。
4.樹脂製品を還元剤を含有する溶液に浸漬し、触媒イオンを還元及び析出させる。
5.析出した触媒上にめっきを析出させる。
一般に、タッチパネルは、液晶画面等のディスプレイ上に、接触を感知するための透明導電膜が積層された構造を有する。透明導電膜としては、例えば、接触を感知するためのメッシュ状の配線パターンが形成された樹脂フィルムを用いることができる。
図8は、ステップS210において凹凸が形成された樹脂製品110の例を示す。図8(A)に示すように、フィルム状の樹脂製品110が均一な厚さを有するように、例えば熱プレスを用いて凹凸を形成することができる。一方で、図8(B)に示すように、フィルム状の樹脂製品110の厚さが異なるように、例えば熱プレスを用いて凹凸を形成することもできる。具体例としては、樹脂製品110の凸部においては他の部分よりも樹脂製品110の厚みが大きくなるように、樹脂製品110に凹凸を形成することができる。また、樹脂製品110の凹部においては他の部分よりも樹脂製品110の厚みが小さくなるように、樹脂製品110に凹凸を形成することができる。このような実施形態によれば、得られた導電膜をディスプレイに貼り付けた際に、樹脂製品110の凸部等を押しても透明導電膜が変形しないという効果が得られる。図8(B)に示す実施形態において、配線パターンは樹脂製品110のどちらの面に形成されてもよいが、一実施形態においては、配線パターンは凹凸を有する面に形成される。いずれにしろ、熱プレス等を用いて樹脂製品110を立体状に成形する際には改質部分120が消失しやすいが、ステップS230における照射工程により改質部分120は再活性化される。
実施形態1の方法は、樹脂製品110の一部、例えば樹脂製品110の1つの面全体にめっきを行う場合だけでなく、樹脂製品110の全面にめっきを行う際に利用することもできる。立体状の樹脂製品110の全面に紫外線を照射するためには特殊な紫外線照射装置が必要とされる。しかしながら、実施形態1の方法によれば、平面状の樹脂製品110に紫外線を照射した後に、樹脂製品110は立体状に成形される。このため、特殊な紫外線照射装置を用いることは必須ではない。このような場合でも、熱プレス等を用いて樹脂製品110を立体状に成形する際には改質部分120が消失しやすいが、ステップS230における照射工程により改質部分120は再活性化されるため、均一なめっき被膜が得られるという効果が期待される。
樹脂製品としては、シート状のシクロオレフィンポリマー(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,厚さ100μm)を用いた。この樹脂製品のガラス遷移温度は160℃である。
まず、図3に示すフォトマスク300を樹脂製品上にセットした。基板310としては合成石英基板が用いられ、金属薄膜320としてはクロム薄膜が用いられた。図3において、ハッチング部は紫外線を透過しない部分を示す。
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離3.5cmにおける照度:5.40mW/cm2(254nm)
1.35mW/cm2(185nm)
次に、樹脂製品に対して190℃で熱プレスを行うことにより、樹脂製品を立体状に形成した。具体的には、図5に示す装置500を用いて形成を行った。図5(A)に示されるように、樹脂製品510は、固定部材530により固定された状態で、温度が190℃に設定されたヒーター540により加熱された。ヒーター540としてはアズワン社製、ディジタルホットプレートDP−2Sを用いた。この状態で、加熱した押圧部材520で樹脂製品510に5分間圧力を加えた。樹脂製品510に圧力が加えられている様子を図5(B)に示す。こうして、樹脂製品510は立体状に形成された。得られた樹脂製品400を図4(B)に示す。
次に、樹脂製品400に紫外線を1分30秒間照射した。紫外線の照射条件は、改質工程と同様であった。
次に、JCU社製Cu−Niめっき液セット「AISL」を使用して、樹脂製品400に対して無電解めっきを行った。具体的な処理条件は以下の通りである。各工程の終了後には、1次水洗(常温の純水中で樹脂製品400を3往復させる)及び2次水洗(50℃の純水中で1分間(コンディショナ工程後は5分間)攪拌する)を行った。
実施例2では、照射工程において樹脂製品400への紫外線照射時間を1分間とした。照射工程以外は実施例1と同様に行われた。
実施例3では、照射工程において樹脂製品400への紫外線照射時間を2分30秒間とした。照射工程以外は実施例1と同様に行われた。
比較例1では、照射工程を行わなかった。改質工程、立体化工程、及びめっき工程は実施例1と同様に行われた。
