JP6127516B2 - 光学パッケージ、光学ユニット、光走査装置、画像形成装置 - Google Patents

光学パッケージ、光学ユニット、光走査装置、画像形成装置 Download PDF

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Description

本発明は、光学パッケージ、光学ユニット、光走査装置、及び画像形成装置に関する。
昨今、多色画像形成装置においては、より高精細な画像品質が求められている。このため、高速化が年々進み、オンデマンドプリンティングシステムとして簡易印刷に用いられるようになりつつある。具体的には、面発光レーザを2次元的に配列した構成の2次元アレイ素子を用いることで、感光体上での副走査間隔を記録密度の1/nにすることができ、単位画素をn×mの複数ドットのマトリクス構成とすることが可能となる。
又、面発光レーザ素子を含め一般的に半導体レーザ素子等を有した光学系では、戻り光、すなわち、レンズやカバーガラスからの反射光が光を出射したレーザ素子に戻って入射する場合がある。このような場合には、レーザ素子の光量変動が生じるが、カバーガラスを傾斜させることにより光量変動を防ぐことができる。
ところで、面発光レーザが2次元的に配列された面発光レーザアレイ等の面発光レーザ素子は、電極数も多く、一般的な半導体レーザ等に用いられているキャンパッケージ等の筐体に入れようとすると、筐体の形状が大きくなってしまう。このため、面発光レーザアレイチップを設置するための筐体としては、凹状のパッケージとカバーガラスとを組み合わせた構造のものが提案されている。
更に、近年では、組み付けの簡易性、コストダウンの要求等から発光素子の光量のフィードバックに使用している受光素子もパッケージの中に実装することが検討されている。しかしながら、2次元アレイ素子のように発光素子の素子数が増えると、受光素子のモニタ光量のバラツキを小さくするため、発光素子と受光素子の位置精度や、発光素子から出た光を反射し受光素子に導く透明な板材との位置精度が厳しくなる。
このために、基準を設け、その基準に対して各部品を配置することが重要となる。例えば、対角に設けられた2箇所の基準パターンを認識することにより、部品を精度良く実装する方法が試みられている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、対角に設けられた2箇所の基準パターンを認識するには、カメラの軸を大きく移動させる必要があり、軸の移動時間がかかる。又、移動精度が実装精度に加算されてしまい、精度を低下させる原因ともなる。
一方、対角に設けられた2箇所の基準パターンをカメラの一視野内に入るようにすれば、移動時間をキャンセルできるが、当然視野が広くなるため分解能が落ち、基準パターンをはっきり認識できなくなる。つまり、基準パターンの認識精度が低下する。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、認識精度の低下を抑制可能な実装用の基準パターンを備えた光学パッケージ等を提供することを課題とする。
本光学パッケージは、凹部が設けられた基体と、前記凹部の底部に実装された発光素子及び受光素子と、を有し、前記凹部の底部には、前記発光素子及び前記受光素子を実装するための基準となる基準パターンが設けられており、前記基準パターンは、直線部を含み、前記直線部は、平面視において、前記発光素子の一辺又は前記受光素子の一辺のうち何れか一辺と対向するように配置され、前記直線部の長手方向の長さは、前記何れか一辺の長さの2倍以上に設定されていることを要件とする。
開示の技術によれば、認識精度の低下を抑制可能な実装用の基準パターンを備えた光学パッケージ等を提供できる。
第1の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。 図1のA−A線に沿う断面図である。 第2の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。 第3の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。 第4の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。 第4の実施の形態に係る光学パッケージにおいて受光素子を実装する電極を例示する平面図である。 第4の実施の形態に係る光学パッケージにおいて受光素子を実装する工程を例示する図(その1)である。 第4の実施の形態に係る光学パッケージにおいて受光素子を実装する工程を例示する図(その2)である。 第6の実施の形態に係る光学ユニットを例示する斜視図である。 図9に示す光学ユニットをXY面において切断した断面図である。 第7の実施の形態に係るマルチビーム走査装置を例示する斜視図である。 第7の実施の形態に係るマルチビーム走査装置を例示する断面図である。 第8の実施の形態に係る画像形成装置を例示する構成図である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〈第1の実施の形態〉
図1は、第1の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。図2は、図1のA−A線に沿う断面図である。図1及び図2を参照するに、第1の実施の形態に係る光学パッケージ10は、大略すると、基体11と、発光素子12と、受光素子13と、接合板14と、フレーム15と、カバーガラス16とを有する。
基体11は、発光素子12や受光素子13を実装するパッケージであり、中央部近傍に凹部11xが設けられている。基体11は、例えば、セラミックスにより形成されたCLCC(Ceramic Leaded Chip Carrier)と称されるフラットパッケージである。但し、基体11は、セラミックス以外の材料、例えば樹脂材料により形成されたものであってもよい。基体11及び凹部11xの平面形状は、例えば、各々矩形状とすることができるが、これには限定されない。なお、凹部11xの底部には段差が形成されている。
発光素子12は、基体11の凹部11xの底部の最も低い位置に実装されている。発光素子12は、発光エリア17を有する。基体11の凹部11xの底部において、発光素子12が実装されている位置よりも高い位置には、発光素子12を囲むように複数の配線電極18が例えば放射状に形成されている。
配線電極18の一端は、ボンディングワイヤ19を介して発光素子12の電極端子(図示せず)と接続されている。配線電極18の他端は、基体11の内部に形成された金属配線(図示せず)を介して、光学パッケージ10の外側の電極端子(図示せず)と接続されている。
発光素子12の一例としては、面発光レーザや、複数の面発光レーザを2次元的に配列した構成の面発光レーザアレイ等を挙げることができる。発光素子12の他の例としては、発光ダイオードや有機EL(electroluminescence)等を挙げることができる。
受光素子13は、基体11の凹部11xの底部において、配線電極18が形成されている位置よりも更に高い位置に実装されている。受光素子13の電極端子(図示せず)は、基体11の内部に形成された金属配線(図示せず)を介して、光学パッケージ10の外側の電極端子(図示せず)と接続されている。
受光素子13の一例としては、モニタ用のフォトダイオード等を挙げることができる。受光素子13の他の例としては、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等を挙げることができる。
以下では、一例として、発光素子12として面発光レーザアレイを用い、受光素子13としてフォトダイオードを用いる例について説明する。発光素子12である面発光レーザアレイからの出射光の一部をカバーガラス16で反射して受光素子13であるフォトダイオードでモニタすることにより、カバーガラス16を介して出射される面発光レーザアレイからの出射光を所定の光強度に制御できる。
基体11の上面の凹部11xの周囲には、接合板14が設けられている。そして、透明な板材であるカバーガラス16が接合材20を介してフレーム15に設置されたキャップ部が、カバーガラス16が発光素子12からの出射光に垂直な面に対し所定の傾斜角度となるように、接合板14上に実装されている。
カバーガラス16が傾斜している第1の理由は、発光素子12からの出射光が、カバーガラス16で反射して発光素子12に戻らないようにすることで、戻り光の影響による発光素子12の出射光量の変動を抑制するためである。又、カバーガラス16が傾斜している第2の理由は、発光素子12からの出射光のうち、カバーガラス16で反射した反射光(戻り光)を受光素子13に入射させて、発光素子12の出射光量をモニタするためである。
従って、カバーガラス16の所定の傾斜角度は、発光素子12からの出射光のうち、カバーガラス16で反射した反射光(戻り光)が受光素子13に入射する角度に設定されている。カバーガラス16の所定の傾斜角度は、例えば、10〜20度程度とすることができる。
なお、従来のカバーガラスが傾斜していない光学パッケージでは、面発光レーザアレイを構成する各面発光レーザからの出射光がカバーガラスで反射し、その反射光(戻り光)が発光源自身に入ることで、出射光量が変動する不具合が発生することが知られている。本実施の形態では、前述のように、カバーガラス16を傾斜させているため、戻り光の影響を低減できる。
凹部11xの底部において、受光素子13を実装する面と同一面には、基準パターン21が形成されている。基準パターン21は全体が直線部である直線状パターンであり、基体11に発光素子12及び受光素子13を実装するための基準となる。すなわち、基準パターン21をパターン認識して、基体11の凹部11xの底部の所定位置に発光素子12及び受光素子13を実装する。又、カバーガラス16が設置されたフレーム15も、基準パターン21をパターン認識して所定位置に実装することができる。
基準パターン21の直線部(本実施の形態では基準パターン21の全体、以降同様)は、平面視において、発光素子12の一辺又は受光素子13の一辺のうち何れか一辺と対向するように配置されている。図1及び図2の例では、基準パターン21の直線部は、平面視において、発光素子12の縦方向(Y方向)を向く一辺と対向するように配置されている。
基準パターン21の直線部の長手方向の長さは、発光素子12又は受光素子13の基準パターン21の直線部と対向する一辺(以降、単に、対向する一辺という)の長さ以上に設定されている。図1及び図2の例では、基準パターン21の直線部の長手方向の長さは、平面視において、基準パターン21の直線部と対向する発光素子12の縦方向(Y方向)を向く一辺の長さ以上に設定されている。
このため、パターン認識に用いるカメラの視野が広く解像度が悪い状態でも、基準パターン21の直線部の長手方向の長さが長いことによって、認識するドット数を稼ぐことができる。つまり、解像度が悪くても、認識したドットは、位置が平均化された状態で基準位置情報になるので、長手方向に垂直な方向の基準パターン認識の精度を上げることができ、その結果、長手方向に垂直な方向の実装精度を向上可能となる。
ここで、実装精度の向上について、より詳細に説明する。一般的に、実装装置において、実装する部分(本実施の形態の場合は、基体11)を認識するカメラと、チップ(本実施の形態の場合は、発光素子12と受光素子13)を認識するカメラとは別であり、それぞれ視野も違うため、解像度も異なる。
実装する部分を認識するカメラは、複数のチップを実装したり、複数のパッケージを置いたりすることを可能とするため、視野が広く解像度が悪い。これに対し、チップを認識するカメラは、チップのパターンを認識しなくてはならないため、視野を狭く解像度を良くしている。
このため、このような実装装置でチップを実装すると、実装する部分にマーカー等の位置基準となる基準パターンを設けても、実装する部分を認識するカメラの解像度がベースとなるため、実装精度はあまり良くはならない。
よって、従来は、精度良く実装を行なおうとする場合、例えば、前記特許文献1のように、実装する部分に設けたマーカー等の小さい認識パターンを解像度の良いカメラを移動して認識させ実装を行なっていた。しかし、この方法では前述した通り時間がかかり、移動精度が実装精度に加算されてしまう。
これに対し本実施の形態では、基準パターン21の直線部の長手方向の長さが、対向する一辺の長さ以上に設定されているため、視野が広く解像度が悪くても、認識ドット数を稼げる。そのため、基準パターン21の長手方向に垂直な方向の認識精度を上ることができる。その結果、長手方向に垂直な方向の実装精度を向上可能となる。
つまり、前記特許文献1のように、マーカーのような小さい認識パターンでは、解像度が悪いカメラで認識すると、認識ドット数が少ないため形状認識も甘くなり、認識ずれが起きやすい。
例えば、画面縦方向(Y方向)の視野を20mmとし、VGA(640×480)のカメラを使用する場合を考えると、そのときのドットピッチは42μmとなり、単純にはドットの認識精度は±42μmになる。このため、チップ上の認識パターンと同等の大きさの小さい認識パターンでは、形状認識も不安定で実装精度を42μmより小さくすることは困難である。
図1に示すように、直線部の長手方向の長さが対向する一辺の長さ以上に設定されている基準パターン21を例えば縦方向(Y方向)に作製すれば、縦方向(Y方向)の認識ドット数が多くなる。そのため、横方向(X方向)の部分的な認識精度が±42μmのままであったとしても、縦方向(Y方向)のドット数で見れば横方向(X方向)の位置はそのドット数分で平均化できる。その結果、実装装置にフィードバックする横方向(X方向)の基準位置の位置精度(基準パターン21の認識精度)を42μmよりもはるかに小さくできる。これにより、横方向(X方向)の実装精度を上げることが可能となる。
なお、直線部の長手方向の長さが長いほど基準パターン21の認識精度が向上し、長手方向に垂直な方向の実装精度を向上できる。直線部の長手方向の長さは、実装精度の実力値等を考慮して適宜決定できるが、発明者らの検討によれば、直線部の長手方向の長さを対向する一辺の長さと同等にすると、良好な結果が得られた(従来の手法に比べて実装精度が向上した)。
又、直線部の長手方向の長さを対向する一辺の長さの2倍にすると、直線部の長手方向の長さを対向する一辺の長さと同等にした場合と比べて実装精度も約2倍となり、更に良好な結果が得られた。つまり、直線部の長手方向の長さを対向する一辺の長さ以上に設定すると好適であり、直線部の長手方向の長さを対向する一辺の長さの2倍以上に設定すると更に好適である。
なお、図1では、基準パターン21の直線部と対向する一辺とが略平行に描かれているが、基準パターン21の直線部は対向する一辺に対して傾斜していても上記と同様の効果を奏する。
〈第2の実施の形態〉
第2の実施の形態では、第1の実施の形態とは異なる基準パターンを設ける例を示す。なお、第2の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
図3は、第2の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。図3を参照するに、第2の実施の形態に係る光学パッケージ10Aは、基準パターン21(第1の基準パターン)に加えて基準パターン22(第2の基準パターン)を設けた点が、第1の実施の形態に係る光学パッケージ10(図1及び図2参照)と相違する。
凹部11xの底部において、受光素子13を実装する面と同一面には、基準パターン21及び22が形成されている。本実施の形態では、基準パターン21及び22が、基体11に発光素子12及び受光素子13を実装するための基準となる。すなわち、基準パターン21及び22をパターン認識して、基体11の凹部11x内の所定位置に発光素子12及び受光素子13を実装する。又、カバーガラス16が設置されたフレーム15も、基準パターン21及び22をパターン認識して所定位置に実装することができる。
基準パターン21及び22は各々全体が直線部である直線状パターンである。基準パターン21の直線部(本実施の形態では基準パターン21の全体、以降同様)と、基準パターン22の直線部(本実施の形態では基準パターン22の全体、以降同様)とは、互いに直交する方向を向くように形成されている。
基準パターン21の直線部は、平面視において、発光素子12の一辺又は受光素子13の一辺のうち何れか一辺と対向するように配置されている。又、基準パターン21の直線部の長手方向の長さは、基準パターン21が対向する一辺の長さ以上に設定されている。基準パターン22の直線部は、平面視において、基準パターン21が対向する辺とは異なる一辺と対向するように配置されている。又、基準パターン22の直線部の長手方向の長さは、基準パターン22が対向する一辺の長さ以上に設定されている。
このため、パターン認識に用いるカメラの視野が広く解像度が悪い状態でも、基準パターン21及び22の各々の直線部の長手方向の長さが長いことによって、認識するドット数を稼ぐことができる。つまり、解像度が悪くても、認識したドットは、位置が平均化された状態で基準位置情報になるので、長手方向に垂直な方向の基準パターン認識の精度を上げることができる。その結果、長手方向に垂直な方向の実装精度を向上可能となる。この際、基準パターン21の直線部と基準パターン22の直線部とが互いに直交しているため、図3の縦方向(Y方向)及び横方向(X方向)の実装精度を同時に向上可能となる。
〈第3の実施の形態〉
第3の実施の形態では、第1及び第2の実施の形態とは異なる基準パターンを設ける例を示す。なお、第3の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
