JP6112898B2 - 基板製造装置 - Google Patents
基板製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6112898B2 JP6112898B2 JP2013030518A JP2013030518A JP6112898B2 JP 6112898 B2 JP6112898 B2 JP 6112898B2 JP 2013030518 A JP2013030518 A JP 2013030518A JP 2013030518 A JP2013030518 A JP 2013030518A JP 6112898 B2 JP6112898 B2 JP 6112898B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- substrate
- contact member
- nozzle head
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
上面に基板を保持する第1のステージと、
前記第1のステージを移動させる第1の移動機構と、
前記第1の移動機構を制御する制御装置と、
前記第1のステージが移動する経路の上方に配置され、前記第1のステージに保持された基板に向けて薄膜材料の液滴を吐出するノズルヘッドと、
前記経路の上方に配置されて姿勢が仮止めされるとともに、前記第1のステージに保持された基板に接触すると仮止めの状態が解放されて姿勢を変化させる接触部材を含み、該接触部材の姿勢の変化を検知すると、前記制御装置に接触検知信号を送信する接触検出装置と
を有し、
前記第1のステージの上面を高さの基準として、前記接触部材の下端が、前記ノズルヘッドの下端よりも低く、
前記制御装置は、前記接触検出装置から前記接触検知信号を受信すると、前記第1の移動機構を制御して、前記第1のステージの、前記ノズルヘッドの下方への進入を回避する基板製造装置が提供される。
製造工程で変形することがある基板(例えばプリント基板)を処理対象物とする基板製造装置に適用される。この基板製造装置は、ノズルヘッドから液滴を吐出させることにより、基板の表面に液滴を着弾させる。
図1に、実施例1による基板製造装置の平面図を示す。水平面をxy面とし、鉛直上方をz軸の正の方向とするxyz直交座標系を定義する。実施例1による基板製造装置は、第1の処理系20Aと第2の処理系20Bとを有する。
態)、第2のステージ25Bと基板搬送装置(図示せず)との間で基板35の受け渡しが行われる。
ド21Bにより画定される第2のステージ25Bの経路とを跨ぐように配置されている。
をノズルヘッド50に向かって移動させると、基板35の縁が接触部材41の下端に接触する。第1のステージ25Aをさらにノズルヘッド50に向かって移動させると、接触部材41の下端がノズルヘッド50の方向に押されて、接触部材41が傾く。センサ43が、接触部材41の姿勢の変化を検知すると、センサ43から制御装置30に、接触検知信号が送信される。
図11を参照して、実施例2による基板製造装置について説明する。以下、実施例1との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。
のステージ25Bと接触することはない。接触検出装置40は、第1のステージ25A及び第2のステージ25Bの移動を妨げることなく、高精度に、許容値を超えた高さの基板35を検出することができる。
20B 第2の処理系
21A 第1のy方向リニアガイド
21B 第2のy方向リニアガイド
22A 第1の中間テーブル
22B 第2の中間テーブル
23A 第1のx方向リニアガイド
23B 第2のx方向リニアガイド
25A 第1のステージ
25B 第2のステージ
26A 第1の移動機構
26B 第2の移動機構
30 制御装置
31A 第1の撮像装置
31B 第2の撮像装置
35 基板
37 定盤
38 門形フレーム(支持部材)
40 接触検出装置
41 接触部材
42 揺動中心
43 センサ
44 仮止め機構
45 昇降機構
50 ノズルヘッド
51 防御板
55 昇降機構
Claims (7)
- 上面に基板を保持する第1のステージと、
前記第1のステージを移動させる第1の移動機構と、
前記第1の移動機構を制御する制御装置と、
前記第1のステージが移動する経路の上方に配置され、前記第1のステージに保持された基板に向けて薄膜材料の液滴を吐出するノズルヘッドと、
前記経路の上方に配置されて姿勢が仮止めされるとともに、前記第1のステージに保持された基板に接触すると仮止めの状態が解放されて姿勢を変化させる接触部材を含み、該接触部材の姿勢の変化を検知すると、前記制御装置に接触検知信号を送信する接触検出装置と
を有し、
前記第1のステージの上面を高さの基準として、前記接触部材の下端が、前記ノズルヘッドの下端よりも低く、
前記制御装置は、前記接触検出装置から前記接触検知信号を受信すると、前記第1の移動機構を制御して、前記第1のステージの、前記ノズルヘッドの下方への進入を回避する基板製造装置。 - さらに、前記ノズルヘッドと前記接触部材との間の前記経路の上方に配置された防御板を有し、
前記第1のステージの上面を高さの基準として、前記防御板の下端が、前記接触部材の下端よりも高いか、または前記接触部材の下端と同一の高さであり、前記防御板は、前記ノズルヘッドに対して相対位置が固定されている請求項1に記載の基板製造装置。 - 前記接触部材は、前記第1のステージに保持された基板に接触すると、姿勢が変化し、
前記接触検出装置は、さらに、前記接触部材の姿勢の変化を検出するセンサを含む請求項1または2に記載の基板製造装置。 - 前記接触部材は、前記経路の上方に吊るされており、下端が前記基板に接触すると、前記第1のステージの移動方向に振れる請求項3に記載の基板製造装置。
- 前記接触部材は、前記第1のステージに保持された基板に接触すると、弾性変形し、
前記接触検出装置は、さらに、前記接触部材の変形を検出するセンサを含む請求項1または2に記載の基板製造装置。 - 前記接触部材は、前記経路の上方に吊るされており、下端が前記基板に接触すると、前記下端が前記第1のステージの移動方向に変位するように弾性変形する請求項5に記載の基板製造装置。
- さらに、
基板を保持する第2のステージと、
前記第2のステージを移動させる第2の移動機構と、
前記接触検出装置を、前記第1のステージの経路及び前記第2のステージの経路の上方に支持する支持部材と
を有し、
前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構は、前記第1のステージと前記第2のステージとを、相互に隔てられた平行な経路に沿って移動させるとともに、前記ノズルヘッドの下方において、前記第1のステージと前記第2のステージとを、同一の経路に沿って移動させ、