比較例2では、改質工程の後、めっき工程を行い、その後立体化工程を行った。一方で、照射工程は行わなかった。改質工程、立体化工程、及びめっき工程は実施例1と同様に行われた。
実施例4では、樹脂製品としては、シート状のシクロオレフィンポリマー(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−14,厚さ100μm)を用いた。改質工程は実施例1と同様に行われた。改質後の樹脂製品600を図6(A)に示す。樹脂製品600は、紫外線が照射された改質部分610を有している。
比較例3においては、照射工程を行わず、改質工程、立体化工程、及びめっき工程を実施例4と同様に行うことにより、めっき皮膜付樹脂製品を作製した。比較例3で得られためっき皮膜付樹脂製品においては、折り曲げ部においてめっき皮膜が十分に形成されていなかった。また、折り曲げ部を挟んでめっき皮膜が導通していることは確認できなかった。
120、410 改質部分
130、420 めっき皮膜
S210 改質工程
S220 立体化工程
S230 照射工程
S240 無電解めっき工程
Claims (11)
- 樹脂製品の表面にめっき皮膜が形成されためっき皮膜付樹脂製品の製造方法であって、
平面状の樹脂製品の表面を改質する改質工程と、
前記樹脂製品を立体状に形成する立体化工程と、
前記立体状に形成された樹脂製品の表面をさらに改質する再改質工程と、
前記再改質された樹脂製品に触媒付与及び無電解めっきを行うことにより、前記改質された部分にめっき皮膜を析出させるめっき工程と、
を有することを特徴とする、めっき皮膜付樹脂製品の製造方法。 - 樹脂製品の表面にめっき皮膜が形成されためっき皮膜付樹脂製品の製造方法であって、
平面状の樹脂製品の表面を改質する改質工程と、
前記樹脂製品を立体状に形成する立体化工程と、
前記立体状に形成された樹脂製品の表面をさらに改質する再改質工程と、
前記再改質された樹脂製品に無電解めっきを行うことにより、前記改質された部分にめっき皮膜を析出させるめっき工程と、
を有し、
前記改質工程において、前記平面状の樹脂製品の表面の一部分を選択的に改質することを特徴とする、めっき皮膜付樹脂製品の製造方法。 - 前記改質工程において、前記樹脂製品の表面の一部分に243nm以下の波長を有する紫外線を照射することを特徴とする、請求項1又は2に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記改質工程において、前記樹脂製品の表面の一部分に243nm以下の波長を有する紫外線レーザを照射することを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記改質工程において、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で紫外線を照射することを特徴とする、請求項3又は4に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記立体化工程において、前記樹脂製品を加熱することを特徴とする、請求項1乃至5の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記立体化工程において、前記樹脂製品を加圧することを特徴とする、請求項1乃至6の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記再改質工程において、前記改質工程で改質された部分と、前記改質された部分に隣接する部分と、の双方に対して紫外線を照射することを特徴とする、請求項1乃至7の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記再改質工程における紫外線の波長は、243nm以下であることを特徴とする、請求項8に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 前記樹脂製品の表面がシクロオレフィンポリマー、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、液晶ポリマー樹脂、又はビニル樹脂を含むことを特徴とする、請求項1乃至9の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法。
- 請求項1乃至10の何れか1項に記載のめっき皮膜付樹脂製品の製造方法によって製造されためっき皮膜付樹脂製品。
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