図4は、第3の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。図4を参照するに、第3の実施の形態に係る光学パッケージ10Bは、互いに直交する2つの直線部の各々の一端に円形部(円形状パターン)を設けた点が、第2の実施の形態に係る光学パッケージ10A(図3参照)と相違する。
凹部11xの底部において、受光素子13を実装する面と同一面には、基準パターン31及び32が形成されている。本実施の形態では、基準パターン31及び32が、基体11に発光素子12及び受光素子13を実装するときの基準となる。すなわち、基準パターン31及び32を同時にパターン認識して、基体11の凹部11x内の所定位置に発光素子12及び受光素子13を実装する。又、カバーガラス16が設置されたフレーム15も、基準パターン31及び32を同時にパターン認識して所定位置に実装することができる。
基準パターン31は、直線部31aと、直線部31aの一端に連結する円形部31bとを有する。又、基準パターン32は、直線部32aと、直線部32aの一端に連結する円形部32bとを有する。直線部31aと直線部32aは互いに直交する方向を向くように形成されている。
直線部31aは、平面視において、発光素子12の一辺又は受光素子13の一辺のうち何れか一辺と対向するように配置されている。又、直線部31aの長手方向の長さは、対向する一辺の長さ以上に設定されている。直線部32aは、平面視において、発光素子12の一辺又は受光素子13の一辺のうち直線部31aが対向する辺とは異なる一辺と対向するように配置されている。又、直線部32aの長手方向の長さは、直線部32aと対向する一辺の長さ以上に設定されている。
このため、パターン認識に用いるカメラの視野が広く解像度が悪い状態でも、直線部31a及び32aの各々の長さが長いことによって、認識するドット数を稼ぐことができる。つまり、解像度が悪くても、認識したドットは、位置が平均化された状態で基準位置情報になるので、長手方向に垂直な方向の基準パターン認識の精度を上げることができる。その結果、長手方向に垂直な方向の実装精度を向上可能となる。この際、直線部31aと直線部32aとが互いに直交しているため、図4の縦方向(Y方向)及び横方向(X方向)の実装精度を同時に向上可能となる。
又、円形部31bの中心31oは、直線部31aの発光素子12及び受光素子13側の辺31hの延長線上に位置している。そのため、測定時に中心31oと辺31hを測定基準に用いることができる。同様に、円形部32bの中心32oは、直線部32aの発光素子12及び受光素子13側の辺32hの延長線上に位置している。そのため、測定時に中心32oと辺32hを測定基準に用いることができる。
なお、必須条件ではないが、円形部31bの中心31oと円形部32bの中心32oとを結ぶ線Iを、理想的に実装された場合の発光素子12の光学中心に合わせておくと好適である。画面上で瞬時に、発光素子12の位置ずれを判断できるからである。
そのため、自動測定だけではなく、人間の実装精度の検査用パターンとしても使うことが可能となり、検査が容易となる。又、円形部31b及び32bは、円形なのでパターン作製時のばらつき(端部のだれ等)があっても、その中心を求めるため、パターン作製精度の影響を受けにくい(ばらつきの影響を受けにくい)点でも好適である。
〈第4の実施の形態〉
第4の実施の形態では、第1〜第3の実施の形態とは異なる基準パターンを設ける例を示す。なお、第4の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
図5は、第4の実施の形態に係る光学パッケージを例示する平面図である。図5を参照するに、第4の実施の形態に係る光学パッケージ10Cは、直線部31aと直線部32aとを連結し、更に直線部31a及び32aと接続する給電パターン33を設けた点が、第3の実施の形態に係る光学パッケージ10B(図4参照)と相違する。
凹部11xの底部において、受光素子13を実装する面と同一面には、基準パターン41が設けられている。基準パターン41において、一端に円形部31bが設けられた直線部31aの他端と、一端に円形部32bが設けられた直線部32aの他端とは連結しており、連結部は給電パターン33の一端と接続されている。但し、連結部以外の部分で給電パターン33の一端と接続されてもよい。
給電パターン33の他端は、基体11の端面にある任意の電極と接続されている。任意の電極は、基体11の外部から給電可能に構成されている。このように、本実施の形態では、直線部31aの他端と直線部32aの他端とは連結しており、直線部31a及び32aは、ビアホールを介すことなく、給電パターン33のみを介して、基体11の外部から給電可能な任意の電極と接続されている。
なお、本実施の形態では、配線電極18及び基準パターン41には電気めっきが施されている。電気めっきの一例としては、金(Au)めっきを挙げることができる。
本実施の形態では、基準パターン41が、基体11に発光素子12及び受光素子13を実装するときの基準となる。すなわち、基準パターン41をパターン認識して、基体11の凹部11x内の所定位置に発光素子12及び受光素子13を実装する。又、カバーガラス16が設置されたフレーム15も、基準パターン41をパターン認識して所定位置に実装することができる。但し、基準パターン41のうち、給電パターン33はパターン認識には使用されない。
第4の実施の形態では、第3の実施の形態の奏する効果に加えて以下の効果を奏する。すなわち、給電パターン33の他端が基体11の端面にある任意の電極と接続されているため、任意の電極及び給電パターン33を介して、基体11の外部から直線部31a及び32a並びに円形部31b及び32bに給電することができる。その結果、直線部31a及び32a並びに円形部31b及び32bに容易に電気めっき(金めっき等)を施すことができる。