前記支持部材は、前記第1のステージ及び前記第2のステージの、相互に隔てられた平行な2本の経路を跨ぐように配置されている請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013030518A JP6112898B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 基板製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013030518A JP6112898B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 基板製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014160745A JP2014160745A (ja) | 2014-09-04 |
JP6112898B2 true JP6112898B2 (ja) | 2017-04-12 |
Family
ID=51612241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013030518A Active JP6112898B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 基板製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6112898B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7275881B2 (ja) | 2019-06-12 | 2023-05-18 | スズキ株式会社 | 船外機の吸気構造 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7183223B2 (ja) * | 2020-08-28 | 2022-12-05 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4765319B2 (ja) * | 2005-01-18 | 2011-09-07 | 凸版印刷株式会社 | 塗布装置 |
JP5303129B2 (ja) * | 2007-09-06 | 2013-10-02 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
KR20140024953A (ko) * | 2011-07-27 | 2014-03-03 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 기판제조장치 및 기판제조방법 |
-
2013
- 2013-02-20 JP JP2013030518A patent/JP6112898B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7275881B2 (ja) | 2019-06-12 | 2023-05-18 | スズキ株式会社 | 船外機の吸気構造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014160745A (ja) | 2014-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102043821B1 (ko) | 마스크 전송 장치 및 전송 방법 | |
JP4652351B2 (ja) | 基板支持装置、基板支持方法 | |
CN112204707B (zh) | 数字光刻***的多基板处理 | |
KR102676391B1 (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2011211222A5 (ja) | ||
US20120274006A1 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device | |
JP6516664B2 (ja) | 基板保持装置、塗布装置、基板保持方法 | |
US8710401B2 (en) | Laser processing machine | |
JP2008147291A (ja) | 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法 | |
KR20190029697A (ko) | 본딩 정렬을 위한 디바이스 및 방법 | |
KR102193251B1 (ko) | 기판의 교환 장치 | |
JP6112898B2 (ja) | 基板製造装置 | |
KR102034481B1 (ko) | 전자 부품의 실장 방법 및 실장 장치 | |
KR20080046576A (ko) | 광학식 이물질 검출 장치 및 이것을 탑재한 처리액 도포장치 | |
JP2009231671A (ja) | アラインメント装置 | |
JP5331189B2 (ja) | 基板ブレーク装置 | |
US11926485B2 (en) | Processing system and article manufacturing method | |
US20190352113A1 (en) | Transport device | |
KR101543882B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 검사 장치 | |
JP4960266B2 (ja) | 透明基板のエッジ位置検出方法及びエッジ位置検出装置 | |
JP2006315086A (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
KR102482946B1 (ko) | 평면 패널 툴에 기판을 신속하게 로딩하기 위한 방법 | |
JP7107352B2 (ja) | 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法 | |
KR200494687Y1 (ko) | 포토리소그래피 프로세스를 위한 시스템들의 환경 제어 | |
WO2012157231A1 (ja) | 基板の交換装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150915 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170314 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6112898 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |