JP6123928B2 - 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 105
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 150
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 150
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 105
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 105
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 10
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
図1は、本発明の一例である蒸着マスクを構成する第1の樹脂マスク、金属マスク、および第2の樹脂マスクを分解して示す概略斜視図であり、(a)は第1の樹脂マスク、(b)は金属マスク、(c)は第2の樹脂マスクである。図2(a)は、図1に示す本発明の蒸着マスクの金属マスク側から見た正面図であり、図2(b)図1に示す蒸着マスクの概略断面図である。図3は、図1に示す蒸着マスクの拡大断面図である。なお、図1〜3ともに、金属マスクの設けられたスリットおよび蒸着マスクに設けられた開口部を強調するため、全体に対する比率を大きく記載してある。
第2の樹脂マスク20は、樹脂から構成され、図1、2に示すように、蒸着作製するパターンに対応した開口部25が縦横に複数列配置されている。なお、本願明細書において
蒸着作製するパターンとは、当該蒸着マスクを用いて作製しようとするパターンを意味し、例えば、当該蒸着マスクを有機EL素子の有機層の形成に用いる場合には、当該有機層の形状である。
金属マスク10は、金属から構成され、該金属マスク10の正面からみたときに、第2の樹脂マスク20に配置された全ての開口部25がみえる位置に、縦方向或いは横方向に延びるスリット15が複数列配置されている。なお、図1〜3では、金属マスク10の縦方向に延びるスリット15が横方向に連続して配置されている。
適宜選択して用いることができ、例えば、ステンレス鋼、鉄ニッケル合金、アルミニウム合金などの金属材料を挙げることができる。中でも、鉄ニッケル合金であるインバー材は熱による変形が少ないので好適に用いることができる。
第1の樹脂マスク30は、樹脂から構成されており、図1〜3に示すように、所定の開口部として、前述した金属マスク10に設けられたスリット25と同様のスリット35が形成されている。
図4は、本発明の一例である蒸着マスクを構成する第1の樹脂マスク、金属マスク、および第2の樹脂マスクを分解して示す概略斜視図であり、(a)は第1の樹脂マスク、(b)は金属マスク、(c)は第2の樹脂マスクである。
の開口部35が設けられている。前述したように第1の樹脂マスク30に設けられる開口部は、第2の樹脂マスク20に設けられた開口部25を塞がないような開口部であればよく、従って、図4に示すような形態とすることもできる。
本発明においては、上記で説明した構成の蒸着マスクを製造することができる従来公知のいかなる製造方法も採用可能であるが、例えば以下の第1の製造方法や第2の製造方法により製造することが好ましい。
図5は、本発明の蒸着マスクの第1の製造方法を説明するための工程図である。なお(a)〜(e)はすべて断面図である。この方法によれば、前記第1の実施形態にかかる蒸着マスクを製造することができる。
図6は、本発明の蒸着マスクの第2の製造方法を説明するための工程図である。なお(a)〜(e)はすべて断面図である。この方法によれば、前記第2の実施形態にかかる蒸
着マスクを製造することができる。
10、66…金属マスク
15…スリット
20、70…第2の樹脂マスク
30…第1の樹脂マスク
25…開口部
61…金属板
62…レジスト材
64…レジストパターン
67…樹脂板
80…蒸着マスク
Claims (8)
- フレームに取り付けられて用いられる蒸着マスクであって、
所定の開口部が設けられた第1の樹脂マスクと、
スリットが設けられた金属マスクと、
蒸着作製するパターンに対応した開口部が配置された第2の樹脂マスクと、
がこの順で積層されてなり、
前記金属マスクにおけるスリットは、前記第2の樹脂マスクに配置されている開口部よりも開口面積が大きく、かつ、前記第2の樹脂マスクにおける開口部と重なっていることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記第1の樹脂マスクに設けられた開口部の形状が、前記金属マスクに設けられたスリットと同じ形状であることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記金属マスクが、磁性体であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
- 前記第2の樹脂マスクの開口部の断面形状が、蒸着源方向に向かって広がりをもつことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
- 第2の樹脂マスクの前記開口部を形成する端面にバリア層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 前記第2の樹脂マスクの厚みが5μm〜25μmであることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- フレームに蒸着マスクが取り付けられたフレーム付き蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクが、
所定の開口部が設けられた第1の樹脂マスクと、
スリットが設けられた金属マスクと、
蒸着作製するパターンに対応した開口部が配置された第2の樹脂マスクと、
がこの順で積層されてなり、
前記金属マスクにおけるスリットは、前記第2の樹脂マスクに配置されている開口部よりも開口面積が大きく、かつ、前記第2の樹脂マスクにおける開口部と重なっていることを特徴とするフレーム付き蒸着マスク。 - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
フレームに蒸着マスクが取り付けられたフレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、
前記フレームに取り付けられる蒸着マスクが、所定の開口部が設けられた第1の樹脂マスクと、スリットが設けられた金属マスクと、蒸着作製するパターンに対応した開口部が配置された第2の樹脂マスクと、がこの順で積層されてなり、前記金属マスクにおけるスリットは、前記第2の樹脂マスクに配置されている開口部よりも開口面積が大きく、かつ、前記第2の樹脂マスクにおける開口部と重なっていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016040016A JP6123928B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016040016A JP6123928B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012004487A Division JP5895540B2 (ja) | 2012-01-12 | 2012-01-12 | 蒸着マスク |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017075435A Division JP6376237B2 (ja) | 2017-04-05 | 2017-04-05 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016106179A JP2016106179A (ja) | 2016-06-16 |
JP6123928B2 true JP6123928B2 (ja) | 2017-05-10 |
Family
ID=56120214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016040016A Active JP6123928B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6123928B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102608899B1 (ko) * | 2019-04-11 | 2023-11-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 광학 디바이스들을 위한 다중-깊이 막 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07300664A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-14 | Fujitsu Ltd | メタルマスクの製造方法とその再生方法 |
JP4635348B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2011-02-23 | 凸版印刷株式会社 | パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 |
JP4104964B2 (ja) * | 2002-12-09 | 2008-06-18 | 日本フイルコン株式会社 | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
KR100534580B1 (ko) * | 2003-03-27 | 2005-12-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법 |
JP4540305B2 (ja) * | 2003-06-11 | 2010-09-08 | 大日本印刷株式会社 | メタルマスク及びその取付方法 |
JP2005171290A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Sony Corp | 蒸着用マスクおよびその洗浄方法 |
JP2009009777A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Canon Inc | 成膜用マスク |
-
2016
- 2016-03-02 JP JP2016040016A patent/JP6123928B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016106179A (ja) | 2016-06-16 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161116 |
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