なお、光学パッケージ10、10A、10B等においても配線電極や基準パターンに電気めっきが施すことは可能である。しかし、平面方向(受光素子13を実装する面と同一面内)では基準パターンが基体11の端面にある任意の電極と接続されていないため、平面方向と垂直な方向(図5のZ方向)に基準パターンと電気的に接続されたビアホールを設ける必要がある。
本実施の形態では、ビアホールを設けなくても、任意の電極及び給電パターン33を介して、基体11の外部から直線部31a及び32a並びに円形部31b及び32bに給電して電気めっき(金めっき等)を施すことができる。
〈第5の実施の形態〉
第5の実施の形態では、受光素子を実装する電極と、電極に受光素子を実装する工程の例を示す。なお、第5の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。ここでは、第4の実施の形態に係る光学パッケージを例にして説明するが、第1〜第3の実施の形態に係る光学パッケージにおいても、同様な電極が設けられている。
図6は、第4の実施の形態に係る光学パッケージにおいて受光素子を実装する電極を例示する平面図であり、図5に示す光学パッケージ10Cにおいて受光素子13を実装する電極51を明示したものである。なお、13xは、受光素子13が実装される位置を示している。
図6に示すように、凹部11xの底部には、受光素子13を実装する電極51が設けられている。又、電極51には、その中をくりぬいて、略長方形状のパターン52が4カ所形成されている。4カ所のパターン52のうちの2つは、長手方向をX方向に向けて所定の間隔で配されている。4カ所のパターン52のうちの他の2つは、長手方向をY方向に向けて所定の間隔で配されている。
線Jは、長手方向をX方向に向けて配された2つのパターン52の長手方向の中心線を延長した線である。又、線Kは、長手方向をY方向に向けて配された2つのパターン52の長手方向の中心線を延長した線である。線Jと線Kとの交点は、受光素子13を接着するための接着剤を塗布する塗布中心53とされている。
つまり、4カ所のパターン52は、受光素子13を固定するための接着剤を塗布する位置を示した塗布位置表示パターンである。このように、塗布位置表示パターンを、受光素子13を実装する電極51をくりぬいて設けると、受光素子13の外側に特別にパターンを設ける必要がない点で好適である。
塗布中心53は、受光素子13を実装する実装中心54と一致していない。具体的には、塗布中心53は、受光素子13を実装する実装中心54よりも発光素子12とは反対方向にずれて設定されている。なお、図6では、便宜上、塗布中心53を白丸で、実装中心54を黒丸で示している。又、線Lは、受光素子13が実装される位置13xのX方向の中心を示している。
なお、受光素子13がフォトダイオードである場合、電極51は基準電位(接地)であり、フォトダイオードの裏面に形成されたカソードが導電性の接着剤により電極51上に実装され接地される。又、フォトダイオードのアノード電極は、基体11の金属配線(図示せず)とワイヤボンディング等により電気的に接続される。
図7及び図8は、第4の実施の形態に係る光学パッケージにおいて受光素子を実装する工程を例示する図である。図7は、電極51上に接着剤55が塗布された状態を示している。接着剤55は、図6に示す塗布中心53に塗布されている。なお、図7では、既に発光素子12が実装されているが、受光素子13を発光素子12よりも先に実装しても構わない。
図8は、接着剤55上に受光素子13が実装された状態を示している。前述のように、塗布中心53は、実装中心54よりも発光素子12とは反対方向にずれて設定されている(図6参照)。そのため、接着剤55は受光素子13に潰されて図8の上下方向及び右方向にははみ出すが、発光素子12側(左方向)にははみ出さない(接着剤55の受光素子13内に示した点線部)。これにより、接着剤55が導電性接着剤である場合に、接着剤55が発光素子12側にはみ出して配線電極18に接触しショートする問題を回避できる。
〈第6の実施の形態〉
第6の実施の形態では、第1の実施の形態に係る光学パッケージ10を搭載した光学ユニットの例を示す。第6の実施の形態では、光学パッケージ10に搭載された発光素子12は複数の光ビーム(マルチビーム)を出射可能なものとする。なお、第6の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。ここでは、第1の実施の形態に係る光学パッケージを例にして説明するが、第2〜第4の実施の形態に係る光学パッケージを搭載しても構わない。
図9は、第6の実施の形態に係る光学ユニットを例示する斜視図である。図10は、図9に示す光学ユニットをXY面において切断した断面図である。
図9及び図10を参照するに、第6の実施の形態に係る光学ユニット200は、ベース部材207とホルダ部材208とを、カップリングレンズ202の光軸Aに直交する基準面で接合し、ネジ249で締結することにより一体化した構成とされている。光学ユニット200において、カップリングレンズ202は、ホルダ部材208に保持されている。光学パッケージ10が実装された制御基板206は、ベース部材207に保持されている。
本実施の形態では、ベース部材207及びホルダ部材208は、何れもアルミダイキャストにより形成しているが、略同一の熱膨張係数を有する異なる材料により形成してもよい。
本実施の形態では、板金で形成された付勢部材209の板ばね部220により、光学パッケージ10を制御基板206の裏側から押圧する。そして、3点のアンカー部(折り曲げ部)218を制御基板206に設けられた3ヶ所の穴219に嵌合し、制御基板206を図示しない基準面に寄せ組み(突き当て)する。これにより、ベース部材207に対する光学パッケージ10の位置決めがなされる。なお、光学パッケージ10の位置基準は、光学ユニット200を構成する他の部材の位置基準と同じとされている。
ベース部材207には、3ヶ所のスタッド216が形成されており、制御基板206に設けられた貫通穴217を貫通し、スタッド216に付勢部材209をネジ223により締結することにより、制御基板206とベース部材207とが接続されている。制御基板206は、付勢部材209により裏側から押圧されており、制御基板206をベース部材207等に直接締結しない構成なので、制御基板206に負担をかけることなく、確実に、ベース部材207に光学パッケージ10を位置決め及び支持できる。
なお、付勢部材209は弾性を有する材料であれば、樹脂材料、ゴム材料等で形成してもよい。よって、板バネ部に代えて、ゴム材料等からなる弾性部材を挟み込んでもよい。
又、カップリングレンズ202は、ホルダ部材208に形成された円筒面230に、コバ部との隙間に接着剤を充填することにより固定されている。カップリングレンズ202の光軸Aに直交する面Bと光学パッケージ10の配列面との平行性を合わせるために、当接面248に、光学パッケージ10の表面側を突き当てて搭載する。
ここで、光学パッケージ10の配列面とは、例えば、複数の面発光レーザが2次元に配列された面発光レーザアレイにおいて、複数の面発光レーザが配列された面である。なお、当接面248は、カップリングレンズ202の光軸Aに直交する面Bと平行となるように形成されている。これにより、カップリングレンズ202の位置を定めることができ、光ビームの出射方向を当接面248に直交した方向とすることができる。
なお、図9において、211はブラケット部材、214は斜面、225はアーム部、226は調節ネジ、227はスプリング、231は補強部材、224は位置決めピン、239は位置決め穴をそれぞれ示す。なお、203は、中央部に光ビーム径よりも小さい径の開口が設けられたアパーチャーミラーである。光学パッケージ10から出射された光ビームは、アパーチャーミラー203の開口を経由してカップリングレンズ202に入射する。
又、本実施の形態における光学ユニット200は、ブラケット部材211に設けられた嵌合穴234にホルダ部材208の円筒部を挿入し、板ばね212の係止爪229を円筒部溝に係合して、光軸Aに直交する面内で回動可能に支持される。そして、後述するポリゴンミラーやfθレンズが支持される不図示のハウジングに固定される。
このように、第6の実施の形態では、受光部光学系を大幅に削減できかつ高信頼性の光学パッケージ10を搭載しているので、変動が少ないマルチビーム光を作ることができ、低コストの光学ユニット200を提供できる。
〈第7の実施の形態〉
第7の実施の形態では、第6の実施の形態に係る光学ユニット200を搭載し、4ステーションを走査するマルチビーム走査装置の例を示す。なお、第7の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
図11は、第7の実施の形態に係るマルチビーム走査装置を例示する斜視図である。図11を参照するに、マルチビーム走査装置300は、光学ユニットからの4ステーション分に相当する複数の光ビームを、単一のポリゴンミラー(光偏向部)により、被走査面を有する各感光体ドラム(像担持体)に偏向、走査するように一体化されている。
4つの感光体ドラム301、302、303及び304は転写体の矢印Eで示す移動方向に沿って等間隔で配列され、順次異なる色のトナー像を転写し重ね合わせることでカラー画像を形成する。各感光体ドラムを走査する光走査装置は、一体として構成されており、2段に構成されたポリゴンミラー306により各々光ビームを走査する。
光学ユニット200及び200は、同一方向に走査する2ステーションに対し1個ずつ配備されている。光学ユニット200及び200の各々からの出射光は、光束分割プリズム308及び310を用い、ポリゴンミラー306の上下面に対応して上下2段に光ビームを分岐し、各感光体ドラムに交互に各ステーションに対応した画像を形成していく。なお、光学ユニット200及び200は、便宜上別符号としているが、何れも第6の実施の形態に係る光学ユニット200と同一構成である。
光学ユニット200及び200と、fθレンズ320及び321並びにトロイダルレンズとは、ポリゴンミラー306の回転軸を含み感光体ドラムの回転軸に平行な対称面に対し対称に配備されている。そして、ポリゴンミラー306により、各光学ユニットからの光ビームは相反する方向に偏向され、各感光体ドラムに導かれる。
従って、各ステーションにおける走査方向は対向する各感光体ドラムで相反する方向となり、記録領域の幅、言いかえれば主走査方向の倍率を合わせ、一方の走査開始端ともう一方の走査終端とが一致するように静電像を書き込んでいく。
なお、液晶偏向素子317及び318では液晶の配列方向に合った偏光成分のみが偏向されるため、発光素子の偏光方向は一方向に揃えられる。
光束分割プリズム308は、ハーフミラー面と、このハーフミラー面と平行なミラー面とを有する。光学ユニット200からの複数のビームは、各々ハーフミラー面で1/2の光量が反射され、残りの1/2は透過して上下に2分岐され、方向を揃えて副走査方向に所定間隔をもって射出される。
液晶偏向素子317は、光束分割プリズム308の射出面の上下に各々配備されている。液晶偏向素子317は、電圧を印可すると副走査方向に電位分布を生じて液晶の配向が変化し、屈折率分布を発生して光線の方向を傾けることができ、印可電圧に応じて感光体ドラム面上の走査位置を可変できる。
シリンダレンズ313及び314は、分岐された各光ビームに対応して2段に設けられている。シリンダレンズ313及び314の一方は光軸を中心に回動調整可能に取り付けられ、各々の焦線が平行となるように調節できるようにしており、副走査方向に6mm間隔に2段に構成されたポリゴンミラー306の各々に入射される。
シリンダレンズ313及び314は、少なくとも副走査方向に正の曲率を有し、ポリゴンミラー面上で一旦ビームを収束させることで、後述するトロイダルレンズとにより、偏向点と感光体面上とを副走査方向に共役関係とする面倒れ補正光学系をなす。
ポリゴンミラー306は4面で、同一の偏向面により各発光点列からの複数のビームを一括で偏向、走査する。上下のポリゴンミラー306の位相は45°ずつずれており、光ビームの走査は上下段で交互に行われる。
走査光学系はfθレンズとトロイダルレンズとからなり、何れもプラスチック成形により作製されたものである。fθレンズ320は、主走査方向にはポリゴンミラー306の回転に伴って感光体面上でビームが等速に移動するようにパワーを持たせた非円弧面形状となし、層状に2段に積み重ねて一体に構成される。
トロイダルレンズを通った走査ビームは各々、走査開始側に配備された光検知センサ338及び340、走査終端側に配備された光検知センサ339及び341に入射される。そして、光検知センサ338及び340の検出信号を基に各々発光素子毎の同期検知信号を生成し、書込み開始のタイミングをとる。
一方、走査終端側に配備された光検知センサ339及び341の検出信号は、各々走査開始側に配備された光検知センサ338及び340からの光ビームの検出時間差を計測し、予め定められた基準値と比較して、各発光素子を変調する画素クロックを可変する。これにより、後述するように、主走査方向の倍率のずれを補正している。
図12に副走査断面における光線の経路を示す。複数の発光素子は、カップリングレンズの光軸に対して対称に配置されている。カップリングレンズによって平行光束に変換された各光線は、光学ユニット200から射出した後、カップリングレンズの後側焦点の近傍で一旦収束し、主走査方向には光線間隔を広げつつfθレンズ320に入射する。すなわち、副走査方向にはシリンダレンズ313及び314により、ポリゴンミラー306の偏向面の近傍で再度収束されてfθレンズ320に入射される。
また、上記したように、光学ユニット200からの複数の光ビームは光束分割プリズム308によって副走査方向上下に2分岐され、各ステーションに対応する感光体ドラムに導かれる。
光束分割プリズム308の下段から射出した複数の発光素子からのビーム401は、シリンダレンズ313を介してポリゴンミラー306の下段で偏向、走査され、fθレンズ320の下段を通って折返しミラー329によりトロイダルレンズ323に入射する。そして、折返しミラー330を介して感光体ドラム301上にスポット状に結像し、第1の画像形成ステーションとしてイエロー色の画像情報に対応した潜像を形成する。
光束分割プリズム308の上段から射出した複数の発光素子からのビーム402は、シリンダレンズ314を介しポリゴンミラー306の上段で偏向、走査され、fθレンズ320の上段を通って折返しミラー327によりトロイダルレンズ324に入射する。そして、折返しミラー328を介して感光体ドラム302上にスポット状に結像し、第2の画像形成ステーションとしてマゼンタ色の画像情報に対応した潜像を形成する。
同様に、対向するステーションにおいても、光学ユニット200からの複数の光ビームは、光束分割プリズム310によって上下に2分岐され、液晶偏向素子318を介し各ステーションに対応する感光体ドラムに導かれる。
光束分割プリズム310の下段から射出した複数の発光素子からのビーム403は、シリンダレンズ315を介してポリゴンミラー306の下段で偏向、走査され、fθレンズ321の下段を通って折返しミラー332によりトロイダルレンズ326に入射する。そして、折返しミラー333を介して感光体ドラム304上にスポット状に結像し、第4の画像形成ステーションとしてブラック色の画像情報に対応した潜像を形成する。
光束分割プリズム310の上段から射出した複数の発光素子からのビーム404は、シリンダレンズ316を介してポリゴンミラー306の上段で偏向、走査され、fθレンズ321の上段を通って折返しミラー335によりトロイダルレンズ325に入射する。そして、折返しミラー336を介して感光体ドラム303上にスポット状に結像し、第3の画像形成ステーションとしてシアン色の画像情報に対応した潜像を形成する。
なお、本実施の形態では、トナー像の検出パターンの検出手段を有している。トナー像の検出パターンの検出手段は、照明用のLED素子354と反射光を受光するフォトセンサ355、及び一対の集光レンズ356とを含み、主走査ラインと約45°傾けたラインパターンを形成し、転写ベルトの移動に応じて検出時間差を読み取っていく。
本実施の形態では、トナー像の検出パターンの検出手段を中央部と左右両端部との3ヶ所に配備することで、左右両端部の差により傾きを、中央から左右端部までの各倍率を検出し、基準となるステーションに合わせ込むように補正する。言い換えれば、長時間ビームスポット位置が安定的に保持されていることが好ましい。
このように、第7の実施の形態では、低コストかつ高信頼性の光学ユニット200及び200を搭載している。その結果、結像位置を感光体面上に精度良く調整でき、高精度高信頼性の高い潜像を得ることができ、かつ低コストのマルチビーム走査装置300を提供できる。
〈第8の実施の形態〉
第8の実施の形態では、第7の実施の形態に係るマルチビーム走査装置300を搭載した画像形成装置の例を示す。なお、第8の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
図13は、第8の実施の形態に係る画像形成装置を例示する構成図である。図13を参照するに、画像形成装置500において、感光体ドラム501の周囲に帯電チャージャ502、現像ローラ503、トナーカートリッジ504、及びクリーニングケース505が配置されている。感光体ドラムへは上記したようにポリゴンミラー1面毎の走査により複数ライン(本実施の形態の例では4ライン)同時に画像記録が行われる。
帯電チャージャ502は、感光体を高圧に帯電する機能を有する。現像ローラ503は、マルチビーム走査装置300により記録された静電潜像に帯電したトナーを付着して顕像化する現像手段としての機能を有する。トナーカートリッジ504は、現像ローラ503にトナーを補給する機能を有する。クリーニングケース505は、ドラムに残ったトナーを掻き取り備蓄する機能を有する。
上記した画像形成ステーションは転写手段である転写ベルト506の移動方向に並列され、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのトナー画像が転写ベルト上にタイミングを合わせて順次転写され、重ね合わされてカラー画像が形成される。各画像形成ステーションはトナー色が異なるだけで、基本的には同一構成である。
一方、記録紙は給紙トレイ507から給紙コロ508により供給され、レジストローラ対509により副走査方向の記録開始のタイミングに合わせて送り出される。そして、転写ベルトよりカラー画像が転写されて、定着ローラ510で定着して排紙ローラ512により排紙トレイ511に排出される。
このように、第8の実施の形態では、低コストかつ信頼性の高いマルチビーム走査装置300を搭載しているので、結像位置を感光体面上に精度良く調整でき、高精度で信頼性の高い画像を得ることができ、かつ低コストの画像形成装置500を提供できる。
なお、本実施の形態では、像担持体として感光体ドラムについて説明したが、像担持体としては、銀塩フィルムを用いた画像形成装置であってもよい。この場合には、光走査により銀塩フィルム上に潜像が形成され、この潜像は通常の銀塩写真プロセスにおける現像処理と同様の処理により可視化させることができる。そして、通常の銀塩写真プロセスにおける焼き付け処理と同様の処理により印画紙に転写することが可能である。このような画像形成装置は、光製版装置や、CTスキャン画像等を描画する光描画装置として実施することが可能である。
又、像担持体としてビームスポットの熱エネルギーにより発色する発色媒体(ポジの印画紙)を用いた画像形成装置であってもよい。この場合においては、光走査により可視画像を直接像担持体に形成することが可能である。
以上、好ましい実施の形態について詳説したが、上述した実施の形態に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
10、10A、10B、10C 光学パッケージ
11 基体
11x 凹部
12 発光素子
13 受光素子
13x 受光素子が実装される位置
14 接合板
15 フレーム
16 カバーガラス
17 発光エリア
18 配線電極
19 ボンディングワイヤ
20 接合材
21、22、31、32、41 基準パターン
31a、32a 直線部
31b、32b 円形部
31h、32h 辺
31o、32o 中心
33 給電パターン
51 電極
52 パターン
53 塗布中心
54 実装中心
55 接着剤
200 光学ユニット
300 マルチビーム走査装置
500 画像形成装置
I、J、K、L 線
特開2004−79967号公報

Claims (10)

  1. 凹部が設けられた基体と、
    前記凹部の底部に実装された発光素子及び受光素子と、を有し、
    前記凹部の底部には、前記発光素子及び前記受光素子を実装するための基準となる基準パターンが設けられており、
    前記基準パターンは、直線部を含み、
    前記直線部は、平面視において、前記発光素子の一辺又は前記受光素子の一辺のうち何れか一辺と対向するように配置され、
    前記直線部の長手方向の長さは、前記何れか一辺の長さの2倍以上に設定されている光学パッケージ。
  2. 前記基準パターンは、直線部を有する第1の基準パターンと、前記直線部と直交する他の直線部を有する第2の基準パターンと、を含み、
    前記他の直線部は、平面視において、前記発光素子の一辺又は前記受光素子の一辺のうち前記何れか一辺とは異なる一辺と対向するように配置されている請求項記載の光学パッケージ。
  3. 前記直線部及び前記他の直線部の各々の一端に円形部が連結されている請求項記載の光学パッケージ。
  4. 各々の前記円形部の中心を結ぶ線は、理想的に実装されたときの前記発光素子の光学中心を通る請求項記載の光学パッケージ。
  5. 前記直線部と前記他の直線部とは連結しており、
    前記直線部及び前記他の直線部は、ビアホールを介すことなく、前記基体の外部から給電可能な任意の電極と接続されている請求項乃至の何れか一項記載の光学パッケージ。
  6. 前記凹部の底部には、前記受光素子を固定するための接着剤を塗布する位置を示した塗布位置表示パターンが設けられており、
    前記塗布位置表示パターンの中心は、前記受光素子の実装中心と一致していない請求項1乃至の何れか一項記載の光学パッケージ。
  7. 前記凹部の底部には、前記受光素子を実装する電極が設けられており、
    前記塗布位置表示パターンは、前記電極の所定部をくりぬいて形成されている請求項記載の光学パッケージ。
  8. 請求項1乃至の何れか一項記載の光学パッケージを搭載した光学ユニットであって、
    前記発光素子は、複数の光ビームを出射可能な構成とされていることを特徴とする光学ユニット。
  9. 光によって被走査面を走査するマルチビーム走査装置であって、
    請求項記載の光学ユニットと、
    前記光学ユニットからの複数の光ビームを偏向する光偏向部と、
    前記光偏向部により偏向された各光ビームを前記被走査面上に集光する走査光学系と、を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。
  10. 請求項記載のマルチビーム走査装置と、
    複数の光ビームにより静電像を形成する像担持体と、
    前記静電像をトナーにより顕像化する現像手段と、
    現像されたトナー像を記録紙に転写する転写手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
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